CN109727892A - 用于使窗面板循环的设备 - Google Patents
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Abstract
提供一种用于使窗面板循环的设备。用于使窗面板循环的设备可包括被构造为支撑窗面板的平台、激光源和冷却气体源。窗面板可包括基体基底和直接设置在基体基底的一个表面上的光屏蔽图案。激光源可将激光束照射到光屏蔽图案；并且冷却气体源可将冷却气体供应到光屏蔽图案的激光束照射到的区域。
Description
技术领域
本公开在此涉及一种用于使窗面板循环的设备和一种用于使窗面板循环的方法，更具体地，涉及能够使窗面板的基体基底循环的用于使窗面板循环的设备以及用于使窗面板循环的方法。
背景技术
一直在开发诸如智能电话、平板PC、笔记本电脑、智能电视机的电子装置。电子装置包括显示装置以提供信息。除显示装置之外，电子装置还包括各种电子模块。
电子装置包括窗面板，该窗面板提供设置在最外部并且其上显示有图像的显示表面。边框区域限定在窗面板的边缘上。
发明内容
本公开提供一种用于使窗面板循环的设备，该设备能够使基体基底循环而不损坏基体基底。
本公开还提供一种用于使窗面板循环的方法，该方法能够使基体基底循环而不损坏基体基底。
发明构思的实施例提供用于使窗面板循环的设备，该设备包括：平台，被构造为支撑窗面板，窗面板包括基体基底和直接设置在基体基底的一个表面上的光屏蔽图案；激光源，被构造为将激光束照射到光屏蔽图案；以及冷却气体源，被构造为将冷却气体供应到光屏蔽图案的激光束照射到的区域。
在实施例中，所述设备还可包括：织物；以及垫，被构造为使织物接触激光束照射到的光屏蔽图案。
在实施例中，基体基底可包括平面部分以及从平面部分延伸并具有弯曲表面的弯曲部分，并且光屏蔽图案可与弯曲部分的至少一部分叠置。
在实施例中，光屏蔽图案还可与平面部分的一部分叠置。光屏蔽图案可包括直接设置在基体基底的一个表面上的至少一个着色层以及设置在着色层上的覆盖层。
在实施例中，所述设备还可包括被构造为调整平台的倾斜角度的驱动构件。
在实施例中，光屏蔽图案还可与平面部分的一部分叠置。激光源可将激光束照射到光屏蔽图案的在平台的水平状态下与平面部分叠置的一部分，并且激光源可将激光束照射到光屏蔽图案的在平台的倾斜状态下与弯曲部分叠置的一部分。
在实施例中，平台的在水平状态下支撑窗面板的支撑表面可通过彼此垂直的第一方向轴和第二方向轴限定，并且所述设备还可包括被构造为使平台在第一方向轴和第二方向轴上移动的驱动构件。
在实施例中，冷却气体源在平面上与激光源相比可设置在基体基底的内侧上。冷却气体在平面上可从基体基底的内侧朝向基体基底的外侧供应。
在实施例中，基体基底的一个表面可比基体基底的另一表面更远离平台的支撑表面设置。激光源可以是被构造为将激光束照射到基体基底的一个表面的CO2激光源。
在实施例中，CO2激光源可具有大约10mW至大约1000W的输出。
在实施例中，基体基底的一个表面可比基体基底的另一表面更靠***台的支撑表面设置。激光源可以是被构造为将激光束朝向基体基底的另一表面照射的UV激光源。
在实施例中，设备可包括平台、激光源和驱动构件。平台可支撑窗面板。窗面板可包括：基体基底，包括平面部分以及从平面部分延伸并具有弯曲表面的弯曲部分；以及光屏蔽图案，与弯曲部分的至少一部分叠置并直接设置在基体基底的一个表面上。激光源可将激光束照射到光屏蔽图案。驱动构件可调整平台的倾斜角度。
在实施例中，光屏蔽图案还可设置在平面部分的一部分上。激光源可将激光束照射到光屏蔽图案的在平台的水平状态下与平面部分叠置的一部分。激光源可将激光束照射到光屏蔽图案的在平台的倾斜状态下与弯曲部分叠置的一部分。
在实施例中，用于使窗面板循环的方法可包括：将窗面板与显示模块分离；将激光束照射到窗面板的光屏蔽图案；将冷却气体供应到光屏蔽图案的激光束照射到的区域；以及去除激光束照射到的光屏蔽图案。
在实施例中，分离窗面板的步骤可通过使用液氮来冷却设置在显示模块与窗面板之间的粘合剂构件，以将显示模块与窗面板彼此分离。
在实施例中，照射激光束的步骤和供应冷却气体的步骤可同时执行。
在实施例中，窗面板可包括平面部分以及从平面部分延伸并具有弯曲表面的弯曲部分，可将激光束照射到光屏蔽图案的在窗面板的水平状态下与平面部分叠置的一部分，并且可将激光束照射到光屏蔽图案的在窗面板的倾斜状态下与弯曲部分叠置的一部分。
在实施例中，去除光屏蔽图案的步骤可包括通过使用织物擦磨激光束照射到的光屏蔽图案。
在实施例中，在供应冷却气体的步骤中，在平面上可从窗面板的内侧朝向窗面板的外侧供应冷却气体。
在实施例中，可从CO2激光源或UV激光源供应激光束。
附图说明
包括附图以提供对发明构思的进一步理解，附图包含在本说明书中并构成本说明书的一部分。附图示出了发明构思的示例性实施例，并且与描述一起用于解释发明构思的原理。在附图中：
图1是示出根据发明构思的实施例的显示装置的透视图；
图2A至图2C是示出根据发明构思的实施例的显示装置的剖视图；
图3是示出根据发明构思的实施例的用于使窗面板循环的方法的流程图；
图4A至图4C是示出根据发明构思的实施例的窗面板的透视图；
图5A至图5C是示出根据发明构思的实施例的窗面板的一部分的剖视图；
图6A和图6B是示出用于使窗面板循环的直列式设备的视图；
图7A是示出根据发明构思的实施例的用于使窗面板循环的设备的透视图；
图7B是示出根据发明构思的实施例的用于使窗面板循环的设备的侧视图；
图7C和图7D是示出根据发明构思的实施例的用于使窗面板循环的设备的平台的操作的视图；
图7E是示出激光束的扫描操作的视图；
图8A至图8C是示出根据发明构思的实施例的用于使窗面板循环的设备的操作的视图；
图9是示出根据发明构思的实施例的用于使窗面板循环的设备的操作的视图；以及
图10是示出根据发明构思的实施例的用于使窗面板循环的设备的侧视图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图来描述本发明的实施例。在该说明书中，还将理解的是，当一个组件(或区域、层、部分)被称作“在”另一组件“上”、“连接到”或“结合到”另一组件时，所述一个组件可直接设置在所述另一组件上、连接/结合到所述另一组件，或者也可存在中间第三组件。
同样的附图标记始终表示同样的元件。此外，在附图中，为了说明的清楚性，夸大了组件的厚度、比例和尺寸。术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任意组合和所有组合。
将理解的是，尽管这里使用诸如“第一”、“第二”的术语来描述各种元件，但是这些元件不应该被这些术语限制。术语仅用于将一个组件与其它组件区分开。例如，在不脱离所附权利要求的范围的情况下，在一个实施例中被称作第一元件的第一元件在另一实施例中可被称作第二元件。除非相反指出，否则单数形式的术语可包括复数形式。
此外，使用“在……下面”、“在……下方”、“在……上方”、“上面的”等来解释附图中所示的组件的相关组合。术语可以是相对概念并基于附图中表示的方向进行描述。
“包括”或“包含”的意思指定特性、固定数量、步骤、操作、元件、组件或其组合，但不排除其它特性、固定数量、步骤、操作、元件、组件或其组合。
图1是示出根据发明构思的实施例的显示装置DD的透视图。
如图1所示，显示装置DD可通过显示表面DD-IS显示图像IM。可根据是否显示图像IM将显示表面DD-IS分成不同的区域。显示表面DD-IS可包括其上显示有图像IM的显示区域DD-DA和与显示区域DD-DA相邻的非显示区域DD-NDA。非显示区域DD-NDA可形成电子装置的边框。非显示区域DD-NDA可围绕显示区域DD-DA。然而，发明构思的实施例不限于此。例如，显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA可以在形状上相对地设计。例如，非显示区域DD-NDA可仅设置于在第一方向轴DR1上面对的区域上。
可根据显示图像IM所沿的方向将显示表面DD-IS分成不同的区域。显示表面DD-IS可包括平面区域DD-F以及弯曲区域DD-C1和DD-C2。示例性地示出了包括两个弯曲区域DD-C1和DD-C2的显示表面DD-IS。
平面区域DD-F平行于由第一方向轴DR1和第二方向轴DR2限定的表面。平面区域DD-F的法线方向(即显示装置DD的厚度方向)表示第三方向轴DR3。在显示图像IM所沿的方向被设定为与第三方向轴DR3相同的状态下，每个构件或单元的顶表面(或前表面)和底表面(或后表面)由第三方向轴DR3区分。在下文中，第一方向至第三方向可以分别是由第一方向轴DR1、第二方向轴DR2和第三方向轴DR3指示的方向，并分别由相同的附图标记表示。
弯曲区域DD-C1和DD-C2从平面区域DD-F延伸并具有弯曲的外表面。第一弯曲区域DD-C1可大体上在第四方向轴DR4上显示图像IM，第二弯曲区域DD-C2可大体上在第五方向轴DR5上显示图像IM。
尽管示出了包括三维形状的显示表面的显示装置DD，但是发明构思的实施例不限于此。例如，显示装置DD可包括弯曲型显示表面或平面型显示表面。
根据实施例的显示装置DD可以是刚性显示装置。然而，发明构思的实施例不限于此。例如，根据发明构思的实施例的显示装置DD可以是柔性显示装置DD。在实施例中，示例性地示出了可应用于移动终端的显示装置DD。虽然未示出，但是安装在主板上的电子模块、相机模块和电源模块可与显示装置DD一起设置在支架或壳体上以构成移动终端。根据发明构思的实施例的显示装置DD可用于诸如电视机和显示器的大尺寸电子装置以及诸如平板PC、车载导航单元、游戏控制台、智能手表的中小尺寸电子装置。
图2A至图2C是示出根据发明构思的实施例的显示装置DD的剖视图。图2A至图2C示出了由第二方向轴DR2和第三方向轴DR3限定的剖面。为了解释构成显示装置DD的功能面板和/或功能单元之间的层叠关系，以简化的方式示出了图2A至图2C。此外，图1中的弯曲区域DD-C1和DD-C2在图2A至图2C中以未折叠的状态示出。
根据发明构思的实施例的显示装置DD可包括显示模块DM和窗面板WP。显示模块DM可包括显示面板、保护构件、输入感测单元和抗反射单元。构成显示模块DM的显示面板、输入感测单元和抗反射单元的至少一部分可通过连续的工艺形成，或者可通过使用粘合剂构件彼此结合。在发明构思的实施例中，抗反射单元、输入感测单元和保护构件可由其它组件代替或省略。
在图2A至图2C中，压敏粘合剂膜(PSA)示例性地示出为粘合剂构件。在下文中，粘合剂构件可包括典型的粘合剂或粘附剂。然而，发明构思的实施例不限于此。
在图2A至图2C中，输入感测单元和抗反射单元的通过连续的工艺与另一组件形成的相应组件被称作“层”。输入感测单元和抗反射单元的通过粘合剂构件结合到另一组件的组件被称作“面板”。虽然所述面板包括提供基体表面的基体层(诸如合成树脂膜、复合材料膜和玻璃基底)，但是所述“层”可不包括所述基体层。即，由所述“层”表述的上述单元设置在由另一单元提供的基体表面上。根据是否存在基体层，输入感测单元和抗反射单元可被称作输入感测面板ISP和抗反射面板RPP或者输入感测层ISL和抗反射层。
如图2A所示，显示装置DD可包括显示模块DM和窗面板WP。显示模块DM可包括显示面板DP、保护构件PF、输入感测层ISL和抗反射面板RPP。压敏粘合剂膜(PSA)设置在输入感测层ISL与抗反射面板RPP之间以及设置在抗反射面板RPP与窗面板WP之间。输入感测层ISL直接设置在显示面板DP上。在该说明书中，“组件B1直接设置在组件A1上”的用语表示组件A1与组件B1之间不存在额外的粘合剂构件。在组件A1形成之后，组件B1通过连续的工艺形成在由组件A1提供的基体表面上。
显示面板DP生成图像，输入感测层ISL获取外部输入(例如，触摸事件)的坐标。保护构件PF支撑显示面板DP并保护显示面板DP免受外部冲击。
尽管根据发明构思的实施例的显示面板DP可以是发光型显示面板，但是发明构思的实施例不限于此。例如，显示面板DP可以是有机发光显示面板或量子点发光显示面板。有机发光显示面板可包括包含有机发光材料的发光层。量子点发光显示面板可包括包含量子点、量子棒等的发光层。在下文中，显示面板DP将被描述为有机发光显示面板。
根据发明构思的实施例的输入感测层ISL可与静电电容式触摸面板基本相同。输入感测层ISL可包括点式传感器图案和连接到其的信号线。输入感测层ISL可包括彼此交叉的传感器电极和连接到其的信号线。
保护构件PF可包括作为基体层的塑料膜。保护构件PF可包括热塑性树脂。发明构思的实施例不限于用于形成保护构件PF的材料的塑料树脂。例如，形成保护构件PF的材料可包括有机/无机复合材料。保护构件PF可包括多孔的有机层和填充在有机层的孔中的无机材料。
抗反射面板RPP减小从窗面板WP的上侧入射到窗面板WP中的外部光的反射率。根据发明构思的实施例的抗反射面板RPP可包括延迟器和偏振器。延迟器可以是膜型或液晶涂覆型，并且包括λ/2延迟器和/或λ/4延迟器。此外，偏振器可以是膜型或液晶涂覆型。膜型可包括伸长式合成树脂膜，液晶涂覆型可包括以预定方位取向的液晶。延迟器和偏振器中的每个还可包括保护膜。延迟器、偏振器或其保护膜可被限定为抗反射面板RPP的基体层。
根据发明构思的实施例的抗反射面板RPP可包括滤色器。抗反射面板RPP还可包括与滤色器相邻的黑色矩阵。根据发明构思的实施例的抗反射面板RPP可包括相消干涉结构。例如，相消干涉结构可包括设置在彼此不同的层上的第一反射层和第二反射层。
根据发明构思的实施例的窗面板WP包括基体基底WP-BS和直接设置在基体基底WP-BS的一个表面上的光屏蔽图案WP-BZ。基体基底WP-BS可以是玻璃基底。然而，发明构思的实施例不限于此。例如，基体基底WP-BS可包括塑料基底。
光屏蔽图案WP-BZ与基体基底WP-BS部分地叠置。光屏蔽图案WP-BZ可设置在基体基底WP-BS的后表面上以限定显示装置DD的边框区域，即非显示区域DD-NDA(参照图1)。
光屏蔽图案WP-BZ可以是例如通过涂覆方法直接形成在基体基底WP-BS的后表面上的着色有机膜。尽管未单独示出，但是窗面板WP还可包括设置在基体基底WP-BS的前表面上的功能涂覆层。功能涂覆层可包括抗指纹层、抗反射层、硬质涂覆层。
在图2B和图2C中，简单示出了窗面板WP而未划分光屏蔽图案WP-BZ和基体基底WP-BS。如图2B和图2C所示，输入感测面板ISP和抗反射面板RPP可以按层叠顺序变化。
尽管未单独示出，但是可从根据发明构思的实施例的显示模块DM省略抗反射单元。根据实施例，输入感测单元或显示面板DP可包括滤色器或具有抗反射功能的相消干涉结构。
以这样的方式制造图2A至图2C中的显示装置DD：单独准备显示面板DP、输入感测单元、抗反射单元和窗面板WP，然后通过使用粘合剂构件PSA经由层叠工艺来层叠显示面板DP、输入感测单元、抗反射单元和窗面板WP。当完成显示装置DD的制造时，执行用于检验产品是否正常操作的检查工艺。
由于显示面板DP或输入感测单元具有自身缺陷，因此显示装置DD会异常操作。由于层叠工艺中的错误(未对准)，显示装置DD会被归类为异常产品。如上所述，当显示装置DD被确定为异常产品时，执行用于使窗面板WP循环的循环工艺。
图3是示出根据发明构思的实施例的用于使窗面板WP循环的方法的流程图。图4A至图4C是示出根据发明构思的实施例的窗面板WP的透视图。图5A至图5C是示出根据发明构思的实施例的窗面板WP的部分剖视图(即沿图4A中的线I-I'截取的剖视图)。在下文中，将参照图3描述用于使窗面板WP循环的方法(在下文中，被称作“窗面板循环方法”)。
如图3所示，当显示装置DD被确定为异常产品时，在操作S10中，将窗面板WP与显示装置DD分离。发明构思的实施例不具体限于窗面板WP与显示模块DM的分离方法。
在发明构思的实施例中，可通过使用液氮来冷却设置在显示模块DM与窗面板WP之间的粘合剂构件PSA(参照图2A)，然后显示模块DM和窗面板WP可彼此分离。当将有缺陷的显示装置DD浸入填充有液氮的浴槽中时，粘合剂构件PSA被冷却并失去粘合强度。因此，显示模块DM和窗面板WP可以容易地分离而不在窗面板WP上产生划伤。
图4A至图4C示出了与显示装置DD分离的窗面板WP。图4A至图4C示出了窗面板WP的后表面设置在上侧的状态。
图4A示出了图1中的与显示装置DD分离的窗面板WP。窗面板WP包括基体基底WP-BS和光屏蔽图案WP-BZ。基体基底WP-BS包括分别与图1中的平面区域DD-F以及弯曲区域DD-C1和DD-C2对应的平面区域WP-F以及弯曲区域WP-C1和WP-C2。弯曲区域WP-C1和WP-C2可通过弯折平坦基底的两个侧边缘形成。弯曲区域WP-C1和WP-C2中的每个可具有预定的曲率。弯曲区域WP-C1和WP-C2中的每个具有至少弯曲的外表面。
光屏蔽图案WP-BZ包括与平面区域WP-F叠置而在第一方向轴DR1上彼此间隔开的第一部分WP-BZ1和第二部分WP-BZ2以及与弯曲区域WP-C1和WP-C2叠置而在第二方向轴DR2上彼此间隔开的第三部分WP-BZ3和第四部分WP-BZ4。在实施例中，尽管第三部分WP-BZ3和第四部分WP-BZ4与第一弯曲区域WP-C1和第二弯曲区域WP-C2部分叠置，但是发明构思的实施例不限于此。
在实施例中，尽管第一部分WP-BZ1至第四部分WP-BZ4可通过相同的工艺形成并具有彼此相同的层叠结构，但是发明构思的实施例不限于此。之后将参照图5A描述层叠结构。
如图4B和图4C所示，基体基底WP-BS可具有二维形状。可省略图4A中的弯曲区域WP-C1和WP-C2。如图4B和图4C所示，第三部分WP-BZ3和第四部分WP-BZ4可设置为与平面区域叠置。
如图4C所示，基体基底WP-BS可具有通过抛光工艺被倒圆的拐角区域。如图4C所示，第一部分WP-BZ1和第二部分WP-BZ2可具有彼此不同的形状。第一部分WP-BZ1可包括具有相对小的宽度(在第一方向轴DR1上的长度)的区域和具有相对大的宽度的区域。
在发明构思的实施例中，可省略图4A至图4C中的第一部分WP-BZ1和第二部分WP-BZ2或者第三部分WP-BZ3和第四部分WP-BZ4。在发明构思的实施例中，可省略图4A至图4C中的第一部分WP-BZ1至第四部分WP-BZ4中的一个或更多个。
虽然未具体示出，但是光屏蔽图案WP-BZ的部分区域中可限定开口。开口对应于光经由其提供到电子装置的光学传感器的通路。
如图5A至图5C所示，光屏蔽图案WP-BZ可包括至少一个有机层。光屏蔽图案WP-BZ可包括直接设置在基体基底WP-BS的一个表面(参照图2A中的显示装置DD的后表面)上的至少一个着色层WP-BZC以及设置在着色层WP-BZC上的覆盖层WP-BZV。示例性地示出了双层的着色层WP-BZC。
着色层WP-BZC可以是包含染料或颜料的合成树脂层。可根据染料或颜料确定诸如白色、蓝色、红色或黑色的颜色。多个着色层WP-BZC中的至少一个可具有黑色。
着色层WP-BZC可通过在基体基底WP-BS上直接印刷包含染料或颜料的合成树脂组合物然后干燥该合成树脂组合物来形成。合成树脂组合物还可包括光引发剂或分散剂。着色层WP-BZC可包含丙烯酸类材料。
覆盖层WP-BZV可包含相对于着色层WP-BZC具有较大粘合强度的材料。着色层WP-BZC可包含聚酯类材料。在发明构思的实施例中，可省略覆盖层WP-BZV。
在将窗面板WP与显示模块DM分离的工艺中，每个区域显示不同的结果。如图5A所示，显示模块DM和窗面板WP可彼此正常分离。如图5B所示，粘合剂材料的残留物PSA-R会保留在覆盖层WP-BZV上。此外，如图5C所示，覆盖层WP-BZV的一部分会被去除。根据情况，着色层WP-BZC也可能被去除。
如图5A至图5C所示，由于光屏蔽图案WP-BZ的状态对每个区域来说不同，因此在操作S20中，如图3中的去除光屏蔽图案WP-BZ以重复使用基体基底WP-BS。
根据发明构思的实施例，不直接去除(抛光或剥离)相对于基体基底WP-BS具有大的结合力的光屏蔽图案WP-BZ。去除光屏蔽图案WP-BZ的工艺包括将激光束照射到光屏蔽图案WP-BZ的工艺。当形成光屏蔽图案WP-BZ的合成树脂的化学链被切断时，光屏蔽图案WP-BZ相对于基体基底WP-BS的结合力减弱。
此后，清除激光束照射到的光屏蔽图案WP-BZ。通过使用织物擦磨激光束照射到的光屏蔽图案WP-BZ。即使通过小的外力，也可以容易地去除其化学键被切断的光屏蔽图案WP-BZ。由于未将大的外力直接施加到基体基底WP-BS，因此可防止基体基底WP-BS在循环工艺中受到损坏(或刮伤)。在下文中，将参照用于使窗面板循环的设备WRE(在下文中，被称作“窗面板循环设备”)更详细地描述窗面板循环方法。
图6A和图6B是示出直列式布置的窗面板循环设备WRE的视图。图6A是平面图，图6B是侧视图。图7A是示出根据发明构思的实施例的面板循环设备WRE的透视图。图7B是示出根据发明构思的实施例的窗面板循环设备WRE的侧视图。图7C和图7D是示出根据发明构思的实施例的窗面板循环设备WRE的平台的操作的视图。图7E是示出激光束的扫描操作的视图。
如图6A和图6B所示，窗面板循环设备WRE可包括被分成多个区域的腔室CB。腔室CB可保持真空状态，并且在所述多个区域之间可应用用于保持真空状态的入口***。
窗面板循环设备WRE可包括装载区域RA、激光照射区域RIA、清除区域CA和卸载区域URA，在装载区域RA中窗面板WP被装载在平台上，在激光照射区域RIA中激光束照射到窗面板WP，在清除区域CA中被激光束照射的光屏蔽图案WP-BZ被去除，在卸载区域URA中窗面板WP从平台卸载。
在图6A和图6B中，未示出窗面板循环设备WRE的平台。虽然未示出，但是机械臂可设置在装载区域RA和卸载区域URA上。平台可通过直列式***被传送到多个区域。然而，发明构思的实施例不具体限于此。
图7A和图7B示出了设置在激光照射区域RIA中的窗面板循环设备WRE。在图7B中，窗面板WP示出为沿第二方向轴DR2截取的平面区域的剖面。
窗面板循环设备WRE可包括支撑窗面板WP的平台TB、将激光束照射到光屏蔽图案WP-BZ的激光源RS以及将冷却气体供应到光屏蔽图案WP-BZ的激光束照射到的区域的冷却气体源CGS。激光源RS和冷却气体源CGS可结合到支撑主体SP。支撑主体SP可将激光源RS和冷却气体源CGS固定在特定位置处。
尽管在图7A和图7B中平台TB具有平坦的支撑表面，但是平台TB的形状可以变化。例如，平台TB可包括用于牢固地支撑窗面板WP的凹槽和/或突出部。
激光源RS可以是CO2激光源或UV激光源。然而，发明构思的实施例不限于此。激光束可具有大约700nm至20μm的波长。激光束可具有大约10mW至大约1000W的输出。激光束可具有大约1mm/s至大约1m/s的速度。激光束可具有大约1μm至1mm的焦深(DOF)。激光束可具有直径为大约1μm至1cm的光斑。激光束可具有大约1fs至1μs的脉冲持续时间。
冷却气体源CGS可将氮气输出到冷却气体中。冷却气体源CGS将冷却气体供应到光屏蔽图案WP-BZ的激光束照射到的区域。在照射激光束时，可同时供应冷却气体。
控制装置CM控制激光源RS、冷却气体源CGS和支撑主体SP。控制装置CM可控制从激光源RS输出的激光束的输出强度、波长、焦点、尺寸和脉冲持续时间。控制装置CM可调整冷却气体的输出强度，选择冷却气体的种类，并控制支撑主体SP的位置。控制装置CM可以是计算机***。
如图7B所示，窗面板循环设备WRE可包括控制平台TB的操作的驱动构件DDM。驱动构件DDM可传送平台TB，转动平台TB并调整平台TB的倾斜角度。驱动构件DDM可包括转动轴RRA和通过接合结构连接的支架F1、F2和F3。驱动构件DDM可具有与机械臂相似的结构。
图7C示出了通过驱动构件DDM以90°转动的平台TB，图7D示出了通过驱动构件DDM倾斜的平台TB。尽管在图7D中平台TB在第二方向轴DR2之内沿第三方向轴DR3倾斜，但是平台TB可在第一方向轴DR1之内沿第三方向轴DR3倾斜。
图7E示出了第一部分WP-BZ1的扫描路径。激光源RS操作以在第一点P1处形成激光束光斑。此后，当通过驱动构件DDM传送平台TB时，激光束光斑沿扫描路径移动。当平台TB在第一方向轴DR1上移动时，激光束光斑可从第一点P1移动到第二点P2。当平台TB在第二方向轴DR2上移动时，激光束光斑可从第二点P2移动到第三点P3。当平台TB在第一方向轴DR1和第二方向轴DR2上以重复的方式移动时，激光束光斑移动到第四点P4、第五点P5、第六点P6和最后一点Pf，完成了第一部分WP-BZ1的激光束扫描。
虽然在实施例中激光源RS固定，而平台TB移动，但是平台TB的平面位置可以固定，并且在激光源RS沿扫描路径移动的同时激光束照射到整个第一部分WP-BZ1。
图8A至图8C是示出根据发明构思的实施例的窗面板循环设备WRE的操作的视图。将描述用于从第一部分WP-BZ1到第四部分WP-BZ4依次照射激光束的方法。然而，发明构思的实施例不具体限于用于将激光束照射到第一部分WP-BZ1至第四部分WP-BZ4的方法。
在图8A中，激光束在第一模式M1下扫描第一部分WP-BZ1。以与参照图7E描述的方式相同的方式执行激光束扫描。如图8B所示，在窗面板WP的后表面WP-RS设置在顶侧并且窗面板WP的顶表面WP-FS设置在底部的状态下，激光束照射到光屏蔽图案WP-BZ。形成光屏蔽图案WP-BZ的合成树脂的化学链被激光束切断。当激光束的输出太高时，合成树脂会被点燃。因此，CO2激光源的输出被期望地调节为大约10mW至大约1000W。
图8B示出了激光源RS与冷却气体源CGS之间的相对位置关系。如在第一位置PP1中所示，冷却气体源CGS相对于激光源RS期望地设置在基体基底WP-BS的内侧上。设置在基体基底WP-BS的内侧上的冷却气体源CGS从基体基底WP-BS的内侧朝向基体基底WP-BS的外侧输出冷却气体。
如在第二位置PP2中所示，当冷却气体源CGS相对于激光源RS设置在基体基底WP-BS的外侧时，基体基底WP-BS会被污染。光屏蔽图案WP-BZ的有机材料会被瞬时点燃而合成污染物，并且污染物会通过冷却气体被吹到基体基底WP-BS的内侧。
在发明构思的实施例中，冷却气体源CGS可以在一定方向上变化。这里，可调整冷却气体的输出强度以防止基体基底WP-BS被污染物污染。再次参照图8A，在第一模式M1结束后，窗面板循环设备WRE在第二模式M2下操作。在上述工艺期间，平台TB可转动大约180°。激光束以与照射到第一部分WP-BZ1的方式相同的方式照射到第二部分WP-BZ2。
在第二模式M2结束后，平台TB可转动90°。如在图8C中，平台TB可在第三模式M3下倾斜。因此，可以以与第一模式M1类似的方式来调整形成在与第一弯曲区域WP-C1(参照图4A)叠置的第三部分WP-BZ3上的激光束光斑的焦点。由于可通过调整平台TB的倾斜角度来调整激光束的焦点，因此虽然窗面板WP具有三维形状，但是可均匀地去除光屏蔽图案WP-BZ。
窗面板循环设备WRE可以以与第三模式M3类似的方式在第四模式M4下操作。在上述工艺期间，平台TB可转动大约180°。因此，可以以与第一模式M1类似的方式来调整形成在与第二弯曲区域WP-C2(参照图4A)叠置的第四部分WP-BZ4上的激光束光斑的焦点。
虽然在实施例中，第三部分WP-BZ3和第四部分WP-BZ4分别与第一弯曲区域WP-C1和第二弯曲区域WP-C2叠置，但是发明构思的实施例不限于此。在发明构思的实施例中，第一部分WP-BZ1和第二部分WP-BZ2可分别与第一弯曲区域WP-C1和第二弯曲区域WP-C2叠置。这里，通过在第一模式M1和第二模式M2下调整平台TB的倾斜角度来控制激光束的焦点。
图9是示出根据发明构思的实施例的窗面板循环设备WRE的操作的视图。示出了设置在清除区域CA中的窗面板循环设备WRE。未示出支撑窗面板WP的平台TB。
窗面板循环设备WRE可包括织物FB和垫PD。当窗面板WP移动到清除区域CA中时，垫PD向下移动以使织物FB接触激光束照射到的光屏蔽图案WP-BZ。垫PD在平面上移动以擦磨光屏蔽图案WP-BZ，从而去除激光束照射到的光屏蔽图案WP-BZ。
织物FB可以是合成纤维。可选择地，织物FB可以是聚酯纤维。垫PD可以是硅垫或橡胶垫。
图10是示出根据发明构思的实施例的窗面板循环设备WRE的侧视图。在图10中，窗面板WP设置在平台TB上使得后表面WP-RS设置在下侧。
激光源RS朝向顶表面WP-FS照射激光束。冷却气体源CGS向顶表面WP-FS的激光束照射到的区域供应冷却气体。由于激光束的能量因基体基底WP-BS而减小，因此期望地使用具有相对大的能量的UV激光源。然而，发明构思的实施例不限于这种激光源。
如上所述，未直接去除(抛光或剥离)相对于基体基底具有大的结合力的光屏蔽图案。可通过激光束减弱光屏蔽图案的结合力，然后可通过使用织物去除光屏蔽图案。由于未将大的外力施加到基体基底，因此在循环工艺期间可防止基体基底受到损坏(刮伤)。
由于通过使用冷却气体来冷却光屏蔽图案的激光束照射到的区域，因此可防止基体基底被加热的黑色矩阵材料污染。可通过调整冷却气体的供应方向来防止基体基底的内侧区域被污染。
由于可通过调整平台的倾斜角度来控制激光束的焦点，因此虽然窗面板具有三维形状，但是可均匀地去除光屏蔽图案。
尽管已经描述了本发明的示例性实施例，但是应该理解的是，本发明不应限于这些示例性实施例，而是可以由本领域的普通技术人员在如要求的本发明的精神和范围内进行各种改变和修改。
因此，发明构思的实际的保护范围将由所附权利要求的技术范围来确定。
Claims (10)
1.用于使窗面板循环的设备，所述设备包括：
平台，被构造为支撑窗面板，所述窗面板包括基体基底和直接设置在所述基体基底的一个表面上的光屏蔽图案；
激光源，被构造为将激光束照射到所述光屏蔽图案；以及
冷却气体源，被构造为将冷却气体供应到所述光屏蔽图案的所述激光束照射到的区域。
2.根据权利要求1所述的设备，所述设备还包括：
织物；以及
垫，被构造为使所述织物接触所述激光束照射到的所述光屏蔽图案。
3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述基体基底包括平面部分以及从所述平面部分延伸并具有弯曲表面的弯曲部分，并且
所述光屏蔽图案与所述弯曲部分的至少一部分叠置。
4.根据权利要求3所述的设备，其中，所述光屏蔽图案还与所述平面部分的一部分叠置，并且
所述光屏蔽图案包括直接设置在所述基体基底的所述一个表面上的至少一个着色层以及设置在所述至少一个着色层上的覆盖层。
5.根据权利要求3所述的设备，所述设备还包括被构造为调整所述平台的倾斜角度的驱动构件。
6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述光屏蔽图案还与所述平面部分的一部分叠置，
所述激光源将所述激光束照射到所述光屏蔽图案的在所述平台的水平状态下与所述平面部分叠置的一部分，并且
所述激光源将所述激光束照射到所述光屏蔽图案的在所述平台的倾斜状态下与所述弯曲部分叠置的一部分。
7.根据权利要求1所述的设备，其中，所述平台的在水平状态下支撑所述窗面板的支撑表面通过彼此垂直的第一方向轴和第二方向轴限定，并且
所述设备还包括被构造为使所述平台在所述第一方向轴和所述第二方向轴上移动的驱动构件。
8.根据权利要求1所述的设备，其中，所述冷却气体源在平面上与所述激光源相比设置在所述基体基底的内侧上，并且
所述冷却气体在所述平面上从所述基体基底的所述内侧朝向所述基体基底的外侧供应。
9.根据权利要求1所述的设备，其中，所述基体基底的所述一个表面比所述基体基底的另一表面更远离所述平台的支撑表面设置，并且
所述激光源是CO2激光源，所述CO2激光源被构造为将所述激光束照射到所述基体基底的所述一个表面。
10.根据权利要求1所述的设备，其中，所述基体基底的所述一个表面比所述基体基底的另一表面更靠近所述平台的支撑表面设置，并且
所述激光源是UV激光源，所述UV激光源被构造为将所述激光束朝向所述基体基底的所述另一表面照射。
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