CN111403452A - 一种显示面板、显示模组及电子装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板、显示模组及电子装置,该显示面板包括:第三金属层,设于所述第一金属层上,所述第三金属层包括信号线;导电层,设于所述第三金属层上;所述导电层包括阳极和连接部;所述连接部与所述信号线连接;像素定义层,设于所述导电层上,所述像素定义层包括第一开口区域和第二开口区域;发光层,位于所述第一开口区域内;阴极,设于所述第二开口区域内以及所述发光层和所述像素定义层上,所述阴极与所述连接部连接。本发明的显示面板、显示模组及电子装置,能够提高亮度的均一性。

Description

一种显示面板、显示模组及电子装置
【技术领域】
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示面 板、显示模组及电子装置。
【背景技术】
目前,有机发光二极管显示面板按出光方向的不同, 可分为底发射和顶发射两种结构。底发射结构的光从阳极 透射出去,因阵列基板侧的布线密集度较高,透光率较低,因此底发射结构常用于大尺寸低像素密度的产品。顶发射 结构中,有机发光二极管发出的光从阴极透射出去。
然而,随着有机发光二极管显示面板尺寸的增大,以 及阴极材料本身的阻抗较大,会导致输入远端的阴极电压 下降较明显,从而使得面内的阴极电压的均一性降低,进而造成亮度不均。
因此,有必要提供一种显示面板、显示模组及电子装 置,以解决现有技术所存在的问题。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种显示面板、显示模组及电 子装置,能够提高亮度的均一性。
为解决上述技术问题,本发明提供一种显示面板,包 括:
基底;
半导体层,设于所述基底上;
第一金属层,设于所述半导体层上;所述第一金属层 包括栅极;
第三金属层,设于所述第一金属层上,所述第三金属 层包括信号线;
导电层,设于所述第三金属层上;所述导电层包括阳 极和连接部;所述连接部与所述信号线连接;
像素定义层,设于所述导电层上,所述像素定义层包 括第一开口区域和第二开口区域;
发光层,位于所述第一开口区域内;
阴极,设于所述第二开口区域内、所述发光层以及所 述像素定义层上,所述阴极与所述连接部连接。
本发明还提供一种显示模组,其包括上述显示面板。
本发明还提供一种电子装置,其包括上述显示模组。
本发明的显示面板、显示模组及电子装置,包括第三 金属层,设于所述第一金属层上,所述第三金属层包括信 号线;导电层,设于所述第三金属层上;所述导电层包括 阳极和连接部;所述连接部与所述信号线连接;像素定义 层,设于所述导电层上,所述像素定义层包括第一开口区 域和第二开口区域;发光层,位于所述第一开口区域内; 阴极,设于所述第二开口区域内以及所述发光层和所述像 素定义层上,所述阴极与所述连接部连接,由于将阴极与 信号线相连,因此减小阴极的阻抗,使得面内阴极电压分 布均匀,从而提高亮度的均一性。
【附图说明】
图1为现有像素驱动电路的结构示意图;
图2为现有图1所示的像素驱动电路的一种工作时序 示意图;
图3为现有显示面板的剖面示意图;
图4为本发明一实施例的显示面板的剖面示意图;
图5为本发明一实施例的显示面板的制作方法的第 五步的结构示意图;
图6为本发明一实施例的显示面板的制作方法的第 八步的结构示意图;
图7为本发明一实施例的像素驱动电路的结构示意 图。
【具体实施方式】
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本 发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用 语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、 「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使 用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本 发明。在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
如图1和图2所示,现有的7T1C的像素驱动电路包 括驱动晶体管T1和第二晶体管T2至第七晶体管T7。
第二晶体管T2的栅极接入第二扫描信号Scan[n],源 极接入数据电压Vdata,漏极与驱动晶体管T1的源极连 接;
驱动晶体管T1的栅极与第三晶体管T3的源极连接, 漏极与第三晶体管T3的漏极连接;
第五晶体管T5的栅极接入发光信号EM,源极接入 数据电压VDD,漏极与驱动晶体管T1的源极连接;
第三晶体管T3的栅极接入第二扫描信号Scan[n],漏 极与驱动晶体管T1的漏极连接;
第四晶体管T4的栅极接入第一扫描信号Scan[n-1], 源极与第三晶体管T3的源极连接,漏极与第七晶体管T7 的源极均与低电平信号VI连接;
第六晶体管T6的栅极接入发光信号EM,源极与驱 动晶体管T1的漏极连接,漏极与第七晶体管T7的漏极连 接以及有机发光二极管连接,第七晶体管T7的栅极接入 第三扫描信号XScan[n]。
具体工作过程中包括以下阶段:
该像素驱动电路工作过程分为三个阶段:初始化阶段 (t1)、阈值电压补偿阶段(t2)、发光阶段(t3),具体如 下:
以T1至T7为P型晶体管为例,初始化阶段(t1): Scan[n-1]输出低电平,使得晶体管T4打开,Scan[n]、 XScan[N]及EM输出高电平,使得T2、T3、T5、T6、T7 关闭,VI信号(低电位)通过T4对驱动晶体管T1的栅 极进行复位;
阈值电压补偿阶段(t2):Scan[n-1]及EM输出高电 平,使得晶体管T4、T5、T6关闭,Scan[n]和XScan[n] 输出低电平,使得T2、T3、T7打开,上一阶段T1的栅 极为低电位,T1处于打开状态,数据电压Vdata通过T2、 T1、T3对T1的栅极进行充电,当T1栅极与源极电位差为其阈值电压时(即VA-Vdata=Vth),T1不再满足打开条 件,阈值电压补偿阶段结束,此时第一晶体管T1栅极的 电位为:Vdata+Vth,同时VI信号通过T7对发光器件的 阳极进行复位。
发光阶段(t3):Scan[n-1]、Scan[n]和XScan[N]输出 高电平,使得晶体管T2、T3、T4、T7关闭,EM输出低 电平,使得T5、T6打开,VDD通过T5、T1、T6给发光 器件的阳极供电,驱动晶体管T1输出电流以驱动发光器 件发光。
如图3所示,现有显示面板包括第一柔性衬底11、第 一阻挡层12、第二柔性衬底13、第二阻挡层14、缓冲层 14’、半导体层15(Poly)、第一绝缘层16、栅极171、第 二绝缘层18、金属部191、第三绝缘层20、源极211和漏 极212、平坦层22、阳极231(ANO)、像素定义层24(PDL)、 第一功能层25、发光层26、第二功能层27、阴极28 (Cathode)等。
请参照图4至图7,图4为本发明一实施例的显示面 板的剖面示意图。
如图4所示,本实施例的显示面板包括基底10、半 导体层15、第一金属层17、第二金属层19、导电层23、 像素定义层24、发光层26以及阴极28,此外还可包括缓 冲层14’、第一绝缘层16、第二绝缘层18、第三绝缘层 20以及平坦层22中的至少一种。
其中基底10可为柔性基底或者玻璃基板,在一实施 方式中,基底10可包括第一柔性衬底11、第一阻挡层12、 第二柔性衬底13以及第二阻挡层14。其中第一柔性衬底 11和第二柔性衬底13的材料均可为聚酰亚胺。
缓冲层14’设于所述基底10上。缓冲层14’的材料可 以包括SiNx和SiO2中的至少一种。
半导体层15设于所述缓冲层14’上。所述半导体层 15的材料可为多晶硅。
第一绝缘层16设于所述半导体层15上,所述第一绝 缘层16的材料包括SiNx和SiO2中的至少一种。
第一金属层17设于所述第一绝缘层16上;所述第一 金属层17包括栅极171。
第二绝缘层18设于所述第一金属层17上,所述第二 绝缘层18的材料包括SiNx和SiO2中的至少一种。
第二金属层19设于所述第二绝缘层18上;所述第二 金属层19包括金属部191,所述金属部191与所述栅极 171的位置对应。所述金属部191与所述栅极171形成电 容。
第三绝缘层20设于所述第二金属层19上,所述第三 绝缘层20的材料包括SiNx和SiO2中的至少一种。其中, 在一实施方式中,为了更加提高亮度的均一性,所述第三 绝缘层20上设置有第一过孔(图中未标出),所述第一过 孔贯穿所述第一绝缘层16、所述第二绝缘层18以及所述 第三绝缘层20。
第三金属层21设于所述第三绝缘层20上,所述第三 金属层21包括信号线213。所述信号线213接入有第一 电源电压,所述第一电源电压小于预设值。第一电源电压 可为直流低电平电压。在一实施方式中,所述第三金属层21还设于所述第一过孔内,以形成所述信号线213。在一 实施方式中,为了简化制程工艺,降低生产成本,所述第 三金属层21包括源极211和漏极212,也即信号线213、 源极211和漏极212位于同一金属层。其中第一过孔与所述信号线213的位置对应。
平坦层22设于所述第三金属层21上,所述平坦层 22上设置有第二连接孔(图中未标出),所述连接部232 通过所述第二连接孔与所述信号线213连接。第二连接孔 与所述连接部232的位置对应。
导电层23设于所述平坦层22上;所述导电层23包 括阳极231和连接部232;所述连接部232与所述信号线 213连接;所述导电层23的材料为透明导电材料,比如 为氧化铟锡。
结合图5,像素定义层24设于所述导电层23上,所 述像素定义层24包括第一开口区域101和第二开口区域 102。
发光层26位于所述第一开口区域101内;
阴极28设于所述第二开口区域102内以及所述发光 层26和所述像素定义层24上,所述阴极28与所述连接 部232连接。其中所述阴极28的材料可为是镁银合金 (Mg/Ag),在一实施方式中,所述阴极28的厚度约为
Figure BDA0002426495470000081
所述阴极28层的阻抗小于20Ω。
此外,显示面板还可包括第一功能层25和第二功能 层27。
第一功能层25设于所述像素定义层24和所述发光层 26之间,所述第一功能层25可包括空穴注入层和空穴传 输层。
第二功能层27设于所述发光层26和所述阴极28之 间,结合图6,所述第二功能层27上设置有第一连接孔 271,所述第一连接孔271贯穿所述第二功能层27和所述 第一功能层25,所述阴极28通过所述第一连接孔271与 所述连接部232连接。第二功能层27可包括电子传输层 和电子注入层。
此外,该显示面板还可包括封装层和/或者盖板等膜 层。
在另一实施例中,所述第一金属层17还可包括第二 导电部(图中未标出),所述信号线213与所述第二导电 部连接。在又一实施例中,所述第二金属层19包括第一 导电部,所述信号线213与所述第一导电部(图中未标出) 连接。此时信号线213用于将连接部232与第一导电部或 第二导电部进行连接。
上述显示面板对应的像素驱动电路的结构示意图如 图7所示,图7相较于图1增加了信号线213,且信号线 213与阴极连接,信号线213接入的电压与阴极接入的电 压相同,其中信号线213和阴极均接入电源低电压VSS。
由于将阴极28与信号线213相连,可增加面内阴极 28的供给,减小阴极28的阻抗,使输入远端的阴极电压 与输入近端的阴极电压相同,避免输入远端的阴极电压下 降,使得面内阴极电压分布均匀,从而提高亮度的均一性。
可以理解的是,图4仅给出其中一种实施方式的显示 面板的结构,但是并不能对本发明构成限定。在一实施方 式中,结合图5和图6,上述显示面板的制作方法包括:
S101、在基底10上依次制作半导体层15、第一绝缘 层16、栅极171、第二绝缘层18、金属部191、第三绝缘 层20;在第三绝缘层20制作第一过孔和第二过孔;
其中所述第一过孔贯穿所述第三绝缘层20、所述第 二绝缘层18以及第一绝缘层16;源极211和漏极212通 过第二过孔与半导体层15连接。
S102、在所述第一过孔、所述第二过孔内以及第三绝 缘层20上制作第三金属层21,对第三金属层21进行图 案化处理形成源极211和漏极212以及信号线213。
图案化工艺可以包括曝光、显影、蚀刻等步骤。
S103、在所述第三金属层21上制作平坦层22,在所 述平坦层22上制作第二连接孔和第三过孔;
S104、在所述第二连接孔和所述第三过孔内制作导电 层23,对所述导电层23进行图案化处理,形成阳极231 和连接部232;
所述阳极231通过所述第三过孔(图中未标出)与所 述漏极212连接,所述连接部232通过所述第二连接孔(图 中未标出)与所述信号线213连接。
S105、在所述导电层23上制作像素定义层24,对所 述像素定义层24进行图案化处理,形成第一开口区域101 和第二开口区域102;
S106、在所述第一开口区域101和所述第二开口区域 102内以及所述像素定义层24上制作第一功能层25;
S107、在位于所述第一开口区域101内的第一功能层 25上制作发光层26;
S108、在所述发光层26上制作第二功能层27,对所 述第二功能层27进行图案化处理,形成第一连接孔271;
其中一种是采用具有开孔31的金属掩膜板30,利用 氧气(O2)对开孔31位置处的第二功能层27以及第一功 能层25进行灰化(Ash)处理,去除功能层,形成连接孔。 另外一种方法是采用石英掩膜板,石英掩膜板中在开孔以 外的位置设置有遮光层,首先利用紫外线照射,使开孔区 域内的功能层特性发生改变,再利用氧气(O2)进行灰化 (Ash)处理,被紫外线照过的功能层被去除,形成连接 孔。
S109、在所述第一连接孔271内以及所述第二功能层27上制作阴极28。
本发明还提供一种显示模组,其包括上述任意一种显 示面板。该显示模组还可包括触控层。
本发明还提供一种电子装置,其包括上述任意一种显 示模组。该电子装置可以为手机、平板电脑、电脑等设备。
本发明的显示面板、显示模组及电子装置,包括第三 金属层,设于所述第一金属层上,所述第三金属层包括信 号线;导电层,设于所述第三金属层上;所述导电层包括 阳极和连接部;所述连接部与所述信号线连接;像素定义 层,设于所述导电层上,所述像素定义层包括第一开口区 域和第二开口区域;发光层,位于所述第一开口区域内; 阴极,设于所述第二开口区域内以及所述发光层和所述像 素定义层上,所述阴极与所述连接部连接,由于将阴极与 信号线相连,因此减小阴极的阻抗,使得面内阴极电压分 布均匀,从而提高亮度的均一性。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但 上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术 人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动 与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为 准。

Claims (10)

1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基底;
半导体层,设于所述基底上;
第一金属层,设于所述半导体层上;所述第一金属层包括栅极;
第三金属层,设于所述第一金属层上,所述第三金属层包括信号线;
导电层,设于所述第三金属层上;所述导电层包括阳极和连接部;所述连接部与所述信号线连接;
像素定义层,设于所述导电层上,所述像素定义层包括第一开口区域和第二开口区域;
发光层,位于所述第一开口区域内;
阴极,设于所述第二开口区域内、所述发光层以及所述像素定义层上,所述阴极与所述连接部连接。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
第一功能层,设于所述像素定义层和所述发光层之间;
第二功能层,设于所述发光层和所述阴极之间,所述第二功能层上设置有第一连接孔,所述第一连接孔贯穿所述第二功能层和所述第一功能层,所述阴极通过所述第一连接孔与所述连接部连接。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述显示面板还包括:
平坦层,位于所述第三金属层和所述导电层之间,所述平坦层上设置有第二连接孔,所述连接部通过所述第二连接孔与所述信号线连接。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述第一金属层和所述第二金属层之间设置有第二金属层,所述第二金属层包括金属部,所述金属部与所述栅极的位置对应。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,
所述第二金属层包括第一导电部,所述信号线与所述第一导电部连接。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述第一金属层还包括第二导电部,所述信号线与所述第二导电部连接。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述信号线接入有第一电源电压,所述第一电源电压小于预设值。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,
所述半导体层和所述第一金属层之间设置有第一绝缘层;
所述第一金属层和所述第二金属层之间设置有第二绝缘层;
所述第二金属层和所述第三金属层之间设置有第三绝缘层;
所述第三绝缘层上设置有第一过孔,所述第一过孔贯穿所述第一绝缘层、所述第二绝缘层以及所述第三绝缘层;
其中所述第三金属层还设于所述第一过孔内,以形成所述信号线。
9.一种显示模组,其特征在于,包括如权利要求1至8中任一项所述的显示面板。
10.一种电子装置,其特征在于,包括如权利要求9所述的显示模组。
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