CN111381378A - 缩束组件、匀光装置及激光投影*** - Google Patents
缩束组件、匀光装置及激光投影*** Download PDFInfo
- Publication number
- CN111381378A CN111381378A CN201811633346.XA CN201811633346A CN111381378A CN 111381378 A CN111381378 A CN 111381378A CN 201811633346 A CN201811633346 A CN 201811633346A CN 111381378 A CN111381378 A CN 111381378A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mirror
- light
- sub
- mirror surface
- main
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0977—Reflective elements
- G02B27/0983—Reflective elements being curved
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/14—Details
- G03B21/20—Lamp housings
- G03B21/2006—Lamp housings characterised by the light source
- G03B21/2033—LED or laser light sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/14—Details
- G03B21/20—Lamp housings
- G03B21/208—Homogenising, shaping of the illumination light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
Abstract
本发明提供了一种缩束组件,用于传播光线,缩束组件包括依次设置在出光方向上的副镜及主镜,副镜的开口直径小于主镜的开口直径,主镜中心设有中心孔,主镜的与副镜相面对的一侧具有内凹反射镜面,副镜的与主镜相面对的一侧设有外凸反射镜面,内凹反射镜面与外凸反射镜面具有共同的焦点。一种匀光装置,包括发光装置及上述缩束组件。一种激光投影***,包括上述匀光装置。本发明提供的缩束组件、匀光装置及激光投影***,解决了光功能效率低的技术问题。
Description
技术领域
本发明属于投影显示技术领域,更具体地说,是涉及一种缩束组件、匀光装置及激光投影***。
背景技术
随着激光技术的不断发展,激光光源以其高亮度、大色域、长寿命等优点逐步替代传统光源应用于投影显示技术领域,并形成了一项新兴的技术,即激光投影显示技术。
激光显示技术的核心光源多采用具有亮度高、体积小、寿命长、成本低和高可靠性等特点的半导体激光器。受限于半导体工艺水平及材料本身特性,目前单颗半导体激光器输出光功率较低,多为几百毫瓦到几瓦之间,LD的封装也多采用TO封装。为满足激光显示产品对高功率激光光源的需求,实际应用中,常常将多颗激光二极管按阵列封装排布,通过光学元件对光线的整形和重新的空间排布,以得到消除间隙的高能量密度阵列式近准直输出的三基色激光光线。通常,这些阵列式准直输出光线还会被进一步压缩并匀化以满足后端投影***对光源的均匀性要求。
目前常见的技术方案是采用透镜式的缩束组件,后面布置有耦合透镜并将缩束后的光线耦合进入匀光装置中进行匀光,该方案存在的问题在于三基色激光含有不同激光波长,不同波长的激光透过玻璃材料后会存在色差,降低后续光路的耦合效率,光能利用率低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种匀光装置,以解决现有技术中光能利用效率较低的技术问题。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:提供了一种缩束组件,用于传播光线,所述缩束组件包括依次设置在出光方向上的副镜及主镜,所述副镜的开口直径小于所述主镜的开口直径,所述主镜中心设有中心孔,所述主镜的与所述副镜相面对的一侧具有内凹反射镜面,所述副镜的与所述主镜相面对的一侧设有外凸反射镜面,所述内凹反射镜面与所述外凸反射镜面具有共同的焦点。
进一步地,所述主镜与所述副镜具有共同的对称轴,所述主镜包括相对所述对称轴对称设置的第一子主镜和第二子主镜,所述副镜包括相对所述对称轴对称设置的第一子副镜和第二子副镜;所述内凹反射镜面包括位于所述第一子主镜上的第一内凹反射镜面,以及位于所述第二子主镜上的第二内凹反射镜面;所述外凸反射镜面包括位于第一子副镜上的第一外凸反射镜面,以及位于第二子副镜上的第二外凸反射镜面。
进一步地,所述焦点包括第一内凹反射镜面与第一外凸反射镜面共同的第一焦点,以及第二内凹反射镜面与第二外凸反射镜面共同的第二焦点;所述第一焦点及所述第二焦点均偏离所述对称轴设置。
进一步地,所述中心孔为圆形,所述中心孔的孔径大于所述副镜的有效通光区面积,且所述中心孔的半径小于进入所述主镜的最靠近所述对称轴的光线到所述对称轴的距离。
进一步地,所述主镜与所述副镜的设置位置使得所述光线经由所述内凹反射镜面及所述外凸反射镜面反射,从所述中心孔出来。
进一步地,所述主镜包括多组相对所述对称轴对称设置的所述第一子主镜及所述第二子主镜,各所述第一子主镜及各所述第一子副镜围合形成以所述对称轴为中心对称轴的旋转体结构;所述副镜包括多组相对所述对称轴对称设置的所述第一子副镜及所述第二子副镜,各所述第一子副镜及所述第二子副镜围合形成以所述对称轴为中心对称轴的旋转体结构。
本发明还提供了一种匀光装置,包括光源装置及上述缩束组件;所述光源装置发出的光线经过所述缩束组件传播。
进一步地,所述匀光装置还包括设置在所述光线结构的出光方向的耦合元件,以及设置在所述耦合元件出光方向的合光元件。
进一步地,所述匀光装置还包括设于所述耦合元件与所述合光元件之间的匀光旋转盘。
本发明还提供了一种激光投影***,包括上述匀光装置,用于支撑并为所述匀光装置散热的水冷结构,以及用于形成投影的投射组件。
本发明提供的匀光装置的有益效果在于:与现有技术相比,本发明的缩束组件通过副镜及主镜的设置,且副镜与主镜依次设置在出光方向上,主镜的中心设有中心孔,主镜具有内凹反射镜面,副镜具有外凸反射镜面,这样,光源装置发出的光线将依次经过内凹反射镜面及外凸反射镜面的反射,并从中心孔中穿出,从而避免了光线穿过玻璃而产生色差的技术问题,进而提高了光能的利用效率。同时,因内凹反射镜面与外凸反射镜面具有共同的焦点,从而使得光源装置发出的平行光线经过缩束组件后,仍是平行光线,从而进一步提高了光能利用率,减少光能损失。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的缩束组件的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的缩束组件的光路图;
图3为本发明实施例提供的匀光装置的结构示意图;
图4为本发明实施例提供的缩束组件的另一种状态的结构示意图;
图5为图4中的缩束组件的侧面示意图;
图6为本发明实施例提供的缩束组件的光路原理示意图;
图7为本发明实施例提供的缩束组件的光路图;
图8为本发明实施例提供的激光投影***的光路图。
其中,图中各附图标记:
200-光源装置;300-缩束组件;400-匀光功能组件;500-水冷结构;600-投射组件;(201、202)-光源结构;301-主镜;302-副镜;中心孔-3010;401-耦合元件;402-合光元件;403-匀光旋转盘;601-中继透镜组;602-第一棱镜;603-第二棱镜;604-空间光调制器;605-投影镜头;606-投影屏幕;3011-第一子主镜;3012-第二子主镜;3021-第一子副镜;3022-第二子副镜;S1-内凹反射镜面;S2-外凸反射镜面;S3-第一内凹反射面;S4-第一内凹反射面;S5-第一外凸反射面;S6-第二外凸反射面;o1-焦点;o2-第一焦点;o3-第二焦点。
具体实施方式
为了使本发明所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
需要理解的是,术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
请一并参阅图3、图5及图6,现对本发明提供的缩束组件300进行说明。该缩束组件300用于将激光投影***中的光源装置200发出的光线进行传播,从而避免了透射式缩束组件因玻璃色散导致的光能量损失问题。
具体的,请参阅图1及图2,缩束组件300包括主镜301及副镜302,副镜302和主镜301依次设置出光方向上,副镜302的开口直径小于主镜301的开口直径,主镜301中心设有中心孔3010,主镜301用于将光源装置200发射出来的光线反射至副镜302,副镜302用于将主镜301反射过来的光线反射至中心孔3010。在本实施例中,主镜301的与副镜302相面对的一侧具有内凹反射镜面S1,副镜302的与主镜301相面对的一侧具有外凸反射镜面S2,内凹反射镜面S1与外凸反射镜面S2具有共同的焦点o1,内凹反射镜面S1用于将光源装置200反射过来的光线发射至外凸反射镜面S2,外凸反射镜面用于将内凹反射镜面反射过来的光线反射至中心孔3010,即光线经由内凹反射镜面S1及外凸反射镜面S2的反射后,并从中心孔3010中出来。
本发明提供的缩束组件300,与现有技术相比,本发明的缩束组件300通过副镜302及主镜301的设置,且副镜302与主镜301依次设置在出光方向上,主镜301的中心设有中心孔3010,主镜301具有内凹反射镜面S1,副镜302具有外凸反射镜面S2,这样,光源装置200发出的光线将依次经过内凹反射镜面S1及外凸反射镜面S2的反射,并从中心孔3010中穿出,从而避免了光线穿过玻璃而产生色差的技术问题,进而提高了光能的利用效率。同时,因内凹反射镜面S1与外凸反射镜面S2具有共同的焦点o1,从而使得光源装置200发出的平行光线经过缩束组件300后,仍是平行光线,从而进一步提高了光能利用率,减少光能损失。
进一步地,请参阅图7,作为本发明提供的缩束组件300的一种具体实施方式,主镜301与副镜302具有一致的对称轴a3,即主镜301和副镜302都为对称结构,且都是相对同一对称轴a3对称设置。
具体的,请参阅图7,主镜301包括相对对称轴a3对称设置的第一子主镜3011及第二子主镜3012,副镜302包括相对对称轴a3对称设置的第一子副镜3021及第二子副镜3022。内凹反射镜面S1包括第一内凹反射镜面S3及第二内凹反射镜面S4,第一内凹反射镜面S3位于第一子主镜3011上,第二内凹反射镜面S4位于第二子主镜3012上。外凸反射镜面S2包括第一外凸反射镜面S5及第二外凸反射镜面S6,第一外凸反射镜面S5位于第一子副镜3021上,第二外凸反射镜面S6位于第二子副镜3022上。焦点o1包括第一焦点o2及第二焦点o3,第一焦点o2为第一内凹反射镜面S3与第一外凸反射镜面S5所共有,第二焦点o3为第二内凹反射镜面S4与第二外凸反射镜面S6所共有,第一焦点o2及第二焦点o3均偏离对称轴a3设置。具体的,请参阅图6,第一焦点o2位于第一内凹反射镜面S3及第一外凸反射镜面S5的第一旋转轴a4上,第一旋转轴a4偏离对称轴a3设置。
本实施例的缩束组件300通过将第一焦点o2及第二焦点o3均偏离对称轴a3设置,从而使得最靠近对称轴a3的光线经过外第一外凸反射镜面S5反射后到对称轴a3的距离减小,进而达到消除副镜302遮拦问题,提高了光线质量与能量密度。
以下为本实施例中的缩束组件300的形成过程:请参阅图6,在本实施例中,主镜301与副镜302共焦点且共第一旋转轴a4,且第一内凹反射镜面S3与第一外凸反射镜面S5均为二次非球反射面,第一焦点o2位于第一旋转轴a4上,S3及S5与对称轴a3的交点间的距离为L,L满足:
其中,f2为S3的近轴焦距,f1为S5的近轴焦距,R为S3的近轴曲率半径,r为S5的近轴曲率半径;对第一子主镜3011与第一子副镜3022在XZ平面进行切边,切边平面距离第一旋转轴a4的垂直距离为Δy,第一旋转轴a4在切边平面上的垂直投影确定为对称轴a3。至此,第一子主镜3011与第一子副镜3022构成一个单离轴反射式缩束组件,缩束倍率β为:
其中,H为输入光线最靠近对称轴a3的边缘光线高度,h为输出光线最靠近对称轴a3的边缘光线高度。
离轴量Δy满足:
Δy<h
将第二子主镜3012与第二子副镜3022以同样的方法装配得到另一个具有相同光学参数的单离轴反射式缩束组件。然后,将两个单离轴反射式缩束组件关于对称轴a3对称排布并拼接在一起构成双离轴反射式缩束组件,也即为本实施例中的缩束组件300,如图7所示。该缩束组件300具有两个光输入面P3、P4,和一个光输出面P5。
假设光源装置200输出的红绿蓝三基色阵列化激光共轴准直光线在光输入面P3的光场强度分布为图7中的303所示,光源装置200输出的红绿蓝三基色阵列化激光共轴准直光线在光输入面P4的光场强度分布为图7中的304所示,从图中可以看出,经过缩束组件300压缩后的红绿蓝三基色阵列化激光共轴准直光线在光输出面P5的光场强度分布如图7中的305所示。两光线之间的间隙被设计为d′,d′满足
d′=2*(h-Δy)
d′的取值由第一子副镜3022和第二子副镜3022的有效通光口径决定,取值1毫米到3毫米是理想范围。相比于传统的共轴的反射式缩束组件,发明的缩束组件300消除了副镜302的遮拦问题,具有更高的激光功率密度、更小的光学拓展量以及更紧凑的结构。
进一步地,请参阅图7,作为本发明提供的缩束组件300的一种具体实施方式,上述副镜302与主镜301并列设置,副镜302设于主镜301的光线汇聚的路径上。具体的,副镜302与主镜301在对称轴a3上的第一距离与Δy呈正比,Δy取得越大,第一距离就越大。安装时,可根据需要设定d′,然后根据d′通过d′=2*(h-Δy)计算出Δy的值,根据Δy对主镜301及副镜302进行切边,接着计算出第一距离的值,最后将主镜301和副镜302沿着对称轴a3进行安装,且相互具有第一距离。
优选地,在本实施例中,第一内凹反射镜面S3、第二内凹反射镜面S4、第一外凸反射镜面S5及第二外凸反射镜面S6均为二次非球抛物面。
在本发明的其他一些实施例中,根据实际情况及具体要求,上述第一内凹反射镜面S3、第二内凹反射镜面S4、第一外凸反射镜面S5及第二外凸反射镜面S6也可为椭球形面,此处不做唯一限定。
进一步地,请参阅图4及图5,作为本发明提供的缩束组件300的一种具体实施方式,上述中心孔3010沿轴向贯穿主镜301,中心孔3010可以是圆形或矩形,优选中心孔3010为圆形。中心孔3010关于对称轴a3对称,中心孔3010的孔径大于副镜302的有效通光区面积,且中心孔半径小于H-Δy,也即是中心孔3010的半径小于进入主镜301的最靠近对称轴a3的光线到对称轴a3的距离,从而防止入射光线不经过内凹反射镜面S1的反射就直接从中心孔3010中穿过了。
优选地,在本实施例中,请参阅图4,上述主镜301包括一组相对对称轴a3对称设置的第一子主镜3011及第二子主镜3012,副镜302包括一组相对对称轴a3对称设置的第一子副镜3021及第二子副镜3022。
优选地,在本发明的其他一些实施例中,上述主镜301包括多组相对对称轴a3对称设置的第一子主镜3011及第二子主镜3012,各第一子主镜3011及各第一子副镜3012围合形成以对称轴a3为中心对称轴的旋转体结构。副镜302包括多组相对对称轴a3对称设置的第一子副镜3021及第二子副镜3022,各第一子副镜3021及第二子副镜3022围合形成以对称轴a3为中心对称轴的旋转体结构。其中,上述旋转体结构指的是子主镜或者子副镜绕一根中心对称轴a3沿周向旋转的结构。另外,每一主镜301、副镜302为以对称轴a3为对称中心的镜像对称结构。
本发明还提供了一种匀光装置,包括光源装置200、上述缩束组件300及匀化功能组件400。请参阅图3,光源装置200用于发出平行的光线,在本实施例中,上述光源装置200为三基色激光光源组件200,其用于发出红蓝绿三基色阵列化激光共轴准直光线。缩束组件300及匀化功能组件400依次设于光源装置200的发光方向上,化功能组件400设于中心孔3010附近,外凸反射镜面S2反射后的光线经过中心孔3010并进入匀化功能组件400中,匀化功能组件400用于对缩束后的光线进行进一步运化。
优选地,请参阅图3,作为本发明提供的匀光装置的一种具体实施方式,上述光源装置200包括两以对称轴a3对称设置的光源结构201、202,主镜301包括两以对称轴a3对称设置的第一子主镜3011和第二子主镜3012,副镜302包括以对称轴a3对称设置的第一子副镜3021和第二子副镜3022。具体的,两光源结构201、202发射的最靠近对称轴a3的两第一光线之间具有第二距离,第二距离大于副镜302沿Y方向的宽度,两第一光线分别经过第一子主镜3011及第一子副镜3021的反射之后,两第一光线具有第三距离,当第三距离的范围在1mm到3mm之间,该缩束组件300就能彻底的消除了副镜302的遮拦问题,使得输出的光线具有更高的激光功率密度、更小的光学拓展量以及更紧凑的结构。
优选地,在本发明的其他一些实施例中,上述光源装置200包括多个以对称轴a3为中心对称轴a3的光源结构,即上述多个光源结构围成环形结构,则通过该缩束组件300输出的光线阵列呈一圆柱状结构。
进一步地,作为本发明提供的匀光装置的一种具体实施方式,上述光源结构201、202均包括多个激光光源、多个准直透镜、多个光学组件及合光组件,多个激光光源用于发射以阵列方式布置的红绿蓝三基色激光光线,各准直透镜与各激光光源对应设置,准直透镜用于将阵列化激光光线进行准直处理形成阵列化准直光线,各光学组件与各准直透镜一一对应设置,光学组件用于对经过准直透镜后的阵列化准直光线进行重新的空间整形与排布以减小阵列化准直光线之间的间隙,以提高激光功率密度,合光组件用于实现三基色阵列化准直光线的共轴合束输出。本实施例的光源结构通过激光光源、准直透镜、光学组件及合光组件的设置,从而能够输出红绿蓝三基色阵列化共轴准直光线。
具体的,匀化功能组件40包括耦合元件401、合光元件402及匀光旋转盘403。
耦合元件401设于缩束组件300的出光方向上。具体的,耦合元件401是用于将红绿蓝三基色阵列化激光共轴准直光线导向匀光旋转盘403进而耦合进入合光元件402的透镜组,其由单个或多个透镜构成。
优先地,在本实施例中,上述耦合透镜优选为非球面单透镜。
进一步地,请参阅图3,作为本发明提供的匀光装置的一种具体实施方式,上述匀光装置还包括合光元件402,合光元件402设于耦合元件401的出光方向上,合光元件402用于将透过耦合元件401的聚焦光斑转换为后续成像***中的空间光调制器604所需的矩形光斑。在本实施例中,上述合光元件402的前端面位于耦合元件401的焦点附近,本实施例中的合光元件402利用光线在合光元件402内的多次反射起到匀化光斑的作用。
具体的,在本实施例中,上述合光元件402为方形棒状结构,其横截面上的长宽比与空间光调制器604的长宽比相同,从而能够将聚焦光斑转换为后续成像***中的空间光调制器604所需的矩形光斑。
具体的,上述合光元件402可以是实心的也可以是空心的。优选地,在本发明实施例中,上述合光元件402优选为空心的矩形棒状结构。当然,在本发明的其他实施例中,根据实际安装的需要,上述合光元件402也可以设置为:外表面为圆形、多边形等,内表面为空心的矩形,此处不做唯一限定。
进一步地,请参阅图3作为本发明提供的匀光装置的一种具体实施方式,上述匀光装置还包括匀光旋转盘403,匀光旋转盘403设于耦合元件401与合光元件402之间,匀光旋转盘403用于进一步改善匀光效果。具体的,在本实施例中,上述匀光旋转盘403优选为透明的薄圆板状结构,其能够以第二旋转轴a2为中心进行旋转,且匀光旋转盘403覆盖整个合光元件402的前端面。匀光旋转盘403的靠近耦合元件401的表面具有特殊设计的随机相位结构,光线扩散半角@HWHM控制在3°到7°之间,扩散角太大会降低光线耦合进入合光元件402的耦合效率,扩散角太小匀光效果不理想。匀光旋转盘403使被照射区域移动,避免极高功率密度的激光不会持续照射匀光旋转盘403的同一区域而损坏匀光旋转盘403,同时起到抑制激光散斑的目的。
请参阅图8,本发明还提供了一种激光投影***,包括上述匀光装置、水冷结构500及投射组件600。
水冷结构500用于支撑并为匀光装置散热。具体的,请参阅图2,水冷结构500置于两光源结构之间,且副镜302与主镜301均被固定在水冷结构500上,副镜302的第一平面与水冷结构500连接设置。水冷结构500具有一个进水口P6和一个出水口P7,水冷结构500与光源结构之间通过热传机构连接,光源装置200中的红绿蓝三基色激光光源工作时产生的热量通该热传导机构传递到水冷结构500上,并与从进水口P6流入的冷却水进行热置换,热置换后的水被从出水口P7流出,以保证红绿蓝三基色激光光源工作在理想的工作温度下,并保持高效的激光输出性能。
投射组件600用于形成投影,投射组件600包括中继透镜组601、光空间调制器、棱镜组及投影镜头605。
中继透镜组601用于将匀光装置匀化后的光线再次整形,中继透镜组601是将经合光元件402整形匀化后的光线再次整形为适用于对空间光调制器604进行照明的光线的透镜组,由单个或多个透镜构成。
光空间调制器用于对光线进行调制,空间光调制器604是反射式空间光调制器604件,本发明优选具有二维微反射镜阵列的DMD芯片。
棱镜组用于将光线反射至光空间调制器上,投影镜头605用于将光线投射至投影屏幕606上。棱镜组包括第一棱镜602及第二棱镜603,第一棱镜602和第二棱镜603共同构成内部全反射棱镜(TIR棱镜),使经过中继透镜组601整形过后的光线以既定的角度入射到空间光调制器604上,经过空间光调制器604调制后的反射,再次经由TIR棱镜进入投影镜头605,最终投影到投影屏幕606上形成图像。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.缩束组件,用于传播光线,其特征在于,所述缩束组件包括依次设置在出光方向上的副镜及主镜,所述副镜的开口直径小于所述主镜的开口直径,所述主镜中心设有中心孔,所述主镜的与所述副镜相面对的一侧具有内凹反射镜面,所述副镜的与所述主镜相面对的一侧设有外凸反射镜面,所述内凹反射镜面与所述外凸反射镜面具有共同的焦点。
2.如权利要求1所述的缩束组件,其特征在于,所述主镜与所述副镜具有一致的对称轴,所述主镜包括相对所述对称轴对称设置的第一子主镜和第二子主镜,所述副镜包括相对所述对称轴对称设置的第一子副镜和第二子副镜;所述内凹反射镜面包括位于所述第一子主镜上的第一内凹反射镜面,以及位于所述第二子主镜上的第二内凹反射镜面;所述外凸反射镜面包括位于第一子副镜上的第一外凸反射镜面,以及位于所述第二子副镜上的第二外凸反射镜面。
3.如权利要求2所述的缩束组件,其特征在于,所述焦点包括第一内凹反射镜面与第一外凸反射镜面共同的第一焦点,以及第二内凹反射镜面与第二外凸反射镜面共同的第二焦点;所述第一焦点及所述第二焦点均偏离所述对称轴设置。
4.如权利要求3所述的缩束组件,其特征在于,所述中心孔为圆形,所述中心孔的孔径大于所述副镜的有效通光区面积,且所述中心孔的半径小于进入所述主镜的最靠近所述对称轴的光线到所述对称轴的距离。
5.如权利要求3所述的缩束组件,其特征在于,所述主镜与所述副镜的设置位置使得所述光线经由所述内凹反射镜面及所述外凸反射镜面反射,从所述中心孔出来。
6.如权利要求2至5任一项所述的缩束组件,其特征在于,所述主镜包括多组相对所述对称轴对称设置的所述第一子主镜及所述第二子主镜,各所述第一子主镜及各所述第一子副镜围合形成以所述对称轴为中心对称轴的旋转体结构;所述副镜包括多组相对所述对称轴对称设置的所述第一子副镜及所述第二子副镜,各所述第一子副镜及所述第二子副镜围合形成以所述对称轴为中心对称轴的旋转体结构。
7.匀光装置,其特征在于,包括光源装置及如权利要求1至6任一项所述的缩束组件,所述光源装置发出的光线经过所述缩束组件传播。
8.如权利要求7所述的匀光装置,其特征在于,所述匀光装置还包括设置在所述光线结构的出光方向的耦合元件,以及设置在所述耦合元件出光方向的合光元件。
9.如权利要求8所述的匀光装置,其特征在于,所述匀光装置还包括设于所述耦合元件与所述合光元件之间的匀光旋转盘。
10.激光投影***,其特征在于,包括如权利要求6至9任一项所述的匀光装置,用于支撑并为所述匀光装置散热的水冷结构,以及用于形成投影的投射组件。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811633346.XA CN111381378A (zh) | 2018-12-29 | 2018-12-29 | 缩束组件、匀光装置及激光投影*** |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201811633346.XA CN111381378A (zh) | 2018-12-29 | 2018-12-29 | 缩束组件、匀光装置及激光投影*** |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111381378A true CN111381378A (zh) | 2020-07-07 |
Family
ID=71220495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201811633346.XA Pending CN111381378A (zh) | 2018-12-29 | 2018-12-29 | 缩束组件、匀光装置及激光投影*** |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111381378A (zh) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101576649A (zh) * | 2009-06-24 | 2009-11-11 | 黄建文 | 一种利用抛物面镜传送光能的装置 |
CN105116675A (zh) * | 2015-06-03 | 2015-12-02 | 海信集团有限公司 | 一种激光光源和投影显示设备 |
CN105651779A (zh) * | 2016-04-08 | 2016-06-08 | 核工业理化工程研究院 | 反射式激光多波段聚焦装置 |
CN107077053A (zh) * | 2014-10-28 | 2017-08-18 | 索尼公司 | 光源装置和投影仪 |
CN107797296A (zh) * | 2017-11-14 | 2018-03-13 | 海信集团有限公司 | 一种缩束装置、激光光源及激光投影设备 |
CN107797295A (zh) * | 2017-11-14 | 2018-03-13 | 海信集团有限公司 | 一种光源缩束***、激光光源装置以及激光投影*** |
CN108227218A (zh) * | 2016-12-22 | 2018-06-29 | 凝辉(天津)科技有限责任公司 | 一种低色散光调制装置 |
-
2018
- 2018-12-29 CN CN201811633346.XA patent/CN111381378A/zh active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101576649A (zh) * | 2009-06-24 | 2009-11-11 | 黄建文 | 一种利用抛物面镜传送光能的装置 |
CN107077053A (zh) * | 2014-10-28 | 2017-08-18 | 索尼公司 | 光源装置和投影仪 |
CN105116675A (zh) * | 2015-06-03 | 2015-12-02 | 海信集团有限公司 | 一种激光光源和投影显示设备 |
CN105651779A (zh) * | 2016-04-08 | 2016-06-08 | 核工业理化工程研究院 | 反射式激光多波段聚焦装置 |
CN108227218A (zh) * | 2016-12-22 | 2018-06-29 | 凝辉(天津)科技有限责任公司 | 一种低色散光调制装置 |
CN107797296A (zh) * | 2017-11-14 | 2018-03-13 | 海信集团有限公司 | 一种缩束装置、激光光源及激光投影设备 |
CN107797295A (zh) * | 2017-11-14 | 2018-03-13 | 海信集团有限公司 | 一种光源缩束***、激光光源装置以及激光投影*** |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6474918B2 (ja) | 光案内手段及び光源装置 | |
JP6178991B2 (ja) | 光源ユニットおよびそれを用いた光源モジュール | |
US11079665B2 (en) | Laser projection apparatus | |
US11237468B2 (en) | Laser projection apparatus | |
WO2019071951A1 (zh) | 复眼透镜组及投影装置 | |
US10989995B2 (en) | Laser assembly, laser source and laser projection apparatus | |
US11223806B2 (en) | Light source system, method for improving light efficiency thereof, and display device | |
CN107908011A (zh) | 一种焦点可变的缩束装置、激光光源及投影显示设备 | |
JP2018120111A (ja) | 照明装置及びプロジェクター | |
US20230110183A1 (en) | Light-source device, image projection apparatus, and display device | |
CN112230500B (zh) | 一种激光投影***及光源装置 | |
US10634981B2 (en) | Light source device and projection type display apparatus | |
CN218275510U (zh) | 一种激光器和激光投影*** | |
US20220357561A1 (en) | Fly-eye lens group, light source device, and projection apparatus | |
CN115566530A (zh) | 一种激光器和激光投影*** | |
CN111381378A (zh) | 缩束组件、匀光装置及激光投影*** | |
CN211786559U (zh) | 一种激光光源模块及激光显示装置 | |
US20240022696A1 (en) | Laser projection apparatus | |
WO2024120420A1 (zh) | 激光器、投影光源及投影设备 | |
CN220105505U (zh) | 激光单元和投影设备 | |
CN112213909B (zh) | 光源***与显示设备 | |
WO2019095661A1 (zh) | 一种缩束装置及激光投影设备 | |
CN220691247U (zh) | 混合光源装置、混合光源模组及投影机 | |
CN219936272U (zh) | 一种光源装置及投影设备 | |
CN112738484B (zh) | 激光投影设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200707 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |