KR20120044590A - 샤워헤드 방식 증착장치 - Google Patents

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KR20120044590A
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전영수
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주식회사 케이씨텍
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Abstract

평판디스플레이 장치용 대면적 기판에 대해 샤워헤드 방식으로 증착할 수 있는 증착장치가 개시된다. 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈은, 다수의 분사홀이 형성되어 증착가스를 기판에 제공하는 복수개의 샤워헤드 및 상기 샤워헤드 사이에 형성된 다수의 배기홀로 이루어지고 상기 기판 상부에서 배기가스를 흡입하여 배출시키는 탑 배기부를 포함하여 구성된다.

Description

샤워헤드 방식 증착장치{SHOWER TYPE DEPOSITION APPARATUS}
본 발명은 평판 디스플레이 장치용 기판의 증착장치에 관한 것으로, 평판 디스플레이 장치용 기판과 같이 대면적 기판에 균일하게 박막을 형성하기 위한 샤워헤드 방식의 증착장치에 관한 것이다.
평판 디스플레이 장치(Flat Panel Display, FPD)는 액정 표시장치(Liquid Crystal Display, LCD), 플라즈마 디스플레이 장치(Plasma Display Panel, PDP), 유기발광 표시장치(Organic Light Emitting Diodes, OLED) 등이 있다. 이 중에서, 자발광, 광 시야각, 고속 응답 특성, 낮은 소비 전력 등의 특성과 초박형으로 만들 수 있다는 특성에서 유기발광 표시장치가 차세대 디스플레이 장치로써 주목 받고 있다. 유기발광 표시장치는 통상적으로 유리 기판 상에 애노드(anode)에 해당하는 제1 전극, 정공 주입층 (hole injection layer), 정공 수송층(hole transfer layer), 발광층(emitting layer), 전자 수송층(eletron transfer layer), 전자 주입층(electron injection layer)의 다층으로 이루어지는 유기막 및 캐소드(cathode)에 해당하는 제2 전극으로 이루어진다.
유기박막 형성방법에는 진공증착법(vacuum deposition), 스퍼터링법(sputtering), 이온빔 증착법(Ion-beam Deposition), Pulsed-laser 증착법, 분자선 증착법, 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD), 스핀 코터(spin coater) 등이 있다.
또한, 유기박막을 수분으로부터 보호하기 위한 봉지박막이 필요한데, 이러한 봉지박막을 형성하기 위한 방법에는 진공증착법, 스퍼터링법, 화학기상증착법, 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition, ALD) 등이 있다.
원자층 증착법은 복수의 증착가스를 제공하여 반응시킴으로써 반응 생성물이 기판 표면에 박막이 형성되므로, 기판 표면에 대해 증착가스를 균일하게 제공하는 것이 중요하다. 그런데, 최근에는 기판의 크기가 점차 대형화됨에 따라 기판에 균일하게 증착가스를 제공하는 것이 어려운 문제점이 있다. 또한, 기판에 박막을 형성하기 위한 증착가스의 소스가 되는 유기물의 경우 매우 고가인데, 균일한 박막을 형성하기 위해서는 기존의 경우 증착가스 사용량이 많아서 낭비되는 양이 많으며 이로 인해 비용을 상승시키는 원인이 된다.
상술한 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 실시예들은 대면적 기판에 균일하게 박막을 증착할 수 있는 원자층 증착방식의 평판디스플레이 장치용 증착장치를 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 대면적 기판에 증착가스 분사량을 균일하게 제공할 수 있는 평판디스플레이 장치용 증착장치를 제공하기 위한 것이다.
상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예들에 따르면, 평판디스플레이 장치용 기판과 같이 대면적 기판에 균일한 박막을 형성할 수 있으며, 샤워헤드 방식의 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈은, 다수의 분사홀이 형성되어 증착가스를 기판에 제공하는 복수개의 샤워헤드 및 상기 샤워헤드 사이에 형성된 다수의 배기홀로 이루어지고 상기 기판 상부에서 배기가스를 흡입하여 배출시키는 탑 배기부를 포함하여 구성된다.
일 측면에 따르면, 상기 샤워헤드는 하나의 샤워헤드에서 각각 한 종류의 증착가스를 분사하도록 형성되고, 서로 이웃하는 샤워헤드는 서로 다른 증착가스를 분사하도록 구비될 수 있다.
일 측면에 따르면, 상기 샤워헤드는 하나의 샤워헤드에서 서로 다른 2종 이상의 증착가스를 분사할 수 있도록 듀얼(dual) 구조로 가질 수 있다.
일 측면에 따르면, 상기 샤워헤드는 상기 프리커서 가스와 상기 리액턴스 가스가 하나의 샤워헤드에서 분사되도록 형성되되, 상기 듀얼 구조를 갖는 샤워헤드 내부에서 서로 독립된 유로를 통해 분사되록 형성될 수 있다.
여기서, 상기 샤워헤드는 프리커서 가스와 리액턴스 가스가 서로 다른 샤워헤드에 분사되도록 형성되고, 퍼지 가스는 상기 프리커서 가스 또는 상기 리액턴스 가스가 분사되는 샤워헤드에서 분사되도록 형성될 수 있다.
일 측면에 따르면, 상기 탑 배기부는 상기 각 샤워헤드를 둘레를 둘러싸도록 형성된다. 그리고 상기 탑 배기부는 상기 샤워헤드에서 퍼지 가스가 제공되는 퍼지 단계와 동시에 또는 퍼지 단계 직후에 배기가스를 배출시키도록 형성될 수 있다.
이상에서 본 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면, 샤워헤드 방식으로 기판에 대해 균일하게 증착가스를 제공할 수 있어서 평판 디스플레이 장치용 기판과 같이 대면적 기판에 균일하게 박막을 증착할 수 있다.
또한, 가스분사 모듈을 복수개의 샤워헤드로 분할 형성함으로써 대면적 기판에도 증착가스를 균일하게 제공할 수 있다.
또한, 원자층 증착방식으로 박막을 증착할 수 있으며, 스텝 커버리지가 우수한 박막을 형성할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착장치에서 가스분사 모듈의 평면도이다.
도 2는 도 1의 가스분사 모듈 일부의 단면도이다.
도 3은 도 2의 변형 실시예에 따른 가스분사 모듈에 대한 요부 단면도이다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략될 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워헤드 방식 증착장치에서 가스분사 모듈(130)만을 간략하게 도시한 평면도이다. 그리고 도 2는 도 1의 증착장치에 대한 요부 단면도이고, 도 3은 도 2의 변형 실시예에 따른 가스분사 모듈을 설명하기 위한 요부 단면도이다.
도면을 참조하면, 평판디스플레이 장치용 증착장치는 기판(10)에 서로 다른 복수의 증착가스를 제공하여 소정의 박막을 형성하는 가스분사 모듈(103)을 포함하여 구성된다.
참고적으로, 본 실시예들에서 설명하는 증착장치는 평판디스플레이 장치용 기판과 같이 대면적 기판(10)에 박막을 증착가능하게 형성되고, 본 실시예에서 증착 대상이 되는 기판(10)은 LCD(liquid crystal display), PDP(plasma display panel)와 같은 평판 디스플레이 장치용으로 사용하는 글라스를 포함하는 투명 기판(10)일 수 있다. 그러나 본 발명의 기판(10)이 글라스 기판에 한정되는 것은 아니며 반도체 장치의 제조를 위한 실리콘 웨이퍼(silicon wafer)일 수 있다. 또한, 기판(10)의 형상 및 크기가 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 원형 및 사각형 등 실질적으로 다양한 형상과 크기를 가질 수 있다.
한편, 증착장치를 구성하는 프로세스 챔버 및 서셉터 등의 상세한 기술구성은 공지의 기술로부터 이해 가능하며 본 발명의 요지가 아니므로 자세한 설명 및 도시를 생략하고 주요 구성요소에 대해서만 간략하게 설명한다.
본 실시예에 따르면, 평판디스플레이 장치용 기판을 제조하기 위해서, 예를 들어, 유리 기판과 같은 기판에 수 Å 두께의 금속층을 형성하게 된다. 본 실시예에 따르면, 샤워헤드 방식을 사용하므로 증착가스를 균일하게 제공할 수 있어서 대면적 기판에 균일한 박막을 형성할 수 있다. 또한, 스텝 커버리지가 우수한 원자층 증착 또는 유기금속 화학기상증착 방식으로 박막을 형성하므로 기판에 형성되는 박막의 스텝 커버리지가 우수하다. 그러나 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 평판디스플레이 장치를 비롯하여 반도체 기판 등의 증착장치에도 적용할 수 있음은 당연하다 할 것이다.
유기금속 화학기상증착 방식 또는 원자층 증착 방식의 경우, 가스를 교대로 반복하여 기판(10)에 제공하고, 기판(10) 표면에서 상기 제공된 증착가스가 화학적으로 반응함으로써 소정의 박막이 형성된다.
또한, 본 실시예에서 '증착가스(source gas)'라 함은 소정의 박막을 증착하기 위한 소스 물질을 포함하는 가스들로써, 박막을 조성하는 구성 원소를 포함하는 프리커서 가스(precursor gas) 및 상기 프리커서 가스와 화학적으로 반응하여 소정의 반응 생성물에 따른 박막을 형성하는 리액턴스 가스(reactant gas), 그리고 상기 프리커서 가스 및 리액턴스 가스 등의 미반응 가스와 잔류가스를 제거하기 위한 퍼지 가스(purge gas)를 포함할 수 있다.
또한, 본 실시예에서 '홀'이라 함은 원형 단면을 갖는 홀뿐만 아니라 다각형 단면을 갖는 홀이나 슬릿, 개구부를 포함할 수 있다.
도면을 참조하면, 가스분사 모듈(103)은 증착가스를 분사하는 복수의 분사홀(132)이 형성된 샤워헤드(131) 복수개가 구비되어 이루어지고, 상기 샤워헤드(131)에 증착가스를 공급하는 가스공급부(140)가 연결된다. 또한, 가스분사 모듈(130)은 서로 다른 2종 이상의 증착가스를 분사하는 복수의 샤워헤드(131)가 구비될 수 있다.
본 실시예에 따르면, 가스분사 모듈(130)는 상기 기판(10)에 복수의 증착가스를 교대로 제공하기 위해서 복수개의 샤워헤드(131)로 분할 형성된다. 예를 들어, 가스분사 모듈(130)은 기판(10)에 대응되는 크기와 형태를 갖는 대략 사각형 형태를 갖고, 샤워헤드(131)는 상기 가스분사 모듈(130)을 횡 또는 종 방향으로 균일하게 분할하는 직사각형 형태를 갖는다.
그러나 샤워헤드(131)의 형태와 수는 도면에 의해 한정되는 것은 아니며 가스분사 모듈(130)의 크기 및 형태에 따라 상기 가스분사 모듈(130)을 균일하게 분할할 수 있는 실질적으로 다양한 형태와 수의 샤워헤드(131)가 구비될 수 있다.
여기서, 가스분사 모듈(130)은 각 샤워헤드(131)에서 1종류의 증착가스가 분사되도록 형성되고, 복수개의 샤워헤드(131)에서 각각 서로 다른 증착가스가 분사되도록 할 수 있다. 또는, 가스분사 모듈(130)은 하나의 샤워헤드(131)에서 서로 다른 2종 이상의 증착가스를 동시에 제공하는 것도 가능하다. 그러나 본 발명이 도면에 의해 한정되는 것은 아니며, 가스분사 모듈(130)은 샤워헤드(131)의 수와 크기 및 형상은 실질적으로 다양하게 변경될 수 있다.
또한, 가스분사 모듈(130)은 샤워헤드(131)에서 제공되는 서로 다른 복수 종류의 증착가스가 상기 샤워헤드(131)에서 서로 독립적으로 제공될 수 있도록 형성된다. 그리고 샤워헤드(131) 사이에는 기판(10) 상부에서 배기가스 및 미반응 증착가스를 흡입하여 배출시키는 탑 배기부(133)가 구비된다. 그리고 탑 배기부(133) 일측에는 배기가스를 배출시키 위한 배기 배출부(150)가 연결된다. 여기서, 도 2에서 미설명 도면부호 145와 155는 각각 증착가스를 공급하는 유로와 배기가스가 배출되는 유로를 개폐하는 밸브(145, 155)이다.
탑 배기부(133)는 샤워헤드(131)를 둘레를 따라 형성된 복수 개의 배기홀(134)로 이루어진다. 예를 들어, 탑 배기부(133)는, 도 1에 도시한 바와 같이, 각 샤워헤드(131) 사이에서 소정 크기의 홀이 일렬 또는 복수의 열로 배치되어 형성된다. 그러나 본 발명이 도면에 의해 한정되는 것은 아니면, 배기홀(134)의 크기와 위치 및 수는 실질적으로 다양하게 변경될 수 있다. 예를 들어, 탑 배기부(133)는 상기 샤워헤드(131) 둘레 전체를 두를 수 있도록 상기 가스분사 모듈(130)에서 사각형 형태로 배기홀(134)이 배치될 수 있다. 또한, 배기홀(134)은 단면이 원형인 홀뿐만 아니라, 다각형 단면을 갖는 홀이거나 슬릿일 수 있다.
본 실시예에 따르면, 탑 배기부(133)를 구비함으로써 기판(10) 상부에서 배기가스를 흡입하여 배출시켜서 배기가스 배출 효율을 향상시킬 수 있다. 여기서, 기판(10)이 비교적 대면적일 경우 가스분사 모듈(130)의 크기가 대형화됨으로써 가스분사 모듈(130) 중간 부분에서는 가스 분압이 저하되고, 프로세스 챔버(미도시) 내부에 구비된 배기 배출 압력의 영향을 받기가 힘들기 때문에 가스가 정체될 수 있다. 이러한 가스의 정체가 발생하면, 증착가스가 기판(10)에 제공되는 양이 저하되고 균일하게 제공되는 것이 어려우며, 배기가스가 제거되지 않아서 기판(10)에 파티클이 발생하고 이로 인해 박막의 품질이 저하될 수 있다. 그러나 본 실시예에 따르면, 탑 배기부(133)가 대면적인 가스분사 모듈(130) 중간 부분에서 배기가스를 배출시킴으로써 배기가스의 배출효율을 높일 뿐만 아니라 기판(10)에서 미반응 증착가스 등을 제거하는 퍼지 효과를 가지므로, 배기가스의 정체를 방지하고, 기판(10)에 증착가스가 효과적으로 제공될 수 있도록 하여 박막의 품질 저하를 효과적으로 방지할 수 있다.
가스분사 모듈(130)은 하나의 샤워헤드(131)에서 한 종류의 증착가스를 분사할 수 있다. 예를 들어, 도 1에 도시한 바와 같이, 가스분사 모듈(130)은 도면상에서 가장 왼쪽의 2개의 샤워헤드(131)는 프리커서 가스가 분사되고, 다음 2개의 샤워헤드(131)는 퍼지 가스가 분사되고, 오른쪽 2개의 샤워헤드(131)는 리액턴스 가스가 분사되도록 구성되며, 상기 각 샤워헤드(131)에서 선택적으로 증착가스를 순차적으로 분사함에 따라 기판(10)에 소정의 박막이 형성된다.
또는, 가스분사 모듈(130)은, 도 2와 같은 구조를 갖는 샤워헤드(131)에서, 하나의 샤워헤드(131)에 서로 다른 2종 이상의 증착가스가 분사되도록 연결되고, 상기 2종 이상의 증착가스는 밸브 등의 전환 수단에 의해 선택적으로 기판(10)에 제공될 수 있다.
여기서, 가스분사 모듈(130)은 샤워헤드(131)에서 퍼지가스가 제공되는 퍼지 단계와 동시에 상기 탑 배기부(150)가 동작하여 상기 기판(10) 상부에서 배기가스를 배출시키고 퍼지 효율을 향상시킬 수 있다. 물론, 가스분사 모듈(130)은 퍼지 가스가 분사되고 난 직후에 작동하여 배기가스를 배출시키도록 동작하는 것도 가능하다.
한편, 가스분사 모듈(130)은 상술한 실시예와는 달리, 하나의 샤워헤드(131)에 서로 다른 2종 이상의 증착가스를 분사할 수 있도록 형성될 수 있다. 예를 들어, 도 3에 도시한 바와 같이, 가스분사 모듈(230)은 하나의 샤워헤드(231)에서 서로 독립된 유로를 통해 서로 다른 2종 이상의 증착가스를 분사할 수 있도록 이중 구조를 갖는 듀얼(dual) 방식의 샤워헤드(231)가 사용될 수 있다. 도 3에 도시한 실시예 2의 경우 상술한 실시예와 샤워헤드가 듀얼 방식으로 형성된다는 점을 제외하고는 실질적으로 동일하며 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 명칭 및 도면부호를 사용하고 중복되는 설명은 생략한다.
도 3을 참조하면, 샤워헤드(231)는 서로 다른 2종의 증착가스가 서로 독립된 유로를 통해 분사될 수 있도록 샤워헤드(231) 내부에 분리 플레이트(302)가 구비되어 상기 샤워헤드(231) 내부 공간을 수평 방향으로 2개의 버퍼 공간으로 분할하고, 각 공간을 통해 서로 다른 2종의 증착가스가 분사될 수 있다. 또한, 샤워헤드(231)의 표면 및 분리 플레이트(302)에도 다수의 분사홀(311, 321)이 형성되어 있어서, 각 버퍼 공간으로 공급되는 증착가스를 기판(10)에 제공할 수 있다.
또한, 가스분사 모듈(230)은 증착가스를 공급하는 가스공급부(240)가 연결되고, 샤워헤드(231)는 각 버퍼 공간에 서로 다른 2종의 증착가스를 공급하는 2개의 가스공급원(241, 243)이 연결된다.
그리고 각 샤워헤드(231) 사이에는 상기 샤워헤드(231) 둘레를 따라 복수의 배기홀이 형성되어, 기판(10) 상부에서 배기가스를 흡입하여 배출시키는 탑 배기부(233)가 형성된다. 그리고 탑 배기부(233) 일측에는 상기 탑 배기부(233)를 통해 배기가스를 흡입하기 위한 배기 배출부(250)가 연결된다.
도 3에서 미설명 도면부호 245, 246, 255는 각각 증착가스를 공급하는 유로와 배기가스가 배출되는 유로를 개폐하는 밸브(245, 246, 255)이다.
한편, 도 2와 도 3에 도시한 실시예에서, 가스분사 모듈은 프리커서 가스와 리액턴스 가스를 순차적으로 교대로 제공함으로써 기판(10) 표면에서 상기 프리커서 가스와 리액턴스 가스가 화학적으로 반응함으로써 박막을 형성한다. 그리고 퍼지 가스는 상기 프리커서 가스와 리액턴스 가스가 제공되는 중간에 제공되거나, 또는 리액턴스 가스와 동시에 제공될 수 있다. 이 경우, 도 2에 도시한 실시예에서는, 각 샤워헤드(131)에 프리커서 가스, 리액턴스 가스 및 퍼지 가스가 분사되도록 각각 가스공급부(140)를 연결하고, 순차적으로 제공하도록 구성할 수 있다. 물론, 퍼지 가스는 단속적이 아니라 지속적으로 분사하는 것도 가능하다.
그리고 도 3에 도시한 실시예의 경우에도, 프리커서 가스와 리액턴스 가스를 듀얼 구조를 갖는 샤워헤드(231)에서 교번적으로 분사하거나, 또는 프리커서 가스가 분사되는 샤워헤드와 리액턴스 가스가 분사되는 샤워헤드를 각각 마련하고, 퍼지 가스는 리액턴스 가스(및/또는 프리커서 가스)와 동시에 또는 교번적으로 분사되도록 구성하는 것도 가능하다.
본 실시예에 따르면, 대면적의 가스분사 모듈(130)을 비교적 면적 및 체적이 작은 복수의 샤워헤드(131)로 분할함으로써 가스분사 모듈(130)을 하나로 형성하였을 때에 비해, 각 샤워헤드(131)에서 증착가스의 분사 압력을 일정하게 유지하는 데 효과적이며, 박막의 품질을 일정하게 유지할 수 있다.
이상과 같이 본 발명에서는 구체적인 구성 요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것이다. 또한, 본 발명이 상술한 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 따라서, 본 발명의 사상은 상술한 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
10: 기판
130, 230: 가스분사 모듈
131, 231: 샤워헤드
132, 311, 321: 분사홀
133, 233: 탑 배기부
134: 배기홀
140, 240, 241, 243: 가스공급부
145, 245, 246: 밸브
150, 250: 배기 배출부
155, 255: 밸브
301: 분리 플레이트

Claims (8)

  1. 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈에 있어서,
    다수의 분사홀이 형성되어 증착가스를 기판에 제공하는 복수개의 샤워헤드; 및
    상기 샤워헤드 사이에 형성된 다수의 배기홀로 이루어지고 상기 기판 상부에서 배기가스를 흡입하여 배출시키는 탑 배기부;
    를 포함하는 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈.
    제1항에 있어서,
    상기 샤워헤드는 하나의 샤워헤드에서 각각 한 종류의 증착가스를 분사하도록 형성되고,
    서로 이웃하는 샤워헤드는 서로 다른 증착가스를 분사하도록 구비된 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 샤워헤드는 하나의 샤워헤드에서 각각 한 종류의 증착가스를 분사하도록 형성되고,
    서로 이웃하는 샤워헤드는 서로 다른 증착가스를 분사하도록 구비된 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 샤워헤드는 하나의 샤워헤드에서 서로 다른 2종 이상의 증착가스를 분사할 수 있도록 듀얼(dual) 구조로 갖는 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 샤워헤드는 상기 프리커서 가스와 상기 리액턴스 가스가 하나의 샤워헤드에서 분사되도록 형성되되,
    상기 듀얼 구조를 갖는 샤워헤드 내부에서 서로 독립된 유로를 통해 분사되록 형성된 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈.
  5. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 샤워헤드는 프리커서 가스와 리액턴스 가스가 서로 다른 샤워헤드에 분사되도록 형성되고,
    퍼지 가스는 상기 프리커서 가스 또는 상기 리액턴스 가스가 분사되는 샤워헤드에서 분사되도록 형성된 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 탑 배기부는 상기 각 샤워헤드를 둘레를 둘러싸도록 형성된 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 탑 배기부는 상기 샤워헤드에서 퍼지 가스가 제공되는 퍼지 단계와 동시에 또는 퍼지 단계 직후에 배기가스를 배출시키도록 형성된 평판디스플레이 장치용 증착장치의 가스분사 모듈.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 가스분사 모듈을 구비하는 평판디스플레이 장치용 증착장치.
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KR20180065667A (ko) * 2016-12-08 2018-06-18 주식회사 원익아이피에스 기판처리장치

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