CN110998380B - 层叠体 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种层叠体，具有沿一个以上方向进行了拉伸的起偏器材料膜和设置在上述起偏器材料膜上的沿一个以上方向进行了拉伸的基材膜，上述起偏器材料膜的拉伸倍率X为1.5以上且5.5以下，将上述层叠体以拉伸倍率6.0/X倍进行自由端单轴拉伸时的上述起偏器材料膜的厚度T2为20μm以下，上述起偏器材料膜的拉伸方向与上述基材膜的拉伸方向所成的角度θ2小于1°，上述基材膜的拉伸倍率Y小于上述起偏器材料膜的拉伸倍率X。

Description

层叠体
技术领域
本发明涉及层叠体。
背景技术
作为液晶显示装置和有机电致发光显示装置等显示装置，一直以来，要求显示面积大、重量轻且厚度薄。因此，构成显示装置的面板一直以来也要求薄。
显示装置中通常使用偏振片，上述偏振片具有起偏器和保护起偏器的保护膜。为了构成厚度薄的显示装置，偏振片也要求更薄。特别是由于通常用作起偏器的聚乙烯醇等材料在显示装置的使用环境中有时会收缩，因而在薄且面积大的显示装置中，这种收缩所导致的翘曲可能会成为问题。因此，通过采用厚度10μm以下这样的薄起偏器，不仅能够期待起偏器厚度减小本身所带来的显示装置厚度的减小，还能够期待减少如上所述的翘曲的发生。
然而，在试图通过以往的制造方法制造这样的厚度薄的聚乙烯醇的起偏器的情况下，起偏器经常发生熔断。作为防止这样的起偏器的熔断且制造包含薄起偏器的偏振片的方法，提出了几种方法。例如专利文献1提出了一种方法，其将未拉伸聚乙烯醇系膜贴合于未拉伸高密度聚乙烯制的基材膜而制成层叠体，拉伸处理该层叠体后，剥离基材膜而得到聚乙烯醇系膜。
此外，专利文献2提出了一种方法，其在非晶质酯系热塑性树脂基材上涂布包含聚乙烯醇系树脂的水溶液，由此使聚乙烯醇系树脂层成膜而制成层叠体，拉伸处理该层叠体后，使二向色性物质取向而制成着色层叠体，拉伸处理该着色层叠体而得到光学膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特表2016-505404号公报(对应公报：美国专利申请公开第2016/084990号说明书)；
专利文献2：日本特许第4691205号公报(对应公报：美国专利申请公开第2012/057232号说明书)。
发明内容
发明要解决的问题
在通过专利文献1和2记载的方法制造薄偏振片的情况下，由于以高拉伸倍率拉伸层叠体，在拉伸处理后的基材膜中有时会产生相位差。在这样的情况下，基材膜难以直接作为偏振片保护膜而使用，于是被剥离、丢弃，因此产生了材料的浪费。进而，会产生另行准备用于保护偏振片的保护膜，将其贴合于偏振片的作业。
此外，为了获得具有充分宽度的薄型的偏振片，可以考虑制备宽度尺寸极宽的基材膜，涂布或贴合起偏器的材料(例如聚乙烯醇材料)，但当基材膜的宽度尺寸过大时，存在难以生产的问题。
因此，本发明的目的在于提供一种层叠体，其能够将基材膜也用作保护膜，且能够高效地制造厚度薄的偏振片。
用于解决问题的方案
本发明人为了解决上述问题进行了深入研究，结果发现，通过使用以规定的拉伸倍率X进行了拉伸的起偏器材料膜和以比X小的拉伸倍率Y进行了拉伸的基材膜而制成层叠体，使起偏器材料膜的拉伸方向与基材膜的拉伸方向所成的角度小于1°，可以解决上述问题，从而完成了本发明。
因此，根据本发明，提供下述[1]～[9]。
[1]一种层叠体，其具有沿一个以上方向进行了拉伸的起偏器材料膜和设置在上述起偏器材料膜上的沿一个以上方向进行了拉伸的基材膜，
上述起偏器材料膜的拉伸倍率X为1.5以上且5.5以下，
上述层叠体以拉伸倍率6.0/X倍进行自由端单轴拉伸时的上述起偏器材料膜的厚度T2为20μm以下，
上述起偏器材料膜的拉伸方向与上述基材膜的拉伸方向所成的角度θ2小于1°，
上述基材膜的拉伸倍率Y小于上述起偏器材料膜的拉伸倍率X。
[2]根据[1]所述的层叠体，其中，上述起偏器材料膜是通过干式拉伸得到的起偏器材料膜。
[3]根据[1]或[2]所述的层叠体，其中，上述起偏器材料膜的Nz系数为0.95以上且1.5以下。
[4]根据[1]～[3]中任一项所述的层叠体，其中，上述基材膜在50℃～120℃的温度条件下自由端单轴拉伸至4.0倍时所产生的面内方向的相位差Re2为0nm以上且20nm以下。
[5]根据[1]～[4]中任一项所述的层叠体，其中，上述基材膜是包含选自环烯烃树脂、非晶质聚酯树脂、聚烯烃树脂和丙烯酸树脂中的至少一种的膜。
[6]根据[1]～[5]中任一项所述的层叠体，其中，上述基材膜是包含环烯烃树脂的膜，
上述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，
上述环烯烃系聚合物包含选自降冰片烯系单体的开环聚合物的氢化物、降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物中的至少一种。
[7]根据[1]～[5]中任一项所述的层叠体，其中，上述基材膜是包含环烯烃树脂的膜，
上述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，
上述环烯烃系聚合物包含将嵌段共聚物[D]进行了氢化的嵌段共聚物氢化物，
上述嵌段共聚物[D]包含聚合物嵌段[A]、以及聚合物嵌段[B]或聚合物嵌段[C]，
上述聚合物嵌段[A]以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元[I]为主成分，
上述聚合物嵌段[B]以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元[I]和来自链状共轭二烯化合物的重复单元[II]为主成分，
上述聚合物嵌段[C]以来自链状共轭二烯化合物的重复单元[II]为主成分。
[8]根据[1]～[7]中任一项所述的层叠体，其中，上述基材膜含有增塑剂和/或软化剂。
[9]根据[8]所述的层叠体，其中，上述增塑剂和/或软化剂为酯系增塑剂、脂肪族烃聚合物或者它们的混合物。
发明效果
在拉伸本发明的层叠体而得到的偏振片中，即使经过拉伸层叠体的工序后，基材膜所显现的相位差也小，能够防止发生破裂，因此可提供能够将基材膜也用作保护膜、且能够高效地制造厚度薄的偏振片的层叠体。
附图说明
图1为示意性表示本发明的层叠体的一个例子的剖面图。
图2为示意性表示本发明的层叠体的制造工序的一个例子的图。
图3为示意性表示使用本发明的层叠体的偏振片的制造工序的一个例子的图。
图4为示意性表示使用本发明的层叠体制造的偏振片的剖面图。
图5为示意性表示使用本发明的层叠体制造的偏振片的剖面图。
具体实施方式
以下，示出实施方式和示例物，对本发明进行详细地说明。但是，本发明并不限定于以下说明的实施方式及示例物，在不脱离本发明的请求的范围及其同等的范围的范围内可以任意地进行变更而实施。
另外，在本申请中，“长条状”的膜是指相对于膜的宽度具有5倍以上的长度的膜，优选具有10倍或以上的长度，具体而言是指具有可卷绕成卷状而保管或搬运的程度的长度的膜。长度相对于膜宽度的比例的上限没有特别限定，例如可为100000倍以下。
在本申请中，膜的面内方向的相位差Re和厚度方向的相位差Rth可根据式Re＝(nx-ny)×d和Rth＝[{(nx+ny)/2}-nz]×d算出。此外，膜的Nz系数为[(nx-nz)/(nx-ny)]所表示的数值，也可以表示为[(Rth/Re)+0.5]。在此，nx为膜的面内的慢轴方向的折射率(面内的最大折射率)，ny为膜的面内的与慢轴垂直的方向的折射率，nz为膜的厚度方向的折射率，d为膜的厚度(nm)。只要没有另外说明，测定波长为可见光范围的代表性的波长590nm。
[1.层叠体的概要]
图1为示意性表示本发明的层叠体10的剖面图的一个例子。如图1所示，本发明的层叠体10具有起偏器材料膜11和基材膜12，该起偏器材料膜11沿一个以上方向以拉伸倍率X进行了拉伸，该基材膜12设置在起偏器材料膜上且沿一个以上方向以比X小的拉伸倍率Y进行了拉伸。在图1中，13为粘接起偏器材料膜11和基材膜12的粘接剂。
本发明的层叠体10可以用作制造偏振片的材料。
[2.起偏器材料膜]
起偏器材料膜是用于制造起偏器的膜(起偏器用膜)。在本发明中，起偏器材料膜优选为面内方向的相位差Re1为10nm以上且厚度T1为40μm以下的膜。起偏器材料膜可将包含起偏器材料的未拉伸的膜进行拉伸处理以使面内方向的相位差为10nm以上且厚度为40μm以下，由此得到。起偏器材料膜是包含起偏器的材料的(拉伸)膜。在本申请中，为了与起偏器材料膜进行区分，有时将用于得到起偏器材料膜的未供给至用于形成规定的相位差和厚度的拉伸处理的膜(包含起偏器材料的未拉伸的膜)称为“原料膜”。
本发明中，原料膜只要可以实现本发明的目的，则不一定进行限定，但由于性价比高，优选聚乙烯醇树脂的膜。
在本发明中，不一定限定于聚乙烯醇树脂(以下，有时简称为PVA)，但由于可获得性等，优选使用通过将聚合乙酸乙烯酯所得到的聚乙酸乙烯酯皂化而制造的树脂。就PVA而言，从拉伸性、得到的膜的偏光性能等优异的观点出发，优选聚合度处于500～8000的范围，优选皂化度为90mol％以上。在此，聚合度是指根据JIS K6726-1994的记载测定的平均聚合度，皂化度是指根据JIS K6726-1994的记载测定的值。聚合度的范围更优选为1000～6000，进一步优选为1500～4000。皂化度的范围更优选为95mol％以上，进一步优选为99mol％以上。只要对本发明的效果没有不良影响，PVA可以是乙酸乙烯酯与能够共聚的其他单体的共聚物或接枝聚合物。
在本发明中，PVA的原料膜的制法没有特别限定，能够根据公知的方法制造，能够采用例如以下等任意的方法：使用将PVA溶解于溶剂的PVA溶液作为制膜原液，基于流延制膜法、湿式制膜法(向不良溶剂中喷出)、干湿式制膜法、凝胶制膜法(将PVA水溶液暂时冷却凝胶化后，萃取除去溶剂，得到PVA的原料膜的方法)和这些的组合的方法；将含有溶剂的PVA熔融后的熔液作为制膜原液而进行的熔融挤出制膜法。其中，由于可以得到透明度高、着色少的PVA的原料膜，优选流延制膜法和熔融挤出制膜法，更优选熔融挤出制膜法。
在本发明中，就PVA的原料膜而言，为了改善机械物性、二次加工时的工序通过性等，优选相对于PVA含有0.01～30质量％的甘油等多元醇等增塑剂，此外，为了改善处理性、膜外观等，优选相对于PVA含有0.01～1质量％的阴离子系表面活性剂、非离子系表面活性剂等表面活性剂。
PVA的原料膜在不妨碍本发明的效果的范围内，可以根据需要进一步包含抗氧化剂、紫外线吸收剂、滑剂、pH调节剂、无机物微粒、着色剂、防腐剂、防霉剂、除上述成分以外的其他高分子化合物、水分等其他成分。PVA的原料膜能够包含1种或2种以上这些其他成分。
原料膜的厚度优选为50μm以下，更优选为40μm以下，进一步优选为30μm以下，优选为5μm以上，更优选为10μm以上，进一步优选为15μm以上。通过原料膜的厚度为上述范围的下限值以上，能够得到具有充分高偏光度的偏振片，通过为上述范围的上限值以下，能够有效提高对于偏振片的弯曲的耐性。
起偏器材料膜是通过将原料膜进行拉伸处理而得到的。作为拉伸处理的方法，可举出干式拉伸和湿式拉伸等。相比于湿式拉伸，干式拉伸的设备、工序简单，因此优选通过干式拉伸得到的膜作为起偏器材料膜。作为干式拉伸，能够使用扩辐拉伸、浮动拉伸、热辊拉伸等拉伸方法。干式拉伸是指在高温(例如100℃以上)的气体环境下进行拉伸的拉伸处理方法。作为干式拉伸中使用的气体，可举出空气。
将原料膜拉伸而制成起偏器材料膜时的拉伸条件可以在可得到所期望的起偏器材料膜的方式中适当地选择。例如，拉伸原料膜而制成起偏器材料膜时拉伸方式可以是单轴拉伸、双轴拉伸等任意的方式。此外，在原料膜为长条状的膜的情况下，拉伸的方向可以是纵向(与长条状的膜的长度方向平行的方向)、横向(与长条状的膜的宽度方向平行的方向)和斜向(既不是纵向也不是横向)的任一方向。
拉伸原料膜而制成起偏器材料膜时的拉伸倍率X为1.5以上，优选为2.0以上，更优选为2.5以上，为5.5以下，优选为4.5以下，更优选为3.5以下。即，起偏器材料膜是以1.5以上且5.5以下的拉伸倍率X进行了拉伸的膜，优选为以2.0以上且4.5以下的拉伸倍率X进行了拉伸的膜，更优选为以2.5以上且3.5以下的拉伸倍率X进行了拉伸的膜。当将拉伸倍率X设为上述范围的上限值以下时，在拉伸原料膜而制成起偏器材料膜时能够防止破裂的发生。此外，当将拉伸倍率X设为上述范围的下限值以上时，能够降低拉伸层叠体而得到偏振片时的拉伸倍率。在通过双轴拉伸等沿两个以上方向的拉伸进行原料膜的拉伸的情况下，拉伸倍率X是各个拉伸倍率的乘积。
将原料膜干式拉伸而制成起偏器材料膜时的拉伸温度优选为100℃以上，更优选为110℃以上，另一方面优选为150℃以下，更优选为140℃以下。通过干式拉伸的温度为上述范围，可得到膜厚均匀的起偏器材料膜。
起偏器材料膜的厚度T1优选为40μm以下，优选为30μm以下，更优选为20μm以下，优选为3μm以上，更优选为5μm以上。通过起偏器材料膜的厚度T1为上述范围的下限值以上，能够得到具有充分高的偏光度的偏振片，通过为上述范围的上限值以下，能够有效提高对于偏振片的弯曲的耐性。
起偏器材料膜的形状和尺寸，可以适当调整为适应于所期望的用途的形状和尺寸。从制造的效率方面出发，起偏器材料膜优选为长条状的膜。
起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1优选为10nm以上，更优选为50nm以上，进一步优选为100nm以上，优选为500nm以下，更优选为400nm以下。通过使起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1为上述范围的下限值以上，能够将拉伸处理层叠体而制成偏振片时的拉伸倍率抑制得低，能够将拉伸处理后的基材的相位差保持得低。通过使起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1为上述范围的上限值以下，能够降低拉伸原料膜而制成起偏器材料膜时的拉伸倍率，能够避免单独拉伸原料膜时的发生褶皱等问题。
起偏器材料膜的Nz系数优选为0.95以上，更优选为0.99以上，优选为1.5以下，更优选为1.4以下。通过Nz系数为上述范围内，能够得到具有充分的偏光度的起偏器。
[3.基材膜]
在本发明的层叠体中，作为基材膜，使用沿一个以上方向进行了拉伸的膜。在本申请的说明书中，为了与基材膜进行区分，将得到基材膜之前的(拉伸处理前的)膜也称为“未拉伸的膜”。
基材膜的厚度优选为5μm以上，更优选为10μm以上，另一方面优选为50μm以下，更优选为30μm以下。通过使基材膜的厚度为上述范围的下限值以上，能够得到贴合面状态良好的层叠体，通过为上述范围的上限值以下，能够减小拉伸层叠体得到偏振片时基材膜中产生的相位差。
作为基材膜，在50℃～120℃的温度条件下自由端单轴拉伸至4.0倍时产生的面内方向的相位差Re2优选为0nm以上且20nm以下，更优选为10nm以下。通过基材膜的上述面内方向的相位差Re2为上述范围内，即使基材膜经过包含拉伸处理的偏振片的制造工序后，仍能够使相位差的显现性充分地低。
基材膜可由树脂形成。作为形成基材膜的树脂，没有特别限定。基材膜优选为包含选自环烯烃树脂、非晶质聚酯树脂、聚烯烃树脂和丙烯酸树脂中的至少一种的膜，更优选包含环烯烃树脂的膜。
作为形成基材膜的环烯烃树脂，优选包含环烯烃系聚合物，环烯烃系聚合物为降冰片烯系单体的开环聚合物的氢化物、降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物。在这些中，作为环烯烃系聚合物，从即使进行了拉伸的情况下也难以显现相位差的观点出发，优选降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物。作为降冰片烯系单体的开环聚合物的氢化物、降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物，可举出日本特开平2-180976号公报、日本特开平3-109418号公报、日本特开平3-223328号公报、日本特开平4-301415号公报、日本特开平5-212828号公报、日本特开平7-145213号公报等记载的高分子化合物。
此外，作为形成基材膜的环烯烃树脂，优选包含环烯烃系聚合物，环烯烃系聚合物包含将嵌段共聚物[D]的主链和侧链的碳-碳不饱和键以及芳香环的碳-碳不饱和键进行了氢化的嵌段共聚物氢化物等，嵌段共聚物[D]包含聚合物嵌段[A]、以及聚合物嵌段[B]或聚合物嵌段[C]，聚合物嵌段[A]以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元[I]为主成分，聚合物嵌段[B]以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元[I]和来自链状共轭二烯化合物的重复单元[II]为主成分，聚合物嵌段[C]以来自链状共轭二烯化合物的重复单元[II]为主成分。作为这样的嵌段共聚物氢化物，可举出国际公开第2000/32646号、国际公开第2001/081957号、日本特开2002-105151号公报、日本特开2006-195242号公报、日本特开2011-13378号公报、国际公开第2015/002020号等记载的高分子化合物。
[3.1.增塑剂和软化剂]
在本发明中，基材膜优选含有增塑剂和/或软化剂(增塑剂和软化剂中的任一者或两者)。通过含有增塑剂和/或软化剂，能够使拉伸层叠体而得到偏振片时基材膜所产生的相位差减小。
作为增塑剂和软化剂，可以使用能够在形成基材膜的树脂中均匀溶解或分散的那些。作为增塑剂和软化剂的具体例子，可举出：多元醇与一元羧酸形成的酯系增塑剂(以下称为“多元醇酯系增塑剂”)和多元羧酸与一元醇形成的酯系增塑剂(以下称为“多元羧酸酯系增塑剂”)等酯系增塑剂；以及磷酸酯系增塑剂；碳水化合物酯系增塑剂和其他聚合物软化剂。
在本发明中，作为优选使用的酯系增塑剂的原料多元醇的例子，没有特别限定，优选乙二醇、甘油、三羟甲基丙烷。
作为多元醇酯系增塑剂的例子，可举出乙二醇酯系增塑剂、甘油酯系增塑剂、和其他的多元醇酯系增塑剂。
作为多元羧酸酯系增塑剂的例子，可举出二羧酸酯系增塑剂和其他多元羧酸酯系增塑剂。
作为磷酸酯系增塑剂的例子，具体而言可举出：磷酸三乙酯、磷酸三丁酯等磷酸烷基酯；磷酸三环戊酯、磷酸环己酯等磷酸环烷酯；磷酸三苯酯、磷酸三甲苯酯等磷酸芳基酯。
作为碳水化合物酯系增塑剂，具体而言能够优选地举出葡萄糖五乙酸酯、葡萄糖五丙酸酯、葡萄糖五丁酸酯、蔗糖八乙酸酯、蔗糖八苯甲酸酯等，其中，更优选蔗糖八乙酸酯。
作为聚合物软化剂，具体而言可举出：脂肪烃系聚合物、脂环式烃系聚合物、聚丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯与甲基丙烯酸-2-羟乙酯的共聚物、甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸甲酯与甲基丙烯酸-2-羟乙酯的共聚物等丙烯酸系聚合物；聚乙烯基异丁基醚、聚N-乙烯基吡咯烷酮等乙烯基系聚合物；聚苯乙烯、聚4-羟基苯乙烯等苯乙烯系聚合物；聚丁二酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；聚环氧乙烷、聚环氧丙烷等聚醚；聚酰胺；聚氨酯；聚脲等。
作为脂肪族烃系聚合物的具体例子，可举出：聚异丁烯、聚丁烯、聚-4-甲基戊烯、聚-1-辛烯、乙烯·α-烯烃共聚物等低分子量化合物及其氢化物；聚异戊二烯、聚异戊二烯-丁二烯共聚物等低分子量化合物及其氢化物等。从易均匀溶解或分散于环烯烃树脂的观点出发，脂肪族烃系聚合物的数均分子量优选为300～5000。
这些聚合物软化剂可以是由1种重复单元形成的均聚物，也可以是具有多种重复结构体的共聚物。此外，也可以并用2种以上的上述聚合物。
在本发明中，作为增塑剂和/或软化剂，优选酯系增塑剂、脂肪族烃系聚合物和它们的混合物。
相对于100重量份形成基材膜的树脂，基材膜中的增塑剂和/或软化剂(以下也称为“增塑剂等”)的比例优选为0.2重量份以上，更优选为0.5重量份以上，进一步更优选为1.0重量份以上，另一方面优选为40重量份以下，更优选为30重量份以下。通过使增塑剂等的比例为上述范围内，即使基材膜经过包含拉伸处理的偏振片的制造工序，也能够使相位差的显现性充分地低。
[3.2.任意成分]
基材膜可以包含除了树脂和增塑剂之外的任意成分。作为任意成分的例子，可举出：抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂等的稳定剂；滑剂等树脂改性剂；染料、颜料等着色剂；以及防静电剂等。这些配合剂能够单独使用1种，或将2种以上组合使用，其配合量在不损害本发明的目的的范围适当地选择。
[4.基材膜的制造方法]
基材膜可以通过将包含用于形成基材膜的成分(树脂和根据需要添加的成分)的组合物(以下，也称为“树脂组合物”)以任意的成型方法成型为膜状而制造成未拉伸的膜后，拉伸该未拉伸的膜，从而制造。
作为将树脂组合物成型为膜状的方法的例子，可举出熔融挤出成型。熔融挤出工序可以通过以下方法进行：使用挤出机熔融树脂组合物，从安装在该挤出机上的T模头挤出成膜状，使挤出的膜密合于一个以上冷却辊而成型，拉出。熔融挤出成型的成型条件可以配合使用的树脂组合物的组成和分子量等条件适当地设定。
未拉伸膜的厚度可以根据其使用目的等适当地设定。未拉伸膜的厚度优选为10μm以上，更优选为15μm以上，另一方面优选为100μm以下，更优选为50μm以下。未拉伸膜能够卷成卷状而供给至下一步的拉伸工序，此外，也能够供给至熔融挤出工序所接续的拉伸工序。
拉伸未拉伸膜而制成基材膜时的拉伸条件可以在可得到所期望的基材膜的方式中适当地选择。
拉伸未拉伸膜而制成基材膜时的拉伸方式可以设为单轴拉伸、双轴拉伸等任意的方式。此外，在未拉伸膜为长条状的膜的情况下，拉伸的方向可以是纵向(与长条状的膜的长度方向平行的方向)、横向(与长条状的膜的宽度方向平行的方向)和斜向(既不是纵向也不是横向的方向)中的任一方向。
在本发明中，起偏器材料膜的拉伸方向与基材膜的拉伸方向所成的角度θ2小于1°。
计算θ2时，在起偏器材料膜为将原料膜沿两个以上方向拉伸而得到的膜的情况、以及基材膜为将未拉伸膜沿两个以上方向拉伸而得到的膜的情况下，将拉伸倍率较大的的拉伸方向作为膜的拉伸方向。
在本发明中，使拉伸未拉伸膜而制成基材膜时的拉伸倍率Y小于拉伸原料膜而制成起偏器材料膜时的拉伸倍率。当拉伸倍率Y大于拉伸倍率X时，层叠体拉伸至6.0/X倍时基材膜破裂。
拉伸倍率Y优选为1.1以上，更优选为1.2以上，优选为5.0以下，更优选为4.0以下。
[5.层叠体的制造方法]
接下来，对本发明的层叠体的制造方法的一个例子进行说明。
层叠体的制造方法包含沿一个以上方向拉伸原料膜而得到起偏器材料膜的工序(a)、拉伸未拉伸膜而得到基材膜的工序(h)、和在起偏器材料膜上设置基材膜层而得到层叠体的工序(b)。
图2为示意性表示在起偏器材料膜11上设置基材膜12而制造层叠体10的制造装置200的一个例子的示意图。制造装置200具有送出装置201、202，拉伸装置204、206，贴合装置205，以及卷绕装置203。
如图2所示，将从送出装置201送出的原料膜1运送至拉伸装置204，通过拉伸装置204进行拉伸处理，由此得到起偏器材料膜11(工序(a))。另一方面，将从送出装置202送出的未拉伸膜2运送至拉伸装置206，通过拉伸装置206进行拉伸处理，由此得到基材膜12(工序(h))。
接下来，将起偏器材料膜11运送至贴合装置205，在贴合装置205根据需要涂布粘接剂13，与基材膜12贴合，由此得到层叠体10(工序(b))。制造的层叠体10能够通过卷绕装置203卷绕，制成卷状，供给至进一步的工序。在工序(b)中，粘接剂是任意成分。此外，在工序(b)中，也可以将粘接剂涂布于基材膜后，与起偏器材料膜贴合。
优选在起偏器材料膜和基材膜之间涂布粘接剂，这是因为能够防止两膜间的剥离等的问题，但在即使不使用粘接剂，起偏器材料膜和基材膜之间也可以得到充分的粘接力的情况下，也可以不使用粘接剂。
工序(a)中原料膜的拉伸处理优选以[2.起偏器材料膜]项中说明的条件和方法(拉伸处理的方法、拉伸的方式、拉伸倍率、拉伸温度)进行。
工序(h)中基材膜的拉伸处理优选以[4.基材膜的制造方法]项中说明的条件和方法(拉伸处理的方法、拉伸的方式、拉伸倍率、拉伸温度)进行。
工序(a)中的拉伸处理和工序(h)中的拉伸处理以基材膜的拉伸方向与起偏器材料膜的拉伸方向所成的角度θ2小于1°的方式进行。如果θ2为1°以上，则起偏器的吸收轴方向容易产生不均匀。角度θ2优选小于0.5°，更优选0°。角度θ2允许的误差通常为±0.5°范围，更优选为±0.3°范围。
在工序(b)中，作为贴合起偏器材料膜11和基材膜12的粘接剂13，没有特别限定，例如可以使用：丙烯酸系粘接剂；聚氨酯系粘接剂；聚酯系粘接剂；聚乙烯醇系粘接剂；聚烯烃系粘接剂；改性聚烯烃系粘接剂；聚乙烯基烷基醚系粘接剂；橡胶系粘接剂；氯乙烯-醋酸乙烯酯系粘接剂、SEBS(苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯共聚物)系粘接剂、乙烯-苯乙烯共聚物等的乙烯基系粘接剂；乙烯-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸乙酯共聚物等丙烯酸酯系粘接剂等。
可以对基材膜的与起偏器材料膜贴附的面实施电晕处理、皂化处理、底漆处理、锚固涂层处理等使其易粘接的处理。
本发明的层叠体10可以作为用于制造偏振片的材料。在此情况下，层叠体在进行拉伸处理和染色处理等处理后成为偏振片。
[6.偏振片的制造方法]
偏振片的制造方法包含上述工序(a)和工序(b)、以及将经过这些工序而得到的层叠体沿一个以上方向进行拉伸的工序(c)。偏振片的制造方法也可以包含在工序(b)之后，使用二色性物质将起偏器材料膜染色的工序(d)。起偏器材料膜的染色也可以对形成层叠体10之前的起偏器材料膜进行。通过这样的制造方法，起偏器材料膜被拉伸、进一步任意地染色后，结果成为可以作为起偏器发挥功能的膜。偏振片的制造方法可以进一步包含任意的工序。作为任意的工序的例子，可举出工序(c)之后，在起偏器材料膜上直接或者经由粘接剂贴合保护膜的工序(e1)，和在起偏器材料膜上设置粘接剂层的工序(e2)。
偏振片能够通过例如图3所示的制造装置制造。
图3为示意性表示制造装置300的一个例子的概要图，该装置通过对层叠体10进行拉伸处理和其他任意的处理而制造偏振片100。制造装置300具有送出装置301、307，处理装置302～305，干燥装置306、309，贴合装置308，和卷绕装置310。
如图3所示，将从送出装置301送出的层叠体10运送至处理装置302～305，进行染色处理(工序(d))和拉伸处理(工序(c))等处理。在这些处理后，将层叠体在干燥装置306中干燥，得到偏振片100。
图4为示意性表示使用本发明的层叠体而得到的偏振片100的剖面图。如图4所示，在偏振片100中，起偏器材料膜111的一个面(图示上侧面)上层叠有基材膜112。图4中，113为粘接剂。图4所示的偏振片100能够直接作为偏振片使用，也可以在起偏器材料膜111的未层叠基材膜112侧的面(图示下侧面)层叠保护膜。
在起偏器材料膜111上层叠保护膜115的情况下，如图3所示，将偏振片100运送至贴合装置308，在起偏器材料膜111的未层叠基材膜112侧的面涂布粘接剂，将其与从送出装置307送出的保护膜115贴合，由此得到具有保护膜115的偏振片120(工序(e1))。制造的偏振片120能够通过卷绕装置310进行卷绕而制成卷状，供给至进一步的工序。
图5为示意性表示具备保护膜115的偏振片120的剖面图。如图5所示，在该偏振片120中，在起偏器材料膜111的一个面(图示上侧面)上层叠有基材膜112，起偏器材料膜111的另一个面侧(图示下侧面)层叠有保护膜115。图5中，113、114为粘接剂。用于将保护膜贴合于起偏器材料膜的粘接剂能够使用与将基材膜贴合于起偏器材料膜的粘接剂相同的粘接剂。
作为使用本发明的层叠体制造偏振片时的拉伸处理的方法，没有特别限定，优选湿式拉伸。
使用本发明的层叠体通过湿式拉伸制造偏振片时的拉伸倍率优选为1.2以上，更优选为1.5以上，优选为5.0以下，更优选为4.0以下。当将层叠体的拉伸倍率设为上述范围的上限值以下时，即使经过包含拉伸处理的偏振片的制造工序，仍能够降低基材膜的相位差的显现，防止偏振片发生破裂；当将拉伸倍率设为上述范围的下限值以上时，能够得到具有充分的偏光性能的偏振片。
层叠体的拉伸温度没有特别限定。例如，在使用聚乙烯醇系树脂作为起偏器的材料的情况下，具体的拉伸温度优选为50℃以上，更优选为55℃以上，特别优选为60℃以上，优选为160℃以下，更优选为120℃以下，特别优选为110℃以下。通过拉伸温度为上述范围的下限值以上，从而能够顺利地进行拉伸，此外，通过拉伸温度为上述范围的上限值以下，能够通过拉伸有效地进行取向。上述拉伸温度的范围在干式拉伸和湿式拉伸中任一方法中均是优选的，在湿式拉伸的情况下特别优选。
层叠体的拉伸处理是包含向至少一个方向的拉伸的处理，可以仅包含一个方向的拉伸，也可以包含向两个以上方向的拉伸。作为层叠体的拉伸处理，优选进行单轴拉伸，进一步优选自由端单轴拉伸，特别优选纵向的自由端单轴拉伸。在仅包含一个方向的拉伸的拉伸处理中，以该拉伸的拉伸倍率控制在上述的规定拉伸倍率的范围内的方式进行拉伸。此外，在包含向两个以上方向的拉伸的拉伸处理中，以各拉伸的拉伸倍率的乘积控制在上述的规定拉伸倍率的范围内的方式进行拉伸。在包含向两个以上方向的拉伸的拉伸处理中，这些拉伸可以同时进行，也可以依次进行。
层叠体以拉伸倍率6.0/X进行自由端单轴拉伸时，层叠体拉伸后的起偏器材料膜的厚度T2为20μm以下，优选15μm以下，优选1μm以上，更优选3μm以上。在此，X为拉伸原料膜而制成起偏器材料膜时的拉伸倍率。通过上述T2为上限值以下，能够减小拉伸处理层叠体而得到的偏振片的厚度，通过T2为下限值以上，能够得到具有充分高的偏光度的偏振片。
[7.本发明的效果]
本发明的层叠体具有进行了拉伸的起偏器材料膜和进行了拉伸的基材膜。换言之，使用本发明的层叠体制造偏振片时，将预先进行了拉伸的膜用作起偏器材料膜，因此能够降低拉伸层叠体而制造偏振片时的拉伸倍率。结果能够减小使层叠体经过拉伸工序后的基材膜中显现的相位差，能够直接将基材膜作为保护膜使用。
进而，如上所述，本发明使用预先进行了拉伸的膜作为起偏器材料膜，因此在层叠基材膜而制成层叠体时，不需要像使用未拉伸的起偏器材料膜时那样的宽度尺寸极大的基材膜，可以高效地进行偏振片的制造。
综上所述，根据本发明能够提供一种层叠体，其能够将基材膜也用作保护膜，且能够高效地制造厚度薄的偏振片。
此外，在本发明中，起偏器材料膜的拉伸方向与基材膜的拉伸方向所成的角度θ2小于1°，将基材膜的拉伸倍率设定为小于起偏器材料膜的拉伸倍率，因此能够减少偏振片的翘曲。
实施例
以下，参照实施例和比较例，对本发明进一步详细地进行说明，但本发明并不限定于下述实施例。以下，关于成分的量比“份”和“％”，只要没有另外说明，表示重量份。
[评价方法]
[重均分子量(Mw)和分子量分布(Mw/Mn)]
嵌段共聚物和嵌段共聚物氢化物的分子量作为基于以THF作为洗脱液的GPC法的标准聚苯乙烯换算值，在38℃进行测定。作为测定装置，使用Tosoh公司制HLC8020GPC。
[氢化率]
嵌段共聚物氢化物的氢化率通过1H-NMR谱或GPC分析算出。在氢化率为99％以下的范围，测定其1H-NMR谱而算出；在超过99％的范围，通过GPC分析，根据UV检测器和RI检测器的峰面积的比率而算出。
[面内相位差Re1，Re2和Nz系数的测定方法]
在波长590nm使用相位差测定装置(Axometric公司制，产品名“Axoscan”)测定Re和Rth，基于这些求出Nz系数。相位差Re2的测定试样是将与制造层叠体时使用的基材膜相同的基材膜(例如，在实施例1的情况下为基材膜A)，在与制成偏振片时相同的温度条件下(但是，实施例6为110℃)，以4.0倍的拉伸倍率通过自由端单轴拉伸而制备。
[厚度的测定方法]
通过下述的方法测定原料膜拉伸前和拉伸后的厚度、基材膜的厚度、偏振片所包含的各层的厚度。
使用超薄切片机切断偏振片后，使用TEM观察其剖面。测定5个位置中厚度方向的尺寸，采用其测定值的平均值作为厚度。
[层叠体的贴合面状态的评价]
目视观察层叠体，未产生条纹、空隙的层叠体为“良”，产生的层叠体为“不良”。
[拉伸性的评价]
按照以下的基准评价在拉伸层叠体制造偏振片的工序中的工序稳定性。
A…未发生破裂(送料10次破裂0次)。
B…几乎未发生破裂(送料10次破裂1次)。
C…破裂频发，不能制成偏振片。
[偏振片的翘曲的评价]
将粘合剂贴合至偏振片的起偏器侧，切割成200mm×290mm尺寸。将该膜贴合至厚度0.7mm、A4尺寸的玻璃板，在80℃的高温槽静置500小时。静置后，使翘曲的玻璃板的凹面朝上，将其置于平滑的台面上，测定四个角的高度而计算平均值，根据下述的评价基准进行评价。高度越小表示翘曲越小。
A…小于1.5mm
B…1.5mm以上且小于3.0mm
C…3.0mm以上
[实施例1]
(1-1)基材膜的制造
(1-1-1)聚合物X的制作
参照日本特开2002-105151号公报记载的制造例，在第1阶段使25份苯乙烯单体聚合后，在第2阶段使30份苯乙烯单体和25份异戊二烯单体聚合，然后，在第3阶段使20份苯乙烯单体聚合而得到嵌段共聚物[D1]后，氢化该嵌段共聚物而合成了嵌段共聚物氢化物[E1]。该嵌段共聚物氢化物[E1]的Mw为84500，Mw/Mn为1.20，主链和芳香环的氢化率为大致100％。
对100份嵌段共聚物氢化物[E1]添加0.1份作为抗氧化剂的四[3-(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸]季戊四醇酯(松原产业公司制，产品名“Songnox1010”)，熔融混炼配合后，制成团粒状，得到成型用的聚合物X。
(1-1-2)未拉伸膜A的制造
将通过(1-1-1)制造的聚合物X供给具有T模头的热熔融挤出膜成型机。从T模头挤出聚合物X，以4m/分钟的牵引速度卷绕成卷，由此将聚合物X成型为膜状。由此得到包含聚合物X的长条的未拉伸膜A(厚度25μm)。
(1-1-3)基材膜A的制造
使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度130℃沿长度方向以拉伸倍率2.0将未拉伸膜A进行拉伸，得到基材膜A(纵单轴拉伸)。基材膜A的厚度为13μm，面内方向的相位差为2nm。
(1-2)起偏器材料膜的制造
使用未拉伸聚乙烯醇膜(平均聚合度约2400，皂化度99.9mol％，厚度20μm，以下也称为“PVA20”)作为原料膜。
使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度130℃沿长度方向以拉伸倍率3.0将原料膜进行干式拉伸，得到起偏器材料膜。起偏器材料膜的厚度T1为12μm，Re1为345nm，Nz系数为1.0。基材膜的拉伸方向和起偏器材料膜的拉伸方向所成的角度为0°。
(1-3)层叠体的制造
混合100重量份水、3重量份聚乙烯醇系粘接剂(日本合成化学公司制“Z-200”)和0.3重量份交联剂(日本合成化学公司制“SPM-01”)，得到粘接剂组合物。在通过(1-1-3)得到的基材膜A的一面实施电晕处理，并在其上涂敷该粘接剂组合物，使其贴合于起偏器材料膜的一个面。在这个状态下，使粘接剂组合物在70℃加热干燥5分钟。由此得到具有“起偏器材料膜”/“粘接层”/“基材膜A”的层结构的层叠体。粘接剂层的厚度为1μm。
评价得到的层叠体的贴合面状态。结果示于表1。
(1-4)偏振片的制造(湿式)
一边将通过(1-3)得到的层叠体经由导轨沿长度方向连续运送，一边进行下述的操作。
对上述的层叠体进行浸渍于包含碘和碘化钾的染色溶液的染色处理、和将染色处理后的层叠体进行拉伸的第一拉伸处理。接着，对第一拉伸处理后的层叠体进行在包含硼酸和碘化钾的65℃的酸性浴中拉伸的第二拉伸处理。将第一拉伸处理的拉伸倍率与第二拉伸处理的拉伸倍率的乘积所表示的总的拉伸倍率设定为2.0。第一拉伸处理和第二拉伸处理中的拉伸方向均为长度方向。
将第二拉伸处理后的层叠体在干燥机中以70℃干燥5分钟而得到偏振片。测定偏振片中基材膜的厚度和相位差Re2、以及起偏器材料膜的厚度T2，与翘曲和拉伸性的评价结果一起示于表1。
[实施例2]
代替基材膜A而使用通过以下的(2-1)得到的基材膜B，代替通过(1-2)得到的起偏器材料膜使用通过以下的(2-2)得到的起偏器材料膜，以(1-4)中的总的拉伸倍率成为4.0的方式拉伸层叠体，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表1。
(2-1)基材膜B的制造
使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度130℃沿长度方向以拉伸倍率1.2拉伸通过(1-1-2)得到的未拉伸膜A，得到基材膜B(纵单轴拉伸)。基材膜B的厚度为21μm，面内方向的相位差为2nm。
(2-2)起偏器材料膜的制造
使用未拉伸聚乙烯醇膜(平均聚合度约2400，皂化度99.9mol％，厚度30μm，以下也称为“PVA30”)作为原料膜。
使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度130℃沿长度方向以拉伸倍率1.5拉伸原料膜(PVA30)，得到起偏器材料膜。起偏器材料膜的厚度T1为24μm，Re1为345nm，Nz系数为1.0。
[实施例3]
代替通过(1-2)得到的起偏器材料膜，使用通过以下的(3-2)得到的起偏器材料膜，并以(1-4)中的总的拉伸倍率成为1.2的方式拉伸层叠体，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表1。
(3-2)起偏器材料膜的制造
使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度130℃沿长度方向以拉伸倍率5.0拉伸原料膜(PVA20)，得到起偏器材料膜。起偏器材料膜的厚度T1为9μm，Re1为325nm，Nz系数为1.0。
[实施例4]
代替通过(1-1)得到的基材膜A使用通过以下的(4-1)得到的基材膜D，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果如表1所示。
(4-1)基材膜D的制造
使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度130℃沿长度方向以拉伸倍率1.5拉伸通过(1-1-2)得到的未拉伸膜A后，沿宽度方向以拉伸倍率1.3进行拉伸，得到基材膜D(双轴纵拉伸)。基材膜D的厚度为13μm，面内方向的相位差为1nm。
[实施例5]
代替通过(1-1)得到的基材膜A使用以下的(5-1)得到的基材膜E，除此以外，与实施例1同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表2。
(5-1)基材膜E的制造
(5-1-2)未拉伸膜E的制造
将通过(1-1-1)制造的聚合物X与相对于100重量份聚合物X以20重量份的比例添加的聚异丁烯(JX Nippon Oil&Energy Corporation公司制“日石聚丁烯HV-300”，数均分子量1400)的混合物供给至具有T模头的热熔融挤出膜成型机。从T模头中挤出聚合物X与聚异丁烯的混合物，以4m/分钟的牵引速度卷绕成卷，由此得到膜状并制成长条状的未拉伸膜E(厚度25μm)。
(5-1-3)基材膜E的制造
使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度130℃沿长度方向以拉伸倍率2.0拉伸未拉伸膜E，得到基材膜E(纵单轴拉伸)。基材膜E的厚度为13μm，面内方向的相位差为2nm。
[实施例6]
通过以下的方法制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表2。
(6-1)基材膜F的制造
将丙烯酸树脂(住友化学公司制，SUMIPEX HT55X)供给至具有T模头的热熔融挤出膜成型机。从T模头挤出丙烯酸树脂，以4m/分钟的牵引速度卷绕成卷而将丙烯酸树脂成型为膜状。由此，制成长条状的未拉伸膜F(厚度25μm)。
代替通过(1-1-2)得到的未拉伸膜A而使用未拉伸膜F，使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度130℃沿长度方向以拉伸倍率1.3拉伸该未拉伸膜F，得到基材膜F(纵单轴拉伸)。基材膜F的厚度为19μm，面内方向的相位差为2nm。
(6-3)层叠体的制造
代替通过(1-1-3)得到的基材膜A使用通过(6-1)制造的基材膜F，除此以外，与实施例1的(1-3)同样地进行，得到了具有“起偏器材料膜”/“粘接层”/“基材膜F”的层结构的层叠体。
(6-4)偏振片的制造(干式)
使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度110℃沿长度方向以拉伸倍率1.8拉伸通过(6-3)得到的层叠体。拉伸后的层叠体浸渍于包含碘、碘化钾和硼酸的染色溶液进行染色，通过60℃的温风干燥。接下来，使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度90℃沿长度方向以拉伸倍率1.1拉伸染色后的层叠体而得到偏振片。
[比较例1]
(C1-1)基材膜C1的制造
使用纵单轴拉伸机，以拉伸温度130℃在长度方向以拉伸倍率3.5拉伸通过(1-1-2)得到的未拉伸膜A，得到基材膜C1(纵单轴拉伸)。基材膜C1的厚度为13μm，面内方向的相位差为3nm。
(C1-3)层叠体的制造
在(1-3)中，代替基材膜A而使用基材膜C1，除此以外，与(1-3)同样地进行，得到具有“起偏器材料膜”/“粘接剂”/“基材膜C1”的层结构的层叠体。在比较例1中，起偏器材料膜的拉伸倍率X为3.0，小于基材膜C1的拉伸倍率3.5。
(C1-4)偏振片的制造(湿式)
代替(1-4)中的层叠体而使用通过(C1-3)得到的层叠体，除此以外，与(1-4)同样地进行，制造偏振片，与实施例1同样地进行评价，结果示于表2。与起偏器材料膜相比，基材膜难以拉伸，基材膜产生破裂，不能稳定地进行偏振片的制造。
[比较例2]
(C2-3)层叠体的制造
按照以下的步骤，将聚乙烯醇(PVA)层在基材膜C2的表面成膜，制造层叠体。
作为基材膜C2，使用共聚了6mol％间苯二甲酸的非晶质聚对苯二甲酸乙二醇酯(非晶质PET，玻璃化转变温度为75℃)的连续网格(continuous web)的基材膜(厚度200μm)。作为形成PVA层的PVA水溶液，使用如下水溶液，该水溶液是将聚合度1000以上、皂化度99％以上、玻璃化转变温度为80℃的PVA粉末以浓度成为4～5重量％溶解于水中而得到的。
在基材膜C2的一个面涂布PVA水溶液，以50～60℃的温度干燥而使PVA层在基材膜C2的表面成膜，得到具有“PVA层”/“基材膜C2”的层构造的层叠体。在本比较例中，PVA层是通过PVA水溶液的涂布·干燥而形成的，层的厚度和面内方向的相位差分别记载于表2的“拉伸后的膜厚度T1”和“拉伸后的Re1”栏。
(C2-4)偏振片的制造
将通过(C2-3)得到的层叠体设置于拉伸装置，该拉伸装置配备了设定为130℃的拉伸温度环境的烘箱，以拉伸倍率成为1.8倍的方式进行自由端单轴拉伸(第一拉伸处理)。
对第一拉伸处理后的层叠体进行浸渍于包含碘和碘化钾的染色溶液的染色处理。接下来，将染色处理后的层叠体设置于处理装置所配备的拉伸装置，该处理装置设定成包含硼酸和碘化钾的65℃的硼酸水溶液，以拉伸倍率成为3.3倍的方式以自由端单轴进行拉伸处理(第二拉伸处理)。第一拉伸处理和第二拉伸处理的拉伸方向均为长度方向。
从硼酸水溶液中取出第二拉伸处理后的层叠体，用碘化钾水溶液清洗在非晶性PET基材上成膜的3μm厚的PVA层表面所附着的硼酸后，通过基于60℃的温风的干燥工序干燥而得到偏振片。测定偏振片中基材膜的厚度和相位差Re2以及PVA层的厚度T2，与拉伸性和翘曲的评价结果一起示于表2。
实施例和比较例的结果如表1和表2所示。
表中Acryl意为丙烯酸树脂。
表中拉伸方向(°)是将膜的宽度方向设为0°时的角度。表2中非晶质PET意为非晶质聚对苯二甲酸乙二酯。
[表1]
表1
Figure BDA0002377224440000241
[表2]
表2
Figure BDA0002377224440000251
根据表1和表2的结果可知，根据本发明，可以减小经过拉伸层叠体的工序后的基材膜所显现的相位差，防止发生破裂，因此能够将基材膜也用作保护膜，且可以高效地制造厚度薄的偏振片。
附图标记说明
1：原料膜
2：未拉伸膜
10：层叠体
11：起偏器材料膜
12：基材膜
13：粘接剂
100：偏振片
111：起偏器材料膜
112：基材膜
113、114：粘接剂
115：保护膜
120：具备保护膜的偏振片
200：制造装置
201、202：送出装置
203：卷绕装置
204、206：拉伸装置
205：贴合装置
300：制造装置
301、307：送出装置
302～305：处理装置
306、309：干燥装置
308：贴合装置
310：卷绕装置

Claims (8)

1.一种层叠体，其是通过如下制造方法而得到的，所述制造方法包括沿一个以上方向以1.5以上且5.5以下的拉伸倍率X拉伸原料膜而得到起偏器材料膜的工序(a)、以拉伸倍率Y拉伸未拉伸膜而得到基材膜的工序(h)、和在所述起偏器材料膜上设置所述基材膜而得到层叠体的工序(b)，
将所述层叠体以拉伸倍率6.0/X倍进行自由端单轴拉伸时的、所述层叠体拉伸后的所述起偏器材料膜的厚度T2为20μm以下，
所述起偏器材料膜的拉伸方向与所述基材膜的拉伸方向所成的角度θ2小于1°，
所述基材膜的拉伸倍率Y小于所述起偏器材料膜的拉伸倍率X，
所述基材膜在50℃～120℃的温度条件下自由端单轴拉伸至4.0倍时产生的面内方向的相位差Re2为0nm以上且20nm以下。
2.一种层叠体，其是通过如下制造方法而得到的，所述制造方法包括沿一个以上方向以1.5以上且5.5以下的拉伸倍率X拉伸原料膜而得到起偏器材料膜的工序(a)、以拉伸倍率Y拉伸未拉伸膜而得到基材膜的工序(h)、和在所述起偏器材料膜上设置所述基材膜而得到层叠体的工序(b)，
将所述层叠体以拉伸倍率6.0/X倍进行自由端单轴拉伸时的、所述层叠体拉伸后的所述起偏器材料膜的厚度T2为20μm以下，
所述起偏器材料膜的拉伸方向与所述基材膜的拉伸方向所成的角度θ2小于1°，
所述基材膜的拉伸倍率Y小于所述起偏器材料膜的拉伸倍率X，
所述基材膜是包含环烯烃树脂的膜，
所述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，
所述环烯烃系聚合物包含选自降冰片烯系单体的开环聚合物的氢化物、降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物中的至少一种。
3.一种层叠体，其是通过如下制造方法而得到的，所述制造方法包括沿一个以上方向以1.5以上且5.5以下的拉伸倍率X拉伸原料膜而得到起偏器材料膜的工序(a)、以拉伸倍率Y拉伸未拉伸膜而得到基材膜的工序(h)、和在所述起偏器材料膜上设置所述基材膜而得到层叠体的工序(b)，
将所述层叠体以拉伸倍率6.0/X倍进行自由端单轴拉伸时的、所述层叠体拉伸后的所述起偏器材料膜的厚度T2为20μm以下，
所述起偏器材料膜的拉伸方向与所述基材膜的拉伸方向所成的角度θ2小于1°，
所述基材膜的拉伸倍率Y小于所述起偏器材料膜的拉伸倍率X，
所述基材膜是包含环烯烃树脂的膜，
所述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，
所述环烯烃系聚合物包含将嵌段共聚物D进行了氢化的嵌段共聚物氢化物，
所述嵌段共聚物D包含聚合物嵌段A、以及聚合物嵌段B或聚合物嵌段C，
所述聚合物嵌段A以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元I为主成分，
所述聚合物嵌段B以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元I和来自链状共轭二烯化合物的重复单元II为主成分，
所述聚合物嵌段C以来自链状共轭二烯化合物的重复单元II为主成分。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的层叠体，其中，所述起偏器材料膜是通过干式拉伸得到的起偏器材料膜。
5.根据权利要求1～3中任一项所述的层叠体，其中，所述起偏器材料膜的Nz系数为0.95以上且1.5以下。
6.根据权利要求1～3中任一项所述的层叠体，其中，所述基材膜是包含选自环烯烃树脂、非晶质聚酯树脂、聚烯烃树脂和丙烯酸树脂中的至少一种的膜。
7.根据权利要求1～3中任一项所述的层叠体，其中，所述基材膜含有增塑剂和/或软化剂。
8.根据权利要求7所述的层叠体，其中，所述增塑剂为酯系增塑剂和/或所述软化剂为脂肪族烃聚合物。
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