CN110381617B - 使用超热加速剂的加热装置及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
公开了一种加热装置,该加热装置包括基材,形成在所述基材上的金属氧化物层,形成在所述金属氧化物层上且以格子形式布置的具有球形形状的超热加速剂点,以及形成在所述金属氧化物层和所述超热加速剂点上的导电粘合剂层,其中所述具有球形形状的超热加速剂点的下部部分包含在所述金属氧化物层中,并且其上部部分包含在所述导电粘合剂层中。
Description
相关申请的交叉参考
本申请要求于2018年4月12日提交的标题为“使用超热加速剂的加热装置及其制造方法(Heating device using hyper heat accelerator and method formanufacturing the same)”的韩国专利申请第10-2018-0042904号的权益,其全部内容通过引用并入本申请。
背景技术
技术领域
本公开涉及一种超热加速剂(hyper heat accelerator),一种使用超热加速剂的加热装置及其制造方法。
相关领域描述
近来,小型相机模块已广泛用于各种工业领域。特别是,小型相机模块在智能手机、平板电脑、游戏机、CCTV等IT和汽车行业中广泛使用。
在各种工业领域中广泛使用的相机模块被配置为包括外部光入射到其上的镜头,将从镜头入射的光转换成数字图像或运动图像的图像传感器模块,以及容纳镜头和图像传感器的壳体。
相机模块的镜头通常暴露在外面以接收外部光线。当相机模块的镜头以这种方式暴露在外部时,由于相机模块的外部温度和相机模块的内部温度之间的差异,镜头的外侧或内侧可能变得潮湿,或者可能在冬季在镜头上形成凝露。
在相机模块的镜头变湿或受到冷凝的情况下,通过镜头的光由于潮湿或冷凝而失真,然后入射在图像传感器上,因此图像或运动图像的质量可能明显变差。
为了解决上述问题,需要防止发生镜头的潮湿和冷凝的技术。
为了防止在镜片上形成霜或凝露并保护镜头防止其被冻住,在传统技术中已经公开了在相机模块周围缠绕热线或在其中布置热线(韩国专利申请公开号2017-0021088A)。然而,为了简单地通过使用热线来防止镜头发生结霜、结露和冻结,需要很长的时间才能将镜头的温度升高到所需的水平。
特别是,当外部温度非常低时,需要很长时间才能将镜头的温度升高到所需的水平。相反,当在外部温度较高或像机模块温度较高的情况下从热线产生的热量较高时,存在像机模块起火的风险。
[引用文献列表]
[专利文献]
(专利文件1)韩国专利申请公开第2017-0021088 A号
发明概述
因此,本公开的第一方面是提供一种用于加热装置的超热加速剂。
本公开的第二方面是提供一种加热装置,其能够使用超热加速剂在短时间内去除潮湿或霜冻。
本发明的第三方面是提供一种制造加热装置的方法。
因此,用于实现第一方面的本公开实施方式提供一种用于加热装置的超热加速剂,该超热加速剂选自下组:SnF2、SnF4、氟化锡镍(SnNiF)、氟化锡铬(SnCrF)、氟化锡锌(SnZnF)、氟化锌镍(ZnNiF)和它们的组合。
在示例性实施方式中,超热加速剂可以是具有球形形状并且直径为50至100nm的超热加速剂点,其可以以格子形式布置在加热装置上。
在示例性实施方式中,超热加速剂点可以以10至20nm的间隔布置。
用于实现第二方面的本公开实施方式提供了一种加热装置,该加热装置包括基材,形成在所述基材上的金属氧化物层,形成在所述金属氧化物层上且以格子形式布置的具有球形形状的超热加速剂点,以及形成在所述金属氧化物层和所述超热加速剂点上的导电粘合剂层,其中所述具有球形形状的超热加速剂点的下部部分包含在所述金属氧化物层中,并且其上部部分包含在所述导电粘合剂层中。
在一个示例性实施方式中,所述超热加速剂选自下组:SnF2、SnF4、氟化锡镍(SnNiF)、氟化锡铬(SnCrF)、氟化锡锌(SnZnF)、氟化锌镍(ZnNiF)和它们的组合。
在一个示例性实施方式中,超热加速剂点可以具有50-100nm的直径,并且可以以10至20nm的间隔布置。
在一个示例性实施例中,金属氧化物可以选自下组:氧化铝、氧化铜、氧化铁、氧化锡、氧化镉、氧化锌以及它们的组合。
在一个示例性实施方式中,导电粘合剂可以是光学透明的粘合剂。
用于实现第三方面的本公开实施方式提供了一种制造加热装置的方法,该方法包括:在第一基材上形成金属氧化物层;通过连续室温化学方法在第二基材的导电粘合剂层上形成以格子形式布置的具有球形形状的超热加速剂点,使其上形成有具有球形形状的超加速剂点的第二基材和其上形成有金属氧化物层的第一基材通过辊,从而使具有球形形状的超热加速剂点通过层压附着到第一基材的金属氧化物层上,同时保持附着到第二基材的导电粘合剂层上,其中具有球形形状的超热加速剂点的下部部分包含在金属氧化物层中,并且其上部部分包含在导电粘合剂层中。
在示例性实施方式中,连续室温化学方法可以包括将从微波发生器产生的微波引导到磁场形成空间,将等离子体源气体引入到磁场形成空间中,通过使等离子体源气体暴露于微波而将等离子体源气体以等离子体态保持在磁场形成空间中,通过磁场下等离子体中电子和离子的ECR(电子回旋共振,Electro Cyclotron Resonance)保持具有高能量密度的等离子体,将用于形成沉积膜的超热加速剂源气体供给到具有高能量密度的等离子体区域中以产生活化离子,以及通过第二基材表面上的活化离子的瞬时表面化学反应连续形成超热加速剂点。
在一个示例性实施方式中,超热加速剂点可以具有50-100nm的直径,并且可以以10至20nm的间隔布置。
在一个示例性实施方式中,所述超热加速剂可以选自下组:SnF2、SnF4、SnNiF、SnCrF、SnZnF、ZnNiF和它们的组合。
在一个示例性实施例中,金属氧化物可以选自下组:氧化铝、氧化铜、氧化铁、氧化锡、氧化镉、氧化锌以及它们的组合。
在一个示例性实施方式中,导电粘合剂可以是光学透明的粘合剂。
在一个示例性实施方式中,所述方法还可以包括:在以格子排列形成超热加速剂点之后,在具有球形形状的超热加速剂点上形成保护膜,以及从超热加速剂点上去除保护膜。
根据本公开的加热装置可以通过使用超热加速剂代替铟而具有延长的加热范围,快速的加热时间和高的最高温度。
由于使用连续室温化学处理和层压附着处理在金属氧化物层上形成超热加速剂,因此根据本公开的制造加热装置的方法简单且经济。
附图简要说明
图1A和1B是示出常规加热装置和根据本公开实施方式的加热装置的截面图;
图2A至2C是表示超热加速剂原理的超热加速剂点的截面图;
图3显示了超热加速剂点之间的温度梯度;
图4是显示具有超热加速剂的加热装置的升温效果的图表;
图5是示出根据本公开一实施方式的制造加热装置的方法的流程图;
图6示出了根据本公开一实施方式在第二基材上形成超热加速剂;
图7示出了根据本公开一实施方式在金属氧化物基膜(第一基材)上形成金属氧化物层;
图8示出了依据本公开一实施方式的用于制造加热装置的步骤和各个步骤中的产物;
图9是根据本公开一实施方式的用于相机镜头的加热装置的图像;
图10是根据本公开另一个实施方式的用于相机镜头的加热装置的图像;
图11示出了根据本公开一实施方式的加热装置和相机镜头的结合结构;和
图12示出了在根据本公开一实施方式的加热装置附接到相机镜头之后进行的加热测试的图像。
-附图中附图标记的含义
10:电极 11:超热加速剂
12:导电粘合剂
具体实施方式说明
在更详细地描述本公开之前,必须注意,本说明书和权利要求书中使用的术语和词语不应被解释为限于典型的含义或字典定义,而应被解释为具有关于本公开技术范围的含义和概念,其基于本发明人依据此能够适当地定义术语暗示的概念的原则,以最好地描述他或她知晓的用于进行本公开的方法。因此,本说明书中所描述的实例仅仅是本公开的优选实施方式,并不代表本公开的所有技术构思,因此应该理解的是,能够代替其的各种等同物和修改可以在提交本公开的时间点提供。
在下文中,将详细描述本公开的优选实施方式,使得本公开所属领域的技术人员可以容易地实施本公开。此外,在下面的描述中,应该注意的是,当与本公开相关的已知技术可能使得本公开的主旨不清楚时,将省略其详细描述。
图1A是示出常规加热装置的截面图,图1B是示出根据本公开一实施方式的加热装置的截面图。
参考图1B,加热装置包括基材,形成在所述基材上的金属氧化物层,形成在所述金属氧化物层上且以格子形式布置的具有球形形状的超热加速剂点,以及形成在所述金属氧化物层和所述超热加速剂点上的导电粘合剂层,其中所述具有球形形状的超热加速剂点的下部部分可以包含在所述金属氧化物层中,并且其上部部分可以包含在所述导电粘合剂层中。
基材是具有绝缘性能的塑料基材,由具有电绝缘性和绝热性的材料制成,以防止施加到加热装置的电力和热量逸出到外部。用于基底基材30的材料的例子包括但不限于聚酰亚胺、聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纤维素(CTA)和乙酸丙酸纤维素(CAP)。
金属氧化物层可以通过在基材上沉积金属氧化物来形成。沉积在室温下进行,并且可以使用化学气相沉积方法。具体而言,化学气相沉积方法可以通过以下方式进行:其中向金属氧化物前体施加电压形成过度凝聚的金属离子,通过化学结合将所形成的金属离子沉积在基材的表面上。由于化学气相沉积方法是在室温下进行的,因此沉积到具有高功能性但耐热性差的聚合物上成为可能,并且上述沉积方法有利于大面积沉积。
金属氧化物可以是包含选自铝(Al)、铜(Cu)、铁(Fe)、锡(Sn)、镉(Cd)和锌(Zn)中的任何一种或两种或更多种的混合物的金属氧化物。该金属氧化物具有导电性,并且金属氧化物层能够通过热能产生热量。关于加热装置的发热,金属氧化物的热值可以通过电阻来确定,并且温度的变化可以由物体的热容量来确定,因此其随着金属氧化物的类型而变化。上面列出的金属氧化物具有适合平板式加热器的热值。在一示例性实施方式中,金属氧化物是氧化锡(SnO2)。例如,氧化锡主要以氧化铟锡的形式使用,这是一种氧化铟和氧化锡的混合物,但在本公开中不使用铟。即使不使用铟,也可以调节金属氧化物层的厚度和电阻,而且,由于在金属氧化物层上形成超热加速剂,可以获得适用于加热装置的热值,将在稍后加以描述。
除了金属氧化物之外,金属氧化物层还可以包括额外的功能材料。为了改善与金属氧化物层的发热相关的功能性,可以通过混合两种或更多种金属氧化物来形成金属氧化物层,但是金属氧化物层也可以通过向金属氧化物中添加非金属材料来形成。在一示例性实施方式中,功能材料可以是氟。当向氧化锡中添加氟时,可以改善耐化学性和高温性以及光学透射率和电导率。
超热加速剂可以是选自下组中的至少一种:SnF2、SnF4、氟化锡镍(SnNiF)、氟化锡铬(SnCrF)、氟化锡锌(SnZnF)和氟化锌镍(ZnNiF)。
参考图1B,在根据本公开的加热装置中,超热加速剂点的下部部分包含在金属氧化物层中从而形成扩散层,而其上部部分包含在导电粘合剂层中。
图2A至2C是表示超热加速剂原理的超热加速剂点的截面图。
参考图2A和2B,超热加速剂点的下部部分扩散到金属氧化物层中以产生扩散层。如后面将要描述的,超热加速剂点扩散到金属氧化物层中是基于层压附着过程。
参考图2C,在从超热加速剂点产生的热量通过热加速区和蓄热区时,温度迅速升高并且可以通过延长加热范围而长时间保持。通过增强现有加热层(金属氧化物层)的热扩散区产生的蓄热区以及由于超热加速剂引起的热加速区可以延长加热范围并且使得温度能够在短时间内升高。
图3显示了超热加速剂点之间的温度梯度。参考图3,在界面的下部区域中,由于现有加热层(金属氧化物层)区域与超热加速剂点扩散在其中的区域之间热容率和蓄热率的差异而出现温差。在界面的上部区域中,如图2A至2C所示,由于热加速区域的热量可以产生蓄热区。
图4是显示具有超热加速剂的加热装置的升温效果的图表。根据本公开,与不包含超热加速剂点的加热装置相比,包含超热加速剂点的加热装置能够在更短的时间内达到更高的温度。
图5是示出根据本公开的制造加热装置的方法的流程图。图8显示了在图5的各个步骤中获得的产物。
<形成超热加速剂点>
根据本公开,可以通过连续室温化学方法在粘合剂层上形成具有球形形状的超热加速剂点。
在本公开的实施方式中,连续室温化学方法包括:将从微波发生器产生的微波引导到磁场形成空间;将等离子体源气体引入到磁场形成空间中;通过使等离子体源气体暴露于微波而将等离子体源气体以等离子体态保持在磁场形成空间中;通过磁场下等离子体中电子和离子的ECR(电子回旋共振,Electro Cyclotron Resonance)保持具有高能量密度的等离子体;将用于形成沉积膜的超热加速剂源气体供给到具有高能量密度的等离子体区域中以产生活化离子;以及通过粘合剂层表面上的活化离子的瞬时表面化学反应连续形成(沉积)超热加速剂点。
与用于形成分散纳米点的溅射方法相比,根据本公开的连续室温化学方法能够形成格子排列且均匀分布的超热加速剂点。
超热加速剂点的直径范围可以从50至100nm,例如50至90nm,50至80nm,50至70nm,50至60nm,60至100nm,60至90nm,60至80nm,60至70nm,70至100nm,70至90nm,70至80nm,80至100nm,80至90nm以及它们之间的所有范围和子范围。如果其直径落在适当范围之外,则结构稳定性可能降低,因此热加速性质可能变差。
超热加速剂点可以以10至20nm的间隔布置,例如10至15nm,10至13nm,15至20nm,18至20nm以及它们之间的所有范围和子范围。如果它们之间的间隔小于10nm,则光学性质可能降低。另一方面,如果它们之间的间隔超过20nm,则光学性质可能变好,但是储热性能可能变差,因此降低了热加速性能。
图6示出了根据本公开一实施方式的在第二基材上形成超热加速剂。如图6所示,第二基材可以是被配置为使得导电粘合剂形成在基膜上的粘合剂膜。参考图6,超热加速剂点层可以形成在粘合剂膜(第二基材)的导电粘合剂层上。
在示例性实施方式中,导电粘合剂可以是固化类型,并且诸如Ni、Ag或Ni/Au之类的导电金属可以包含在绝缘硅基聚合物颗粒的表面中。
在随后的处理期间,超热加速剂膜可以通过层压附着到金属复合氧化物膜上,该金属复合氧化物膜被配置为使得在电极和第一基材上形成金属氧化物层。然后,可以通过卷绕回卷工艺从导电粘合剂层去除超热加速剂膜层的超热加速剂基膜。这里,膜去除处理不限于卷绕回卷处理,而是可以进行任何处理,只要它是本领域已知的即可。
<形成金属氧化物层>
图7示出了根据本公开一实施方式在金属氧化物基膜(第一基材)上形成金属氧化物层。参考图7,可以通过在第一基材上沉积金属氧化物来形成金属氧化物层。沉积在室温下进行,并且可以使用化学气相沉积方法,但是本公开不限于此,可以使用任何已知的气相沉积方法。具体而言,化学气相沉积方法可以通过以下方式进行:其中向金属氧化物前体施加电压形成过度凝聚的金属离子,通过化学结合将所形成的金属离子沉积在基材的表面上。由于化学气相沉积方法是在室温下进行的,因此沉积到具有高功能性但耐热性差的聚合物上成为可能,并且上述沉积方法有利于大面积沉积。
在沉积金属氧化物层之后,进行电极形成过程和与超热加速剂膜的层压过程。
<热结合处理>
图8示出了在第二基材上形成的超热加速剂层压附着到第一基材的金属氧化物层上,以及用于制造根据本公开一实施方式的加热装置的步骤和各个步骤中的产物。
参考图8,使其上形成有球形形状的超热加速剂点的第二基材和其上形成有金属氧化物层的第一基材通过辊,由此通过层压将具有球形形状的超热加速剂点附着到金属氧化物层上,同时具有球形形状的超热加速剂点保持附着在第二基材上,由此制造加热装置。通过层压附着,具有球形形状的超热加速剂点的下部部分可以包含在金属氧化物层中,而其上部部分可以包含在导电粘合剂层中。
在超热加速剂点的层压附着期间,辊可以在以下范围的压力下使用:1-5kg/cm2,1-4kg/cm2,1-3kg/cm2,1-2kg/cm2,2-6kg/cm2,2-5kg/cm2,2-4kg/cm2,2-3kg/cm2,3-5kg/cm2,3-4kg/cm2,4-5kg/cm2,以及它们之间的所有范围和子范围。
在超热加速剂点的层压附着期间,辊可以在以下范围的温度下使用:60-80℃,60-75℃,60-70℃,60-65℃,65-80℃,65-75℃,65-70℃,70-80℃,70-75℃,75-80℃,以及它们之间的所有范围和子范围。
如果压力小于1kg/cm2且温度低于60℃,则辊不能呈现将超热加速剂点扩散到金属氧化物层中所需的能量,从而减少了超热加速剂点扩散到金属氧化物层,因而降低了加热装置的热值。
另一方面,如果压力大于5kg/cm2且温度高于80℃,则超热加速剂点在金属氧化物层中的扩散不能以格子结构进行,因此造成加热装置的性质变差。
<附接到粘附目标并完成最终产品>
图9和10根据本公开一些实施方式的用于相机镜头的加热装置的图像。图9显示用于直接附接到透镜的普通类型,图10显示通过附接到相机镜头模块的外缘而间接地向镜头施加热量的组装环类型。图9中所示的圆形镜头直接附接的类型和图10中所示的组装缘附接的类型是附接到相机的不同位置。
图11示出了依据本公开的普通型加热装置和相机镜头的结合结构。绝缘膜可以连接到加热装置的顶部。加热装置的底部可以使用双面胶膜附着到相机镜头。
图12显示将加热装置附接到相机镜头后的加热测试的图像。图12的左侧图显示了附接到镜头的普通类型,图12的右侧图显示了附接到镜头的组装环类型。
将给出以下实施例以更好地理解本公开,所述实施例仅仅被阐述以说明而不被解释为限制本公开的范围。
实施例1
图8示出了依据本公开一实施方式的用于制造加热装置的步骤和各个步骤中的产物。
通过化学沉积方法在厚度约150μm的第一PET基材1上沉积氧化锡层。另外,使用连续室温化学方法,将由SnF2组成的超热加速剂点沉积在厚度约150μm的第二PET基材2上。参考图6,使用粘合剂膜作为第二基材,该粘合剂膜被配置为使得在基膜(PET膜)的两个表面上都形成导电粘合剂层。将超热加速剂点沉积在导电粘合剂层的一个表面上。而且,为了保护超热加速剂(点)层,附着保护膜,直到完成将超热加速剂点层压附着到金属氧化物层上的过程。在层压过程之前,使用辊式复卷机将保护膜除去。
使其上形成有超热加速剂点的粘合剂层(膜)和其上形成有金属氧化物层的第一PET基材通过辊,由此通过层压将超热加速剂点附着到金属氧化物层上,同时超热加速剂点保持附着在粘合剂层上,由此制造加热装置。该辊在约3kg/cm2的压力和约70℃的温度下使用。
而且,在辊的不同压力下以与实施例1中相同的方式制造加热装置。
测量所制造的加热装置随辊压力变化的热温度。结果示于下表1。
[表1]
压力(kg/cm<sup>2</sup>) | IV电阻(Ω) | 热温度(℃),12V |
0 | 149 | 93 |
0.5 | 141 | 110 |
1 | 136 | 112 |
3 | 130 | 115 |
5 | 130 | 114 |
7 | 136 | 100 |
IV电阻表示装置电阻。IV电阻是阻碍导体中电流流动的物理量。基本上,边框(bezel)位于装置的两端,IV电阻值根据两个电极之间的距离和加热膜的面积和长度来测量。
比较例1
以与实施例1相同的方式制造加热装置,不同之处在于未沉积由SnF2组成的超热加速剂点。
随时间测量实施例1和比较例1的加热装置的温度。结果如图4所示。
实施例2
实施例1中制造的加热装置以普通型加热装置的形式提供。普通型加热装置具有适于覆盖圆形镜头的环和从环上沿相反方向延伸的两个条。电极形成在两个条的端部。图9显示了普通型加热装置。
实施例1中制造的加热装置以组装环型加热装置的形式提供。组装环型加热装置是矩形带。电极形成在带的两个端部。图10显示了组装环型加热装置。
将普通型加热装置和组装环型加热装置附接到相机镜头上。图11是普通型加热装置附接在相机镜头上的结构的分解透视图。将粘合剂膜粘贴在相机镜头上,并在该粘合剂膜上附接普通型加热装置。将绝缘膜附着在加热装置上。而且,组装环型加热装置以与上述相同的方式附接到相机镜头上。
对附接到相机镜头上的加热装置进行加热测试。结果如图12所示。图12显示将加热装置附接到相机镜头后进行的加热测试的图像。热温度取决于诸如施加电压、装置电阻之类的条件来确定。
虽然出于阐述的目的描述了本公开的实施方式,但是本领域技术人员应理解,各种改进、增加和替代方式也是可能的,而不背离所附权利要求书所限定的本发明的范围和精神。
因此,本公开的简单修改或变化落入所附权利要求限定的本公开的范围内。
Claims (12)
1.一种加热装置,所述加热装置包括:
基材;
形成在所述基材上的金属氧化物层;
形成在所述金属氧化物层上且以格子形式布置的具有球形形状且直径为50至100nm的超热加速剂点;和
形成在所述金属氧化物层和所述超热加速剂点上的导电粘合剂层,
其中所述具有球形形状且直径为50至100nm的超热加速剂点的下部部分包含在所述金属氧化物层中,而所述具有球形形状的超热加速剂点的上部部分包含在所述导电粘合剂层中。
2.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述超热加速剂选自下组:SnF2、SnF4、氟化锡镍(SnNiF)、氟化锡铬(SnCrF)、氟化锡锌(SnZnF)、氟化锌镍(ZnNiF)和它们的组合。
3.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述超热加速剂点具有50-100nm的直径,并且以10至20nm的间隔布置。
4.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述金属氧化物选自下组:氧化铝、氧化铜、氧化铁、氧化锡、氧化镉、氧化锌以及它们的组合。
5.如权利要求1所述的加热装置,其特征在于,所述导电粘合剂是光学透明的粘合剂。
6.一种制造加热装置的方法,所述方法包括:
在第一基材上形成金属氧化物层;
通过连续室温化学方法在第二基材的导电粘合剂层上形成以格子形式布置的具有球形形状且直径为50至100nm的超热加速剂点;和
使其上形成有具有球形形状且直径为50至100nm的超热加速剂点的第二基材和其上形成有金属氧化物层的第一基材通过辊,从而使具有球形形状且直径为50至100nm的超热加速剂点通过层压附着到第一基材的金属氧化物层上,同时所述具有球形形状的超热加速剂点保持附着到第二基材的导电粘合剂层上,
其中所述具有球形形状且直径为50至100nm的超热加速剂点的下部部分包含在所述金属氧化物层中,而所述具有球形形状且直径为50至100nm的超热加速剂点的上部部分包含在所述导电粘合剂层中。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述连续室温化学方法包括:
将从微波发生器产生的微波引导到磁场形成空间中;
将等离子体源气体引入到磁场形成空间中;
通过使等离子体源气体暴露于微波而将等离子体源气体以等离子体态保持在磁场形成空间中;
通过磁场下等离子体中电子和离子的ECR(电子回旋共振)保持具有高能量密度的等离子体;
将用于形成沉积膜的超热加速剂源气体供给到具有高能量密度的等离子体区域中以产生活化离子;以及
通过第二基材表面上的活化离子的瞬时表面化学反应连续形成超热加速剂点。
8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述超热加速剂点具有50-100nm的直径,并且以10至20nm的间隔布置。
9.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述超热加速剂选自下组:SnF2、SnF4、SnNiF、SnCrF、SnZnF、ZnNiF和它们的组合。
10.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述金属氧化物选自下组:氧化铝、氧化铜、氧化铁、氧化锡、氧化镉、氧化锌以及它们的组合。
11.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述导电粘合剂是光学透明的粘合剂。
12.如权利要求6所述的方法,所述方法在形成以格子布置的超热加速剂点之后,还包括:
在具有球形形状的超热加速剂点上形成保护膜;
从超热加速剂点上除去保护膜。
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GR01 | Patent grant | ||
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