CN109671756A - 显示屏及显示装置 - Google Patents

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何春梅
申九林
严国春
陈霞
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    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays

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Abstract

本发明提供一种显示屏及显示装置,该显示屏包括:阵列基板;发光器件层,设置在所述阵列基板上;薄膜封装层,设置在所述发光器件层上;硬质层,设置在所述薄膜封装层上;其中,所述硬质层不通过胶体层固定在所述薄膜封装层上。该方案通过将硬质层直接设置在薄膜封装层上,减少了基板、胶体层的使用,提高了显示屏的硬度。

Description

显示屏及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示屏及显示装置。
背景技术
在显示技术领域中,由于OLED(Organic Light-emitting Diode,有机发光二极管)显示器具有重量轻、自发光、广视角以及响应速度快等特点,得到广泛应用。
如图1所示,OLED显示器2可以由背板21、显示面板22、触控面板23、偏光片24以及玻璃盖板25等部件组成。这些部件之间通过设置胶体层26,粘贴在一起。其中,玻璃盖板25需要以柔性基板251作为载体,通过在基板251上涂布硬质涂层252制成。
上述胶体层26、柔性基板251虽然可以使OLED显示器2具有较好的弯折性能,但也造成OLED显示器2硬度降低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示屏及显示装置,可以提高显示屏及显示装置的硬度。
本发明实施例提供了一种显示屏,其包括;
阵列基板;
发光器件层,设置在所述阵列基板上;
薄膜封装层,设置在所述发光器件层上;
硬质层,设置在所述薄膜封装层上;
其中,所述硬质层不通过胶体层固定在所述薄膜封装层上。
在一实施例中,所述显示屏还包括滤光层;
所述滤光层设置在所述薄膜封装层和所述硬质层之间,所述滤光层包括:
多个滤光单元;
多个黑色矩阵,每一黑色矩阵设置在相邻两滤光单元之间。
在一实施例中,所述显示屏还包括第一平坦层,所述第一平坦层设置在所述滤光层和所述硬质层之间。
在一实施例中,所述第一平坦层的组成材料包括丙烯醛基、环氧基树脂和硅树脂。
在一实施例中,所述显示屏还包括触控层,所述触控层设置在所述滤光层和所述硬质层之间,或所述触控层设置在所述薄膜封装层和所述滤光层之间。
在一实施例中,所述显示屏还包括第二平坦层,当所述触控层设置在所述滤光层和所述硬质层之间时,所述第二平坦层设置在所述触控层和所述硬质层之间;当所述触控层设置在所述薄膜封装层和所述滤光层之间时,所述第二平坦层设置在所述触控层和所述滤光层之间。
在一实施例中,所述显示屏包括发光区和非发光区,所述滤光单元与所述发光区相对设置,所述黑色矩阵与所述非发光区相对设置。
在一实施例中,所述显示屏还包括第三平坦层,所述第三平坦层设置在所述阵列基板和所述发光器件层之间。
在一实施例中,所述硬质层的组成材料包括:丙烯醛基、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化硅、尿烷、环氧基树脂以及硅烷。
本发明实施例还提供了一种显示装置,其包括如上所述的显示屏。
相较于现有的显示屏及显示装置,本发明的显示屏及显示装置通过将硬质层直接设置在发光器件层上,减少了基板、胶体层的使用,提高了显示屏的硬度。
为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:
附图说明
图1为现有的显示屏的结构示意图。
图2为本发明实施例提供的显示屏的第一结构示意图。
图3为本发明实施例提供的显示屏的第二结构示意图。
图4为本发明实施例提供的显示屏的第三结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。
在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
本发明实施例提供了一种显示装置,该显示装置包括显示屏。请参照图2-4,图2-4为本发明实施例提供的显示屏的结构示意图。如图2所示,显示屏1包括阵列基板11、发光器件层12、薄膜封装层13和硬质层14。
如图3所示,阵列基板11包括基板111和薄膜晶体管层112。在一实施例中,阵列基板11还包括缓冲层113,该缓冲层113可以用于保护基板111。该缓冲层113设置在基板111和薄膜晶体管层112之间。缓冲层113可以是氧化硅SiOx,氮化硅SiNx组成的多层膜结构。
基板111用于承载位于其上的缓冲层113、薄膜晶体管层112等结构。在一实施例中,基板111可以由聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚醚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、多芳基化合物等柔性材料组成,以提高显示屏1的弯折性能。
薄膜晶体管层112用于控制显示屏1画面的显示。如图3或4所示,薄膜晶体管层112包括依次层叠设置的有源层1121、第一绝缘层1122、第一金属层1123、第二绝缘层1124、第二金属层1125、间绝缘层1126和源漏极层1127。
发光器件层12设置在阵列基板11上。如图3或4所示,发光器件层12包括依次层叠设置的阳极层121、有机发光层122、像素定义层123和阴极层124,其中阳极层121设置在阵列基板11上。
像素定义层123用于界定发光像素。阴极层124的组成材料可以包括锂、钙、锂、铝以及银等金属中的一种或多种。阴极层123用于提供电子。阳极层121的组成材料可以为金属氧化物,比如氧化铟锡。阳极层121用于提供空穴。有机发光层122可以由电子传输层(ETL)、发光层(EL)和空穴传输层(HTL)等结构组成。在外加电场的作用下,电子和空穴分别从阴极层123和阳极层121,向夹在二者之间的有机发光层122注入。电子和空穴复合产生激子,激子在电场的作用下迁移,将能量传递给有机发光层122中的发光层,使发光层中的发光材料发光。在一实施例中,发光器件层12还包括支撑柱125。支撑柱125设置在阳极层121上,并设置在有机发光层122周围。
在一实施例中,如图2或3所示,阵列基板11和发光器件层12之间还设有第三平坦层15。该第三平坦层15用于提供平坦表面,并且隔离阵列基板11和发光器件层12,防止二者之间发生电场串扰。在一实施例中,第三平坦层15可以采用丙烯醛基、环氧基树脂和硅树脂制成,上述材料既可以提高显示屏1的耐弯折性,也可以确保显示屏1的硬度在5H(Hard,硬度)以上。
薄膜封装层13设置在发光器件层12上。薄膜封装层13可以由多层有机薄膜和多层无机薄膜组成,这些有机薄膜、无机薄膜依次交替层叠排列。具体的,薄膜封装层13可以由SiNx、二氧化硅SiO2等材料组成。薄膜封装层13用于保护发光器件层12、阵列基板31等结构不被水汽和氧气侵蚀。
硬质层14设置在薄膜封装层13上。需要说明的是,在本实施例中,该硬质层14不通过胶体层固定在薄膜封装层13上。如图2所示,硬质层14通过在薄膜封装层13上直接涂布硬质材料形成。在一实施例中,可以采用沉积工艺,将硬质材料转移到薄膜封装层13上,并使硬质材料与薄膜封装层13形成较大的结合力。具体的,可以选取蒸镀、溅射等形式的沉积工艺,将硬质材料固定在薄膜封装层13上,形成硬质层14。
在一实施例中,还可以采用转印工艺,将图案化的硬质材料转移到薄膜封装层13上,形成硬质层14,并使硬质层14与薄膜封装层13形成较大的结合力。这样,硬质层14和薄膜封装层13之间无需采用OCA(Optically Clear Adhesive)光学胶等胶体进行粘贴固定,且无需柔性基板承载该硬质层14。这样可以使显示屏1的硬度达到5H以上。
在一实施例中,硬质层14可以由丙烯醛基、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化硅、尿烷、环氧基树脂以及硅烷等材料组成,上述材料既可以提高显示屏1的耐弯折性,也可以确保显示屏1的硬度在5H以上。
在一实施例中,显示屏1还包括滤光层16。如图3或4所示,滤光层16设置在薄膜封装层13和硬质层14之间,滤光层16包括多个滤光单元161和多个黑色矩阵162,其中,每一个黑色矩阵162设置在相邻两个滤光单元161之间。上述滤光层16具有较大的出光率。
可以先利用溅射镀膜法,在薄膜封装层13上沉积金属铬的薄膜。然后在铬薄膜上涂布光刻胶,经曝光、显影、刻蚀以及剥离等工序,得到上述黑色矩阵162。接着,按红、蓝、绿的顺序,依次在薄膜封装层13上形成按一定图案排列的红色颜料膜层、蓝色颜料膜层、绿色颜料膜层,得到上述滤光单元161。
在一实施例中,显示屏1包括发光区和非发光区。其中,上述滤光单元161与发光区相对设置,黑色矩阵162与非发光区相对设置。具体的,滤光单元161的红色颜料膜层、蓝色颜料膜层、绿色颜料膜层与发光区中的红色发光区、蓝色发光区、绿色发光区一一对应。
在一实施例中,由于滤光层16硬度较低,因此形成硬质层之前,可以如图4所示,在滤光层16上设置一第一平坦层17,再于第一平坦层17上形成硬质层14。
第一平坦层17可以采用有机材料制成,也可以采用无机材料制成。优选的,第一平坦层17采用有机材料制成,以防止滤光层16被氧气侵蚀。在一实施例中,第一平坦层17可以采用丙烯醛基、环氧基树脂和硅树脂制成,上述材料既可以提高显示屏1的耐弯折性,也可以确保显示屏1的硬度在5H以上。
在一实施例中,显示屏1还包括触控层18。触控层18可以对显示屏1进行触摸控制。
如图3所示,触控层18可以设置在滤光层16和硬质层14之间。如图4所示,触控层18还可以设置在薄膜封装层13和滤光层16之间。
在一实施例中,显示屏1还包括第二平坦层19。该第二平坦层19用于提供平坦表面。当触控层18设置在滤光层16和硬质层14之间时,第二平坦层19设置在触控层18和硬质层14之间。此时,第二平坦层19还可以防止触控层18被氧气侵蚀。当触控层18设置在薄膜封装层13和滤光层16之间时,第二平坦层19设置在触控层18和滤光层16之间。
第二平坦层19可以采用有机材料制成,也可以采用无机材料制成。优选的,第二平坦层19采用有机材料制成,以防止触控层18被氧气侵蚀。在一实施例中,第二平坦层19可以采用丙烯醛基、环氧基树脂和硅树脂制成,上述材料既可以提高显示屏1的耐弯折性,也可以确保显示屏1的硬度在5H以上。
本发明的显示屏及显示装置,通过将硬质层直接设置在薄膜封装层上,减少了基板、胶体层的使用,提高了显示屏的硬度。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种显示屏,其特征在于,包括;
阵列基板;
发光器件层,设置在所述阵列基板上;
薄膜封装层,设置在所述发光器件层上;
硬质层,设置在所述薄膜封装层上;
其中,所述硬质层不通过胶体层固定在所述薄膜封装层上。
2.根据权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述显示屏还包括滤光层;
所述滤光层设置在所述薄膜封装层和所述硬质层之间,所述滤光层包括:
多个滤光单元;
多个黑色矩阵,每一黑色矩阵设置在相邻两滤光单元之间。
3.根据权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述显示屏还包括第一平坦层,所述第一平坦层设置在所述滤光层和所述硬质层之间。
4.根据权利要求3所述的显示屏,其特征在于,所述第一平坦层的组成材料包括丙烯醛基、环氧基树脂和硅树脂。
5.根据权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述显示屏还包括触控层,所述触控层设置在所述滤光层和所述硬质层之间,或所述触控层设置在所述薄膜封装层和所述滤光层之间。
6.根据权利要求5所述的显示屏,其特征在于,所述显示屏还包括第二平坦层,当所述触控层设置在所述滤光层和所述硬质层之间时,所述第二平坦层设置在所述触控层和所述硬质层之间;当所述触控层设置在所述薄膜封装层和所述滤光层之间时,所述第二平坦层设置在所述触控层和所述滤光层之间。
7.根据权利要求2所述的显示屏,其特征在于,所述显示屏包括发光区和非发光区,所述滤光单元与所述发光区相对设置,所述黑色矩阵与所述非发光区相对设置。
8.根据权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述显示屏还包括第三平坦层,所述第三平坦层设置在所述阵列基板和所述发光器件层之间。
9.根据权利要求1所述的显示屏,其特征在于,所述硬质层的组成材料包括:丙烯醛基、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化硅、尿烷、环氧基树脂以及硅烷。
10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-9任意一项所述的显示屏。
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