CN110911307A - 处理装置、处理***以及处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供处理装置、处理***以及处理方法。本发明提供一种技术，当对粘度高的液体进行过滤时，在过滤器的使用开始时，抑制异物从过滤器的脱离。所述处理装置是用于对用来过滤高粘度处理液的过滤器进行处理的处理装置。处理装置包括：循环配管，使处理液循环；送液机构，使循环配管内产生处理液的流动；以及安装机构及异物去除过滤器，介插在循环配管的流路途中。安装机构装卸自如地安装过滤器。若使用如上所述的处理装置来进行过滤器的时效处理，则循环使用处理液，从而能够降低处理液的消耗量。而且，能够利用与安装过滤器的装置独立的装置来去除从过滤器脱离的异物，因此不需要中断安装目标装置中的处理。
Description
技术领域
本发明涉及一种对高粘度的液体进行过滤的过滤器(filter)的处理装置、处理***以及处理方法。
背景技术
以往，在液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、等离子体显示面板(PlasmaDisplay Panel，PDP)用玻璃基板、光掩模(photo mask)用玻璃基板、彩色滤光片(colorfilter)用基板、记录盘(disk)用基板、太阳能电池用基板、电子纸(paper)用基板等精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性(flexible)基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)用基板(以下简称作“基板”)的制造工序中，使用有在基板的表面涂覆光致抗蚀剂(photo resist)等液体的涂覆装置。关于以往的涂覆装置，例如在专利文献1中有所记载。专利文献1的涂覆装置针对由沿水平方向移动自如的载台(stage)所吸附保持的基板，从具有狭缝(slit)状喷出口的缝模(slit die)喷出涂覆液。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2018-43219号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
此种涂覆装置中配设有过滤器，所述过滤器用于在喷出及涂覆涂覆液之前，去除涂覆液中所含的异物。但是，当对高粘度的涂覆液进行过滤时，在从过滤器使用开始不久的期间，异物会从过滤器脱离。新的过滤器一般会预先利用清洗液进行清洗，因此即使对与清洗液为同程度的粘度的液体进行过滤，异物从过滤器脱离的可能性也低。但是，若使新的过滤器过滤粘度比清洗液高的液体，则异物会从过滤器脱离。
此种涂覆装置中，从新的过滤器使用开始，直至异物的排出量减少而可无问题地使用涂覆液为止，常常需要耗费长时间例如一天至两周等。因此，在此期间，供给至过滤器的涂覆液被大量消耗，并且在过滤器更换后不久的期间，不得不中断使用涂覆装置的制品的制造。
本发明是有鉴于此种情况而完成，其目的在于提供一种技术，当对粘度高的液体进行过滤时，在过滤器的使用开始时，抑制异物从过滤器的脱离。
[解决问题的技术手段]
为了解决所述问题，本申请的第一发明是一种处理装置，用于对用来过滤高粘度处理液的过滤器进行处理，所述处理装置包括：循环配管，使所述处理液循环；送液机构，使所述循环配管内产生所述处理液的流动；安装机构，介插在所述循环配管的流路途中，装卸自如地安装所述过滤器；以及异物去除过滤器，介插在所述循环配管的流路途中。
本申请的第二发明是根据第一发明的处理装置，其中，所述处理液是包含聚酰亚胺前驱物的清漆，所述过滤器是用于安装在所述清漆的涂覆装置中的过滤器。
本申请的第三发明是根据第一发明或第二发明的处理装置，其还包括：处理液贮存槽，介插在所述循环配管的流路途中；排液配管，一端连接于所述循环配管的流路途中；以及切换阀，配设在所述循环配管及所述排液配管的连接部位。
本申请的第四发明是根据第一发明至第三发明中任一发明的处理装置，其中，所述过滤器包括：上下延伸的壳体(housing)；以及圆筒形的滤筒(filtercartridge)，收容在所述壳体的内部，所述壳体包括：所述处理液的流入口；所述处理液的流出口，与所述滤筒的内部连通，且配置在所述壳体的下端部；以及气体排出口，配置在所述壳体的上端部。
本申请的第五发明是一种处理***，其包括：第一发明至第四发明中任一发明的处理装置；以及涂覆装置，将经由经所述处理装置处理的所述过滤器而供给的处理液涂覆至基板的表面。
本申请的第六发明是一种处理方法，用于对用来过滤高粘度处理液的过滤器进行处理，所述处理方法包括下述工序：a)在介插于循环配管的流路途中的安装机构中安装所述过滤器；以及b)在所述工序a)之后，使所述处理液在所述循环配管内循环，以将所述处理液供给至所述过滤器，在所述工序b)中，在所述循环配管的流路途中介插与所述过滤器独立的异物去除过滤器。
本申请的第七发明是根据第六发明的处理方法，其包括下述工序：c)在所述工序b)之后，从所述安装机构拆卸所述过滤器；以及d)在所述工序c)之后，将所述过滤器安装至对基板表面涂覆所述处理液的涂覆装置中。
[发明的效果]
根据本申请的第一发明至第七发明，通过在过滤器的使用开始前对过滤器进行处理，从而能够在过滤器的使用开始时，抑制异物从过滤器的脱离。尤其，因为循环使用处理液，能够抑制异物从过滤器的脱离减少之前的处理液的消耗量。而且，能够利用与安装过滤器的装置独立的装置来去除从过滤器脱离的异物，因此不需要中断安装目标装置中的处理。
附图说明
图1是表示涂覆装置的结构的概略图。
图2是涂覆装置的涂覆部的立体图。
图3是表示处理装置的结构的概略图。
图4是处理装置的安装机构及过滤器的一例的剖面图。
图5是表示处理装置中的过滤器的时效(aging)处理及涂覆装置中的过滤器的更换流程的流程图。
[符号的说明]
1：处理装置
9：涂覆装置
11：壳体
12：滤筒
13：罩
20、92：狭缝喷嘴
21：贮存槽
22：循环配管
23：送液泵
24：异物去除过滤器
25：安装机构
30：排出部
31：排出配管
32、72：排出槽
33：第一排液配管
34：第二排液配管
35、73：第一排气配管
36、74：第二排气配管
40、900：控制部
41、901：运算处理部
42、902：存储器
43、903：存储部
70：脱气部
71：脱气配管
75：减压泵
80：供给部
81：第一槽
82：第二槽
83：第一主配管
84：第二主配管
85：送液泵
90：涂覆部
91：载台
93：喷嘴保持部
94：行走机构
100：过滤器
111：流入口
112：流出口
113：排气口
120：流路
121：过滤器本体
122：上盖
210：大气开放部
211：大气开放配管
212：大气开放阀
221：第一三通阀
222：第二三通阀
251：底座部
252：流入连接部
253：流出连接部
311：排出阀
351：第一排气阀
361：第二排气阀
711：第二阀
821：搅拌机
831：第一阀
911：基板保持面
921：喷嘴主体
923：喷出口
931：架桥部
932：支撑部
933：升降机构
941：轨道
942：线性马达
S101～S108、S901～S906：步骤
W：基板
具体实施方式
以下，参照附图来说明本发明的实施方式。
＜1.关于涂覆装置的结构＞
首先，作为利用本发明的第一实施方式的过滤器100的处理装置1进行处理后，使用过滤器100的装置的一例，对涂覆装置9进行说明。图1是表示涂覆装置9的结构的概略图。图2是涂覆装置9的涂覆部90的立体图。另外，以下，为了便于说明，将涂覆装置9中的狭缝喷嘴(slit nozzle)20的移动方向称作“前后方向”，将与前后方向正交的水平方向称作“左右方向”。
如图1所示，涂覆装置9具有涂覆部90、对涂覆部90供给涂覆液(被涂覆材料)的供给部80及控制部900。所述涂覆装置9是在柔性元件(flexible device)的制造工序中，对玻璃制的载体(carrier)基板W的上表面涂覆高粘度液体即涂覆液的装置。对于涂覆液，例如可使用包含作为粘度高的流体的聚酰亚胺前驱物的清漆等熔融树脂。涂覆液的粘度例如为千～一万cP(1Pa·s～10Pa·s)左右。以下，所谓“高粘度”，表示千cP(1Pa·s)以上。
由涂覆装置9涂覆至基板W上表面的涂覆液随后固化成为薄膜。而且，在所述薄膜的表面形成电极等的图案(pattern)，并从基板W剥离所述薄膜，由此来形成柔性元件。
如图2所示，所述涂覆部90具有载台91、狭缝喷嘴92、喷嘴保持部93及行走机构94。
载台91是载置保持基板W的大致长方体状的保持台。载台91例如是由一体的石材所形成。载台91的上表面成为平坦的基板保持面911。在基板保持面911上，设有多个真空吸附孔(图示省略)。当将基板W载置于基板保持面911时，借助真空吸附孔的抽吸力，基板W的下表面吸附于基板保持面911。由此，基板W以水平姿势固定于载台91上。而且，在载台91的内部，设有多个起模针(lift pin)。当从载台91搬出基板W时，多个起模针突出至基板保持面911上。由此，从基板保持面911分离基板W。
狭缝喷嘴92是喷出涂覆液的喷嘴。狭缝喷嘴92具有在左右方向上长的喷嘴主体(nozzle body)921。在喷嘴主体921的下端部，设有沿左右方向延伸的狭缝状的喷出口923。喷出口923朝向下方。因此，当将狭缝喷嘴92配置于基板W的上方时，喷出口923朝向被载置于载台91上的基板W的上表面。当从供给部80向狭缝喷嘴92内供给涂覆液时，从喷出口923朝向基板W的上表面喷出涂覆液。
喷嘴保持部93是用于将狭缝喷嘴92保持于基板保持面911的上方的机构。喷嘴保持部93具有：架桥部931，在载台91的上方沿左右方向延伸；一对支撑部932，支撑架桥部的两端；以及升降机构933，调节架桥部931的端部的高度。当使升降机构933动作时，狭缝喷嘴92的高度得到调节。
行走机构94是用于使狭缝喷嘴92沿前后方向移动的机构。行走机构94具有一对轨道(rail)941及一对线性马达(linear motor)942。一对轨道941是在载台左右的侧部附近沿前后方向延伸。一对轨道941作为在前后方向上限制一对支撑部932的移动方向的线性导轨(linear guide)发挥功能。一对线性马达942分别使喷嘴保持部93的支撑部932相对于轨道941产生磁性动力而沿前后方向移动。
供给部80具有第一槽81、第二槽82、第一主配管83、第二主配管84、送液泵(pump)85、过滤器100、及在供给部80内去除涂覆液中的溶解气体的脱气部70。
在第一槽81中，贮存未使用的涂覆液、或者暂时使用后经再生处理的涂覆液。第一主配管83是连接第一槽81与第二槽82的配管。贮存在第一槽81中的涂覆液通过第一主配管83而供给至第二槽82。在第二槽82中，贮存经脱气处理后的涂覆液。第二主配管84是连接第二槽82与狭缝喷嘴92的配管。第二主配管84的下游侧端部朝两方向分支，分别连接于狭缝喷嘴92的两个供给口。在第二主配管84中，介插有送液泵85。当使送液泵85驱动时，在由送液泵85产生的压力下，贮存在第二槽82中的涂覆液通过第二主配管84而供给至狭缝喷嘴92。并且，所述涂覆液从狭缝喷嘴92的喷出口923喷出至基板W的上表面。
在第一主配管83中，介插有过滤器100。当从第一槽81供给的涂覆液中含有异物时，在所述过滤器100中，所述异物被去除。
脱气部70是在第一槽81与第二槽82之间，去除涂覆液中所含的溶解气体。所述涂覆装置9的脱气部70具有脱气配管71、排出槽(drain tank)72、第一排气配管73、第二排气配管74及减压泵75。
脱气配管71是用于捕集流经第一主配管83的涂覆液中所含的气泡的配管。脱气配管71的一端连接于第一主配管83的水平延伸的部分。脱气配管71从所述一端朝上方延伸。脱气配管71的另一端连接于排出槽72的上部。在第一主配管83中，在较脱气配管71的连接部位为下游侧设有第一阀(valve)831。而且，在脱气配管71中设有第二阀711。
排出槽72防止被抽吸至脱气配管71的涂覆液流入减压泵75侧。即使涂覆液过剩地流入脱气配管71，所述涂覆液也会被回收至排出槽72内，而不会流入第一排气配管73及减压泵75。
在涂覆装置9的使用时，首先，在封闭第一阀831并开放第二阀711的状态下驱动减压泵75，使涂覆液填满脱气配管71的一部分。随后，当封闭第二阀711并开放第一阀831时，将涂覆液从第一槽81供给至第二槽82。
当使减压泵75驱动时，经由第一排气配管73及第二排气配管74，脱气配管71、排出槽72及第二槽82的内部被减压而成为负压。由此，在第一主配管83内产生朝向第二槽82侧的抽吸力，并且在脱气配管71内产生朝向排出槽72侧的抽吸力。
此时，第二槽82、第一主配管83及第一排气配管73的内部成为压力比大气压低的负压状态，因此在第二槽82、第一主配管83及第一排气配管73的内部，涂覆液中的溶解气体成为气泡而上浮。在第一主配管83内产生的气泡滞留在第一主配管的上部，并流入第一排气配管73内。如上所述，滞留在排气配管73内的气泡在开放第二阀711时，被抽吸至排出槽72侧而从第一主配管83及第一排气配管73内去除。而且，如图1所示，在第二槽82内，设有搅拌机821。当搅拌机821旋转时，贮存在第二槽82内的涂覆液受到搅拌，能够使涂覆液内的气泡上浮至涂覆液的液面。第二槽82内的气泡上浮至上部空间，并经由第二排气配管74而被抽吸至减压泵75侧。
如上所述，脱气部70将供给至狭缝喷嘴92的涂覆液中所含的气泡及溶解气体去除。由此，能够抑制从狭缝喷嘴92涂覆至基板W上的涂覆液中包含气泡的现象。
在如上所述的涂覆装置9中，当使用新的过滤器100时，如前所述，在使用开始后有异物从过滤器脱离之虞。因此，当将新的过滤器100安装于涂覆装置9时，在异物的排出量减少而可无问题地使用涂覆液之前的期间，涂覆液被白白地消耗，并且不得不中断涂覆装置9中的涂覆液向基板W的涂覆处理。为了解决如上所述的问题，在处理装置1中进行过滤器100的时效处理后，再将过滤器100设置(set)于所述涂覆装置9中。
控制部900是用于对涂覆装置9内的各部进行动作控制的部件。如图1中概念性地所示，控制部900包含计算机(computer)，所述计算机具有中央处理器(CentralProcessing Unit，CPU)等运算处理部901、随机存取存储器(Random Access Memory，RAM)等存储器902以及硬盘驱动器(hard disk drive)等存储部903。控制部900与所述起模针、升降机构933、线性马达942等涂覆部90内的各部分别电连接。而且，控制部900也与送液泵85、搅拌机821、第一阀831、第二阀711、减压泵75等供给部80内的各部电连接。
控制部900将存储在存储部903中的计算机程序(computer program)或数据(data)暂时读出到存储器902中，基于所述计算机程序及数据，运算处理部901进行运算处理，由此来对涂覆装置9内的各部进行动作控制。由此来推进针对基板W的涂覆处理。
＜2.关于过滤器处理装置的结构＞
接下来，参照图3来说明本发明的一实施方式的过滤器100的处理装置1。图3是表示处理装置1的结构的概略图。本实施方式的过滤器100是用于安装在所述清漆的涂覆装置9中的过滤器。因此，在处理装置1中使用的处理液是在所述涂覆装置9中使用的涂覆液。即，在处理装置1中使用的处理液是包含聚酰亚胺前驱物的高粘度的清漆。
如图3所示，处理装置1具有贮存槽21、循环配管22、送液泵23、异物去除过滤器24、安装机构25、排出部30及控制部40。
在贮存槽21中，贮存用于过滤器100的时效处理的处理液。在处理装置1中使用的处理液，是使用与在时效处理后使用过滤器100的装置中供给至过滤器100的液体相同的液体。因此，在进行用于所述涂覆装置9的过滤器100的时效处理的情况下，对于在处理装置1中使用的处理液，是使用在涂覆装置9中所用的涂覆液。
而且，贮存槽21具有大气开放部210。大气开放部210具有大气开放配管211、及介插在大气开放配管211中的大气开放阀212。大气开放配管211的一端连接于贮存槽。而且，大气开放配管211的另一端向大气开放。借助此种结构，当大气开放阀212开放时，贮存槽21的上部空间向大气开放。
循环配管22是用于使处理液循环的配管。循环配管22的一端连接于贮存槽21的下端部。而且，循环配管22的另一端连接于贮存槽的上端部附近。在循环配管22中，从连接于贮存槽21下端部的一端侧开始，依序介插有送液泵23、异物去除过滤器24、安装过滤器100的安装机构25。
而且，在循环配管22中，介插有第一三通阀221及第二三通阀222。第一三通阀221是配置在异物去除过滤器24与安装机构25之间。即，第一三通阀221在后述的处理液的回流方向上，配置于异物去除过滤器24的下游侧且安装机构25的上游侧。第二三通阀222配置于安装机构25与贮存槽21之间。即，第二三通阀222在后述的处理液的回流方向上，配置于安装机构25的下游侧且贮存槽21的上游侧。
送液泵23是使循环配管22内产生处理液的流动的送液机构。对于送液泵23，例如优选使用隔膜泵(diaphragm pump)等在驱动时难以引起粉尘等异物的产生的泵。当送液泵23受到驱动时，贮存槽21内的处理液通过送液泵23、异物去除过滤器24及安装于安装机构25的过滤器100而回流至贮存槽21内。
异物去除过滤器24是用于去除处理液中所含的粉尘等异物的过滤器。通过异物去除过滤器24，对预先包含在投入贮存槽21内的处理液中的异物、在送液泵23及循环配管22等循环路径内产生的异物、及从过滤器100脱离的异物进行捕集。另外，在将捕集从过滤器100脱离的异物作为主要目的的情况下，异物去除过滤器24介插在循环配管22的哪个位置皆可。
在安装机构25中，可装卸地安装过滤器100。图4是安装机构25及过滤器100的一例的剖面图。如图4所示，安装机构25具有底座部251、流入连接部252及流出连接部253。流入连接部252及流出连接部253是朝向底座部251的上表面开口的开口部。流入连接部252与循环配管22的上游侧进行流路连接。流出连接部253与循环配管22的下游侧进行流路连接。
过滤器100具有壳体11、滤筒12及罩13。壳体11是外形沿上下方向延伸的圆柱型状的框体。壳体11具有收容滤筒12的内部空间。在壳体11的底部，设有对壳体11的内部空间与外部进行流路连接的流入口111及流出口112。而且，在壳体11的上部，设有用于排出滞留在壳体11上部的气体的排气口113。
当将过滤器100安装于安装机构25时，流入连接部252与流入口111相连接，流出连接部253与流出口112相连接。由此，当从循环配管22的上游侧向过滤器100供给处理液时，处理液从流入连接部252经由流入口111而流入至过滤器100内。而且，当从过滤器100的流出口112排出处理液时，处理液经由流出连接部253而流出向循环配管22的下游侧。
滤筒12具有过滤器本体121及上盖122。过滤器本体121是上下延伸的圆筒形状。过滤器本体121的内部空间成为上下延伸的流路120。过滤器本体121是由聚丙烯(polypropylene)、聚乙烯(polyethylene)等树脂纤维所形成。另外，对于过滤器本体121，也可使用树脂以外的材料。上盖122覆盖过滤器本体121的上部。由此，流路120的上端部由上盖122予以封闭。
罩13覆盖壳体11的外表面。罩13例如是由金属等刚性比壳体11高的材料所形成。罩13抑制壳体的变形。
设在壳体11底部的流入口111是配置于滤筒12的外侧。而且，设在壳体11底部的流出口112流路连接于滤筒12内部的流路120的下端部。由此，当处理液从流入口111流入壳体11内时，处理液流入滤筒12外侧的空间。随后，处理液填满至壳体11的上部为止，并且处理液从滤筒12的外侧向内侧依次通过，经过滤的处理液流入流路120内。并且，流经流路120内的处理液从流出口112排出。
在将处理液填满壳体11内部的工序中，也可从设在壳体11上部的排气口113排出聚集在壳体11上部的气体。这样，便能够将处理液填满至壳体11的最上部为止。
如上所述，图4例的过滤器100是滤筒12被胶囊(capsule)状的壳体11覆盖，连同壳体11一起装卸于装置的一体型过滤器。但是，对于过滤器100，也可使用不具有壳体，而在罩的内部仅直接装卸滤筒的类型的过滤器。
排出部30是用于排出循环配管22内的气体及处理液的机构。排出部30具有排出配管31、排出槽32、第一排液配管33、第二排液配管34、第一排气配管35及第二排气配管36。
排出配管31的上游侧端部连接于第一排液配管33、第二排液配管34、第一排气配管35及第二排气配管36各自的下游侧端部。而且，排出配管31的下游侧端部连接于排出槽32。在排出配管31中，介插有排出阀311。
第一排液配管33的上游侧端部连接于第一三通阀221，下游侧端部连接于排出配管31的上游侧端部。即，第一三通阀221是配设在循环配管22及第一排液配管33的连接部位的切换阀。第一三通阀221可切换为循环配管22的上游侧与下游侧连通的通常状态、和循环配管22的上游侧(异物去除过滤器24侧)与第一排液配管33连通的排出状态。在进行过滤器100的时效处理的期间，第一三通阀221设为通常状态。
第二排液配管34的上游侧端部连接于第二三通阀222，下游侧端部连接于排出配管31的上游侧端部。即，第二三通阀222是配设在循环配管22及第二排液配管34的连接部位的切换阀。第二三通阀222可切换为循环配管22的上游侧与下游侧连通的通常状态、和循环配管22的上游侧(安装机构25侧)与第二排液配管34连通的排出状态。在进行过滤器100的时效处理的期间，第二三通阀222设为通常状态。
第一排气配管35的上游侧端部连接于设在异物去除过滤器24上部的排气口(图示省略)，下游侧端部连接于排出配管31的上游侧端部。在第一排气配管35中，介插有第一排气阀351。当开始对异物去除过滤器24的通液时，通过开放第一排气阀351及排出阀311，能够排出滞留在异物去除过滤器24上部的气体。由此，能够向异物去除过滤器24的内部高效地填充处理液。
第二排气配管36的上游侧端部连接于安装于安装机构25的过滤器100的排气口113，下游侧端部连接于排出配管31的上游侧端部。在第二排气配管36中，介插有第二排气阀361。当开始对过滤器100的通液时，通过开放第二排气阀361及排出阀311，能够排出滞留在过滤器100上部的气体。由此，能够向过滤器100的内部高效地填充处理液。
在过滤器100的时效处理结束后，从处理装置1内排出处理液即涂覆液时，安装使安装机构25的流入连接部252与流出连接部253连通的旁通(bypass)管。并且，将第二三通阀222设为排出状态，开放排出阀311，并使送液泵23驱动。由此，能够将贮存槽21及循环配管22内的处理液经由第二排液配管34及排出配管31而排出至排出槽32。
另外，此时，也可不使用旁通管而进行处理液的排出。此时，将第一三通阀221设为排出状态，开放排出阀311，并使送液泵23驱动。由此，能够将贮存槽21及循环配管22内的处理液经由第一排液配管33及排出配管31而排出至排出槽32。
控制部40是用于对处理装置1内的各部进行动作控制的部件。如图3中概念性地所示，控制部40包含计算机，所述计算机具有CPU等运算处理部41、RAM等存储器42以及硬盘驱动器等存储部43。控制部40与所述大气开放阀212、第一三通阀221、第二三通阀222、送液泵23、排出阀311、第一排气阀351及第二排气阀361电连接。
控制部40将存储在存储部43中的计算机程序或数据暂时读出至存储器42中，基于所述计算机程序及数据，运算处理部41进行运算处理，由此来对处理装置1内的各部进行动作控制。由此来推进针对安装于安装机构25中的过滤器100的时效处理。
假设在涂覆装置9中安装新的过滤器100，并持续供给涂覆液，直至不再产生异物从过滤器100的脱离为止，则涂覆液的消耗量将变多。而且，在异物从过滤器100的脱离变得足够少之前，无法进行涂覆装置9对基板W的涂覆处理，不得不中断使用涂覆装置的制品的制造。与此相对，若使用处理装置1来进行过滤器100的时效处理，则循环使用处理液，因此处理液的消耗量只需少量，即，一开始投入贮存槽中的量。即，能够降低处理液的消耗量。而且，由于能够利用与涂覆装置9独立的装置来去除从过滤器100脱离的异物，因此不需要中断涂覆装置9中的涂覆工序。
＜3.关于过滤器的时效处理以及涂覆装置中的过滤器的更换流程＞
继而，对于在包含所述涂覆装置9及处理装置1的处理***中，进行使用处理装置1的过滤器100的时效处理、与涂覆装置9中的过滤器更换时的流程，参照图5来进行说明。图5是表示处理装置1中的过滤器100的时效处理、及涂覆装置9中的过滤器100的更换流程的流程图。
如图5所示，首先，进行涂覆装置9的驱动(步骤S901)。继而，在涂覆装置9的驱动开始后，当经过固定时间后，达到涂覆装置9中的过滤器100的更换预定时间的24小时前(步骤S902)时，开始处理装置1中的新的过滤器100的时效处理。
在时效处理中，首先，将新的过滤器100安装于处理装置1的安装机构25，并且向贮存槽21中投入处理液(涂覆装置9中所用的涂覆液)(步骤S101)。
继而，将第一三通阀221及第二三通阀222设为通常状态，并且使送液泵23驱动。由此，使处理液在循环配管22内循环，开始过滤器100的时效处理(步骤S102)。在时效处理的开始时，为了向异物去除过滤器24及过滤器100内高效地填充处理液，也可开放第一排气阀351、第二排气阀361及排出阀311，以使滞留在异物处理过滤器24及过滤器100上部的气体排出。
随后，进行时效处理直至涂覆装置9中的过滤器100的更换预定时间为止(步骤S103)。图5的示例中，将时效处理进行24小时左右。时效处理的期限根据所使用的过滤器或处理液的种类而不同，例如进行3小时～48小时。
在达到更换预定时间，且进行了规定期限的时效处理后，停止送液泵23的驱动，停止处理液的循环(步骤S104)。继而，从安装机构25拆卸进行了时效处理的过滤器100(步骤S105)。
另一方面，当达到更换预定时间时，在涂覆装置9中也停止驱动(步骤S903)。继而，从涂覆装置9中拆卸已使用的过滤器100(步骤S904)。
在进行了处理装置1中的已处理的过滤器100的拆卸、与涂覆装置9中的已使用的过滤器100的拆卸之后，将在处理装置1中经时效处理的过滤器100安装至涂覆装置9(步骤S905)。随后，再次开始涂覆装置9的驱动(步骤S906)。
在进行了时效处理的过滤器100被拆卸后，在处理装置1中进行处理液的排出(步骤S106)。具体而言，在安装机构25安装旁通流路后，将第二三通阀222设为排出状态，且开放排出阀311，并使送液泵23驱动。由此，贮存槽21及循环配管22内部的处理液被排出至排出槽32。当处理液的排出完成时，停止送液泵23。
当处理液的排出完成时，继而，向贮存槽21内投入可使处理液溶解的溶剂。继而，将第一三通阀221及第二三通阀222设为通常状态并使送液泵23驱动，由此，投入至贮存槽21内的溶剂在循环配管22内循环(步骤S107)。由此，能够将附着于贮存槽21或循环配管22的内壁的处理液溶解并去除。在处理液为所述涂覆液的情况下，对于溶剂，例如使用NMP(N-甲基-2-吡咯烷酮)。另外，对于溶剂，也可使用蒸馏水或其他的有机溶剂。
随后，将第二三通阀222设为排出状态，且开放排出阀311，并使送液泵23驱动。由此，贮存槽21及循环配管22内部的溶剂被排出至排出槽32。此时，同时将在处理液的排出工序(步骤S108)中附着于第二排液配管34及排出配管31的内壁的处理液溶解于溶剂中以予以去除。
如上所述，进行处理装置1中的过滤器100的时效处理、与涂覆装置9中的过滤器100的更换。
另外，在所述中，对涂覆装置9中的过滤器100的更换时进行了说明，但使用本发明的处理装置1来进行时效处理的过滤器100也可被用作在涂覆装置9的驱动前最初安装的过滤器100。
＜4.变形例＞
以上，对本发明的一实施方式进行了说明，但本发明并不限定于所述实施方式。
所述实施方式中，在处理装置1的安装机构25中安装一个过滤器100，但本发明并不限于此。也可为：可对一个安装机构25并列地安装多个(例如六个)过滤器100。此时，安装机构25具有从循环配管22的上游侧向各过滤器100的流入口分支的流入分支部、及从各过滤器100的流出口向循环配管22的下游侧汇流的流出汇流部。这样，便能够利用一个处理装置1来对多个过滤器100同时进行时效处理。其结果，在一个装置(例如涂覆装置)中同时使用多个过滤器100的情况下，能够对所使用的多个过滤器100同时且以同条件进行时效处理。
而且，所述实施方式的处理装置1中，仅利用送液泵23的压力来输送处理液。但是，也可与送液泵23的驱动平行地向贮存槽21内导入经加压的气体，以促进处理液的流动。
而且，所述处理装置1中所用的进行处理的过滤器100是被安装于涂覆装置9中的过滤器100，所述涂覆装置9被用于制造柔性元件的基材自身的工艺(process)中。但是，在本发明的处理装置中进行处理的过滤器也可被安装于在元件形成后的基材表面形成保护膜的涂覆装置。而且，在本发明的处理装置中进行处理的过滤器也可被安装于对贴合基板与基板时的粘合剂进行涂覆的涂覆装置。而且，在本发明的处理装置中进行处理的过滤器也可被安装于柔性元件以外的液晶显示装置或半导体基板的制造工序中所用的装置。而且，在本发明的处理装置中进行处理的过滤器也可被安装于锂离子(lithiumion)二次电池或燃料电池等电池的制造工序中所用的装置。即，本发明的处理装置尤其适合于被安装在对高粘度材料进行处理的装置中的过滤器的时效处理。
而且，处理装置的细节也可与本申请的各图中所示的结构不同。而且，也可将在所述实施方式或变形例中出现的各要素在不产生矛盾的范围内适当组合。
Claims (7)
1.一种处理装置，用于对用来过滤高粘度处理液的过滤器进行处理，所述处理装置的特征在于包括：
循环配管，使所述处理液循环；
送液机构，使所述循环配管内产生所述处理液的流动；
安装机构，介插在所述循环配管的流路途中，装卸自如地安装所述过滤器；以及
异物去除过滤器，介插在所述循环配管的流路途中。
2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，
所述处理液是包含聚酰亚胺前驱物的清漆，
所述过滤器是用于安装在所述清漆的涂覆装置中的过滤器。
3.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，还包括：
处理液贮存槽，介插在所述循环配管的流路途中；
排液配管，一端连接于所述循环配管的流路途中；以及
切换阀，配设在所述循环配管及所述排液配管的连接部位。
4.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，
所述过滤器包括：
上下延伸的壳体；以及
圆筒形的滤筒，收容在所述壳体的内部，
所述壳体包括：
所述处理液的流入口；
所述处理液的流出口，与所述滤筒的内部连通，且配置在所述壳体的下端部；以及
气体排出口，配置在所述壳体的上端部。
5.一种处理***，其特征在于，包括：
权利要求1至4中任一项所述的处理装置；以及
涂覆装置，将经由经所述处理装置处理的所述过滤器而供给的处理液涂覆至基板的表面。
6.一种处理方法，用于对用来过滤高粘度处理液的过滤器进行处理，所述处理方法的特征在于包括下述工序：
工序a)在介插于循环配管的流路途中的安装机构中安装所述过滤器；以及
工序b)在所述工序a)之后，使所述处理液在所述循环配管内循环，以将所述处理液供给至所述过滤器，
在所述工序b)中，在所述循环配管的流路途中介插与所述过滤器独立的异物去除过滤器。
7.根据权利要求6所述的处理方法，其特征在于，包括下述工序：
工序c)在所述工序b)之后，从所述安装机构拆卸所述过滤器；以及
工序d)在所述工序c)之后，将所述过滤器安装至对基板表面涂覆所述处理液的涂覆装置中。
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