CN111378933B - 蒸发源、蒸发源*** - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种蒸发源、蒸发源***，属于材料蒸镀技术领域，其可解决现有的蒸发源在长时间使用后容易出现所形成的膜层膜厚不均一的问题。本发明的蒸发源，用于蒸镀材料的蒸镀，包括：坩埚体，用于容置蒸镀材料；喷嘴，设置在所述坩埚体上，用于喷发所述蒸镀材料；角度板，设置在所述坩埚体上，且所述角度板在垂直于坩埚体的方向上的高度大于喷嘴在垂直于坩埚体的方向上的高度；所述角度板用于限制所述喷嘴的喷射范围；所述角度板靠近所述喷嘴的一侧具有容纳部，用于容纳部分蒸镀材料，以避免所述蒸镀材料影响所述喷射范围。

Description

蒸发源、蒸发源***
技术领域
本发明属于材料蒸镀技术领域，具体涉及一种蒸发源、蒸发源***。
背景技术
有机电致发光器件(Organic Light-Emitting Diode；OLED)由于同时具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于柔性显示面板、使用温度范围广、构造及制作过程较简单等优异的特性，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。
OLED器件的制备过程中，需要用到蒸镀工艺。现有技术中，蒸镀时间在140小时到200小时之间，在长时间的蒸镀过程中，会出现膜厚均一性随着时间变化的情况，特别对于一些膜层厚度比较厚的有机膜层，其膜厚均一性会有较大的变化，而膜层膜厚均一性逐渐变化会导致器件效率、色坐标范围、以及产品寿命出现异常，严重影响OLED显示面板的量产生产和产品品质。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种能够有效提升蒸镀成膜的膜厚均一性的蒸发源。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种蒸发源，用于蒸镀材料的蒸镀，包括：
坩埚体，用于容置蒸镀材料；
喷嘴，设置在所述坩埚体上，用于喷发所述蒸镀材料；
角度板，设置在所述坩埚体上，且所述角度板在垂直于坩埚体的方向上的高度大于喷嘴在垂直于坩埚体的方向上的高度；所述角度板用于限制所述喷嘴的喷射范围；所述角度板靠近所述喷嘴的一面具有容纳部，用于容纳部分蒸镀材料，以避免所述蒸镀材料影响所述喷射范围。
可选的，所述角度板包括：第一子角度板和第二子角度板；
所述第一子角度板相对所述第二子角度板更靠近所述坩埚体；
所述第二子角度板靠近所述喷嘴的一面与所述第一子角度板靠近所述喷嘴的一面之间具有第一角度，以共同限定出所述容纳部。
进一步可选的，所述第二子角度板相对所述第一子角度板，朝向对应喷嘴的方向倾斜，以与所述第一子角度板共同限定出所述容纳部。
进一步可选的，所述第一子角度板与所述第二子角度板为一体结构。
可选的，所述坩埚体的数量为多个；
部分所述坩埚体中容置的蒸镀材料不同。
可选的，所述坩埚体包括沿第一方向上依次紧密排布的第一坩埚体、第二坩埚体和第三坩埚体；
所述第一坩埚体和所述第三坩埚体上均对应设置有所述角度板；
分别与所述第一坩埚体和第三坩埚体对应设置的所述角度板，其背离对应坩埚体的一面限定出第二坩埚体上的喷嘴的喷射范围。
可选的，所述角度板包括：第一子角度板和第二子角度板；所述第二子角度板相对所述第一子角度板，朝向对应坩埚体上的喷嘴的方向倾斜，以与所述第一子角度板共同限定出所述容纳部；
所述第一子角度板和所述第二子角度板背离对应坩埚体的一面，限定出所述第二坩埚体上的喷嘴的喷射范围；
所述第二坩埚体中容置的蒸镀材料与所述第一坩埚体和/或第三坩埚体中容置的蒸镀材料不同。
可选的，所述蒸发源包括线性蒸发源。
可选的，所述蒸镀材料包括：金属和/或有机材料。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种蒸发源***，包括上述任意一种蒸发源。
附图说明
图1为现有技术中的蒸发源的示意图；
图2和图3为本发明的实施例的蒸发源的示意图；
其中，附图标记为：1、坩埚体；11、第一坩埚体；12、第二坩埚体；13、第三坩埚体；2、喷嘴；21、第一喷嘴；22、第二喷嘴；23、第三喷嘴；3、角度板；31、第一子角度板；32、第二子角度板；4、蒸镀材料。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
实施例1：
在显示器件的制备工艺中，可通过蒸镀工艺制备显示器件中的各种材料膜层，蒸镀工艺的好坏直接影响着显示器件的性能。如图1所示，本实施例提供的蒸发源包括坩埚体1、喷嘴2和角度板3。其中，坩埚体1用于容置蒸镀材料。喷嘴2用于喷发蒸镀材料；角度板3设置在坩埚体1上，用于限制喷嘴2的喷射范围。具体的，角度板3设置在坩埚体1的周围，环绕喷嘴2设置，且角度板3在垂直于坩埚体1的方向上的高度大于喷嘴2在垂直于坩埚体1的方向上的高度。在使用蒸发源对蒸镀材料进行蒸镀时，通过调整角度板3的高度及角度与喷嘴2的相对位置，即可控制经喷嘴2所喷射的蒸镀材料在蒸镀基板上成膜的位置及面积。如图1所示，在蒸镀过程中，随着蒸镀工艺的进行，一部分蒸镀材料4会沉积在角度板3上，附着在角度板3上所沉积的蒸镀材料4逐渐增多，堆积在角度板3靠近蒸镀基板的端口，会影响喷嘴2的喷射范围，造成在基板上蒸镀形成的膜层厚度均一性发生变化。同时，随着蒸镀材料沉积量的增大，所沉积的部分蒸镀材料4会掉落并重新落入坩埚内部，影响坩埚内部内压，进而影响蒸镀材料的正常蒸镀，这样也会导致在蒸镀基板上所形成的膜层厚度均一性不良。具体的，例如，现有技术中OLED显示基板的膜层蒸镀时间在140小时到200小时之间，在长时间的蒸镀过程中，会出现膜厚均一性随着时间变化的情况，特别对于一些膜层厚度比较厚的有机膜层，膜厚均一性的变化更为明显。而OLED显示器件膜厚均一性逐渐变化会导致OLED显示器件的效率、色坐标、以及寿命出现异常，严重影响量产生产和产品品质。
针对上述问题，本实施例提供一种蒸发源，用于蒸镀材料的蒸镀，包括：坩埚体1、喷嘴2和角度板3。特别的是，本实施例中，角度板3靠近喷嘴2的一侧具有容纳部，用于容纳部分蒸镀材料，以避免蒸镀材料影响喷射范围。
在此需要说明的是，如图2和3所示，角度板3为面状结构，其立设在坩埚体1上(设置角度可根据需求进行调整，不限定垂直与坩埚体1)。同时，角度板3具有相对靠近喷嘴2的一面和远离喷嘴2的一面。可以理解的是，喷嘴2所喷射出的蒸镀材料基本沿直线传播，以喷嘴2为原点，经由角度板3靠近喷嘴2的一面限定出的区域蒸镀至蒸镀基板。
如图2所示，本实施例提供的蒸发源中，角度板3靠近喷嘴2的一侧具有容纳部，该容纳部为角度板3靠近喷嘴2侧面上的内陷结构。通过容纳部的设置，为原本会沉积在角度板3远离喷嘴2一端的蒸镀材料预留可供沉积的位置，使得在蒸镀过程中，蒸镀材料会沉积于容纳部中，在容纳部中沉积的蒸镀材料不会凸出至蒸镀材料正常的喷射范围，也就不会免影响蒸镀范围，从而能够解决由蒸镀材料在角度板3上沉积所造成的膜层厚度均匀性较差的问题。
本实施例提供的蒸发源中，可通过在角度板3的侧面(靠近蒸发源)上开孔、挖槽等方式形成容纳部，用以容纳蒸镀材料。可选的，如图2所示，本实施例中，角度板3可包括：第一子角度板31和第二子角度板323；第一子角度板31相对第二子角度板323更靠近坩埚体1；第二子角度板323靠近喷嘴2的一面与第一子角度板31靠近喷嘴2的一面之间具有第一角度，以共同限定出容纳部。可以理解的是，如图2所示，角度板3是立设在喷嘴2周围的，本实施例中，可通过第一角度板3和第二角度板3的靠近喷嘴2的一面(也即能够限定喷射范围的一面)所构成的弯折面或者曲面限定出容纳部。具体的，第一子角度板31靠近喷嘴2的一面可为竖直(相对坩埚体1)面，第二子角度板323的靠近喷嘴2的一面可为斜面，通过第二子角度板323的倾斜面和第一子角度板31靠近喷嘴2的竖直面可共同作用限定出用于容纳蒸镀材料的容纳部。如此一来，喷嘴2的喷射范围主要由第二子角度板323远离坩埚体1的一端进行限定，在蒸镀过程中，随着蒸镀时间的增长，即使角度板3上沉积有蒸镀材料，该蒸镀材料也只是沉积在内陷的容纳部中，而不会对蒸镀材料的出射范围产生影响。
进一步可选的，第二子角度板323相对第一子角度板31，朝向对应喷嘴2的方向倾斜，以与第一子角度板31共同限定出容纳部。如图2所示，第一子角度板31与第二子角度板323可为两直板，第一子角度板31可侧立于喷嘴2的周围，第二子角度板323连接于第一子角度板31远离喷嘴2的一侧，并朝向靠近喷嘴2的方向倾斜，与第一子角度板31之间形成一定弯折角度。第二角度板3远离坩埚体1的一端限定出蒸发源最终的位置和范围。具体的，如图2所示，第一子角度板31与第二子角度板323的靠近(朝向)喷嘴2的一面为凹陷的弯折面，限定出可用于容纳蒸镀材料的容纳部，相对于图1所示的现有技术中的直面的角度板3，本实施例提供的角度板3能够容纳蒸镀材料，而不至于使蒸镀材料聚集于蒸镀出口，避免影响蒸镀面积。同时，由于本实施例中，角度板3靠近喷嘴2的一面为弯折面，相较于直面，增大了蒸镀材料的可沉积面积，使得不可避免沉积于角度板3上的蒸镀材料能够更分散，沉积厚度更薄，从而尽量避免蒸镀材料随着时间的增长沉积过后而掉落，进而避免对坩埚内的气压造成影响，提高在蒸镀基板上形成的膜层厚度的均一性。
本实施例中可选的，第一子角度板31与第二子角度板323为一体结构。通过一体结构的设置，可以提高角度板3的使用寿命，同时简化角度板3的制备工艺，节约制备成本。
可选的，本实施例提供的蒸发源可包括线性蒸发源。可选的，本实施例提供的蒸发源也可包括点蒸发源。
可以理解的是，本实施例提供的蒸发源中，一个坩埚体1上可对应设置有一个或者多个喷嘴2，不同坩埚中可容置同种或者不同的蒸镀材料，本实施例中不做特别限定。
可选的，本实施例提供的蒸发源中可用于金属和/或有机材料的蒸镀。显示基板中，膜层大都由金属和/或有机材料构成。通常情况下，有机膜层厚度较厚，利用现有技术中的蒸发源进行蒸镀，膜厚不均一性表现得更明显，本实施例中提供的蒸发源在蒸镀有机材料时能够明显提高所形成的有机材料膜层的厚度均一性。
实施例2：
如图2所示，本实施例提供一种蒸发源，可包括实施例1提供的任意一种蒸发源。特别的是，本实施例中，坩埚体1的数量为多个；部分坩埚体1中容置的蒸镀材料不同。
本实施例提供的蒸发源可用于不同蒸镀材料的同时蒸镀。蒸发源具有封入蒸镀材料的坩埚和喷出蒸镀材料的喷嘴2，进行真空蒸镀时，使蒸镀材料从加热的坩埚蒸发或升华，从喷嘴2向设置于真空腔室内的待蒸镀基板或膜层上喷射气化的蒸镀材料形成所需膜层。当需要在同一腔室内对两种以上不同材料进行蒸镀时，可在不同的坩埚内中容置不同的蒸镀材料。
可选的，相邻两个坩埚体1中容置的蒸镀材料不同，且相邻两个坩埚体1的喷嘴2的喷射范围存在重叠。本实施例中，通过令至少相邻两个容置有不同蒸镀材料的坩埚体1上的喷嘴2的喷射范围存在重叠，以实现不同蒸镀材料的掺杂蒸镀。
作为一种实施方式，可选的，本实施例提供的蒸发源中，坩埚体1包括沿第一方向上依次紧密排布的第一坩埚体11、第二坩埚体1和第三坩埚体13；第一坩埚体11和第三坩埚体13上均对应设置有角度板3；分别与第一坩埚体11和第三坩埚体13对应设置的角度板3，其背离对应坩埚体1的一面限定出第二坩埚体1上的喷嘴2的喷射范围。本实施例提供的蒸发源中，第二坩埚体1可与位于其两侧的第一坩埚体11共用角度板3。其中，第一坩埚体11、第二坩埚体1和第三坩埚体13在第一方向上紧密排布，可以理解的是，如图2所示，第二坩埚体1的主体可与第一坩埚体11和第三坩埚体13的主体部分共用，也即，可第二坩埚体1的主体可与第一坩埚体11和第三坩埚体13的主体整体为一体成型结构。第一坩埚体11上的喷嘴2为第一喷嘴21，第二坩埚体1上的喷嘴2为第二喷嘴22，第三坩埚体13上的喷嘴2为第三喷。第一坩埚体11上的角度板3背离第一喷嘴21的一面也即靠近第二坩埚体1上的第二喷嘴22的一面，能够限定出第二喷嘴22的部分喷射范围。同理，第三坩埚体13上的角度板3背离第三坩埚体1313的一面也限定出第二坩埚体112的部分喷射范围，从而使得分别与第一坩埚体11和第三坩埚体13对应设置的角度板3，背离对应坩埚体1的一面限定出第二坩埚体1上的喷嘴2的喷射范围。
进一步可选的，如实施例1中记载的，角度板3可包括第一角度板3和第二角度板3。第二子角度板323相对第一子角度板31，朝向对应喷嘴2的方向倾斜，以与第一子角度板31共同限定出容纳部；分别设置于第一坩埚体11和第三坩埚体13上的角度板3(包括第一子角度板31和第二子角度板323)，其背离对应喷嘴2的一面同时限定出第二坩埚体1上喷嘴2的喷射范围。本实施例提供的蒸发源中，可通过在第二坩埚体1中容置与第一坩埚体11和/或第二坩埚体1中不同的蒸镀材料实现不同材料的掺杂蒸镀。如图2所示，本实施例中，通过呈一定角度弯折的第二子角度板323和第一子角度板31构成的角度板3，能够有效避免蒸镀材料沉积于角度板3对第一喷嘴21和第三喷嘴23的喷射范围造成的影响。同时，由于对于第一坩埚体11和第三坩埚体13上的第二子角度板323分别向第一喷嘴21和第三喷嘴23弯折，使得所限制出的第二坩埚体1上第二喷嘴22的喷射范围逐渐增大。在进行不同材料的掺杂蒸镀时，可在对应第一喷嘴21和/或第三喷嘴23的坩埚中放置主蒸镀材料，在对应第二喷嘴22的坩埚中放置掺杂蒸镀材料，从而实主蒸镀材料与掺杂蒸镀材料的掺杂蒸镀。
实施例3：
本实施例提供一种蒸发源***，包括实施例1和/或实施例2提供的任意一种蒸发源。
本实施例提供的蒸发源***还可以包括蒸镀腔室和蒸镀基板。在进行真空蒸镀时，蒸发源***可移动喷射蒸镀材料至蒸镀基板上，可以通过掩膜版形成所需膜层。本实施例提供的蒸发源***包括上述实施例中的蒸发源，因此本实施例提供的蒸发源***也具备上述实施例中所描述的有益效果，此处不再赘述。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种蒸发源，用于蒸镀材料的蒸镀，其特征在于，包括：
坩埚体，用于容置蒸镀材料；
喷嘴，设置在所述坩埚体上，用于喷发所述蒸镀材料；
角度板，设置在所述坩埚体上，且所述角度板在垂直于坩埚体的方向上的高度大于喷嘴在垂直于坩埚体的方向上的高度；所述角度板用于限制所述喷嘴的喷射范围；所述角度板靠近所述喷嘴的一面具有容纳部，用于容纳部分蒸镀材料，以避免所述蒸镀材料影响所述喷射范围。
2.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述角度板包括：第一子角度板和第二子角度板；
所述第一子角度板相对所述第二子角度板更靠近所述坩埚体；
所述第二子角度板靠近所述喷嘴的一面与所述第一子角度板靠近所述喷嘴的一面之间具有第一角度，以共同限定出所述容纳部。
3.根据权利要求2所述的蒸发源，其特征在于，所述第二子角度板相对所述第一子角度板，朝向对应喷嘴的方向倾斜，以与所述第一子角度板共同限定出所述容纳部。
4.根据权利要求2所述的蒸发源，其特征在于，所述第一子角度板与所述第二子角度板为一体结构。
5.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述坩埚体的数量为多个；
部分所述坩埚体中容置的蒸镀材料不同。
6.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述坩埚体包括沿第一方向上依次紧密排布的第一坩埚体、第二坩埚体和第三坩埚体；
所述第一坩埚体和所述第三坩埚体上均对应设置有所述角度板；
分别与所述第一坩埚体和第三坩埚体对应设置的所述角度板，其背离对应坩埚体的一面限定出第二坩埚体上的喷嘴的喷射范围。
7.根据权利要求6所述的蒸发源，其特征在于，
所述角度板包括：第一子角度板和第二子角度板；所述第二子角度板相对所述第一子角度板，朝向对应坩埚体上的喷嘴的方向倾斜，以与所述第一子角度板共同限定出所述容纳部；
所述第一子角度板和所述第二子角度板背离对应坩埚体的一面，限定出所述第二坩埚体上的喷嘴的喷射范围；
所述第二坩埚体中容置的蒸镀材料与所述第一坩埚体和/或第三坩埚体中容置的蒸镀材料不同。
8.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源包括线性蒸发源。
9.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸镀材料包括：金属和/或有机材料。
10.一种蒸发源***，其特征在于，包括权利要求1至9中任意一项所述的蒸发源。
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