CN111430420A - 显示面板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板及其制备方法。所述显示面板包括层叠设置的衬底层、有源层、第一绝缘层、第一金属层、第二绝缘层、和第二金属层。所述显示面板定义有显示区以及非显示区，位于所述显示区的所述第二金属层包括用于数据信号线的第一部分、以及用于连接正向电压(VDD)的驱动电源线的第二部分，而位于所述非显示区的所述第二金属层包括用于连接负向电压(VSS)的驱动电源线的第三部分，其中所述第二金属层的第一部分的厚度少于所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度。本申请实施例的显示面板具有降低正向电压(VDD)的驱动电源线及负向电压(VSS)的驱动电源线等信号线路的压降，进而提高面板亮度的均一性，提升显示面板的影像质量等功效。
Description
技术领域
本申请涉及显示装置领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)器件由于其重量轻，自发光，广视角、驱动电压低、发光效率高功耗低、响应速度快等优点，应用范围越来越广泛，尤其是柔性OLED显示装置具有可弯折易携带的特点，成为显示技术领域研究和开发的主要领域。
目前高端显示装置对亮度均一性要求较高，如何提升屏幕的亮度均一性是各大厂商开发的重点方向。
发明内容
本发明的目的在于，解决现有的显示面板的亮度均一性无法满足高要求的技术问题。
为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括层叠设置的衬底层、有源层、第一绝缘层、第一金属层、第二绝缘层、和第二金属层。所述显示面板定义有显示区以及非显示区，位于所述显示区的所述第二金属层包括用于数据信号线的第一部分、以及用于连接正向电压(VDD)的驱动电源线的第二部分，而位于所述非显示区的所述第二金属层包括用于连接负向电压(VSS)的驱动电源线的第三部分，其中所述第二金属层的第一部分的厚度少于所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度。
在一些实施例中，所述第二金属层的第二部分的厚度与的第三部分的厚度相同。
在一些实施例中，所述第二金属层的第一部分的厚度为a，所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度为b，而2a≤b≤3a。
在一些实施例中，位于所述显示区的所述第二金属层还包括用于电性连接有机发光二极管的阳极层的第四部分，以及用于信号线换线的第五部分，其中所述第二金属层的第四部分及第五部分的厚度相同于第一部分的厚度。
在一些实施例中，所述第二金属层的第四部分与第五部分的厚度相同于所述第二金属层的第一部分的厚度。
在一些实施例中，所述第二金属层的第一部分、第二部分的材质包括铝或铝合金。
本申请实施例还提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板定义有显示区以及非显示区，所述显示面板的制备方法包括步骤：提供包括层叠设置的衬底层、有源层、第一绝缘层、第一金属层、第二绝缘层的结构；以及形成第二金属层于所述第二绝缘层上，其中位于所述显示区的所述第二金属层包括用于数据信号线的第一部分、以及用于连接正向电压(VDD)的驱动电源线的第二部分，而位于所述非显示区的所述第二金属层包括用于连接负向电压(VSS)的驱动电源线的第三部分，其中所述第二金属层的第一部分的厚度少于所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度。
在一些实施例中，所述第二金属层的第二部分的厚度与的第三部分的厚度相同，所述第二金属层的第一部分的厚度为a，所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度为b，而2a≤b≤3a。
在一些实施例中，形成所述第二金属层于所述第二绝缘层上包括步骤：制作第二金属层与涂布光刻胶，依序覆盖所述第二绝缘层；利用具有多段式穿透率的掩膜板对所述光刻胶进行曝光及显影，形成光刻胶图案的第一部分及第二部分于所述显示区内，以及光刻胶图案的第三部分于所述非显示区内，其中光刻胶图案的第二部分及第三部分的厚度较光刻胶图案的第一部分的厚度为厚；以及施行蚀刻工艺，采用所述光刻胶图案的第一部分、第二部分及第三部分作为蚀刻掩膜对所述第二金属层进行蚀刻，接着进行灰化工艺处理，于第二绝缘层上留下位于显示区内的所述第二金属层的第一部分与第二部分，以及位于所述非显示区内的所述第二金属层的第三部分。
在一些实施例中，所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域和第三穿透率区域，其中所述第一穿透率区域的透光率小于所述第二穿透率区域的透光率，而所述第二穿透率区域的透光率小于所述第三穿透率区域的透光率。
于本申请实施例提供的显示面板及其制备方法中，藉由多段式穿透率掩膜板搭配光刻工艺的使用，将位于显示区内构成作为正向电压(VDD)的驱动电源线的垂直信号线的第二金属层及将位于非显示区内构成作为提供负向电压(VSS)的驱动电源线的第二金属层的厚度增厚，使其大于显示区内连接了数据信号线及作为源/漏极层的第二金属层的厚度，进而降低正向电压(VDD)的驱动电源线及负向电压(VSS)的驱动电源线等信号线路的压降，进而提高面板亮度的均一性，提升显示面板的影像质量。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例的显示面板的信号线布局示意图。
图2是图1内区域50的截面示意图。
图3是图2所示结构的上视示意图。
图4至图7是本发明实施例的显示面板的制备方法的剖面示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本发明的说明书和权利要求书以及上述附图中的术语“第一”、“第二”、“第三”等(如果存在)是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应当理解，这样描述的对象在适当情况下可以互换。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
本发明实施例提供了一种显示面板10，图1显示了显示面板10的信号线布局示意图。所述显示面板10例如为有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix organic lightemitting diode，AMOLED)显示面板。所述显示面板10包括提供负向电压(VSS)的驱动电源线16、提供正向电压(VDD)的驱动电源线18以及依网格状走线并构成有源矩阵的多个水平信号线20及多个垂直信号线22。所述多个水平信号线20及所述多个垂直信号线22形成于显示器件区12内，而所述多个水平信号线20例如为扫描信号线。所述多个垂直信号线22例如为数据信号线与正向电压(VDD)的驱动电源线。所述驱动电源线16自封装区14导入并沿着显示器件区12的***布线，将阴极信号的整面信号导入阴极(Cathode，未示出)。所述驱动电源线18则自封装区14导入显示器件区12，电性连接所述多个水平信号线20及多个垂直信号线22。
请参阅图2-图3，显示了位于图1的显示面板10中显示器件区12的显示区A与非显示区B交接处的区域50的示意图，其中图2是图1内区域50的截面示意图，而图3是图2所示结构的上视示意图。
请参阅图2，所述阵列基板10包括层叠设置的衬底层100、有源层102、第一绝缘层103、第一金属层104、第二绝缘层105、第二金属层109a、109b、109c、109d及109e、平坦层110、阳极层111、和像素定义层112。所述衬底层100包括依次层叠设置的基底110、阻隔层120和所述缓冲层130。基底110可为刚性基底或柔性基底，并采用适当材料所制成，在此不详述及限定基底110的特性及所使用材料。
所述阻隔层120位于所述基底110上，而所述缓冲层130位于所述阻隔层120上。所述有源层102位于所述缓冲层130上，而所述第一绝缘层103位于所述有源层102上。所述第一金属层104位于所述第一绝缘层103上，而所述第二绝缘层105位于所述第一金属层104上。所述第二金属层109a、109b、109c、109d及109e位于第二绝缘层105上，而所述平坦层110位于所述109a、109b、109c、109d及109e上。所述阳极层111位于所述平坦层110上，而所述像素定义层112位于所述阳极层111上。
如图2所示，所述显示区A及所述非显示区B沿水平方向定义于显示面板100上。位于所述显示区A的所述第一金属层104为连接扫描信号线20(参见图3)的栅极层，而所述第二金属层109a与109b为源/漏极层，其中第二金属层109a连接了数据信号线22(参阅图3)，而第二金属层109b亦作为电性连接后续形成的阳极层111的阳极信号层。另外，所述第二金属层109c为连接驱动电源线18的正向电压(VDD)的驱动电源线，以提供各像素的驱动电源。
另外，因应信号线走线需求，所述显示区A的所述第二金属层109d可透过设置于第二绝缘层105内的导电插栓连接其下方的所述第一金属层104而达到信号线的换线。信号线的换线设计，可依实际需求而调整，而不以本实施例所示情形为限。再者，所述非显示区B的所述第二金属层109d为构成驱动电源线16(参阅图3)的导电膜层，以提供阴极层(未示出)所需的负向电压(VSS)。
请参阅图2，经过设计，本实施例中分别位于显示区A和非显示区B内的所述第二金属层109a、109b、109c、109d及109e的厚度不相同。优选地，位于显示区A内的第二金属层109a、109b及109d具有相同的厚度a，而位于显示区A内的第二金属层109c及位于非显示区B内的第二金属层109e具有相同的厚度b。所述第二金属层109c、109e的厚度b大于所述第二金属层109a、109b及109d的厚度a，且厚度a与b之间存在有2a≤b≤3a的关系。如此，藉由将位于显示区A内的第二金属层109c及位于非显示区B内的第二金属层109e的厚度增至厚度b，可大幅降低显示区A中由第二金属层109c所构成的作为正向电压(VDD)的驱动电源线的垂直信号线22(参阅图3)以及由第二金属层109d所构成的作为提供负向电压(VSS)的驱动电源线16(参阅图3)的阻抗，进而降低上述信号线路的压降，提高面板亮度的均一性，提升显示面板10的影像质量。
在本实施例中，所述第一金属层104、所述第二金属层109a、109b、109c、109d及109e的材质包括铝或铝合金。本发明可使用铝或铝合金制作金属走线(指所述第一金属层104及所述第二金属层109a、109b、109c、109d及109e)，有助于提升金属走线的电导率，进一步降低了线路压降风险。
请参阅图2所示，在所述显示区A内，依次层叠设置的所述有源层102、所述第一绝缘层103、和所述第一金属层104构成薄膜晶体管单元200。图2结构为图3内A-A的剖面示意图。请参阅图3，显示了图2结构的上视示意图，所述薄膜晶体管单元200的栅极(指所述第一金属层104)连接作为扫描信号线的水平信号线20(n-1)、20n及20(n+1)其中之一，例如为20n。所述第二金属层109a及109d连接作为数据(data)信号线的垂直信号线22a，所述第二金属层109c连接作为正向电压(VDD)的驱动电源线的垂直信号线22b。所述非显示区B的所述第二金属层109e为构成驱动电源线16的导电膜层，以提供驱动阴极层(未示出)所需的负向电压(VSS)。
如图2-图3所示，本发明的实施例提供一种显示面板100，包括层叠设置的衬底层100、有源层102、第一绝缘层103、第一金属层104、第二绝缘层105、和第二金属层109。所述显示面板10定义有显示区A以及非显示区B，位于所述显示区A的所述第二金属层109包括用于数据信号线的第一部分(例如第二金属层109a)、以及用于连接正向电压(VDD)的驱动电源线的第二部分(例如第二金属层109c)，而位于所述非显示区B的所述第二金属层包括用于连接负向电压(VSS)的驱动电源线的第三部分(例如第二金属层109e)，其中所述第二金属层的第一部分的厚度少于所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度。
在具体实施时，请参阅图4-图7所示，本发明实施例提供显示面板10的制备方法，具体包括以下步骤：
请参阅图4，首先提供包括层叠设置的衬底层100、有源层102、第一绝缘层103、第一金属层104、第二绝缘层105的起始结构。所述衬底层100包括依次层叠设置的基底110、阻隔层120和所述缓冲层130。基底110可为刚性基底或柔性基底，并采用适当材料所制成，在此不详述及限定基底110的特性及所使用材料。
接着制作第二金属层109与涂布光刻胶500，以依序覆盖所述第二绝缘层105。所述第二金属层109的材质包含铝或铝合金，而所述光刻胶500的材质包括正型光刻胶材料。接着利用具有多段式穿透率的掩膜板300对所述光刻胶500进行曝光，经显影后，使所述光刻胶500形成间隔的多个光刻胶图案500a、500b、500c、500d及500e，如图5所示。所述多个光刻胶图案500a、500b、500c、500d位于所述显示区A内，所述光刻胶图案500e位于所述非显示区B内。在此，光刻胶图案500c及500e的厚度较光刻胶图案500a、500b及500d的厚度为厚。
请参阅图4-图5，所述多段式穿透率掩膜板300包括多个第一穿透率区域300c、多个第二穿透率区域300b和多个第三穿透率区域300a，其中所述多个第一穿透率区域300c与所述光刻胶图案500c与500e对应，所述多个第二穿透率区域300b与所述光刻胶图案500a、500b与500d对应。所述多个第一穿透率区域300c的透光率小于所述多个第二穿透率区域300b的透光率，而所述多个第二穿透率区域300b的透光率小于所述多个第三穿透率区域300a的透光率。进一步地，所述多个第一穿透率区域300c为不曝光区域，所述多个第二穿透率区域300b为局部曝光区域，而所述多个第三穿透率区域300a为完全曝光区域。
接着藉由蚀刻工艺600的施行，采用形成于第二金属层109上的光刻胶图案500a、500b、500c、500d作为蚀刻掩膜，对所述第二金属层109进行蚀刻，接着对所述光刻胶图案500a、500b、500c、500d及500e进行灰化工艺处理，于第二绝缘层105上留下位于显示区A和非显示区B的多个图案化的第二金属层109a、109b、109c、109d及109e，其分别对应于所述光刻胶图案500a、500b、500c、500d及500e其中之一，如第6图所示。由于所述多个光刻胶图案500a、500b、500c、500d及500e之间存在有厚度上的差异，因此于蚀刻工艺600施行过后，位于显示区A和非显示区B内的所述第二金属层109a、109b、109c、109d及109e的厚度不相同。同前所述，位于显示区A内的第二金属层109a、109b及109d具有相同的厚度a，而位于显示区A内的第二金属层109c及位于非显示区B内的第二金属层109e具有相同的厚度b。所述第二金属层109c、109e的厚度b大于所述第二金属层109a、109b及109d的厚度a，且厚度a与b之间存在有2a≤b≤3a的关系。
请参阅图7，接着制作平坦层100，在所述第二金属层109a、109b、109c、109d及109e上制作所述平坦层100。接着制作阳极层111，在所述平坦层110上制作所述阳极层111并图形化处理，所述阳极层11与所述第三金属层109b电连接。接着制作像素定义层112，在所述阳极层111上制作所述像素定义层112并图形化处理，裸露所述阳极层11形成像素限定槽。
在本实施例中，藉由多段式穿透率掩膜板300搭配光刻工艺的使用，使得位于显示区A和非显示区B内的所述第二金属层109a、109b、109c、109d及109e的厚度不相同。优选地，位于显示区A内的第二金属层109a、109b及109d具有相同的厚度a，而位于显示区A内的第二金属层109c及位于非显示区B内的第二金属层109e具有相同的厚度b。所述第二金属层109c、109e的厚度b大于所述第二金属层第二金属层109a、109b及109d的厚度a，且厚度a与b之间存在有2a≤b≤3a的关系。如此，藉由将位于显示区A内的第二金属层109c及位于非显示区B内的第二金属层109e的厚度增至厚度b，可大幅降低显示区A中由第二金属层109c所构成的作为正向电压(VDD)的驱动电源线的垂直信号线22(参阅图3)以及由第二金属层109d所构成的作为提供负向电压(VSS)的驱动电源线16(参阅图3)的阻抗，进而降低上述信号线路的压降，提高面板亮度的均一性，提升显示面板10的影像质量。
如图4-图7所示，所述显示面板10定义有显示区A以及非显示区B，其特征在于，所述显示面板10的制备方法包括步骤：
提供包括层叠设置的衬底层100、有源层102、第一绝缘层103、第一金属层104、第二绝缘层105的结构；以及
形成第二金属层109于所述第二绝缘层上，其中位于所述显示区的所述第二金属层包括用于数据信号线的第一部分(例如第二金属层109a)、以及用于连接正向电压(VDD)的驱动电源线的第二部分(例如第二金属层109c)，而位于所述非显示区的所述第二金属层包括用于连接负向电压(VSS)的驱动电源线的第三部分(例如第二金属层109e)，其中所述第二金属层的第一部分的厚度少于所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度。
以上所述显示基板100可用于如可穿戴设备、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、电子书、电子报纸、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的显示装置或部件。其中可穿戴设备包括智能手环、智能手表、VR(Virtual Reality，即虚拟现实)等设备。
以上对本发明所提供的显示面板及其制备方法进行了详细介绍。应理解，本文所述的示例性实施方式应仅被认为是描述性的，用于帮助理解本发明的方法及其核心思想，而并不用于限制本发明。在每个示例性实施方式中对特征或方面的描述通常应被视作适用于其他示例性实施例中的类似特征或方面。尽管参考示例性实施例描述了本发明，但可建议所属领域的技术人员进行各种变化和更改。本发明意图涵盖所附权利要求书的范围内的这些变化和更改，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种显示面板，包括层叠设置的衬底层、有源层、第一绝缘层、第一金属层、第二绝缘层、和第二金属层，其特征在于：
所述显示面板定义有显示区以及非显示区，位于所述显示区的所述第二金属层包括用于数据信号线的第一部分、以及用于连接正向电压(VDD)的驱动电源线的第二部分，而位于所述非显示区的所述第二金属层包括用于连接负向电压(VSS)的驱动电源线的第三部分，其中所述第二金属层的第一部分的厚度少于所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二金属层的第二部分的厚度与的第三部分的厚度相同。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二金属层的第一部分的厚度为a，所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度为b，而2a≤b≤3a。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，位于所述显示区的所述第二金属层还包括用于电性连接有机发光二极管的阳极层的第四部分，以及用于信号线换线的第五部分，其中所述第二金属层的第四部分及第五部分的厚度相同于第一部分的厚度。
5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第二金属层的第四部分与第五部分的厚度相同于所述第二金属层的第一部分的厚度。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二金属层的第一部分、第二部分的材质包括铝或铝合金。
7.一种显示面板的制备方法，所述显示面板定义有显示区以及非显示区，其特征在于，所述显示面板的制备方法包括步骤：
提供包括层叠设置的衬底层、有源层、第一绝缘层、第一金属层、第二绝缘层的结构；以及
形成第二金属层于所述第二绝缘层上，其中位于所述显示区的所述第二金属层包括用于数据信号线的第一部分、以及用于连接正向电压(VDD)的驱动电源线的第二部分，而位于所述非显示区的所述第二金属层包括用于连接负向电压(VSS)的驱动电源线的第三部分，其中所述第二金属层的第一部分的厚度少于所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度。
8.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二金属层的第二部分的厚度与的第三部分的厚度相同，所述第二金属层的第一部分的厚度为a，所述第二金属层的第二部分与第三部份的厚度为b，而2a≤b≤3a。
9.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，形成所述第二金属层于所述第二绝缘层上包括步骤：
制作第二金属层与涂布光刻胶，依序覆盖所述第二绝缘层；
利用具有多段式穿透率的掩膜板对所述光刻胶进行曝光及显影，形成光刻胶图案的第一部分及第二部分于所述显示区内，以及光刻胶图案的第三部分于所述非显示区内，其中光刻胶图案的第二部分及第三部分的厚度较光刻胶图案的第一部分的厚度为厚；以及
施行蚀刻工艺，采用所述光刻胶图案的第一部分、第二部分及第三部分作为蚀刻掩膜对所述第二金属层进行蚀刻，接着进行灰化工艺处理，于第二绝缘层上留下位于显示区内的所述第二金属层的第一部分与第二部分，以及位于所述非显示区内的所述第二金属层的第三部分。
10.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域和第三穿透率区域，其中所述第一穿透率区域的透光率小于所述第二穿透率区域的透光率，而所述第二穿透率区域的透光率小于所述第三穿透率区域的透光率。
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