CN110218853A - 制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，属于炼钢技术领域。该工艺方法不同于传统的冷轧板脱碳退火后渗氮技术，而在冷轧板脱碳退火初期开始初次再结晶的温度范围内进行渗氮，并通过对不同板厚控制氮含量和脱碳过程中内氧化层形成来减少氮的逃逸有助于形成稳定的氮化物析出相。并且该方法控制渗氮脱碳后的初次再结晶晶粒表层较小且与中心层晶粒尺寸比值在合适范围之内，增加了高斯晶核数量，减少成品晶粒尺寸以达到降低铁损目的，达到改善产品铁损和确保性能稳定的双重目的。获得了改善产品铁损、提高磁性稳定性和节能降耗的有益效果。

Description

制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法

技术领域

本发明涉及高磁感取向硅钢的工艺控制，属于炼钢技术领域，具体地涉及一种制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法。

背景技术

硅钢具有低损耗、低磁致伸缩等有优良磁特性，是电力、电子工业中最为重要的磁性材料。硅钢通常分为取向硅钢和无取向硅钢。其中，取向硅钢是利用晶粒发生二次再结晶异常长大，使得成品组织呈高斯织构{111}<001>的择优取向。由于其成品晶粒的取向特征，内部晶格的<001>轴尽可能与轧制方向平行，该种材料在轧制方向具有良好导磁性，能获得高磁感强度，因此被广泛地用在变压器铁芯制造。作为主要的电磁转换载体部件，铁芯的设计和制造是变压器制造过程中最为重要环节之一。如果铁芯选用过大，将导致变压器体积增大，成本升高，而选用较小铁芯，则必须对硅钢片磁感提出保证值限定。通常，变压器行业以硅钢片在800A/m、50Hz交变磁场条件下的磁感强度B₈₀₀来作为铁芯工作条件下的参考数据，同时以硅钢片在50Hz交变磁场条件下磁感为1.7T时的铁损P_17/50为其损耗评级参数。B₈₀₀在1.89T以上的称之为高磁感取向硅钢，并且其B₈₀₀越高、铁损P_17/50越低则产品等级越高，越能够满足小型化低成本、高能效变压器的制作。制备高等级取向硅钢产品为生产企业、电力行业带来的附加值也相应提高。

当前制造高磁感取向硅钢的生产方法主要包括三种，分别是热轧板坯加热温度在1300℃以上的高温板坯加热制备法、加热温度介于1200℃到1300℃之间的中温板坯加热制备法和板坯加热温度低于1200℃低温板坯加热制备法(称之为“低温高磁感取向硅钢”)。由于热轧板坯加热温度过高会带来成材率低、设备损耗大、燃料消耗多、产品表面缺陷多等一系列冶金问题，因此采用低温板坯法进行高磁感取向硅钢的生产是主要发展趋势。不同方法采用的热轧板坯加热温度不同的原因是其所采用的抑制剂类型不同所致。中、高温板坯法由于采用了固溶温度较高的MnS、CuS等作为先天抑制剂，在炼钢的合金化过程进行添加并在热轧过程形成，因此加热温度较高；而低温板坯法由于采用硅钢后工序获取抑制剂的方法，减少了对先天抑制剂依赖，重新进行了成分设计并降低了固溶温度的要求，从而使得加热温度成功降低了100℃以上，更加符合未来城市制造业工厂的绿色环保要求。

后天抑制剂的获取是低温高磁感取向硅钢制造技术中极为关键的技术环节，其重要性和难点体现在两个方面：一、后天抑制剂对二次再结晶长大的影响控制；二、稳定的后天抑制形成方法。第一方面，传统先天抑制剂对二次再结晶的影响在取向硅钢的初次再结晶过程就已开始，从而高温板坯法产品初次再结晶更小。而低温高磁感取向硅钢由于先天抑制剂较少，后天抑制剂是在脱碳退火后形成，因此初次晶粒较大难以控制，不容易获得较好的产品性能。第二方面，后天抑制剂依靠脱碳退火后的渗氮处理在硅钢表层获得足够多的渗氮量，随后转化为氮化物析出形成。氮化物的形成与钢种成分设计、渗氮温度以及高温退火工艺控制相关。

随着低温高磁感取向硅钢制造技术发展，发现现有的制造方法仍存在弊端：①如前所述渗氮在初次再结晶形成后才进行，氮化物析出相对初次晶粒的抑制作用有限，仍需要在炼钢合金化过程加入合金溶质元素提供一定量的先天抑制剂，容易增加钢中夹杂影响性能。②渗氮在初次再结晶形成后进行，一但脱碳退火过程中初次晶粒尺寸过大，难以控制初次再结晶尺寸。脱碳完成需要较长的退火时间，容易造成初次晶粒粗大从而影响最终产品性能，即低温钢工艺“控制窗口”较窄。③脱碳后硅钢表层形成了由二氧化硅和氧化铁组成的混合物氧化层，阻碍氮元素向铁基体扩散；并且脱碳后初次晶粒长大晶界变少，同样影响氮元素的扩散速率。二者同时造成渗氮效率和介质使用率降低。

对此，针对后天抑制剂获取方法的技术改进和创新被不断提出。

研究表明渗氮效率与渗氮温度成反比，因为随着渗氮温度升高，氨气分解率也升高，活性氮原子含量减少，造成渗氮量降低，现有的渗氮工艺多在700℃以上的范围内实施，并且渗氮温度同样会造成获得的氮化物析出相不同。上世纪九十年代日本公开的专利特开平2-247331、平7-118746等披露了板坯加热温度低于1200℃，在脱碳后采用700℃～1000℃较宽范围渗氮形成(Al,Si)N补偿先天抑制剂制造取向硅钢的方法，该类方法需要严格控制初次再结晶直径并配合高温退火工艺，仍存在之前所述初次晶粒粗化难以控制的问题。欧洲专利EP0950120B1披露一种850℃～1050℃的高温渗氮法，由于较高温度形成的氮化物更加稳定，后期的氮元素不容易逃逸，因而能够在脱碳退火阶段就获得稳定的AlN抑制剂从而稳定产品磁性能，但是渗氮温度较高使得渗氮效率很低。

同样为解决渗氮效率问题，中国发明专利申请(申请公布号：CN101294268A，申请公布日：2008-10-29)提出采用等离子低温渗氮，能够有效降低渗氮温度并提高渗氮效率，产品性能和稳定性也获得提高。但是该项技术设备需求和成本较高。

另一方面，解决内氧化层对渗氮的阻碍作用也能提高渗氮效率。中国发明专利申请(申请公布号：CN101748259A，申请公布日：2010-06-23)提出脱碳板在渗氮前经过1.5％～3％的小压下率变形破坏内氧化层，以达到较好的渗氮效率，但是该方法在连续脱碳渗氮退火中增加了冷轧工序，且不经润滑的轧制过程对轧辊要求较高，会增加产品成本。

摆脱气体渗氮对表面和性能的影响来提高渗氮效率也有创新方法，日本特开昭62-40315较早公开了取向硅钢在脱碳后涂覆含有MnN或氮化锰铁的MgO作为隔离剂在高温退火工序进行渗氮的方法，尽管能获得优良的磁性能，但是该方法收到MgO涂覆工艺影响，在高温退火卷的工艺环境下磁性能难以均匀。

进一步地，为了避免脱碳后渗氮的影响，在脱碳工序完成前进行渗氮的技术开始出现：

中国发明专利申请(申请公布号：CN102041440A，申请公布日：2011-05-04)提出在脱碳退火之前的常化工艺进行渗氮处理获得氮化物析出作为抑制剂补强，获得了良好的磁性能。但是实际生产中由于低温渗氮后氮化物析出相不稳定，后工序氮的逃逸和提前渗氮对初次晶粒有影响，性能容易不稳定。

日本专利特开平2-294428采用同步脱碳和渗氮退火的方法来进行高磁感取向硅钢的生产，该方法能够提高渗氮效率和生产效率，但是没有考虑渗氮工艺变化引起的初次晶粒变化，产品性能容易发生不稳定。

因此，上述改进的工艺方法虽均能有效提高渗氮效率，但是在脱碳后初次晶粒的稳定控制上存在技术缺陷，从而无法在降低生产能耗，提高生产效率的基础上改进产品性能。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供了一种制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法。该工艺方法不仅在初次再结晶开始温度范围内开始渗氮，并通过不同板厚控制氮含量和脱碳过程中内氧化层形成来减少氮的逃逸有助于形成稳定的氮化物析出相。而且，控制渗氮脱碳后的初次再结晶晶粒表层较小且与中心层晶粒尺寸比值在合适范围之内，增加了高斯晶核数量，减少成品晶粒尺寸以达到降低铁损目的。从而实现了改善产品铁损和确保性能稳定的双重目的。

为实现上述目的，本发明公开了一种制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，它包括连铸成坯、铸坯加热、热轧、常化退火、冷轧、连续渗氮及脱碳退火、表面涂覆、卷取、高温退火、拉伸、平整、涂覆绝缘层及干燥固化退火；

其中，所述连续渗氮及脱碳退火工艺具体包括如下过程：

1)冷轧板升温至500～670℃之间均热并进行渗氮处理，渗氮气氛为NH₃+N₂+H₂的混合气；

2)根据均热渗氮处理时间来控制渗氮-脱碳退火完成后钢带渗氮增量△N，所述钢带渗氮增量△N满足如下式I数学关系式：

其中，△N，钢带渗氮增量，单位，ppm；

t，渗氮处理时间，单位，s；

D，钢带厚度，单位，mm；

3)升温到820～860℃之间均热并进行脱碳退火处理，脱碳退火时间为120～360s，脱碳完成后检测钢带碳含量和渗氮增量△N，控制脱碳后钢带中碳含量低于5ppm，控制钢带渗氮增量△N满足如下式II数学关系式：

(185-155×D)≤△N≤(198-91×D) 式II；

4)待完成渗氮及脱碳退火工艺后，钢带轧向截面上晶粒分布特征为，钢带上下表面到各距其1/4厚度区间内的晶粒平均尺寸与距钢带轧向截面中心线上下1/4厚度区间内的晶粒平均尺寸之比n*≤0.76；并且比值n*满足如下式III数学关系式：

其中，n₂为轧向截面中心线上下1/4厚度区间内的晶粒数量；

n₁为钢带上下表面到各距其1/4厚度区间内的晶粒数量。

进一步地，步骤1)中，所述NH₃的体积百分含量A满足如下式IV数学关系式：

A＝0.165×10^-6×T²-0.962×10^-4×T+0.055 式IV；

其中，T为渗氮处理温度，单位，℃。

进一步地，步骤1)中，所述N₂与H₂的体积比为1:3。

进一步地，步骤3)中，脱碳退火气氛为加湿的N₂+H₂混合气，其中水蒸气分压比p＝p_水蒸气/p_氢气为0.27～0.35。

进一步地，所述高磁感取向硅钢以质量百分比为计包括如下组分；

C:0.035％～0.060％、Si:2.55～3.55％、Als:0.0100～0.0350％、Mn:0.03～0.2％、S:0.0020～0.0100％、N:0.0040～0.0100％、Cu＜0.07％，Cr:0.03～0.2％，其余为Fe和不可避免夹杂物。

进一步地，所述高磁感取向硅钢以质量百分比为计包括如下组分；

C:0.035％～0.060％、Si:3.0～3.3％、Als:0.0100～0.0350％、Mn:0.085～0.095％、S:0.0020～0.0100％、N:0.0062～0.0086％、Cu＜0.04％，Cr:0.03～0.16％，其余为Fe和不可避免夹杂物。

进一步地，所述铸坯加热工艺包括控制加热温度1100～1250℃。

进一步地，所述热轧工艺包括常规热轧成厚度为1.5～3.8mm规格的热轧卷。

进一步地，所述冷轧工艺包括按照87～92％的压下率冷轧至不超过0.30mm厚的成品。

进一步地，所述高温退火包括控制净化温度在1150℃～1250℃之间，退火结束后钢带中氮含量和硫含量均不高于10ppm。

优选的，所述表面涂覆为涂覆MgO隔离剂。

本发明工艺方法的原理在于：将传统的渗氮处理从脱碳退火后提前到脱碳退火的升温阶段的低温段进行，避免了其他技术中如常化渗氮层经酸洗难以保留，以及传统渗氮在较高温度下进行效率低下、初次再结晶难以控制以及内氧化层形成后受渗氮处理影响等弊端，具有渗氮效率高，能源介质损耗小，成品表面质量好，磁性能优异等优势。其中，具体工艺参数的原理如下：

(1)本发明之所以提出较低的渗氮温度范围在500～670℃之间，是因为该温度区域为Fe+3％Si合金取向硅钢的初次再结晶开始发生的温度，细小均匀的初次晶粒在此温度条件下快速形成，此时具有最多的初次再结晶晶粒和晶界数量，有助于渗氮效率的提升，同时渗氮处理的提前介入很好地抑制表层初次再结晶长大。

(2)本发明之所以提出不同渗氮温度条件下所需要的渗氮介质氨气的消耗量占渗氮混合气的体积百分比，是因为在500℃～1100℃范围内的渗氮过程中氨气随着渗氮温度的升高分解率也越高，钢带吸附的活性氮原子也越少，渗氮效率会有所下降，本发明依据大量试验结果提出渗氮过程氨气消耗量同渗氮温度的非线性关系A＝0.165×10^-6×T²-0.962×10^-4×T+0.055；

(3)本发明依据渗氮-脱碳后不同厚度产品所需要的增氮量△N来保障最终产品磁性能，通过试验发现△N的最佳控制范围与冷轧卷厚度有线性关系，从而提出了保障不同厚度产品性能稳定的合适渗氮量的方法；

(4)本发明之所以提出水蒸气分压比p＝p_水蒸气/p_氢气为0.27～0.35范围，是因为该脱碳气氛下能够生成合适内氧化层，减轻前期低温渗氮在脱火过程中的逃逸，从而保障渗氮-脱碳退火完成后渗氮增量△N在目标控制范围。

(5)本发明之所以提出渗氮-脱碳退火表层与中心层的晶粒平均尺寸之比n*≤0.76，是因为该发明技术能够有效保障渗氮层深度，在初次再结晶长大和粗化之前就成功抑制表层初次晶粒长大，脱碳退火完成后表层晶粒尺寸小于中心层且在合适比例值n*范围之内。从电工钢材料学原理上分析是由于高斯晶核主要形成于表层的初次晶粒中，表层晶粒尺寸减小有利于获得细小、更多数量的高斯晶核作为二次再结晶晶核，从而减小成品晶粒尺寸，利于低温高磁感取向硅钢的铁损降低。并且按照公式III计算不同区域内平均晶粒尺寸比值n*，这是因为钢带上下表面到各距其1/4厚度范围的面积与轧向截面中心线上下1/4厚度范围面积相等(如图1所示，S₁＝S₂)，观测出两个区域的晶粒数目n₁和n₂之后，由于平均半径

可以推算出公式式III。

因此，本发明与现有技术相比，解决了传统工艺渗氮处理的弊端，由于在低温段提前渗氮对初次再结晶进行有效抑制，减少了低温高磁感取向硅钢对MnS、AlN这类先天抑制剂的依赖，拓宽了取向硅钢合金冶炼控制窗口，如Mn这类先天抑制剂形成元素含量较宽，后天抑制剂形成元素Als的含量要求范围也较快，因而实际生产的性能稳定性较好。并且提高了渗氮效率，减少渗氮介质消耗。同时避免了脱碳后氧化层被渗氮处理破坏，有利于提高产品表面质量。最终产品磁感不低于1.914T，附着性不低于B级水平，且同等规格产品的铁损值相对传统工艺至少下降4.8％以上。

本发明的有益效果主要体现在如下几个方面：

1、本发明解决了现有技术中所述渗氮效率低下、成本较高的问题，并且不同于传统的冷轧后脱碳前渗氮技术，在初次再结晶开始温度范围内开始渗氮，并通过不同板厚控制氮含量和脱碳过程中内氧化层形成来减少氮的逃逸有助于形成稳定的氮化物析出相。并且该方法控制渗氮脱碳后的初次再结晶晶粒表层较小且与中心层晶粒尺寸比值在合适范围之内，增加了高斯晶核数量，减少成品晶粒尺寸以达到降低铁损目的；达到改善产品铁损和确保性能稳定的双重目的。

2、本发明方法中按实施例所生产的低温高磁感取向硅钢产品在较低的温度下进行渗氮处理，渗氮介质消耗至少降低了5.7％；相同规格的最终产品中，采用实施例工艺磁性能B800平均值在1.914T以上，铁损P17/50较对比例降低4.8％以上；且本发明内产品附着性评级均达到B级及以上。

附图说明

图1为本发明钢带截面晶粒统计示意图；

其中，图1中S₁代表钢带上下表面到各距其1/4厚度区间的划分，S₂代表轧向截面中心线上下1/4厚度区间。

具体实施方式

为了更好地解释本发明，以下结合具体实施例进一步阐明本发明的主要内容，但本发明的内容不仅仅局限于以下实施例。

本发明公开了一种制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，它包括如下工艺流程：

(1)按照组分及重量百分比含量为：C:0.035％～0.060％、Si:2.55～3.55％、Als:0.0100～0.0350％、Mn:0.03～0.2％、S:0.0020～0.0100％、N:0.0040～0.0100％、Cu＜0.07％，Cr:0.03～0.2％,其余为Fe和不可避免夹杂物进行冶炼；

(2)连铸成坯后对铸坯进行加热，加热温度控制在1100～1250℃；

(3)常规热轧成厚度为1.5～3.8mm规格的热轧卷，并经常化退火；

(4)按照87～92％的压下率冷轧至不超过0.30mm厚的成品厚度；

(5)冷轧板经常规碱洗后进行连续渗氮-脱碳退火：

5.1)升温到500～670℃之间均热进行渗氮处理，渗氮气氛为NH₃+N₂+H₂的混合气(其中N₂:H₂＝1:3)，同时依据渗氮处理温度，所采用的氨气体积百分比A满足下式IV关系：

A＝0.165×10^-6×T²-0.962×10^-4×T+0.055 式IV；

其中，T为渗氮处理温度，单位，℃。

5.2)根据均热渗氮处理时间来控制渗氮-脱碳退火完成后钢带渗氮增量，均热渗氮处理时间来控制渗氮-脱碳退火完成后钢带渗氮增量△N的方法是按照下式式I关系：

其中，△N，钢带渗氮增量，单位，ppm；

t，渗氮处理时间，单位，s；

D，钢带厚度，单位，mm。

5.3)升温到820～860℃之间均热进行脱碳退火处理，脱碳退火气氛为加湿的N₂+H₂混合气，其中水蒸气分压比p＝p_水蒸气/p_氢气为0.27～0.35，脱碳退火时间为120～360s。脱碳完成后进行钢带碳含量和渗氮增量△N的检测，控制脱碳后钢带中碳含量低于5ppm，控制钢带渗氮增量符合式II；(185-155×D)≤△N≤(198-91×D)式II；

5.4)按上述步骤完成渗氮-脱碳退火后，其在钢带轧向截面上晶粒分布的特征在于，钢带上下表面到各距其1/4厚度范围内的晶粒平均尺寸与剩余范围内(距钢带轧向截面中心线上下1/4厚度范围内)的晶粒平均尺寸之比n*≤0.76；并且n*按照下式III进行计算：

其中，n₂为轧向截面中心线上下1/4厚度区间内的晶粒数量；

n₁为钢带上下表面到各距其1/4厚度区间内的晶粒数量。

(6)脱碳退火后钢带表面涂覆高温退火隔离剂，然后卷取；

(7)进行常规高温退火，高温退火净化温度在1150℃～1250℃之间，退火结束后钢带中氮含量和硫含量不高于10ppm；

(8)进行常规的拉伸、平整、涂覆绝缘层及干燥固化退火；待用。

按照上述合金元素组成及工艺过程及参数制备低温高磁感取向硅钢，得到表1、表2和表3，其中，实施例1～11的渗氮方式为本发明脱碳退火升温过程的低温段均热渗氮处理；对比例1～11的渗氮方式为传统的脱碳退火后渗氮处理；

表1各实施例及对比例的元素组成

表2各实施例及对比例的工艺参数列表

表3各实施例及对比例的材料参数和产品磁性

由上述表1、表2及表3可知，采用本发明的加热段低温渗氮工艺相与传统脱碳渗氮工艺相比，采用相同渗氮时间达到相同的增氮量△N，渗氮介质的气量节约5.7％～64.5％，产品表面附着性达到B级及以上。产品磁感不低于1.914T，相较于对比例产品铁损P_17/50至少降低了4.8％以上。

按照上述合金元素组成及工艺过程与参数制备低温高磁感取向硅钢，得到表4、表5和表6，其中，实施例12～17为按照上述金元素组成及工艺过程与参数，对比例12～17为不在上述范围内。

表4各实施例及对比例的元素组成

表5各实施例及对比例的工艺参数列表

表6实施例与对比例的材料参数和产品磁性

其中，上述表格中的附着性等级标准是按照GB/T2522-2007进行判定。

由上述表4、表5及表6可知，只有当渗氮工艺和脱碳工艺在本申请要求范围内，产品磁性能才较好，在本申请保护范围以外的，即使采用了渗氮-脱碳工艺，产品磁性能或表面附着性质量均会受到影响。

以上实施例仅为最佳举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。除上述实施例外，本发明还有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，它包括连铸成坯、铸坯加热、热轧、常化退火、冷轧、连续渗氮及脱碳退火、表面涂覆、卷取、高温退火、拉伸、平整、涂覆绝缘层及干燥固化退火；

其中，所述连续渗氮及脱碳退火工艺具体包括如下过程：

1)冷轧板升温至500～670℃之间均热并进行渗氮处理，渗氮气氛为NH₃+N₂+H₂的混合气；

2)根据均热渗氮处理时间来控制渗氮-脱碳退火完成后钢带渗氮增量△N，所述钢带渗氮增量△N满足如下式I数学关系式：

其中，△N，钢带渗氮增量，单位，ppm；

t，渗氮处理时间，单位，s；

D，钢带厚度，单位，mm；

3)升温到820～860℃之间均热并进行脱碳退火处理，脱碳退火时间为120～360s，脱碳完成后检测钢带碳含量和渗氮增量△N，控制脱碳后钢带中碳含量低于5ppm，控制钢带渗氮增量△N满足如下式II数学关系式：

(185-155×D)≤△N≤(198-91×D)式II；

4)待完成渗氮及脱碳退火工艺后，钢带轧向截面上晶粒分布特征为，钢带上下表面到各距其1/4厚度区间内的晶粒平均尺寸与距钢带轧向截面中心线上下1/4厚度区间内的晶粒平均尺寸之比n*≤0.76；并且比值n*满足如下式III数学关系式：

其中，n₂为轧向截面中心线上下1/4厚度区间内的晶粒数量；

n₁为钢带上下表面到各距其1/4厚度区间内的晶粒数量。

2.根据权利要求1所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，其特征在于：步骤1)中，所述NH₃的体积百分含量A满足如下式IV数学关系式：

A＝0.165×10^-6×T²-0.962×10^-4×T+0.055式IV；

其中，T为渗氮处理温度，单位，℃。

3.根据权利要求1所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，其特征在于：步骤1)中，所述N₂与H₂的体积比为1:3。

4.根据权利要求1所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，其特征在于：步骤3)中，脱碳退火气氛为加湿的N₂+H₂混合气，其中水蒸气分压比p＝p_水蒸气/p_氢气为0.27～0.35。

5.根据权利要求1～4中任意一项所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，其特征在于：所述高磁感取向硅钢以质量百分比为计包括如下组分；

C:0.035％～0.060％、Si:2.55～3.55％、Als:0.0100～0.0350％、Mn:0.03～0.2％、S:0.0020～0.0100％、N:0.0040～0.0100％、Cu＜0.07％，Cr:0.03～0.2％，其余为Fe和不可避免夹杂物。

6.根据权利要求5所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，其特征在于：所述高磁感取向硅钢以质量百分比为计包括如下组分；

C:0.035％～0.060％、Si:3.0～3.3％、Als:0.0100～0.0350％、Mn:0.085～0.095％、S:0.0020～0.0100％、N:0.0062～0.0086％、Cu＜0.04％，Cr:0.03～0.16％，其余为Fe和不可避免夹杂物。

7.根据权利要求1～4中任意一项所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，其特征在于：所述铸坯加热工艺包括控制加热温度1100～1250℃。

8.根据权利要求1～4中任意一项所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，其特征在于：所述热轧工艺包括常规热轧成厚度为1.5～3.8mm规格的热轧卷。

9.根据权利要求1～4中任意一项所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，其特征在于：所述冷轧工艺包括按照87～92％的压下率冷轧至不超过0.30mm厚的成品。

10.根据权利要求1～4中任意一项所述制备低温高磁感取向硅钢的工艺方法，其特征在于：所述高温退火包括控制净化温度在1150℃～1250℃之间，退火结束后钢带中氮含量和硫含量均不高于10ppm。