CN111660003B - 一种溅射靶材焊接方法 - Google Patents

一种溅射靶材焊接方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111660003B
CN111660003B CN202010573673.1A CN202010573673A CN111660003B CN 111660003 B CN111660003 B CN 111660003B CN 202010573673 A CN202010573673 A CN 202010573673A CN 111660003 B CN111660003 B CN 111660003B
Authority
CN
China
Prior art keywords
welding
sputtering target
rotary cutter
back plate
burr
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202010573673.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111660003A (zh
Inventor
姚科科
大岩一彦
廣田二郎
林智行
山田浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang Best Semiconductor Technology Co ltd
Original Assignee
Zhejiang Best Semiconductor Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang Best Semiconductor Technology Co ltd filed Critical Zhejiang Best Semiconductor Technology Co ltd
Priority to CN202010573673.1A priority Critical patent/CN111660003B/zh
Priority to KR1020200087317A priority patent/KR102336276B1/ko
Priority to TW109124296A priority patent/TW202200298A/zh
Priority to JP2020124079A priority patent/JP7068392B2/ja
Publication of CN111660003A publication Critical patent/CN111660003A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111660003B publication Critical patent/CN111660003B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/12Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating the heat being generated by friction; Friction welding
    • B23K20/122Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating the heat being generated by friction; Friction welding using a non-consumable tool, e.g. friction stir welding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K20/00Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
    • B23K20/26Auxiliary equipment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

本发明公开了一种溅射靶材焊接方法,涉及靶材焊接技术领域,溅射靶材焊接方法通过下述装置实施,包括:溅射靶材、背板和搅拌摩擦焊机;溅射靶材焊接方法包括如下步骤:首先将溅射靶材和背板的焊接结合部的间距设置为小于等于1mm;然后通过搅拌摩擦焊接机进行焊接,将搅拌摩擦焊机上的旋转刀具***焊接结合部,旋转刀具的***深度为3~20mm,在旋转刀具进行旋转焊接时,溅射靶材和背板同步旋转;本发明通过将背板采用铝合金或铜合金,节省了制作溅射靶材的原材料的成本,并且保证了高的焊接率,采用本发明焊接方法在规模化生产时成本也会降低,从而能够规模化生产出低成本的溅射靶材,再将该靶材用于芯片制造时,就大大降低了芯片制造的成本。

Description

一种溅射靶材焊接方法
技术领域
本发明涉及靶材焊接技术领域,尤其是一种溅射靶材焊接方法。
背景技术
一般来说,溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的核心部分,在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜;由于高纯度金属强度较低,而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程,机台内部为高电压、高真空环境,因此,超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合,背板起到主要起到固定溅射靶材的作用,且需要具备良好的导电、导热性能;现有技术中溅射靶材为一体成型的,制作时需要一块较大原材料制成,原材料的成本极其高,高额的成本,使溅射靶材在制造芯片时也付出了较高的成本,不利于芯片制造行业的发展。
发明内容
一、要解决的技术问题
本发明的目的是针对现有技术所存在的上述缺陷,特提供一种溅射靶材焊接方法,解决了现有一体成型的溅射靶材成本较高的问题,同时还解决了溅射靶材生产效率低的问题。
二、技术方案
为解决上述技术问题,本发明提供一种溅射靶材焊接方法,溅射靶材焊接方法通过下述装置实施,包括:溅射靶材、背板和搅拌摩擦焊机;
溅射靶材焊接方法包括如下步骤:
首先将溅射靶材和背板的焊接结合部的间距设置为小于等于1mm;
然后通过拌摩擦焊接机进行焊接,将搅拌摩擦焊机上的旋转刀具***焊接结合部,旋转刀具的***深度为3~20mm,在旋转刀具进行旋转焊接时,溅射靶材和背板同步旋转。
其中,背板材质为铝合金或铜合金。
其中,旋转刀具旋转的转速为500~2000rpm。
其中,溅射靶材和背板的同步旋转转速为50~200mm/min。
其中,旋转刀具旋转进行焊接的焊接温度小于等于背板材质的金属固相线所对应的温度。
其中,溅射靶材焊接过程中焊接处毛刺高度为h;
当0mm<h≤1mm时,毛刺高度为正常状态,继续进行焊接;
当h>1mm时,通过减少旋转刀具的***深度,使毛刺高度降低到正常状态并继续进行焊接;
当h=0mm时,通过增加旋转刀具的***深度,使毛刺高度提高到正常状态并继续进行焊接。
其中,溅射靶材焊接过程中焊接处毛刺高度为h;
当0mm<h≤1mm时,毛刺高度为正常状态,继续进行焊接;
当h>1mm时,通过减少旋转刀具旋转的转速,使毛刺高度降低到正常状态并继续进行焊接;
当h=0mm时,通过增加旋转刀具旋转的转速,使毛刺高度提高到正常状态并继续进行焊接。
三、有益效果
与现有技术相比,本发明提供的一种溅射靶材焊接方法,通过铝或铜合金的背板,节省了制作溅射靶材的原材料的成本,并且保证了高的焊接率,采用本发明焊接方法在规模化生产时成本也会降低,从而能够规模化生产出低成本的溅射靶材,再将该靶材用于芯片制造时,就大大降低了芯片制造的成本;
同时通过实时控制旋转刀具的***深度和旋转刀具旋转的转速对焊接过程中产生的毛刺高度进行调节,保证焊接质量。
附图说明
图1为本发明溅射靶材和背板结构图;
图中:1为溅射靶材;2为背板。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述,以下实施例用于说明本发明,但不能用来限制本发明的范围。
实施例1:
本发明提供的一种溅射靶材焊接方法,如图1所示,通过下述装置实施,包括:溅射靶材1、背板2和搅拌摩擦焊机,溅射靶材焊接方法包括如下步骤:
首先将溅射靶材1和背板2的焊接结合部的间距设置为1mm;
然后通过搅拌摩擦焊接机进行焊接,将搅拌摩擦焊机上的旋转刀具***焊接结合部内,旋转刀具的***深度为3mm,旋转刀具旋转进行焊接,在旋转刀具旋转焊接时,溅射靶材1和背板2同步旋转。
采用本实施例的焊接方法的焊接成功率平均为98%,而现有技术焊接方法成功率平均为40%,本发明可以将溅射靶材1和背板2很好的焊接在一起形成溅射靶材。
实施例2:
本发明提供的一种溅射靶材焊接方法,包括如下步骤:
首先将溅射靶材1和背板2之间的焊接结合部的间距设置为0.2mm;
然后通过搅拌摩擦焊接机进行焊接,将搅拌摩擦焊机上的旋转刀具***焊接结合部内,旋转刀具的***深度为10mm,旋转刀具旋转进行焊接,在旋转刀具旋转焊接时,溅射靶材1和背板2同步旋转。
并且本实施例中,背板2为铝合金或铜合金材料。旋转刀具旋转的转速为500rpm。溅射靶材1和背板2同步旋转的速度为50mm/min,焊接温度略高于400℃。
背板2采用铝或铝合金材料,可以大幅降低原材料的成本,采用本实施例的焊接方法焊接成功率平均为98%,而现有技术焊接方法成功率平均为40%,本发明可以将溅射靶材1和背板2很好的焊接在一起形成溅射靶材。
并且,在本实施例中,溅射靶材焊接过程中焊接处会产生毛刺,毛刺高度为h;当0mm<h≤1mm时,毛刺高度为正常状态,在该状态下继续进行焊接,能使得溅射靶材焊接的质量较高;
实际焊接过程中,随着旋转刀具的磨耗和变形,焊接条件就会变得不稳定,进而影响焊接质量,使得焊接处发生接合不良的情况;同时,焊接处的毛刺产生的状态就会发生变化,即毛刺高度会产生相应变化。
即,当h>1mm时,通过减少旋转刀具的***深度,使毛刺高度降低到正常状态并继续进行焊接;具体来说,为了使毛刺高度降低到正常状态,旋转刀具的***深度每减少0.02mm,即可将毛刺高度对应降低1mm;
例如,毛刺高度为2mm,此时将旋转刀具的***深度减少0.02mm,即可将毛刺高度降低1mm,从而恢复到正常状态继续进行焊接,对毛刺的调节是在焊接过程中实时进行的;
当h=0mm时,通过增加旋转刀具的***深度,使毛刺高度提高到正常状态并继续进行焊接,具体来说,此时将旋转刀具的***深度增加0.02mm,即可将毛刺高度增加1mm,从而恢复到正常状态继续进行焊接。
实施例3:
本发明提供的一种溅射靶材焊接方法,包括如下步骤:
首先将溅射靶材1和背板2之间的焊接结合部的间距设置为0.1mm;
然后通过搅拌摩擦焊接机进行焊接,将搅拌摩擦焊机上的旋转刀具***焊接结合部内,旋转刀具的***深度为13mm,旋转刀具旋转进行焊接,在旋转刀具旋转焊接时,溅射靶材1和背板2同步旋转。
并且本实施例中,背板2为铝合金材料,还可以选用铜合金材料。旋转刀具旋转的转速为2000rpm。溅射靶材1和背板2同步旋转的速度为150mm/min,焊接温度为500℃。
背板2采用铝合金或铜合金材料,可以大幅降低原材料的成本,采用本实施例的焊接方法焊接成功率平均为98%,而现有技术焊接方法成功率平均为40%,本发明可以将溅射靶材1和背板2很好的焊接在一起形成溅射靶材。
实施例4:
本发明提供的一种溅射靶材焊接方法,包括如下步骤:
首先将溅射靶材1和背板2之间的焊接结合部的间距设置为0mm;
然后通过拌摩擦焊接机进行焊接,将搅拌摩擦焊机上的旋转刀具***焊接结合部内,旋转刀具的***深度为20mm,旋转刀具旋转进行焊接,在旋转刀具旋转焊接时,溅射靶材1和背板2同步旋转。
并且本实施例中,背板2为铝合金材料,还可以选用铜合金材料。旋转刀具旋转的转速为1500rpm。溅射靶材1和背板2同步旋转的速度为200mm/min,焊接温度为580℃。
采用本实施例的焊接方法焊接成功率平均为98%,而现有技术焊接方法成功率平均为40%,本发明可以将溅射靶材1和背板2很好的焊接在一起形成溅射靶材。
实施例5:
相较于实施例1,在本实施例中,通过采用控制旋转刀具旋转的转速的方式控制毛刺高度,具体来说,溅射靶材焊接过程中焊接处毛刺高度为h;
当0mm<h≤1mm时,毛刺高度为正常状态,继续进行焊接;
当h>1mm时,通过减少旋转刀具旋转的转速,使毛刺高度降低到正常状态并继续进行焊接;具体来说,为了使毛刺高度降低到正常状态,旋转刀具旋转的转速每减少2%,即可将毛刺高度对应降低1mm;
例如,毛刺高度为2mm,此时将旋转刀具旋转的转速减少2%,即可将毛刺高度降低1mm,从而恢复到正常状态继续进行焊接,对毛刺的调节是在焊接过程中实时进行的;
当h=0mm时,通过增加旋转刀具旋转的转速,使毛刺高度提高到正常状态并继续进行焊接,具体来说,此时将旋转刀具旋转的转速增加2%,即可将毛刺高度增加1mm,从而恢复到正常状态继续进行焊接。
以上仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (6)

1.一种溅射靶材焊接方法,其特征在于:所述溅射靶材焊接方法通过下述装置实施,包括:溅射靶材(1)、背板(2)和搅拌摩擦焊机;
所述溅射靶材焊接方法包括如下步骤:
首先将溅射靶材(1)和背板(2)的焊接结合部的间距设置为小于等于1mm;
然后通过搅 拌摩擦焊接机进行焊接,将搅拌摩擦焊机上的旋转刀具***焊接结合部,旋转刀具的***深度为3~20mm,在旋转刀具进行旋转焊接时,溅射靶材(1)和背板(2)同步旋转;
所述溅射靶材焊接过程中焊接处毛刺高度为h;
当0mm<h≤1mm时,毛刺高度为正常状态,继续进行焊接;
当h>1mm时,通过减少旋转刀具的***深度,使毛刺高度降低到正常状态并继续进行焊接;
当h=0mm时,通过增加旋转刀具的***深度,使毛刺高度提高到正常状态并继续进行焊接。
2.如权利要求1所述的一种溅射靶材焊接方法,其特征在于:所述背板(2)材质为铝合金或铜合金。
3.如权利要求1所述的一种溅射靶材焊接方法,其特征在于:所述旋转刀具旋转的转速为500~2000rpm。
4.如权利要求1所述的一种溅射靶材焊接方法,其特征在于:所述溅射靶材(1)和背板(2)的同步旋转转速为50~200mm/min。
5.如权利要求1所述的一种溅射靶材焊接方法,其特征在于:所述旋转刀具旋转进行焊接的焊接温度小于等于背板(2)材质的金属固相线所对应的温度。
6.如权利要求3所述的一种溅射靶材焊接方法,其特征在于:所述溅射靶材焊接过程中焊接处毛刺高度为h;
当0mm<h≤1mm时,毛刺高度为正常状态,继续进行焊接;
当h>1mm时,通过减少旋转刀具旋转的转速,使毛刺高度降低到正常状态并继续进行焊接;
当h=0mm时,通过增加旋转刀具旋转的转速,使毛刺高度提高到正常状态并继续进行焊接。
CN202010573673.1A 2020-06-22 2020-06-22 一种溅射靶材焊接方法 Active CN111660003B (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010573673.1A CN111660003B (zh) 2020-06-22 2020-06-22 一种溅射靶材焊接方法
KR1020200087317A KR102336276B1 (ko) 2020-06-22 2020-07-15 스퍼터링 타겟 용접 방법
TW109124296A TW202200298A (zh) 2020-06-22 2020-07-17 濺射靶材焊接方法
JP2020124079A JP7068392B2 (ja) 2020-06-22 2020-07-20 スパッタリングターゲットの溶接方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010573673.1A CN111660003B (zh) 2020-06-22 2020-06-22 一种溅射靶材焊接方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111660003A CN111660003A (zh) 2020-09-15
CN111660003B true CN111660003B (zh) 2021-08-03

Family

ID=72389259

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010573673.1A Active CN111660003B (zh) 2020-06-22 2020-06-22 一种溅射靶材焊接方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7068392B2 (zh)
KR (1) KR102336276B1 (zh)
CN (1) CN111660003B (zh)
TW (1) TW202200298A (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114273771B (zh) * 2022-01-11 2023-09-05 先导薄膜材料(安徽)有限公司 一种靶材组件的摩擦焊接方法
CN114351096A (zh) * 2022-01-26 2022-04-15 浙江最成半导体科技有限公司 溅射靶材、靶材组件及靶材组件的制作方法
CN114959618A (zh) * 2022-06-29 2022-08-30 浙江最成半导体科技有限公司 一种溅射靶材及其制备方法
CN115229324A (zh) * 2022-08-31 2022-10-25 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种铝合金背板的补焊方法
CN115283818A (zh) * 2022-09-06 2022-11-04 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种纯铝管状靶材与铝合金配件的搅拌摩擦焊方法
CN117966108B (zh) * 2024-04-01 2024-06-11 洛阳康耀电子有限公司 一种平面靶材绑定自动校平装置的操作方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3435555B2 (ja) * 1994-04-25 2003-08-11 フジオーゼックス株式会社 エンジンバルブの製造方法
JPH10193143A (ja) * 1997-01-17 1998-07-28 Showa Alum Corp 摩擦撹拌接合法
US8020748B2 (en) * 2006-09-12 2011-09-20 Toso SMD, Inc. Sputtering target assembly and method of making same
EP2496381A4 (en) 2009-11-02 2017-07-05 Megastir Technologies LLC Out of position friction stir welding of casing and small diameter tubing or pipe
CN102554455B (zh) * 2011-12-31 2015-07-08 宁波江丰电子材料股份有限公司 钨钛合金靶材与铜合金背板扩散焊接方法
KR20140106906A (ko) * 2013-02-27 2014-09-04 한국알박(주) 스퍼터링 타겟 제조 방법
CA2921220C (en) * 2013-08-13 2021-07-13 Uacj Corporation Friction stir welding method
JP6066216B2 (ja) 2014-09-01 2017-01-25 株式会社日本製鋼所 低温靱性に優れた構造体およびその製造方法
JP2017070994A (ja) 2015-10-09 2017-04-13 株式会社Uacj 摩擦攪拌接合用工具及び摩擦攪拌接合方法
JP6688755B2 (ja) 2017-03-28 2020-04-28 株式会社栗本鐵工所 金属薄板の接合方法及び金属薄板の接合構造
JP6958099B2 (ja) 2017-08-10 2021-11-02 日本製鉄株式会社 接合継手
CN207929893U (zh) * 2018-01-31 2018-10-02 成都宏明双新科技股份有限公司 一种控制薄材料毛刺高度的加工模具结构
JP7083150B2 (ja) 2018-03-12 2022-06-10 国立大学法人大阪大学 摩擦攪拌接合方法及び摩擦攪拌接合装置
CN108733912B (zh) * 2018-05-17 2021-08-03 南京理工大学 一种机器人旋转超声钻削cfrp/铝合金叠层结构出口毛刺高度预测方法
CN108994444A (zh) * 2018-10-08 2018-12-14 宁波顺奥精密机电有限公司 一种溅射靶材焊接方法
CN111037088A (zh) * 2019-12-31 2020-04-21 惠州市亿鹏能源科技有限公司 搅拌摩擦焊的焊接工艺

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022001664A (ja) 2022-01-06
CN111660003A (zh) 2020-09-15
JP7068392B2 (ja) 2022-05-16
KR102336276B1 (ko) 2021-12-08
TW202200298A (zh) 2022-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111660003B (zh) 一种溅射靶材焊接方法
WO2019184855A1 (zh) 一种航空发动机整体叶盘的加工方法及设备
CN108481744A (zh) 一种半固态增材制造装置及其制造方法
CN112045309B (zh) 一种靶材用水路背板的制备方法
CN106312152A (zh) 薄壁零件的加工方法
CN112296507B (zh) 一种铝合金水冷电机壳搅拌摩擦焊接方法
CN107891201B (zh) 铸造回转体零件铸造余量和铸造冒口的电解加工方法
CN117564471A (zh) 一种镁合金结构件激光诱导tig电弧的增材制造方法及***
CN115647560B (zh) 一种旋铡式搅拌摩擦增材制造装置及方法
CN114193088B (zh) 一种实现激光增减材一体化快速制造的方法和装置
CN113275597B (zh) 一种金属增材融合制造构件细晶组织控制方法
CN205660394U (zh) 转盘式自动焊接攻牙机
CN113492248A (zh) 一种氩弧焊堆焊和随焊搅拌一体化的增材制造装置
CN108637430B (zh) 异种金属摆动电弧窄间隙多层多道非对称电流焊接方法
CN210254428U (zh) 一种浮动去毛刺机
CN1234305A (zh) 钢瓶成型焊接工艺
CN203621775U (zh) 止水螺杆自动焊接装置
CN219924928U (zh) 一种坡口激光切割装置
CN218591909U (zh) 一种非标球形状铣刀结构
CN206077098U (zh) 电机转子
CN105014216B (zh) 一种改善超弹性铍青铜微电阻点焊初期接触状态的方法
CN213916411U (zh) 一种金属管头快速切削机构
CN108620816B (zh) 靶坯的加工方法
CN218016306U (zh) 一种钢结构智能焊接单元
CN108568642A (zh) 一种特大风电转子的加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right

Denomination of invention: A sputtering target welding method

Effective date of registration: 20220421

Granted publication date: 20210803

Pledgee: Zhejiang Tailong Commercial Bank Co.,Ltd. Shaoxing Yuecheng small and micro enterprise franchise sub branch

Pledgor: Zhejiang best Semiconductor Technology Co.,Ltd.

Registration number: Y2022980004561

PE01 Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right