CN110838262A - 盖板组件、盖板组件的制备方法及电子设备 - Google Patents

盖板组件、盖板组件的制备方法及电子设备 Download PDF

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Abstract

本申请提供了一种盖板组件,包括视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区;电致变色层,所述电致变色层设置在所述视窗区,所述电致变色层具有着色态和透明态,其中,在所述电致变色层为着色态时,所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%。通过在视窗区设置电致变色层,将盖板组件的视窗区和非视窗区的色差值和反射率值调整为基本一致,即电致变色层为着色态时,视窗区和非视窗区的颜色一致,并且有效避免了同色异谱的现象,实现盖板组件一体化视觉效果。本申请还提供了盖板组件的制备方法和电子设备。

Description

盖板组件、盖板组件的制备方法及电子设备
技术领域
本申请属于电子产品技术领域,具体涉及盖板组件、盖板组件的制备方法及电子设备。
背景技术
传统显示装置中显示屏对应设置在盖板的中央,油墨丝印在盖板的四周。在熄屏状态下,显示屏呈灰黑色,油墨丝印部分呈黑色,盖板的中央和四周存在视觉差异,影响熄屏状态时一体化视觉效果。
发明内容
鉴于此,本申请提供了一种可实现一体化视觉效果的盖板组件、盖板组件的制备方法和电子设备。
第一方面,本申请提供了一种盖板组件,包括:
视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区;
电致变色层,所述电致变色层设置在所述视窗区,所述电致变色层具有着色态和透明态,其中,在所述电致变色层为着色态时,
所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%。
第二方面,本申请提供了一种盖板组件的制备方法,包括:
提供透明盖板,所述透明盖板具有视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区;
在所述透明盖板的内表面成型电致变色层,以使所述电致变色层在所述透明盖板上的正投影完全覆盖所述视窗区;所述电致变色层具有着色态和透明态,其中,在所述电致变色层为着色态时,
所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%。
第三方面,本申请提供了一种电子设备,包括显示屏,以及设置在所述显示屏相对两侧的盖板组件和后壳,所述盖板组件包括:
视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区;
电致变色层,所述电致变色层设置在所述视窗区,所述电致变色层具有着色态和透明态,其中,在所述电致变色层为着色态时,
所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%;
所述显示屏设置在所述盖板组件的内表面一侧,所述显示屏与所述视窗区对应设置。
第四方面,本申请提供了一种电子设备,包括盖板组件和摄像头模组,所述盖板组件包括:
视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区;
电致变色层,所述电致变色层设置在所述视窗区,所述电致变色层具有着色态和透明态,其中,在所述电致变色层为着色态时,
所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%;
所述摄像头模组设置在所述盖板组件的内表面一侧,所述摄像头模组与所述视窗区对应设置。
本申请提供了一种盖板组件和盖板组件的制备方法,通过在视窗区设置电致变色层,将盖板组件的视窗区和非视窗区的色差值和反射率值调整为基本一致,即电致变色层为着色态时,盖板组件外表面整体颜色保持一致,并且有效避免了同色异谱的现象,实现盖板组件一体化视觉效果。本申请还提供电子设备,通过盖板组件与显示屏、摄像头模组配合使用,在显示屏和摄像头在无需工作时,可以通过将电致变色层调至着色态,使电子设备的外观呈现一体化的效果,提高电子设备的外观表现力。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施方式中的技术方案,下面将对本申请实施方式中所需要使用的附图进行说明。
图1为本申请一实施例的盖板组件的结构示意图。
图2为本申请另一实施例的盖板组件的结构示意图。
图3为本申请一实施例的电致变色层的结构示意图。
图4为本申请另一实施例的电致变色层的结构示意图。
图5为图1的盖板组件的反射光线示意图。
图6为本申请另一实施例的盖板组件的结构示意图。
图7为本申请另一实施例的盖板组件的结构示意图。
图8为本申请另一实施例的盖板组件的结构示意图。
图9为本申请一实施例的盖板组件的制备方法的流程示意图。
图10为本申请一实施例的电子设备的结构示意图。
图11为本申请另一实施例的电子设备的结构示意图。
图12为本申请实施例1-6的盖板组件的反射率光谱图。
附图说明:
透明盖板-10,视窗区-101,非视窗区-102,光学膜层-20,遮光层-30,电致变色层-40,第一透明导电层-41,第二透明导电层-42,电致变色材料层-43,胶框-431,容置腔-432,离子储存层-433,电解质层-434,电致变色薄膜-435,光学胶层-50,底漆层-60,增透膜-70,抗***-80,盖板组件-100,显示屏-200,后壳-300,摄像头模组-400。
具体实施方式
以下是本申请的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
请参考图1,图1为本申请一实施例的盖板组件的结构示意图,盖板组件100包括视窗区101和与视窗区101相邻接的非视窗区102;电致变色层40,电致变色层40设置在视窗区101,电致变色层40具有着色态和透明态,其中,在电致变色层40为着色态时,视窗区101与非视窗区102的色差值ΔE小于或等于4,视窗区101与非视窗区102在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%。可以理解的,入射光照射盖板组件100的外表面,并在盖板组件100的外表面产生反射光线,盖板组件100的视窗区101与非视窗区102的色差以及反射率均指从盖板组件100的外表面观察、检测的结果。通过将电致变色层40设置在视窗区101,使得电致变色层40为着色态时,视窗区101和非视窗区102的色差值ΔE小于或等于4,即视窗区101和非视窗区102颜色基本一致;同时,在同一入射光条件下,视窗区101与非视窗区102的反射率差值小于或等于10%,即视窗区101与非视窗区102的反射率光谱图基本一致,也就是说,使得视窗区101与非视窗区102有效避免了同色异谱的现象,因此,当电致变色层40为着色态时,盖板组件100的外观颜色一致,呈现一体化的视觉效果。
可以理解的,Lab颜色模型是一种设备无关的颜色模型,也是一种基于生理特征的颜色模型。Lab颜色模型由L、a和b三个要素组成。L用于表示像素的亮度,取值范围是[0,100],表示从纯黑到纯白;a表示从绿色到红色的范围,取值范围是[-128,127];b表示从蓝色到黄色的范围,取值范围是[-128,127]。每种颜色具有一个Lab值,两种颜色的差异(色差值)用ΔE表示。例如,第一种颜色的L值为L1,a值为a1,b值为b1,第二种颜色的L值为L2,a值为a2,b值为b2,则两种颜色的明度差异ΔL=│L1-L2│,红/绿差异Δa=│a1-a2│,黄/蓝差异Δb=│b1-b2│,两种颜色的色差值ΔE=(ΔL2+Δa2+Δb2)1/2。当Lab值的差异,即ΔE小于或等于4时,人眼无法明显看出两种颜色的区别。在本申请中,通过设置视窗区101与非视窗区102的色差值ΔE小于或等于4,即ΔE≤4,使得盖板组件100呈现一体化的效果。进一步的,设置视窗区101与非视窗区102的色差值ΔE小于或等于2,即ΔE≤2,使得视窗区101与非视窗区102颜色更佳一致,一体化效果更佳显著。
可以理解的,同色异谱现象简单来说就是颜色相同,而光谱组成不同。一种颜色的再现与观察颜色的光源特性有一定的关系,某两种物质在一种光源下呈现相同的颜色,但在另一种光源下,却呈现不同的颜色。反射率光谱图表示入射光波段内各波长的反射率。相同入射光线表示入射光线的入射角度、光线强度和波长相同。在本申请中,保证视窗区101和非视窗区102的颜色基本一致的同时,还需要在相同入射光条件以及同一波长下,视窗区101和非视窗区102的反射率光谱图基本一致。因此,设置视窗区101与非视窗区102在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%,使得视窗区101和非视窗区102的反射率光谱图基本一致,可以有效在不同光源下视窗区101和非视窗区102的颜色具有差异的现象,即避免了同色异谱现象,使得电致变色层40处于着色态时,盖板组件100在不同光源下视窗区101和非视窗区102的颜色仍然基本相同,没有同色异谱的现象发生,使得盖板组件100外表面呈现一体化的视觉效果。进一步的,设置视窗区与非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于8%,进一步有效避免同色异谱现象的发生。
在本申请中,盖板组件100包括视窗区101和与视窗区101相邻接的非视窗区102。可以理解的,相邻接可以为围绕设置,也可以为在一侧设置。可选的,非视窗区102围绕视窗区101设置。可选的,非视窗区102位于视窗区101的一侧。在本申请一实施例中,视窗区101包括一个或多个可视区。当视窗区101包括多个可视区时,多个可视区间隔设置。
在本申请一实施例中,盖板组件100还包括透明盖板10,透明盖板10具有相对设置的内表面和外表面,电致变色层40设置在透明盖板10的内表面。可以理解的,透明盖板10具有一定的透光性,其具体形状和尺寸没有特别限制,可以根据实际需要进行选择和设计。可选的,透明盖板10的材质包括有机高分子化合物和无机非金属材料中的至少一种,以满足不同的应用需求。例如,透明盖板10的材质为蓝宝石、塑料、玻璃和陶瓷中的至少一种。可以理解的,盖板组件100具有视窗区101和与视窗区101相邻接的非视窗区102,也就是说,透明盖板10具有视窗区101和与视窗区101相邻接的非视窗区102。可以理解的,相邻接可以为围绕设置,也可以为在一侧设置。具体的,当盖板组件100与采光器件或发光器件配合使用时,每一可视区对应一采光器件或发光器件。当盖板组件100与采光器件或发光器件配合使用时,采光器件或发光器件需要从透明盖板10的可视区收集或发射光线时,可选的,透明盖板10的光学透过率大于90%,提高光线的穿透能力,使得采光器件或发光器件更好的工作。其中,光学透过率为在380nm-780nm波段下光线的透过率。透明盖板10的光学透过率大于90%可以使光线以最大程度穿过透明盖板10,减小光散射、光吸收和光反射,保证透光量。进一步的,透明盖板10的光学透过率大于91%。在本申请中,透明盖板10的形状可以为2D形状、2.5D形状或3D形状。具体的,当透明盖板10为2.5D形状或3D形状时,可以提高盖板组件100整体的外观表现力,使盖板组件100更具有立体感。在本申请中,透明盖板10包括相背设置的内表面和外表面,其中,内表面和外表面是以透明盖板10的使用状态为参照,即在透明盖板10应用于电子设备时,朝向电子设备内部的一面为内表面,朝向电子设备外部的一面为外表面。具体的,透明盖板10可以但不限于为电子设备的面板和/或后壳。
在本申请中,盖板组件100还包括遮光层30,遮光层30位于非视窗区102。可以理解的,遮光层30界定视窗区101和非视窗区102。在本申请一实施例中,遮光层30设置在透明盖板10的内表面,用于在透明盖板10上界定视窗区101和非视窗区102。也就是说,遮光层30在透明盖板10上的正投影与非视窗区102完全重合。遮光层30的厚度不受特别限制,只要满足要求,本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择。可选的,遮光层30的厚度小于15μm。进一步的,遮光层30的厚度为5μm-12μm。可选的,遮光层30的光学透过率小于20%,以使透明盖板10形成非视窗区102。进一步的,遮光层30的光学透过率小于10%。当盖板组件100用于电子设备时,遮光层30更容易对与其对应设置的电子元器件起到遮挡作用。遮光层30的颜色不受特别限制,只要满足要求,本领域技术人员可以根据需要进行灵活选择,例如可以包括但不限于红色、橙色、灰色、黑色等。由此,可以选择任意不同的颜色,以满足不同用户的使用需求。具体的,当盖板组件100应用于手机时,遮光层30的颜色可以为灰色,也可以为黑色。在本申请一实施例中,遮光层30为油墨层,可以包括但不限于通过丝网印刷或喷墨打印形成。例如,通过将油墨丝网印刷形成遮光层30,该方法可以适用多种类型的油墨、墨层覆盖力强,不受承印物表面形状的限制及面积大小的限制,具有很大的灵活性和广泛的适用性。
在本申请中,盖板组件100还包括光学膜层20,光学膜层20设置在非视窗区102。在本申请一实施例中,光学膜层20设置在透明盖板10的内表面,光学膜层20在透明盖板10上的正投影完全覆盖非视窗区102。在本申请另一实施例中,光学膜层20设置在透明盖板10和遮光层30之间。可以理解的,光学膜层20是一种通过其界面传播光线的光学介质材料层。光学膜层20与非视窗区102对应设置,可以改变穿过光学膜层20的光线的反射、折射等,进而影响盖板组件100的非视窗区102的反射率、折射率和透过率,同时也使得透明盖板10外观呈现一定的光泽变化。进一步的,可以通过改变光学膜层20的材质、厚度等来可以改变光学膜层20的反射率、折射率和透光率,以满足不同场景下的要求。
在本申请中,光学膜层20的材质选自能够使光学膜层20具有一定光学效果的物质,具体的可以但不限于为使光学膜层20具有一定的折射率、透过率、反射率等。光学膜层20的材质可以为无机物,也可以为有机物。可选的,无机物包括金属单质、无机氧化物和无机氟化物中的至少一种。可选的,有机物包括聚醚、聚酯、氟代聚合物和含硅聚合物中的至少一种。当光学膜层20的材质为有机物时,光学膜层20柔性好,可弯曲性好,能够进行剪裁得到所需尺寸的光学膜层20。在本申请一实施例中,光学膜层20的材质包括金属单质、无机氧化物和无机氟化物中的至少一种。进一步的,无机氧化物包括金属氧化物和非金属氧化物中的至少一种。具体的,金属单质可以但不限于为铝、钇、锗等,无机氧化物可以但不限于为氧化镁、二氧化钛、五氧化三钛、二氧化硅、一氧化硅、二氧化锆、三氧化二铝、五氧化二钽、一氧化铌,无机氟化物可以但不限于为氟化镁、氟化钙等。在本申请一实施例中,光学膜层20的厚度为5nm-800nm,通过设置纳米级厚度的光学膜层20,既可为盖板组件100带来一定的光学效果,又不会影响盖板组件100的整体厚度。进一步的,光学膜层20的厚度为10nm-600nm。具体的,光学膜层20的厚度可以但不限于为10nm、50nm、100nm、220nm、390nm、470nm、560nm等。在本申请中,光学膜层20可以为单层膜结构,也可以为多层膜结构。当光学膜层20为多层膜结构时,可以通过控制每一层的材质和厚度,以及各层之间的配合,以达到所需的功能。可选的,光学膜层20由至少两种具有不同折射率的光学薄膜交替层叠形成。也就是说,光学膜层20由多个光学薄膜组成时,相邻的光学薄膜的折射率不同。进一步的,光学膜层20由至少两种具有不同折射率的薄膜周期性地交替层叠形成。多个光学薄膜的材质、厚度可以相同,可以不同。多个光学薄膜的光学性质不同,光线通过多个光学薄膜后,每个光线薄膜表面均会发生反射和折射,产生更加丰富的外观效果。可选的,光学薄膜的厚度为5nm-250nm。具体的,光学膜层20可以但不限于包括2层、3层、4层、5层或6层光学薄膜。例如,光学膜层20由三层二氧化硅光学薄膜和三层三氧化二铝光学薄膜交替层叠形成。又如,二氧化硅光学薄膜和一氧化铌光学薄膜层叠形成100nm的光学膜层。在本申请中,可以根据所需要的光学膜层20的反射率、折射率或透光率,选定光学膜层20的材质、厚度和光学薄膜层数。
请继续参阅图1,盖板组件100包括透明盖板10,透明盖板10具有视窗区101和与视窗区101相邻接的非视窗区102;光学膜层20,光学膜层20设置在透明盖板10的内表面上,光学膜层20在透明盖板10上的正投影完全覆盖非视窗区102;遮光层30,遮光层30设置在光学膜层20远离透明盖板10的表面上,遮光层30在透明盖板10上的正投影完全覆盖非视窗区102;电致变色层40,电致变色层40设置在透明盖板10的内表面,电致变色40层在透明盖板10上的正投影完全覆盖视窗区101。此时,非视窗区102的结构包括透明盖板10、光学膜层20、遮光层30和电致变色层40,由于非视窗区102由遮光层30界定,则位于遮光层30远离透明盖板10的表面上的层结构被遮光层30遮挡,其Lab值和反射率可以忽略。在考虑整体色差值和反射率时,非视窗区102需要考虑透明盖板10、光学膜层20和遮光层30的Lab值和反射率,视窗区101需要考虑透明盖板10和电致变色层40的Lab值和反射率,非视窗区102和视窗区101均具有透明盖板10,则综合考虑非视窗区102光学膜层20和遮光层30的Lab值和反射率,和视窗区101电致变色层40的Lab值和反射率即可。因此,可以通过测色仪和反射率检测仪测定电致变色层40的第二Lab值和反射率光谱,对光学膜层20和遮光层30叠加的第一Lab值和反射率光谱进行调整,更容易使视窗区101和非视窗区102的色差值ΔE和反射率相近,甚至相同,进而使得在电致变色层40为着色态时,更加容易和有效地实现盖板组件100一体化的视觉效果。在本申请一具体实施例中,先检测电致变色层40的Lab值和反射率光谱图,然后控制光学膜层20和遮光层30的材质、厚度等制备条件,以使视窗区101和非视窗区102的色差值ΔE和反射率光谱图相同,实现盖板组件100一体化的视觉效果。
请参阅图2,为本申请另一实施例的盖板组件的结构示意图,其与图1提供的盖板组件大体相同,不同之处在于,光学膜层20在透明盖板10上的正投影覆盖视窗区101。此时,对应透明盖板10的非视窗区102的结构包括光学膜层20和遮光层30,对应透明盖板10的视窗区101的结构包括光学膜层20和电致变色层40,通过检测电致变色层40的第二Lab值和反射率光谱,对光学膜层20和遮光层30叠加的第一Lab值和反射率光谱进行调整,使其基本一致,进而使得视窗区101和非视窗区102的色差值ΔE和反射率存在较小的差异,仍然可以在电致变色层40为着色态时,使得盖板组件100实现一体化的效果。可选的,光学膜层20与视窗区101对应的区域的光学透过率大于90%,有利于在盖板组件100与采光器件或发光器件配合使用时,提高穿过盖板组件100的光线强度,满足采光器件或发光器件的工作需求。进一步的,光学膜层20与视窗区101对应的区域的光学透过率大于91%。
在本申请中,电致变色层40在外加电场的作用下发生稳定、可逆的颜色变化的现象,在外观上表现为颜色和透明度的可逆变化,也就是说,电致变色层40具有透明态和着色态。请参阅图3,为本申请一实施例的电致变色层的结构示意图,电致变色层40包括第一透明导电层41、第二透明导电层42以及设置在第一透明导电层41和第二透明导电层42之间的电致变色材料层43,第一透明导电层41设置在靠近透明盖板10的电致变色材料层43的表面。具体的,第一透明导电层41和第二透明导电层42可以但不限于为氧化铟锡(ITO)薄膜、纳米银线薄膜、金属网格膜、石墨烯薄膜或导电聚合物薄膜。在本申请中,对电致变色层40以及第一透明导电层41、第二透明导电层42和电致变色材料层43的厚度不做限定,具体可以根据实际需要进行选择。可选的,电致变色材料层43的厚度小于150μm。进一步的,电致变色材料层43的厚度为10μm-120μm。具体的,电致变色材料层43的厚度可以但不限于为20μm、50μm、75μm或90μm。可选的,第一透明导电层41的厚度为70μm-150μm,第二透明导电层42的厚度为70μm-150μm。具体的,第一透明导电层41和第二透明导电层42的厚度可以但不限于为75μm、90μm、112μm或135μm。
在本申请一实施例中,请参阅图3,电致变色材料层43包括胶框431和电致变色材料溶液,胶框431设置在第一透明导电层41和第二透明导电层42之间,以使第一透明导电层41和第二透明导电层42之间形成容置腔432,电致变色材料溶液设置在容置腔432中,此时电致变色层40为溶液型电致变色层。胶框431具有绝缘性。可选的,电致变色材料溶液的溶质包括无机电致变色材料和有机电致变色材料中的至少一种。可以理解的,电致变色溶液中的溶剂可以根据需要进行选择,具体的,电致变色材料溶液中的溶剂可以包括二甲基甲酰胺、碳酸二乙酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、二甲基亚砜、水、乙腈、丙腈、苯腈、N-甲基吡咯啶酮和环丁砜中的至少一种。可选的,电致变色材料溶液的浓度为0.2mol/L-1mol/L,有利于电致变色层40更好地工作。进一步的,电致变色材料溶液中还包括电解质,电解质包括过氯酸锂、氢氧化钾、氢氧化钠和硅酸钠中的至少一种。请参阅图4,为本申请另一实施例的电致变色层的结构示意图,其与图3大体相同,不同之处在于电致变色材料层43包括依次层叠设置的离子储存层433、电解质层434和电致变色薄膜435。在本申请中,电致变色薄膜435的材质包括无机电致变色材料和有机电致变色材料中的至少一种。在本申请一实施例中,无机电致变色材料包括过渡元素的氧化物、硫化物、氯化物、氢氧化物,卤族、氧族、氮族、碱土族的氧化物、硫化物、氯化物、氢氧化物中的至少一种。其中,过渡元素包括钪副族、钛副族、铬副族、锰副族、铁系、铜副族、锌副族或铂系。具体的,无机电致变色材料可以但不限于为氯化亚铁、三氯化铁、三氯化钛、四氯化钛、氯化铋或氯化铜。在本申请一实施例中,有机电致变色材料包括有机小分子电致变色材料和导电聚合物电致变色中的至少一种。具体的,有机电致变色材料可以但不限于包括亚甲蓝、紫精化合物、二苯胺磺酸钠、聚苯胺、蒽醌、聚乙炔、聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩、聚呋喃、聚苯硫醚、聚苯乙炔中的至少一种。在本申请一具体实施例中,电致变色材料溶液包括聚苯胺和紫精,聚苯胺和紫精的浓度比为1.5:1,电致变色材料溶液浓度为0.25mol/L。
在本申请一实施例中,电致变色层40设置在遮光层30远离透明盖板10的一侧,电致变色层40在透明盖板10上的正投影完全覆盖视窗区101。即电致变色层40在透明盖板10上的正投影与视窗区101完全重合,或电致变色层40在透明盖板10上的正投影大于视窗区101。请参阅图1,其中电致变色层40在透明盖板10上的正投影大于视窗区101。此时,只需要制备能够覆盖视窗区101的电致变色层40,无需特定控制电致变色层40的尺寸,更加方便;此外,当电致变色层40为溶液型电致变色层时,需要使得容置电致变色材料溶液的容置腔432在透明盖板10上的正投影覆盖视窗区101,避免胶框431在透明盖板10上的正投影落入视窗区101,防止视窗区101内颜色不一致,有利于实现盖板组件100一体化的效果。在本申请另一实施例中,当电致变色层40中电致变色材料层43包括离子储存层433、电解质层434和电致变色薄膜435时,可以将电致变色层40在透明盖板10上的正投影设置为与视窗区101完全重合。
在本申请中,电致变色层40可以在外加电场的作用下在透明态和着色态之间可逆变化。外加电场的电压根据实际需要进行选择,例如可以但不限于为0.9V。可以理解的,通过对电致变色层40材质、厚度的选择,进而改变电致变色层40透明态和着色态的光学透过率。可选的,电致变色层40在透明态时的光学透过率大于85%,在着色态时的光学透过率小于20%。电致变色层40在透明态时光学透过率越大,使得穿过盖板组件100的光线越多,有利于盖板组件100的应用。进一步的,电致变色层40在透明态时的光学透过率大于85.5%。具体的,电致变色层40在透明态时的光学透过率可以但不限于为86%-88%。电致变色层40在着色态时的光学透过率越小,在盖板组件100用于电子设备中时,对电子设备内部的电子元器件的遮盖力越强。具体的,电致变色层40在着色态时的光学透过率小于18%。具体的,电致变色层40在着色态时的光学透过率可以但不限于为11%-16%。
请参阅图5,为图1的盖板组件100的反射光线示意图,其中,盖板组件100包括透明盖板10、光学膜层20、遮光层30和电致变色层40,可以看出在非视窗区102的反射光线包括反射光线1、反射光线2和反射光线3,视窗区101的反射光线包括反射光线1和反射光线4,因此,将光学膜层20和遮光层30叠加的第一反射率设置与电致变色层40在着色态时的第二反射率的差值小于或等于10%,使得两者的反射率光谱图基本一致,即可使得视窗区101和非视窗区102的反射率光谱图基本一致,可以有效防止光学膜层20和遮光层30复合层与电致变色层40在不同光源下颜色具有差异的现象,即避免了同色异谱现象,使得电致变色层40处于着色态时,盖板组件100在不同光源下视窗区101和非视窗区102的颜色仍然基本相同,没有同色异谱的现象发生,使得盖板组件100外表面呈现一体化的视觉效果。进一步的,将光学膜层20和遮光层30叠加的第一反射率设置与电致变色层40在着色态时的第二反射率的差值小于或等于8%。同时,通过将光学膜层20和遮光层30叠加的第一Lab值设置与电致变色层40在着色态时的第二Lab值的色差值小于或等于4,即ΔE≤4,使得光学膜层20和遮光层30叠加后的颜色与着色态的电致变色层40颜色基本一致,无法明显看出区别,有利于实现盖板组件100一体化的效果。进一步的,将光学膜层20和遮光层30叠加的第一Lab值设置与电致变色层40在着色态时的第二Lab值的色差值小于或等于2,即ΔE≤2,使得光学膜层20和遮光层30叠加后的颜色与着色态的电致变色层40颜色几乎一致,使得一体化效果更佳显著。在本申请中,通过在视窗区101对应的位置设置电致变色层40,并检测电致变色层40在着色态的第二Lab值和反射率光谱图,再控制光学膜层20的材质和厚度,以及遮光层30的材质和厚度,以使得光学膜层20和遮光层30叠加的第一Lab值与第二Lab值基本一致,使得视窗区101和非视窗区102的颜色基本一致;同时,还要在相同入射光条件以及同一波长下,光学膜层20和遮光层30叠加的第一反射率设置与电致变色层40在着色态时的第二反射率基本一致,实现视窗区101和非视窗区102的Lab值和反射率光谱图基本一致,有利于实现盖板组件100一体化的外观效果。可以理解的,通过控制Lab值,可以实现盖板组件100一体黑、一体灰等效果,具体可以根据实际需要进行选择和设置。可以理解的,光学膜层20和遮光层30叠加的第一Lab值可以根据现有的颜色叠加算法计算得到,光学膜层20和遮光层30叠加的第一反射率可以根据现有的多层结构反射率叠加算法计算得到,对此不做限定。
请继续参阅图1,其中,盖板组件100还包括光学胶层50,光学胶层50设置在透明盖板10和电致变色层40之间,用于连接透明盖板10和电致变色层40。在本申请中,光学胶层50在透明盖板10上的正投影覆盖视窗区101。光学胶层50可以通过涂覆光学胶(OCA)或光学液态胶(OCR),经固化制得。OCA和OCR是用于胶结光学元件的胶粘剂,一般具有无色透明、光透过率在90%以上、胶结强度良好,可在室温或中温下固化,且有固化收缩小等特点。在本申请一实施例中,光学胶层50在透明盖板10上的正投影与遮光层30在透明盖板10上的正投影至少部分重合,也就是说,光学胶层50部分设置在视窗区101对应的透明盖板10的内表面上,部分设置在遮光层30远离透明盖板10的表面,进而更好地连接电致变色层40。此时,电致变色层40在透明盖板10上的正投影与视窗区101完全重合,或电致变色层40在透明盖板10上的正投影大于视窗区101。当电致变色层40在透明盖板10上的正投影大于视窗区101时,电致变色层40在透明盖板10上的正投影可以完全重叠、包含,或落入光学胶层50在透明盖板10上的正投影。请参阅图2,其中,光学胶层50在透明盖板10上的正投影与视窗区101完全重合,光学胶层50远离透明盖板10的表面与遮光层30远离透明盖板10的表面齐平。此时,仅将光学胶层50设置在视窗区101对应的透明盖板10的内表面,有利于在涂覆时控制光学胶或光学液态胶,防止光学胶或光学液态胶在固化之前流动至其他层结构中,影响盖板组件100整体质量。在本申请中,光学胶层50的厚度可以根据实际需要进行选择。可选的,光学胶层50的厚度为6μm-15μm。当盖板组件100具有光学胶层50时,由于光学胶层50为无色透明状,且光学胶层50对整体视窗区101的反射率光谱图不产生明显影响,因此,仍然能够实现盖板组件100一体化的视觉效果。
请参阅图6,为本申请另一实施例提供的盖板组件的结构示意图,其与图1中的盖板组件大体一致,不同之处在于,还包括底漆层60,底漆层60设置在遮光层30远离透明盖板10的表面,底漆层60的表面张力大于36mN/m。此时,底漆层60具有较高的表面张力,即具有较高的达因值,可以在盖板组件100用于电子设备中时,有利于盖板组件100与其他层结构之间的连接。具体的,可以但不限于为有利于背胶和盖板组件100的连接。进一步的,底漆层60的表面张力大于40mN/m。可选的,底漆层60的厚度小于遮光层30的厚度。可选的,将哑光油墨涂覆至遮光层30远离透明盖板10的表面,固化形成底漆层60。
请参阅图7,为本申请另一实施例提供的盖板组件的结构示意图,其与图1的盖板组件大体一致,不同之处在于,还包括增透膜70,增透膜70设置在视窗区101。在一实施例中,增透膜70设置在透明盖板10的外表面,增透膜70在透明盖板10上的正投影覆盖视窗区101。增透膜70是利用光的干涉原理,在膜的前表面与后表面反射的光发生干涉,从而通过改变反射区的光强改变透射区的光强,以提高视窗区101的光学透过率。可选的,增透膜70完全覆盖透明盖板10的外表面。在本申请中,增透膜70的材质与光学膜层20的材质、制备方法的选择范围相同。可选的,增透膜70由至少两种具有不同折射率的光学薄膜交替层叠形成。在本申请一实施例中,增透膜70的厚度为100nm-800nm,具体可以根据实际需要选择。可选的,增透膜70的光学透过率大于93%,有利于光线透过。进一步的增透膜70的光学透过率大于94.5%,进一步有利于光线透过。在本申请中,可以通过控制增透膜70的材质、厚度,制备所需透过率的增透膜70。
请参阅图8,为本申请另一实施例提供的盖板组件的结构示意图,其与图1的盖板组件大体一致,不同之处在于,还包括抗***80,抗***80覆盖透明盖板10的外表面。抗***80具有防污、防指纹附着的作用,抗***80覆盖透明盖板10的外表面,防止指纹或各种污染物附着在透明盖板10的表面。可选的,抗***80完全覆盖透明盖板10的外表面。具体的,抗***80表面的接触角可以但不限于为大于105°,有利于提高防指纹、污染物附着表面的能力。可选的,防指纹层60的光学透过率大于90%,不影响光线的穿过。具体的,抗***80的厚度可以但不限于为5nm-20nm。
本申请还提供了一种盖板组件的制备方法,该制备方法制备上述任一实施例的盖板组件100。请参阅图9,图9为本申请一实施例的盖板组件的制备方法的流程示意图,包括如下步骤:
S110:提供透明盖板,所述透明盖板具有视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区。
在S110中,透明盖板10具有一定的透光性,对其形状、尺寸、材质等不做限制,根据实际需要进行选择。在一实施例中,透明盖板10的光学透过率大于90%,提高穿过透明盖板10的光量,有利于盖板组件100的应用。在一实施例中,可以在透明盖板10的内表面丝印图案、文字等,具体的,可以丝印商标图案(Logo)等,提高盖板组件100的视觉效果。
S120:在所述透明盖板的内表面成型电致变色层,以使所述电致变色层在所述透明盖板上的正投影完全覆盖所述视窗区,得到盖板组件,所述电致变色层具有着色态和透明态,在所述电致变色层为着色态时,所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%。
在S120中,电致变色层40包括第一透明导电层41、第二透明导电层42以及设置在第一透明导电层41和第二透明导电层42之间的电致变色材料层43。在一实施例中,通过在第一透明导电层41靠近第二透明导电层42的表面边缘设置胶框431,以使第一透明导电层41和第二透明导电层42之间可以形成容置腔432,将电致变色材料溶液封装于容置腔432中,得到溶液型电致变色层。在另一实施例中,通过在第一透明导电层41上依次层叠设置离子储存层433、电解质层434、电致变色薄膜435和第二透明导电层42,形成电致变色层40。在外加电场的作用下,各层之间发生离子迁移,进而使电致变色层40实现着色态和透明态的可逆变化。具体的,离子储存层433可以直接成型后与第一透明导电层41贴合设置,或将离子储存层433材料直接沉积在第一透明导电层41,形成离子储存层433。离子储存层433材料的具体类型不受特别限制,可以根据实际需求进行选择。在一实施例中,离子储存层433的厚度为纳米级别。可选的,离子储存层433的厚度为200nm-800nm。在一实施例中,电解质层434通过涂覆凝胶状电解质,经固化形成。具体的,凝胶状电解质可以但不限于为有机锂离子凝胶。可选的,固化温度为50℃-200℃。凝胶状电解质与液态电解质相比具有更好的稳定性,可以避免漏液、鼓泡等不良现场的发生,提高电致变色层40的使用寿命。在一实施例中,通过磁控溅射、电化学沉积、旋涂或喷涂电致变色材料以形成电致变色层40。在一实施例中,在透明盖板10的内表面成型电致变色层40之前还包括:在透明盖板10的内表面涂覆光学胶,经固化形成光学胶层50,以连接透明盖板10和电致变色层40,提高电致变色层40与盖板组件100之间的结合力。可选的,光学胶为紫外光固化胶。具体的,可以但不限于为在累计光量3000-4500mJ/cm2下固化成膜。
在本申请中,通过设置电致变色层40,进而调节视窗区101和非视窗区102的色差值和反射率光谱相近,甚至相同,可以实现盖板组件100一体化的视觉效果。
在本申请另一实施例中,盖板组件100的制备方法还包括:在透明盖板10的内表面上成型遮光层30,用于在透明盖板10上界定视窗区101和非视窗区102。其中可以但不限于通过丝网印刷或喷墨打印后固化形成遮光层30。可选的,固化为在100℃-150℃处理30min-60min。具体的,通过丝印亮光黑色油墨,固化形成遮光层30。在一实施例中,成型遮光层30后,对遮光层30进行镂空处理,可以但不限于为刻蚀、镭雕等,以界定出视窗区101。可以理解的,可以在对遮光层30进行镂空处理后,再对光学膜层20进行退镀处理,以保证视窗区101的透光量。
在本申请另一实施例中,盖板组件100的制备方法还包括:将哑光油墨涂覆至遮光层30远离透明盖板10的表面,固化形成底漆层60,其中,底漆层60的表面张力大于36mN/m。在遮光层30远离透明盖板10的表面成型底漆层60,其中底漆层60具有优异的表面张力,即具有较高的达因值,可以在盖板组件100用于电子设备中时,有利于盖板组件100与其他层结构之间的连接。具体的,可以但不限于为有利于背胶和盖板组件100的连接。
在本申请另一实施例中,盖板组件100的制备方法还包括:在透明盖板10的内表面成型光学膜层20,以使光学膜层20在透明盖板10上的正投影完全覆盖非视窗区102。其中,光学膜层20的材质选自能够使光学膜层20具有一定光学效果的物质,具体的可以但不限于为使光学膜层20具有一定的折射率、透过率、反射率等。光学膜层20可以为单层膜结构,也可以为多层膜结构。可选的,光学膜层20由至少两种具有不同折射率的光学薄膜交替层叠形成。在一实施例中,光学膜层20可以通过真空蒸镀、磁控溅射、离子镀、电镀、涂覆法、流延法或热塑法制备得到。可选的,在透明盖板10的内表面直接沉积、电镀、涂覆或流延以形成光学膜层20。可选的,在衬底上沉积、电镀、涂覆或流延形成光学膜层20后剥离,并将光学膜层20与透明盖板10的内表面贴合设置。在一实施例中,光学膜层20通过不导电电镀工艺制备得到。在另一实施例中光学膜层20通过真空蒸镀制备得到。可选的,真空蒸镀在气压10- 4Pa-10-2Pa,温度50℃-300℃下进行。具体的,可以根据蒸镀材质、透明盖板10的性质进行选择。在本申请中,光学膜层20在透明盖板10上的正投影覆盖非视窗区102和视窗区101时,在透明盖板10的内表面成型光学膜层20后无需其他操作。光学膜层20在透明盖板10上的正投影与非视窗区102完全重合时,在透明盖板10的内表面成型光学膜层20后,需要对光学膜层20进行退镀处理,以去除对应视窗区101的部分。具体的,退镀处理可以但不限于为刻蚀、激光雕刻。具体的,可以但不限于通过质量分数为5%-15%的五水偏硅酸钠和质量分数为1%-5%的十二烷基苯磺酸钠的溶液进行退镀处理。可选的,退镀处理的温度为50℃-75℃,时间为10min-20min。在另一实施例中,盖板组件100的制备方法还包括:在光学膜层20远离透明盖板10的表面上成型遮光层30,以使遮光层30在透明盖板10上的正投影完全覆盖非视窗区102。
在本申请另一实施例中,盖板组件100的制备方法还包括:在透明盖板10的外表面成型增透膜70,增透膜70在透明盖板10上的正投影覆盖视窗区101。通过在对应视窗区101的透明盖板10外表面设置增透膜70,以提高穿过透明盖板10的光量,有利于盖板组件100应用于电子设备时,提高进入电子设备内的光量,以满足电子设备工作需要。具体的,可以将增透膜70直接与透明盖板10外表面贴合设置,或通过沉积、涂覆等方式在透明盖板10上成型增透膜70。
在本申请另一实施例中,盖板组件100的制备方法还包括:在透明盖板10的外表面成型抗***80,抗***80覆盖透明盖板10的外表面。抗***80具有防污、防指纹附着的作用,可以防止指纹或各种污染物附着在透明盖板10的表面。具体的,可以将抗***80直接与透明盖板10外表面贴合设置,或通过沉积、涂覆等方式在透明盖板10上成型抗***80。
本申请还提供了一种电子设备,包括上述任一实施例的盖板组件100。其中,电子设备中包含采光器件和/或发光器件,采光器件和/或发光器件设置在盖板组件100的内表面,且与视窗区对应设置。在采光器件和/或发光器件的工作时,将电致变色层40调至透明态,以允许光线穿过盖板组件100,使采光器件和/或发光器件正常工作;在采光器件和/或发光器件的无需工作时,将电致变色层40调至着色态,使得透明盖板10的视窗区101和非视窗区102颜色一致,且不存在同色异谱的现象,实现盖板组件100一体化的视觉效果,进而对采光器件和/或发光器件产生遮挡作用,使得电子设备具有一体化的视觉效果。具体的,可以在制备盖板组件100时,通过控制着色态的电致变色层40的颜色,如黑色、灰色等,以实现一体黑、一体灰等一体化效果,可实现用于不同场景、不同需求下的一体化视觉效果。
可以理解的,电子设备可以但不限于为手机、平板电脑、笔记本电脑、手表、MP3、MP4、GPS导航仪、数码相机等。下面以手机为例进行说明。
请参阅图10,图10为本申请一实施例的电子设备的结构示意图,电子设备包括显示屏200,以及设置在所述显示屏200相对两侧的盖板组件和后壳300,盖板组件为上述任一实施例中的盖板组件100,显示屏200设置在盖板组件100的内表面一侧,且与视窗区101对应设置。当显示屏200工作时,同时将电致变色层40调至透明态,以允许光线穿过盖板组件100,保证显示屏200的正常工作;当熄屏时,同时将电致变色层40调至着色态,对熄屏状态的显示屏200进行遮挡,使得透明盖板10的视窗区101和非视窗区102颜色一致,盖板组件100呈现一体化的视觉效果,使得电子设备具有更好的外观表现力。
请参阅图11,图11为本申请另一实施例的电子设备的结构示意图,电子设备包括盖板组件和摄像头模组400,盖板组件为上述任一实施例中的盖板组件100,摄像头模组400设置在盖板组件100的内表面一侧,且与视窗区101对应设置。当摄像头模组400工作时,同时将电致变色层40调至透明态,以允许光线穿过盖板组件100,保证摄像头模组400的正常工作;当摄像头模组400无需工作时,同时将电致变色层40调至着色态,对摄像头模组400进行遮挡,使得透明盖板10的视窗区101和非视窗区102颜色一致,盖板组件100呈现一体化的视觉效果,使得电子设备具有更好的外观表现力。
可以理解的,电子设备可以同时包括显示屏200和摄像头模组400,显示屏200和摄像头模组400中的至少一个与视窗区101对应设置。同时,电子设备还可以包括其他采光器件和/或发光器件,例如光线传感器等,也可以与视窗区101对应设置,进一步提高电子设备的一体化视觉效果。
实施例1
提供包括聚苯胺和紫精的电致变色材料溶液,其中,聚苯胺和紫精的浓度比为1.5:1,电致变色材料溶液浓度为0.25mol/L。提供0.15mm的第一透明导电基板和第二透明导电基板,通过胶框将电致变色材料溶液封装在第一透明导电基板和第二透明导电基板之间,其中,电致变色层的厚度为50μm。在0.9V外加电场下时电致变色层由透明态转变为着色态,着色态的电致变色层的光学透过率为11%-16%,透明态的电致变色层的光学透过率为86%-88%。
提供透明玻璃,根据电致变色层的性质,选择光学膜、遮光层的材质和厚度。在透明玻璃上蒸镀厚度在8nm-12nm的NbO层,作为光学膜层,在NbO层上丝印油墨,形成遮光层,对遮光层和NbO层进行镭雕处理,以界定透明玻璃的视窗区和非视窗区。
通过光学胶层,将电致变色层对应透明玻璃的视窗区对应设置,得到盖板组件。
实施例2
提供与实施例1相同的电致变色层。
提供透明玻璃,根据电致变色层的性质,选择与实施例1不同组成的油墨。在透明玻璃上蒸镀厚度为8nm-12nm的NbO层,作为光学膜层,在NbO层上丝印油墨,形成遮光层,对遮光层和NbO层进行镭雕处理,以界定透明玻璃的视窗区和非视窗区。
通过光学胶层,将电致变色层对应透明玻璃的视窗区对应设置,得到盖板组件。
实施例3
提供与实施例1相同的电致变色层。
提供透明玻璃,在透明玻璃上蒸镀厚度为10nm-20nm的NbO层,作为光学膜层。选择与实施例1相同的油墨,在NbO层上丝印油墨,形成遮光层,对遮光层和NbO层进行镭雕处理,以界定透明玻璃的视窗区和非视窗区。
通过光学胶层,将电致变色层对应透明玻璃的视窗区对应设置,得到盖板组件。
实施例4
提供与实施例1相同的电致变色层。
提供透明玻璃,在透明玻璃上蒸镀厚度为10nm-20nm的NbO层,作为光学膜层。选择与实施例2相同的油墨,在NbO层上丝印油墨,形成遮光层,对遮光层和NbO层进行镭雕处理,以界定透明玻璃的视窗区和非视窗区。
通过光学胶层,将电致变色层对应透明玻璃的视窗区对应设置,得到盖板组件。
实施例5
提供与实施例1相同的电致变色层。
提供透明玻璃,在透明玻璃上蒸镀厚度为80nm-120nm的光学膜层,该光学膜层由SiO2层和NbO层交替堆叠形成。选择与实施例1相同的油墨,在光学膜层上丝印油墨,形成遮光层,对遮光层和光学膜层进行镭雕处理,以界定透明玻璃的视窗区和非视窗区。
通过光学胶层,将电致变色层对应透明玻璃的视窗区对应设置,得到盖板组件。
实施例6
提供与实施例1相同的电致变色层。
提供透明玻璃,在透明玻璃上蒸镀厚度为250nm-350nm的光学膜层,该光学膜层由SiO2层和NbO层交替堆叠形成,且与实施例6和实施例7中的光学膜层折射率不同,以降低600nm以上波段的反射率。选择与实施例1相同的油墨,在光学膜层上丝印油墨,形成遮光层,对遮光层和光学膜层进行镭雕处理,以界定透明玻璃的视窗区和非视窗区。
通过光学胶层,将电致变色层对应透明玻璃的视窗区对应设置,得到盖板组件。
将实施例1-6中的电致变色层调至着色态,利用d/8°测色仪在SCE模式下对实施例1-6中的视窗区和非视窗区的Lab值进行检测,并计算色差值ΔE,结果如表1所示,其中,实施例1-6的视窗区的Lab值一致。同时,检测实施例1-6中的视窗区和非视窗区的反射率,绘制反射率光谱图,结果如图12所示,其中,实施例1-6的视窗区的反射率光谱图一致,图标“视窗区”表示实施例1-6的视窗区的反射率光谱图,其余图标均表示对应实施例的非视窗区的反射率光谱图。
表1实施例1-6的盖板组件的视窗区和非视窗区的Lab值
Figure BDA0002275327690000201
从表1和图12可以看出,通过本申请所描述的方式制得的盖板组件,在电致变色层处于着色态时,视窗区和非视窗区的Lab值相差不大,ΔE≤4,可以实现视窗区和非视窗区颜色一致,并且反射率光谱图差别较小,可以有效避免同色异谱现象,实现一体化的视觉效果。
以上对本申请实施方式所提供的内容进行了详细介绍,本文对本申请的原理及实施方式进行了阐述与说明,以上说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本申请的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (15)

1.一种盖板组件,其特征在于,包括:
视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区;
电致变色层,所述电致变色层设置在所述视窗区,所述电致变色层具有着色态和透明态,其中,在所述电致变色层为着色态时,
所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%。
2.如权利要求1所述的盖板组件,其特征在于,还包括透明盖板,所述透明盖板具有相对设置的内表面和外表面,所述电致变色层设置在所述透明盖板的内表面。
3.如权利要求2所述的盖板组件,其特征在于,还包括光学胶层,所述光学胶层设置在所述透明盖板和所述电致变色层之间,用于连接所述透明盖板和所述电致变色层。
4.如权利要求2所述的盖板组件,其特征在于,还包括遮光层,所述遮光层设置在所述透明盖板的内表面,用于在所述透明盖板上界定所述视窗区和所述非视窗区。
5.如权利要求4所述的盖板组件,其特征在于,还包括光学膜层,所述光学膜层设置在所述透明盖板和所述遮光层之间,所述光学膜层在所述透明盖板上的正投影完全覆盖所述非视窗区。
6.如权利要求5所述的盖板组件,其特征在于,所述光学膜层在所述透明盖板上的正投影与所述非视窗区完全重合,或
所述光学膜层在所述透明盖板上的正投影覆盖所述视窗区,所述光学膜层与所述视窗区对应的区域的光学透过率大于90%。
7.如权利要求5所述的盖板组件,其特征在于,所述光学膜层由至少两种具有不同折射率的光学薄膜交替层叠形成,所述光学薄膜的材质包括金属单质、无机氧化物和无机氟化物中的至少一种。
8.如权利要求4所述的盖板组件,其特征在于,还包括底漆层,所述底漆层设置在所述遮光层远离所述透明盖板的表面,所述底漆层的表面张力大于36mN/m。
9.如权利要求2所述的盖板组件,其特征在于,还包括增透膜,所述增透膜设置在所述透明盖板的外表面。
10.如权利要求2所述的盖板组件,其特征在于,还包括抗***,所述抗***覆盖所述透明盖板的外表面。
11.如权利要求1所述的盖板组件,其特征在于,所述电致变色层包括第一透明导电层、第二透明导电层以及设置在所述第一透明导电层和所述第二透明导电层之间的电致变色材料层。
12.如权利要求11所述的盖板组件,其特征在于,所述电致变色材料层包括胶框和电致变色材料溶液,所述胶框设置在所述第一透明导电层和所述第二透明导电层之间,以使所述第一透明导电层和所述第二透明导电层之间形成容置腔,所述电致变色材料溶液设置在所述容置腔中,或所述电致变色材料层包括依次层叠设置的离子储存层、电解质层和电致变色薄膜。
13.一种盖板组件的制备方法,其特征在于,包括:
提供透明盖板,所述透明盖板具有视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区;
在所述透明盖板的内表面成型电致变色层,以使所述电致变色层在所述透明盖板上的正投影完全覆盖所述视窗区,得到盖板组件,所述电致变色层具有着色态和透明态,在所述电致变色层为着色态时,
所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%。
14.一种电子设备,其特征在于,包括显示屏,以及设置在所述显示屏相对两侧的盖板组件和后壳,所述盖板组件包括:
视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区;
电致变色层,所述电致变色层设置在所述视窗区,所述电致变色层具有着色态和透明态,其中,在所述电致变色层为着色态时,
所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%;
所述显示屏设置在所述盖板组件的内表面一侧,所述显示屏与所述视窗区对应设置。
15.一种电子设备,其特征在于,包括盖板组件和摄像头模组,所述盖板组件包括:
视窗区和与所述视窗区相邻接的非视窗区;
电致变色层,所述电致变色层设置在所述视窗区,所述电致变色层具有着色态和透明态,其中,在所述电致变色层为着色态时,
所述视窗区与所述非视窗区的色差值ΔE小于或等于4,所述视窗区与所述非视窗区在相同入射光条件的反射率差值小于或等于10%;
所述摄像头模组设置在所述盖板组件的内表面一侧,所述摄像头模组与所述视窗区对应设置。
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