CN111183373B - 防反射薄膜及其制造方法、以及带防反射层的偏光板 - Google Patents

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Abstract

本发明的防反射薄膜(100)是在透明薄膜基材(1)的一个主表面具备包含折射率不同的多个薄膜的防反射层(5)。防反射层包含与透明薄膜基材接触的底漆层(50)。底漆层的氩的含量为0.5原子％以下。底漆层(50)例如为硅氧化物层。防反射薄膜的透湿度优选为1g/m2·24h以下。带防反射层的偏光板(101)于偏光件(8)上具备上述防反射薄膜(100)。

Description

防反射薄膜及其制造方法、以及带防反射层的偏光板
技术领域
本发明涉及在透明薄膜上具备包含多个薄膜的防反射层的防反射薄膜、及其制造方法。
背景技术
在液晶显示器、有机EL(Electroluminescence，电致发光)显示器等图像显示装置的可视侧表面，为了防止因外界光的反射、影像的映入而引起的画质降低、提高对比度等，使用防反射薄膜。防反射薄膜在透明薄膜上具备包含折射率不同的多个薄膜的层叠体的防反射层。
作为防反射薄膜的一形态，可列举带防反射层的偏光板。通过在偏光板的表面贴合防反射薄膜、或在偏光件的表面贴合作为保护薄膜的防反射薄膜，从而获得带防反射层的偏光板。也可以在偏光板的表面形成防反射层。
已知有多种使防反射层具有水蒸气阻隔性的尝试。例如，在专利文献1中，通过溅射法形成ITO与SiO2的交替层叠膜，并在其上通过等离子体CVD(chemical vapordeposition，化学气相沉积)法形成硅氧化物膜，由此提高水蒸气阻隔性。专利文献2中，通过设置高折射率的氮化硅膜来谋求防反射薄膜的低透湿化。在专利文献3中记载防反射层的最外层(离薄膜基材最远的层)的密度与透湿度之间具有较高的关联。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2000-338305号公报
专利文献2：日本特开2003-139907号公报
专利文献3：日本特开2009-109850号公报
发明内容
发明要解决的问题
通过在偏光板的表面设置具有水蒸气阻隔性的防反射层，从而高湿度环境下的偏光件的劣化得到抑制，耐久性提高。近年来，对显示器要求进一步的高湿耐久性，而需要水蒸气阻隔性较先前更高的(低透湿度的)防反射薄膜。鉴于上述情况，本发明的目的在于，提供水蒸气阻隔性优异的防反射薄膜。
用于解决问题的方案
本发明的防反射薄膜在透明薄膜基材的一个主表面具备包含折射率不同的多个薄膜的防反射层。防反射层包含与透明薄膜基材接触的底漆层。优选在底漆层上交替地层叠有高折射率层及低折射率层。防反射薄膜的透湿度优选为1g/m2·24h以下。
底漆层的氩含量优选为0.01～0.5原子％以下。底漆层优选为硅氧化物层。底漆层优选为通过溅射法而形成。构成防反射层的底漆层上的薄膜也优选通过溅射法而形成。
进而，本发明涉及一种带防反射层的偏光板，其在偏光件的一面具备上述防反射薄膜。
发明的效果
本发明的防反射薄膜的气体阻隔性优异，表面具备低透湿度的带防反射层的偏光板的显示器即便在暴露于高湿环境下的情形时，水分向偏光件的侵入量也较小，因此可抑制偏光件的劣化。
附图说明
图1为示意性地示出防反射薄膜的一形态的剖视图。
图2为示意性地示出带防反射层的偏光板的一形态的剖视图。
具体实施方式
[防反射薄膜的构成]
图1为示意性地示出一实施方式的防反射薄膜的构成的剖视图。防反射薄膜100以与透明薄膜基材1接触的方式具备防反射层5。防反射层为2层以上的薄膜的层叠体，图1所示的防反射层5在与透明薄膜基材1接触的面具备底漆层50，并在其上交替地层叠有高折射率层51、53及低折射率层52、54。
防反射层5的透湿度优选为1g/m2·24h以下，更优选为0.7g/m2·24h以下，进一步优选为0.5g/m2·24h以下。通过使防反射层的透湿度变小，可防止水分的侵入，从而抑制因水分引起的偏光件等的劣化。如下文详细所述，在底漆层中所含的氩量较少的情形时，有防反射薄膜的透湿度变小的倾向。
＜透明薄膜基材＞
透明薄膜基材1包含挠性的透明薄膜10。优选在透明薄膜10的防反射层5形成面侧设置有硬涂层11。
(透明薄膜)
透明薄膜10的可见光透过率优选为80％以上，更优选为90％以上。透明薄膜10的厚度并无特别限定，但就强度、处理性等作业性、薄层性等观点而言，优选为5～300μm左右，更优选为10～250μm，进一步优选为20～200μm。
作为构成透明薄膜10的树脂材料，例如可列举透明性、机械强度、及热稳定性优异的热塑性树脂。作为这种热塑性树脂的具体例，可列举：三醋酸纤维素等纤维素系树脂、聚酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂)、聚芳酯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、及它们的混合物。
(硬涂层)
通过在透明薄膜10的表面设置硬涂层11，可提高防反射薄膜的硬度、弹性模量等机械特性。硬涂层11优选为表面的硬度较高、耐擦伤性优异者。硬涂层11例如可通过在透明薄膜10上涂布含有固化性树脂的溶液而形成。
作为固化性树脂，可列举：热固化型树脂、紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂等。作为固化性树脂的种类，可列举：聚酯系、丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸类氨基甲酸酯系、酰胺系、有机硅系、硅酸盐系、环氧系、三聚氰胺系、氧杂环丁烷系、丙烯酸类氨基甲酸酯系等的各种树脂。这些固化性树脂可适当地选择一种或两种以上使用。
这些中，就硬度较高、能够进行紫外线固化且生产率优异的方面而言，优选为丙烯酸系树脂、丙烯酸类氨基甲酸酯系树脂、及环氧系树脂，其中，优选为丙烯酸类氨基甲酸酯系树脂。紫外线固化型树脂包括紫外线固化型的单体、低聚物、聚合物等。关于优选地使用的紫外线固化型树脂，例如可列举具有紫外线聚合性的官能团者，其中可列举包含具有2个以上、尤其具有3～6个该官能团的丙烯酸系的单体、低聚物作为成分者。
为了使防反射薄膜具有防眩性及防止眩光性，硬涂层11可具有防眩性。作为防眩性硬涂层，例如可列举使微粒分散于上述固化性树脂基质中而成者。作为分散于树脂基质中的微粒，可无特别限制地使用：二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化钙、锡氧化物、铟氧化物、镉氧化物、锑氧化物等各种金属氧化物微粒、玻璃微粒、包含聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸系-苯乙烯共聚物、苯并胍胺、三聚氰胺、聚碳酸酯等各种透明聚合物的交联或未交联的有机系微粒、有机硅系微粒等具有透明性者。
硬涂层11例如可通过在透明薄膜10上涂布含有固化性树脂的溶液而形成。在用于形成硬涂层的溶液中，优选配混有紫外线聚合引发剂。为了形成含有微粒的防眩性硬涂层，优选将除含有固化性树脂以外还含有上述微粒的溶液涂布于透明薄膜上。在溶液中，也可含有流平剂、触变剂、抗静电剂等添加剂。
硬涂层11的厚度并无特别限定，但为了实现较高的硬度，优选为0.5μm以上，更优选为1μm以上。考虑到通过涂布而形成的容易性，硬涂层的厚度优选为15μm以下，更优选为10μm以下。
透明薄膜基材1的防反射层5形成面侧的表面的算术平均粗糙度Ra优选1.0nm以下。在透明薄膜10上形成有硬涂层11的情形时，硬涂层11的算术平均粗糙度Ra成为透明薄膜10的防反射层5形成面侧的表面的算术平均粗糙度。算术平均粗糙度Ra是根据使用原子力显微镜(AFM)所得的1μm见方的观察图像而求出的。
若如上所述通过涂布形成硬涂层11，则可使透明薄膜基材1的表面的算术平均粗糙度变小。若透明薄膜基材1的表面平滑，则可抑制防反射层5的针孔等缺陷，因此可获得更低透湿的防反射薄膜。
(表面处理)
对于透明薄膜基材1的表面，也可为了提高与防反射层5的密合性等而进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理、臭氧处理、底漆处理、辉光处理、皂化处理、利用偶联剂进行的处理等表面改性处理。
＜防反射层＞
通过在透明薄膜基材1上设置防反射层5而形成防反射薄膜。防反射层5在与透明薄膜基材1接触的面具备底漆层50，并在其上具备高折射率层及低折射率层。一般而言，防反射层是以入射光与反射光的反转的相位相互抵消的方式调整薄膜的光学膜厚(折射率与厚度的乘积)。通过将防反射层设为折射率不同的多个薄膜的多层层叠体，可在可见光的宽带区域的波长范围内使反射率变小。
作为构成防反射层5的薄膜的材料，可列举金属的氧化物、氮化物、氟化物等。作为底漆层50的材料，优选为硅氧化物。底漆层50的膜中的氩的含量为0.5原子％以下。低折射率层52、54例如折射率为1.6以下、优选为1.5以下。作为低折射率材料，可列举：硅氧化物、氟化镁等。高折射率层51、53例如折射率为1.9以上、优选为2.0以上。作为高折射率材料，可列举：钛氧化物、铌氧化物、锆氧化物、铟锡氧化物(ITO)、掺锑的锡氧化物(ATO)等。除设置低折射率层和高折射率层以外，也可设置例如包含钛氧化物、上述低折射率材料与高折射材料的混合物的薄膜作为折射率1.6～1.9左右的中折射率层。
构成防反射层5的薄膜的成膜方法并无特别限定，可为湿式涂布法、干式涂布法中的任意者。就可形成膜厚均匀的薄膜的方面而言，优选为真空蒸镀、CVD、溅射、电子束蒸镀等干式涂布法。其中，就容易形成膜厚的均匀性优异且气体阻隔性较高的致密的膜的方面而言，优选为溅射法。尤其为了获得低透湿的防反射薄膜，优选通过溅射法使硅氧化物成膜而作为底漆层50。
在溅射法中，可通过卷对卷(roll to roll)方式一边将长条的薄膜基材沿一方向(长度方向)输送，一边使多个薄膜连续成膜，因此可提高防反射薄膜的生产率。为了提高防反射薄膜的生产率，优选通过溅射法成膜构成防反射层5的所有薄膜。在溅射法中，一边将氩等非活性气体、及视需要而定的氧等反应性气体导入至腔室内一边进行成膜。
通过溅射法进行的氧化物层的成膜可通过使用氧化物靶的方法、及使用金属靶的反应性溅射中的任意者来实施。为了使用氧化物靶使硅氧化物等绝缘性氧化物成膜，需要RF(radio frequency，射频)放电。为了以高速率使金属氧化物成膜，优选使用了金属靶的反应性DC(direct current，直流)溅射。
(底漆层)
底漆层50的膜中的氩量为0.5原子％以下，优选为0.4原子％以下。通过使溅射薄膜中的氩量为0.5原子％以下，有透湿度降低、防反射薄膜的水蒸气阻隔性提高的倾向。关于通过减少底漆层的膜中氩量从而防反射层成为低透湿的原因并不明确，但作为1个因素，认为与如下情况相关：若原子半径较大的氩存在于底漆层，则容易在底漆层及形成于其上的薄膜形成水蒸气等气体的通道。
如上所述，溅射成膜是使用氩作为工艺气体，使高能量的氩撞击靶而使材料自靶弹出，并使自靶弹出的溅射颗粒附着于基材上，由此进行成膜。氩等非活性气体一般不参与成膜，但经离子化的氩由于反应性较高，故而作为工艺气体的氩的一部分在溅射成膜中不可避免地被引入至膜中。
作为稀有气体的氩与硅、氧相比原子直径较大，因此被引入至膜中的氩可能成为妨碍硅氧化物的Si-O键网状结构的形成、且形成原子级别的空隙的因素。认为若在与薄膜基材1接触而最初成膜的底漆层50中形成因氩的混入造成的空隙，则在其上将高折射率层51、53、低折射率层52、54溅射成膜时，空隙容易在厚度方向进行柱状生长，其成为水蒸气等气体的通道，透湿度变高。针对于此，认为通过使引入至底漆层50中的氩量减少，从而抑制成为水蒸气的通道的空隙的生成，形成水蒸气阻隔性优异的低透湿的防反射层。
底漆层50中所含的氩量越小越好，但通过使用氩作为工艺气体的溅射成膜所获得的膜通常含有0.01原子％以上的氩。底漆层中的氩含量也可为0.05原子％以上、或0.1原子％以上。膜中的氩量是通过卢瑟福背向散射(RBS)法而测定的，硅氧化物膜中的氩量是将硅、氧及氩的含量的合计设为100原子％的算出值。
作为抑制氩向底漆层混入的方法，优选通过使成膜时的工艺压力变小来增大平均自由行程、促进氩的散射。底漆层50成膜时的工艺压力优选为0.05～2Pa左右，更优选为0.07～1Pa左右，进一步优选为0.1～0.5Pa，特别优选为0.1～0.3Pa。底漆层50成膜时的向成膜室的氧导入量以体积比计优选为氩导入量的0.1～10％左右，更优选为0.5～5％左右，进一步优选为1～3％左右。
通过在溅射成膜时导入氩及氧来促进Si-O键网状结构的形成，从而有抑制氩向膜中混入的倾向。另一方面，为了提高薄膜基材1与防反射层5的密合性，底漆层50优选氧量不足化学计量组成。底漆层50的膜厚只要为不损害透明薄膜基材1的透明性的程度即可，例如为1～10nm左右。
(底漆层上的薄膜)
形成于底漆层50上的薄膜的种类并无特别限定。就遍及较宽波长范围地降低反射率的观点而言，优选交替地设置高折射率层及低折射率层。为了减少空气界面处的反射，作为防反射层5的最外层(离薄膜基材1最远的层)而设置的薄膜54优选为低折射率层。作为低折射率层及高折射率层的材料，如上所述优选为氧化物。其中，优选将作为高折射率层的铌氧化物(Nb2O5)薄膜51、53、与作为低折射率层的硅氧化物(SiO2)薄膜52、54交替地层叠。
低折射率层及高折射率层向底漆层上的溅射成膜优选以成膜模式成为过渡区域的方式控制氧导入量。例如，对放电的等离子体发光强度进行检测而控制向成膜室的气体导入量的等离子体发射监测方式(PEM方式)中，基于等离子体发射强度而进行对氧导入量的反馈。通过利用PEM控制氧导入量，从而在以卷对卷方式成膜薄膜的情形时，可将成膜速率保持一定，因此薄膜的膜厚变得均匀，可获得防反射特性优异的防反射薄膜。通过在宽度方向设置多个等离子体发射测定点，并分别独立地进行通过PEM进行的氧导入量的控制，也可提高宽度方向的质量的均匀性。
＜向防反射层上的附加层＞
防反射薄膜也可在防反射层5的表面设置附加的功能层。防反射薄膜由于配置于显示器的最表面，故而容易受到来自外部环境的污染(指纹、手垢、灰尘等)的影响。尤其是设置于防反射层5的最表面的SiO2等低折射率层54润湿性良好，指纹、手垢等污染物质容易附着。为了使来自外部环境的污染防止、所附着的污染物质的去除变得容易等，也可在防反射层上设置防污层(未图示)。
防污层优选与防反射层5的最表面的低折射率层54的折射率差较小。防污层的折射率优选为1.6以下，更优选为1.55以下。作为防污层的材料，优选为含氟基的硅烷系化合物、含氟基的有机化合物等。防污层可通过反向涂布法、模涂法、凹版涂布法等湿式法、CVD法等干式法等形成。防污层的厚度通常为1～100nm左右，优选为2～50nm，更优选为3～30nm。
[带防反射层的偏光板]
防反射薄膜例如配置于显示器的表面而使用。也可如图2所示那样，将防反射薄膜100与偏光件8层叠而成的带防反射层的偏光板贴合于显示器的表面。在图2所示的带防反射层的偏光板101中，在透明薄膜基材1的与防反射层5形成面相反侧的主面贴合有偏光件8的一个面。在偏光件8的另一面贴合有透明薄膜9。在该构成中，薄膜基材1兼具作为用于形成防反射层5的基材的功能、及作为偏光件8的保护薄膜的功能。在防反射薄膜的制作中，也可将偏光件8与薄膜基材1贴合而制作偏光板，在偏光板的薄膜基材1上形成防反射层5。
作为偏光件8，可列举：使碘、二色性染料等二色性物质吸附于聚乙烯醇系薄膜、部分缩甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜并进行单轴拉伸而成者、聚乙烯醇的脱水处理物、聚氯乙烯的脱盐酸处理物等多烯系取向薄膜等。
其中，就具有较高的偏光度的方面而言，优选为使碘、二色性染料等二色性物质吸附于聚乙烯醇、部分缩甲醛化聚乙烯醇等聚乙烯醇系薄膜并在特定方向取向而成的聚乙烯醇(PVA)系偏光件。例如通过对聚乙烯醇系薄膜实施碘染色及拉伸，可获得PVA系偏光件。也可使用厚度为10μm以下的薄型的偏光件作为PVA系偏光件。作为薄型的偏光件，例如可列举日本特开昭51-069644号公报、日本特开2000-338329号公报、WO2010/100917号小册子、日本特许第4691205号说明书、日本特许第4751481号说明书等中所记载的薄型偏光膜。这种薄型偏光件例如可通过包括如下工序的制法而获得：将PVA系树脂层与拉伸用树脂基材在层叠体的状态下进行拉伸的工序；及进行碘染色的工序。
作为透明薄膜9，优选使用与作为透明薄膜10的材料在上文中叙述的材料相同的材料。再者，透明薄膜9的材料与透明薄膜10的材料可相同，也可不同。
关于偏光件与透明薄膜的贴合，优选使用粘接剂。作为粘接剂，可适当地选择以丙烯酸系聚合物、有机硅系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯醇、聚乙烯醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烃、环氧系聚合物、氟系聚合物、橡胶系聚合物等作为基础聚合物者而使用。PVA系偏光件的粘接优选使用聚乙烯醇系粘接剂。
本发明的防反射薄膜及带防反射层的偏光板可用于液晶显示装置、有机EL显示装置等显示器。尤其在用作显示器的最表面层的情形时，有助于通过防反射所获得的显示器的可视性提高。通过将具备规定的底漆层50的低透湿的防反射薄膜100设置在偏光件8的表面，可抑制水分自外部环境向偏光件8的侵入。因此，即便在显示器暴露于高湿环境下的情形时，也不易产生因偏光件的劣化引起的黄变、褪色，可抑制显示特性的变化。
实施例
以下，列举实施例更详细地说明本发明，但本发明并不限于以下的实施例。
[带硬涂层的薄膜的制作]
将紫外线固化型丙烯酸系树脂(DIC株式会社制造，商品名“GRANDIC PC-1070”，折射率：1.52)100重量份(固体成分)、及作为无机填料的纳米二氧化硅颗粒50重量份混合，制备硬涂层形成用组合物。将该组合物以干燥后的厚度成为5μm的方式涂布于厚度100μm的三醋酸纤维素薄膜(FUJIFILM制造，商品名“FUJITAC”)的单面，并以80℃干燥3分钟。其后，使用高压汞灯照射累计光量200mJ/cm2的紫外线，使涂布层固化而形成硬涂层。
[实施例1]
将形成有硬涂层的三醋酸纤维素薄膜导入至卷对卷方式的溅射成膜装置中，一边使薄膜移动一边对防眩性硬涂层形成面进行轰击处理(利用氩气(Ar)进行的等离子体处理)后，成膜3.5nm的硅氧化物层作为底漆层，并在其上依序成膜12nm的Nb2O5层、28nm的SiO2层、100nm的Nb2O5层及85nm的SiO2层，从而制作防反射薄膜。
轰击处理是在压力1.5Pa下实施的。作为底漆层的硅氧化物层是在基板温度-8℃、氩流量300sccm、氧流量4.5sccm、压力0.2Pa下对Si靶施加0.5W/cm2的电力而进行DC溅射成膜的。SiO2层的成膜使用Si靶，Nb2O5层的成膜使用Nb靶，在基板温度-8℃、氩流量400sccm、压力0.25Pa下进行成膜。在SiO2层的成膜及Nb2O5层的成膜中，通过等离子体发光检测(PEM)控制，以成膜模式维持过渡区域的方式调整导入的氧量。
[实施例2及比较例1]
将底漆层的溅射成膜条件如表1所示那样进行变更，在比较例1中，不导入氧地成膜底漆层。另外，在比较例1中，变更为氩流量1200sccm、压力0.45Pa。除此以外，与实施例1同样地制作防反射薄膜。
[防反射薄膜的评价]
(透湿度)
依据JIS K7129：2008附录B，在温度40℃、湿度90％RH的气氛中测定防反射薄膜的透湿度。由于薄膜基材的透湿度与防反射层的透湿度相比足够大，故而视为防反射薄膜整体的透湿度等同于防反射层的透湿度。
(薄膜的膜密度及组成)
构成防反射层的薄膜的膜密度及组成通过卢瑟福背向散射(RBS)法来测定。在膜密度的算出中，使用根据截面的透射型电子显微镜(TEM)观察所求出的膜厚，元素组成是基于各个薄膜的膜厚的中央处的元素组成、将金属(硅或铌)、氧及氩的含量的合计设为100原子％而算出的。
[带防反射层的偏光板的制作及耐久性评价]
在偏光件的一面贴合实施例及比较例的防反射薄膜，在偏光件的另一面贴合包含具有内酯环结构的改性丙烯酸系聚合物的厚度30μm的透明薄膜，从而制作带防反射层的偏光板。作为偏光件，使用将平均聚合度2700、厚度75μm的聚乙烯醇薄膜进行碘染色且拉伸至6倍而成的PVA系偏光件。PVA系偏光件与透明薄膜的粘接使用包含如下水溶液的粘接剂，并利用辊贴合机进行贴合后，在烘箱内进行加热干燥，该水溶液以重量比3：1包含具有乙酰乙酰基的聚乙烯醇树脂(平均聚合度1200，皂化度98.5摩尔％，乙酰乙酰化度5摩尔％)及羟甲基三聚氰胺。
将所获得的带防反射层的偏光板投入至60℃90％RH的恒温恒湿槽中，在72小时后取出。在背光装置上载置市售的偏光板，求出透过光的色度b*的加热加湿试验前后的变化量Δb*。
将实施例及比较例的防反射层的各层的膜特性、底漆层的成膜条件、防反射薄膜的透湿度、以及带防反射层的偏光板的加热加湿试验前后的透过光b*的变化量示于表1。
[表1]
Figure BDA0002426297480000131
如表1所示，实施例1及实施例2的防反射薄膜与比较例1相比，透湿度较小，带防反射层的偏光板的加热加湿试验前后的色度差较小，表现出良好的耐久性。关于作为最外层的SiO2层(膜厚85nm)的膜密度，实施例及比较例中未见明确的差。
Nb2O5与SiO2相比透湿度较大，因此在SiO2与Nb2O5的交替层叠体膜中，SiO2膜的水分的透过为限速，透湿度主要受SiO2膜的特性影响。在比较例1中，由于Nb2O5层的成膜压力较小，故而与实施例1及实施例2相比可见Nb2O5层的膜密度变小的倾向，但认为Nb2O5层的膜密度的差几乎未对透湿度的变化产生影响。
实施例1、2与比较例1中，底漆层的成膜条件不同，对于在一边导入氧一边以低氩导入量(低压)进行成膜的实施例1、2，与比较例1相比，膜中的氩量改变。根据该结果认为，在实施例中，通过底漆层中所含的氩量减少，而防反射薄膜的水蒸气阻隔性提高(透湿度降低)，带防反射层的偏光板的耐久性提高。
附图标记说明
1 透明薄膜基材
10 透明薄膜
11 硬涂层
5 防反射层
50 底漆层
51、52、53、54 薄膜
8 偏光件
9 透明薄膜
100 防反射薄膜
101 带防反射层的偏光板

Claims (9)

1.一种防反射薄膜，其在透明薄膜基材的一个主表面具备包含折射率不同的多个薄膜的防反射层，
所述防反射层包含与所述透明薄膜基材接触的底漆层，
所述底漆层的氩的含量为0.01～0.5原子％。
2.根据权利要求1所述的防反射薄膜，其中，所述底漆层为硅氧化物层。
3.根据权利要求2所述的防反射薄膜，其中，所述防反射层在所述底漆层上交替地具备高折射率层及低折射率层。
4.根据权利要求3所述的防反射薄膜，其中，所述高折射率层为铌氧化物层，所述低折射率层为硅氧化物层，所述底漆层的硅氧化物的氧量比所述低折射率层的硅氧化物的氧量少。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的防反射薄膜，其透湿度为1g/m2·24h以下。
6.根据权利要求1～4中任一项所述的防反射薄膜，其中，所述透明薄膜基材在与所述底漆层接触的面具备硬涂层。
7.一种带防反射层的偏光板，其在偏光件的一面具备权利要求1～6中任一项所述的防反射薄膜。
8.一种防反射薄膜的制造方法，其是制造权利要求1～6中任一项所述的防反射薄膜的方法，
所述底漆层通过溅射法进行成膜。
9.根据权利要求8所述的防反射薄膜的制造方法，其中，构成所述防反射层的所有薄膜均通过溅射法进行成膜。
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