CN110518147B - 显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开是关于一种显示面板及其制造方法以及显示装置，该显示面板包括：基板、隔离柱、钝化层与显示层。基板包括开孔区、围绕开孔区的过渡区以及围绕所述过渡区的显示区；隔离柱设于所述过渡区，所述隔离柱的侧壁向内凹陷形成有凹陷部；钝化层至少覆盖所述隔离柱，且随形覆盖在所述隔离柱上，所述钝化层覆盖所述凹陷部；显示层覆盖所述过渡区和所述显示区，所述显示层包括发光层，所述发光层在所述隔离柱的凹陷部间断设置。本公开提供的显示面板，能够确保隔离柱截断水氧入侵通道有效性，提高显示面板的封装良率。

Description

显示面板及其制造方法、显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板及其制造方法以及显示装置。

背景技术

随着用户的对产品要求的日益增长以及行业内激烈的竞争环境，大部分手机厂商都在追求更高的屏幕屏占比，以期给用户带来更炫的视觉冲击，赢得市场竞争。但是，对于摄像头及一些感应器来说，却限制着屏幕往更高的屏占比发展，将摄像头及一些感应器放于屏内正备受业内的高度关注。

在将摄像头等一些感应器放置于屏内时，需要在屏幕上进行开孔，而在屏幕上开孔容易使公共发光材料层形成水氧入侵通道。目前，主要是通过隔离柱设计，来实现对公共发光材料层的阻断作用，进而截断水氧入侵通道，防止封装不良产生。

但是，目前这种隔离柱，通常会出现阻断失效的现象，即对公共发光材料层的阻断作用失效，导致水氧入侵。

需要说明的是，在上述背景技术部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本公开的目的在于提供一种能够确保隔离柱截断水氧入侵通道有效性的显示面板及其制造方法以及显示装置。

根据本公开的一个方面，提供了一种显示面板，该显示面板包括：

基板，包括开孔区、围绕开孔区的过渡区以及围绕所述过渡区的显示区；

隔离柱，设于所述过渡区，所述隔离柱的侧壁向内凹陷形成有凹陷部；

钝化层，至少覆盖所述隔离柱，且随形覆盖在所述隔离柱上，所述钝化层覆盖所述凹陷部；

显示层，覆盖所述过渡区和所述显示区，所述显示层包括发光层，所述发光层在所述隔离柱的凹陷部间断设置。

在本公开的一种示例性实施例中，所述隔离柱包括向远离所述基板的方向依次层叠的第一金属层、第二金属层和第三金属层，第三金属层的外缘伸出所述第二金属层的侧壁形成所述凹陷部。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第一金属的外缘伸出所述第二金属层的侧壁，所述第一金属层、所述第三金属层与所述侧壁配合形成所述凹陷部。

在本公开的一种示例性实施例中，所述第一金属层与第三金属层的材料包括Ti，所述第二金属层的材料包括Al。

在本公开的一种示例性实施例中，所述凹陷部在所述隔离柱径向上的宽度为1μm～1.5μm。

在本公开的一种示例性实施例中，所述隔离柱设有多个，且多个所述隔离柱间隔分布。

根据本公开的另一个方面，提供了一种包括上述任一实施例提供的的显示面板。

根据本公开的又一个方面，提供了一种显示面板的制造方法，该制造方法包括：

形成一基板，所述显示基板包括开孔区、围绕开孔区的过渡区以及围绕所述过渡区的显示区；

在所述过渡区上形成隔离柱，所述隔离柱的侧壁向内凹陷形成有凹陷部；

至少在所述隔离柱上形成钝化层，所述钝化层随形覆盖在所述隔离柱上；

在所述过渡区和所述显示区上形成显示层，所述显示层包括发光层，所述发光层在所述隔离柱的凹陷部间断设置。

在本公开的一种示例性实施例中，在所述过渡区上形成隔离柱，包括：

在所述过渡区上向远离所述基板的方向依次层叠形成第一金属层、第二金属层和第三金属层；

对所述二金属层进行侧蚀，形成所述凹陷部。

在本公开的一种示例性实施例中，所述凹陷部在所述隔离柱径向上的宽度为1μm～1.5μm。

本公开的提供的显示面板，基板的过渡区上设有隔离柱，隔离柱的侧壁形成有阻断发光层的凹槽，钝化层随形覆盖在隔离柱上，能够在隔离柱的凹陷部出对隔离柱侧壁悬空的部分形成支撑作用，保护隔离柱结构，避免隔离柱在凹陷部悬空的部分下沉而导致隔离柱阻断发光层的作用，进而确保隔离柱截断水氧入侵通道的有效性，能够提高显示面板的封装良率。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本公开的一种实施例提供的显示面板的示意图；

图2为本公开的一种实施例提供的隔离柱的示意图。

图3为本公开的一种实施例提供的显示面板制造方法的流程图；

图4为图3中步骤S200的详细流程图。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本公开将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本公开的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本公开的技术方案而省略所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知技术方案以避免喧宾夺主而使得本公开的各方面变得模糊。

此外，附图仅为本公开的示意性图解，并非一定是按比例绘制。图中相同的附图标记表示相同或类似的部分，因而将省略对它们的重复描述。附图中所示的一些方框图是功能实体，不一定必须与物理或逻辑上独立的实体相对应。可以采用软件形式来实现这些功能实体，或在一个或多个硬件模块或集成电路中实现这些功能实体，或在不同网络和/或处理器装置和/或微控制器装置中实现这些功能实体。

用语“一个”、“一”、“该”和“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等；用语“第一”、“第二”、“第三”等仅作为标记使用，不是对其对象的数量限制。

申请人发现，隔离柱主要通过侧蚀工艺使形成侧凹形貌，并通过顶部较宽的部分来阻断发光材料。但是，隔离柱侧蚀完成后形成的隔离柱结构，侧凹部上空的部分处于悬空状态，由于形成侧凹形貌后上空悬空部分的厚度较薄(300A)，在后续工艺中易发生部分脱落，进而导致此处对发光材料层隔离失效，从而导致发生水氧入侵。

本示例实施方式中首先提供了一种显示面板，如图1和图2所示，显示面板包括：基板10、隔离柱20、钝化层(PVX)30与显示层。基板10包括开孔区、围绕开孔区的过渡区以及围绕过渡区的显示区；隔离柱20设于过渡区，隔离柱20的侧壁向内凹陷形成有凹陷部；钝化层30至少覆盖隔离柱20，且随形覆盖在隔离柱20上，钝化层30覆盖凹陷部；显示层覆盖过渡区和显示区，显示层包括发光层40，发光层40在隔离柱20的凹陷部间断设置。

本公开的提供的显示面板，基板10的过渡区上设有隔离柱20，隔离柱20的侧壁形成有阻断发光层40的凹槽，钝化层30随形覆盖在隔离柱20上，能够在隔离柱20的凹陷部出对隔离柱20侧壁悬空的部分形成支撑作用，保护隔离柱20结构，避免隔离柱20在凹陷部悬空的部分下沉而导致隔离柱20阻断发光层40的作用，进而确保隔离柱20截断水氧入侵通道的有效性，能够提高显示面板的封装良率。

如图2所示，隔离柱20包括向远离基板10的方向依次层叠的第一金属层201、第二金属层202和第三金属层203，第三金属层203的外缘伸出第二金属层202的侧壁形成凹陷部，从而形成对发光层40的间断作用，进而阻断水氧入侵通道。

具体地，钝化层30随形覆盖在隔离柱20上。钝化层30覆盖隔离柱20后，钝化层30的形状与隔离柱20的形状相同，即钝化层30在隔离柱20的侧面也形成凹陷区域，对隔离柱20在凹陷部悬空的区域形成支撑，避免其弯曲脱落导致隔离柱20失效，确保隔离柱20截断水氧入侵通道的有效性。

进一步地，第一金属层201的外缘伸出第二金属层202的侧壁，即第一金属层201与第三金属层203的外缘同时伸出第二金属层202的侧壁，第一金属层201、第三金属层203与第二金属层202的侧壁配合形成凹陷部。

具体地，钝化层30随形覆盖第一金属层201、第二金属层202与第三金属层203。钝化层30在凹陷部处贴合在第三金属层203的下表面上、第二金属层202的侧壁上以及第一金属层201的上表面上，形成对第三金属层203在凹陷部悬空部分的支撑，避免其弯曲脱落导致隔离柱20失效，确保隔离柱20截断水氧入侵通道的有效性。此外，隔离柱20可由更多层构成，例如四层、五层或更多，只要能形成上述隔离柱20结构即可。

其中，第一金属层201与第三金属层203的材料包括Ti，第二金属层202的材料包括Al。采用这种材料选取，可保证第二金属层202在进行侧蚀时，第一金属层201与第三金属层203不会受到刻蚀的影响。本领域技术人员还可以选取其它材料，只要能实现上述技术效果即可，本公开对此不做限制。

具体地，凹陷部在隔离柱20径向上的宽度为1μm～1.5μm，即从隔离柱20的侧壁向内凹陷的深度1μm～1.5μm。当隔离柱20由第一金属层201、第二金属层202和第三金属层203构成时，即第三金属层203的边缘与第二金属层202的侧壁之间的距离为1μm～1.5μm，第一金属层201的边缘也可与第二金属层202的侧壁之间的距离为1μm～1.5μm。其中，第一金属层201的边缘与第二金属层202的侧壁之间的距离与第三金属203的边缘与第二金属层202之间的距离可相同，也可不同。将凹陷部的深度设为1μm～1.5μm，能够保证钝化层30在隔离柱20的凹陷部上的覆盖性，进一步确保隔离柱20截断水氧入侵通道的有效性。当然，凹陷部的深度也可小于1μm或大于1.5μm，本公开对此不做限制。

具体地，隔离柱20可设有多个，且使多个隔离柱20间隔分布。本领域技术人员应当理解，随着隔离柱20的数量的增加，必然会增加对截断水氧入侵通道的有效性，但隔离柱20数量的增加，必然会增加显示面板的制造工艺难度，增加生产成本。如图1所示，设有两个隔离柱20，间隔设置在衬底上。通过设置两个隔离柱20，既能提高隔离柱20截断水氧入侵通道的有效性，又能避免隔离柱20数量过多导致生产成本过大。本领域技术人员也可在衬底上设置一个、三个或更多个隔离柱20，本公开对此不做限制。

当设置多个隔离柱20时，钝化层30同时覆盖多个隔离柱20以及隔离柱20之间的衬底，以降低钝化层30形成工艺的难度。如图1所示，显示面板的过渡区上还设有阻挡件60，隔离柱20位于显示区与阻挡件60之间的过渡区上，钝化层30覆盖隔离柱20以及显示区与阻挡件60之间的过渡区。

如图1所示，显示区上设于像素结构，基板10上设有无机层11，基板10可为聚酰亚胺等构成柔性基板或玻璃基板，开孔区贯穿基板10和无机层11。显示区上形成有呈阵列排布的像素结构，像素结构包括多个TFT，TFT可以为顶栅型TFT、底栅型TFT或双栅型TFT，本申请对TFT的类型不做限制。衬底上还形成有覆盖像素结构的平坦层(PLN)71与像素界定层(PDL)72。

如图1所示，封装薄膜层向远离基板10的方向依次包括第一无机薄膜层51、有机薄膜层52与第二无机薄膜层53。第一无机薄膜层51和第二无机薄膜层53中任一种材料可以为SiNx、SiCN、SiO₂等。第一无机薄膜层51和第二无机薄膜层53可采用化学气相沉积、物理气相沉积、原子力沉积等方式形成。有机薄膜层52可包括丙烯酸基聚合物、硅基聚合物等。有机薄膜层52可采用喷墨打印、喷涂等方式形成与第一无机薄膜层51上。

本公开还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述显示面板，显示装置例如可为手机、平板电脑、电子手表、运动手环、笔记本电脑等具有显示面板的电子设备。该显示装置具有的技术效果可参考上述对显示面板的技术效果的论述，在此不再赘述。

本公开还提供了显示面板的制造方法，如图3所示，该制造方法包括：

步骤S100、形成一基板，显示基板包括开孔区、围绕开孔区的过渡区以及围绕过渡区的显示区；

步骤S200、在过渡区上形成隔离柱，隔离柱的侧壁向内凹陷形成有凹陷部；

步骤S300、至少在隔离柱上形成钝化层，钝化层随形覆盖在隔离柱20上；

步骤S400、在过渡区和显示区上形成显示层，显示层包括发光层，发光层在隔离柱的凹陷部间断设置。

本公开提供的显示面板的制造方法，在基板的过渡区上形成有隔离柱，隔离柱的侧壁形成有阻断发光层的凹槽，钝化层随形覆盖在隔离柱上，能够在隔离柱的凹陷部出对隔离柱侧壁悬空的部分形成支撑作用，保护隔离柱结构，避免隔离柱在凹陷部悬空的部分下沉而导致隔离柱阻断发光层的作用，进而确保隔离柱截断水氧入侵通道的有效性，能够提高显示面板的封装良率。

下面，将对本示例实施方式中的显示面板的制造方法的各步骤进行进一步的说明。

在步骤S100中，形成一基板，显示基板包括开孔区、围绕开孔区的过渡区以及围绕过渡区的显示区。

具体地，如图1所示，形成一基板10作为载体，该基板10可以采用柔性材料制成，例如聚酰亚胺。在基板10上形成开孔区、围绕开孔区的过渡区以及围绕过渡区的显示区。开孔区可用于设置摄像头、传感器等器件，过渡区呈环形包围过孔区。

在步骤S200中，在过渡区上形成隔离柱，隔离柱的侧壁向内凹陷形成有凹陷部。

具体地，如图1所示，在显示区上形成隔离柱20，通过侧蚀工艺在隔离柱20的侧壁上形成向内凹陷的凹陷部，凹陷部在隔离柱20径向上的宽度为1μm～1.5μm。通过隔离柱20的设置，能够避免水汽或氧气等从通孔处侵入显示面板内部造成显示面板出现GDS现象。

进一步地，如图4所示，在过渡区上形成隔离柱包括步骤：

步骤S210、在过渡区上向远离基板的方向依次层叠形成第一金属层、第二金属层和第三金属层；

具体地，如图2所示，在衬底上通过沉积工艺依次形成第一金属层、第二金属层和第三金属层，然后对第一金属层、第二金属层和第三金属层进行刻蚀以形成隔离柱。

其中，第一金属层与第三金属层的材料为Ti，第二金属层的材料为Al。

步骤S220、对二金属层进行侧蚀，形成凹陷部。

具体地，可采用阳极湿法刻蚀，对第二金属层进行刻蚀，形成预设深度的凹陷部。当第一金属层与第三金属层的材料为Ti，第二金属层的材料为Al时，湿法刻蚀仅刻蚀第二金属层，而不会刻蚀第一金属层与第三金属层，能够更好控制第二金属层横向刻蚀的宽度。

在步骤S300中，至少在隔离柱上形成钝化层，钝化层随形覆盖在隔离柱上。

具体地，如图2所示，在隔离柱20上形成覆盖的钝化层30材料，接着通过掩模和刻蚀工艺形成随形覆盖在隔离柱20上的钝化层30。钝化层30随形覆盖在隔离柱20上后，在隔离柱20的侧壁上对应的形成有凹陷部，在对隔离柱20结构形成保护的作用下避免了水汽或氧气等从通孔处侵入显示面板内部。

在步骤S400中，在过渡区和显示区上形成显示层，显示层包括发光层，发光层在隔离柱的凹陷部间断设置。

具体地，在显示区形成像素结构的时，也在过渡区上形成发光材料层，即发光材料层覆盖隔离柱20。发光材料层为有机材料，水汽和氧气容易通过发光材料层进入到显示区域，通过隔离柱20的设置，利用凹陷部能够将发光层40间断，进而阻断水氧入侵的通道。

显示面板中各层的具体细节已在对应的实施例中进行了详细描述，关于本方法实施例中未描述的细节，可参照上述显示面板实施例中的相关描述。

应当注意，尽管在附图中以特定顺序描述了本公开中方法的各个步骤，但是，这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些步骤，或是必须执行全部所示的步骤才能实现期望的结果。附加的或备选的，可以省略某些步骤，将多个步骤合并为一个步骤执行，以及/或者将一个步骤分解为多个步骤执行等。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本申请旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由所附的权利要求指出。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板，包括开孔区、围绕开孔区的过渡区以及围绕所述过渡区的显示区；

阻挡件，设于所述过渡区；

隔离柱，设于所述显示区与所述阻挡件之间的所述过渡区，所述隔离柱的侧壁向内凹陷形成有凹陷部；

钝化层，至少覆盖所述隔离柱，且随形覆盖在所述隔离柱上，所述钝化层覆盖所述凹陷部；

显示层，覆盖所述过渡区和所述显示区，所述显示层包括发光层，所述发光层在所述隔离柱的凹陷部间断设置；在所述隔离柱上，所述发光层位于所述钝化层背离所述隔离柱的一侧；

封装薄膜层，位于所述显示层背离所述基板的一侧，覆盖所述显示区以及所述显示区与所述阻挡件之间的所述过渡区，所述阻挡件形成对所述封装薄膜层的阻挡。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱包括向远离所述基板的方向依次层叠的第一金属层、第二金属层和第三金属层，第三金属层的外缘伸出所述第二金属层的侧壁形成所述凹陷部。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层的外缘伸出所述第二金属层的侧壁，所述第一金属层、所述第三金属层与所述侧壁配合形成所述凹陷部。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层与第三金属层的材料包括Ti，所述第二金属层的材料包括Al。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹陷部在所述隔离柱径向上的宽度为1μm~1.5μm。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述隔离柱设有多个，且多个所述隔离柱间隔分布。

7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示面板。

8.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

形成一基板，所述基板包括开孔区、围绕开孔区的过渡区以及围绕所述过渡区的显示区；

在所述过渡区上形成阻挡件；

在所述显示区与所述阻挡件之间的所述过渡区上形成隔离柱，所述隔离柱的侧壁向内凹陷形成有凹陷部；

至少在所述隔离柱上形成钝化层，所述钝化层随形覆盖在所述隔离柱上；

在所述过渡区和所述显示区上形成显示层，所述显示层包括发光层，所述发光层在所述隔离柱的凹陷部间断设置；在所述隔离柱上，所述发光层位于所述钝化层背离所述隔离柱的一侧；

在所述背离所述基板的一侧形成封装薄膜层，所述封装薄膜层覆盖所述显示区以及所述显示区与所述阻挡件之间的所述过渡区；所述阻挡件形成对所述封装薄膜层的阻挡。

9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，在所述过渡区上形成隔离柱，包括：

在所述过渡区上向远离所述基板的方向依次层叠形成第一金属层、第二金属层和第三金属层；

对所述二金属层进行侧蚀，形成所述凹陷部。

10.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述凹陷部在所述隔离柱径向上的宽度为1μm~1.5μm。