CN108663851A - 一种显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，涉及半导体技术领域，其中，所述显示面板包括：显示功能层和位于所述显示功能层至少一侧的偏光片，其中，所述偏光片包括至少一层液晶涂布偏光层和位于所述液晶涂布偏光层上远离所述显示功能层一侧的保护膜层。采用上述技术方案，偏光片包括液晶涂布偏光层和保护膜层，液晶涂布偏光层厚度较小，可以降低偏光片的厚度，进而降低显示面板的厚度。

Description

一种显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明实施例涉及半导体技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，显示产品越来越趋于轻薄化，无论对于液晶显示面板还是有机发光显示面板，显示面板的厚度均限制了显示面板的轻薄化发展趋势，因此需要进一步减小显示面板的厚度。

现有技术中，无论液晶显示面板还是有机发光显示面板，均包括偏光片，现有结构中的偏光片一般包括压敏胶，醋酸纤维素酯薄膜以及乙烯醇，压敏胶的厚度为15μm-30μm，醋酸纤维素酯薄膜的厚度为20μm以上，现有结构中的偏光片厚度较厚，极大抑制了显示面板轻薄化的发展区域。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以解决现有技术中显示面板较厚的技术问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：

显示功能层和位于所述显示功能层至少一侧的偏光片，其中，所述偏光片包括至少一层液晶涂布偏光层和位于所述液晶涂布偏光层上远离所述显示功能层一侧的保护膜层。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：

提供一显示功能层；

在所述显示功能层的至少一侧制备偏光片，所述偏光片包括至少一层液晶涂布偏光层和位于所述液晶涂布偏光层上远离所述显示功能层一侧的保护膜层。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括第一方面所述的显示面板。

本发明实施例提供的显示面板及其制备方法、显示装置，显示面板包括显示功能层和位于显示功能层至少一侧的偏光片，其中，偏光片包括至少一层液晶涂布偏光层和位于液晶涂布偏光层上远离显示功能层一侧的保护膜层，偏光片中不含有压敏胶、醋酸纤维素酯薄膜以及乙烯醇等结构，大大降低了偏光片的厚度，进而降低了整个显示面板的厚度；同时偏光片中包含保护膜层，提高了偏光片的封装效果。

附图说明

为了更加清楚地说明本发明示例性实施例的技术方案，下面对描述实施例中所需要用到的附图做一简单介绍。显然，所介绍的附图只是本发明所要描述的一部分实施例的附图，而不是全部的附图，对于本领域普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图得到其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；

图5是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；

图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程示意图；

图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程示意图；

图8是本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程示意图

图9是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下将结合本发明实施例中的附图，通过具体实施方式，完整地描述本发明的技术方案。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本发明的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下获得的所有其他实施例，均落入本发明的保护范围之内。

图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，请参考图1，本发明实施例提供的显示面板可以包括：

显示功能层10；

位于显示功能层10至少一侧的偏光片20，其中，偏光片20可以包括至少一层液晶涂布偏光层201和位于液晶涂布偏光层201上远离显示功能层10一侧的保护膜层202。

示例性的，图1仅示例性的示出了位于显示功能层10一侧的偏光片20，并且偏光片20仅包含一层液晶涂布偏光层201的情况。本发明实施例中的显示面板可以为液晶显示面板或者有机发光显示面板，当所述显示面板为液晶显示面板时，显示功能层10可以包括阵列基板、彩膜基板和夹持于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；当所述显示面板为有机发光显示面板时，显示功能层10可以包括阵列基板、阳极电极、有机发光层和阴极电极等。

如图1所示，偏光片20可以包括液晶涂布偏光层201和保护膜层202，可选的，液晶涂布偏光层201可以通过涂布液晶材料的方式得到，保护膜层202可以通过蒸馍保护膜材料的方法得到。

可选的，液晶涂布偏光层201的厚度可以为0.1μm-10μm。

可选的，保护膜层202的材料可以包括聚氮化硅、聚氧化硅、聚氮氧化硅，聚碳氮化硅、聚碳氧化硅以及聚碳氮氧化硅中的至少一种。

综上，本发明实施例提供的显示面板，偏光片包括至少一层液晶涂布偏光层和保护膜层，液晶涂布偏光层的厚度较小，通过液晶涂布偏光层降低偏光片的厚度，进而降低整个显示面的厚度，通过保护膜层对液晶涂布偏光层进行保护，提升偏光片的封装效果，进而提升整个显示面板的封装效果。

请参考图2，图2是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，具体的，图2所述的显示面板相比于图所示的显示面板，增加了平坦膜层，如图2所示，显示面板可以包括：

显示功能层10；

平坦膜层30；

位于平坦膜层30至少一侧的偏光片20，其中，偏光片20可以包括至少一层液晶涂布偏光层201和位于液晶涂布偏光层201上远离显示功能层10一侧的保护膜层202。

示例性的，图2仅示例性的示出了位于显示功能层10一侧的偏光片20，并且偏光片20仅包含一层液晶涂布偏光层201的情况。如图2所示，平坦膜层30位于显示功能层10与液晶涂布偏光层201之间，用于对显示功能层10进行平坦化，为液晶涂布偏光层201提供平坦的涂布环境，保证液晶涂布偏光层201可以正常涂布，得到厚度均匀的液晶涂布偏光层201。

可选的，平坦膜层203和保护膜层202的材料可以相同，例如，平坦膜层203的材料也可以包括聚氮化硅、聚氧化硅、聚氮氧化硅，聚碳氮化硅、聚碳氧化硅以及聚碳氮氧化硅中的至少一种。

综上，在显示功能层和液晶涂布偏光层之间设置平坦膜层，保证液晶涂布偏光层有一个较平坦的涂布环境，保证液晶涂布偏光层的成膜质量，得到厚度均匀同一的液晶涂布偏光层，提升偏光片的封装效果。

请参考图3，图3是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，具体的，图3所示的显示面板可以为有机发光显示面板，如图3所示，显示面板可以包括：

显示功能层10；

位于显示功能层10与偏光片20之间的封装层40，封装层40用于对显示功能层10进行保护；

位于封装层40上的偏光片20，偏光片20可以包括依序堆叠的第一液晶涂布偏光层2011、第二液晶涂布偏光层2012和保护膜层202，其中，第一液晶涂布偏光层2011为四分之一波长位向差液晶涂布层，作为偏光片20的圆偏补偿层；第二液晶涂布偏光层2012作为偏光片20的线偏光层；保护膜层202位于第二液晶涂布偏光层2012上远离封装层40的一侧。

示例性的，当显示面板为有机发光显示面板时，显示面板还可以包括封装层40，封装层40用于保护显示功能层10，主要起到阻水阻氧的作用，防止显示功能层10受水或氧的侵蚀。可选的，封装层40可以包括多层有机层和有机层的层叠设置，本发明实施例不对封装层40具体的设置情况进行限定，只需可以对显示功能层进行保护即可。

可选的，当显示面板为有机发光显示面板时，显示面板中内置背光源，为了防止外界环境光影响有机发光显示面板的图像显示质量时，需要设置偏光片包括圆偏补偿层和线偏光层，因此，偏光片20的液晶涂布偏光层201可以包括第一液晶涂布偏光层2011和第二液晶涂布偏光层2012，第一液晶涂布偏光层2011为四分之一波长位向差液晶涂布层，作为偏光片20的圆偏补偿层；第二液晶涂布偏光作为偏光片20的线偏光层，第一液晶涂布偏光层2011和第二液晶涂布偏光层2012共同作用，用于防止外界环境光进入有机发光显示面板，影响有机发光显示面板的图像显示质量。可选的，第一液晶涂布偏光层2011可以通过涂布液晶材料的方式得到，第二液晶涂布偏光层2012可以通过涂布液晶材料的方式得到。可选的，第一液晶涂布偏光层2011的厚度可以为0.1μm-10μm，第二液晶涂布偏光层2012的厚度可以为0.1μm-10μm。

可选的，当显示面板为有机发光显示面板时，偏光片20还可以包括平坦膜层(图3中未示出)，平坦膜层位于封装层40与第一液晶涂布偏光层2011之间，用于对第一液晶涂布偏光层2011提供平坦的涂布环境。

综上，当显示面板为有机发光显示面板时，显示面板包括显示功能层、封装层和偏光片，偏光片包括第一液晶涂布偏光层、第二液晶涂布偏光层和保护膜层，封装层用于对显示功能层进行保护，第一液晶涂布偏光层和第二液晶涂布偏光层的厚度均较小，通过第一液晶涂布偏光层和第二液晶涂布偏光层降低偏光片的厚度，进而降低整个显示面的厚度；并且，当所述有机发光显示面板为柔性有机发光显示面板时，还可以保证柔性有机发光显示面板可柔可弯曲的特性。

请参考图4，图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，具体的，图4所示的显示面板可以为液晶显示面板，如图4所示，显示面板可以包括：

显示功能层10，显示功能层10可以包括阵列基板101、彩膜基板102和位于阵列基板101和彩膜基板102之间的液晶层103；

位于阵列基板101上远离液晶层103一侧的第一偏光片20a，位于彩膜基板102上远离液晶层103一侧的第二偏光片20b；第一偏光片20a包括阵列基板液晶涂布偏光层201a和阵列基板保护膜层202a；第二偏光片20b包括彩膜基板液晶涂布偏光层201b和彩膜基板保护膜层202b。

示例性的，如图4所示，当显示面板为液晶显示面板时，显示面板的阵列基板101和彩膜基板102上都需要设置偏光片，用于液晶显示面板的正常显示。因此，偏光片20可以包括位于阵列基板101上远离液晶层103一侧的第一偏光片20a和位于彩膜基板102上远离液晶层103一侧的第二偏光片20b，由于液晶显示面板上的偏光片20只需要吸收方向与偏光片20的偏光轴垂直的光，只让沿着偏光片20的偏光轴方向的光透过，因此，第一偏光片20a和第二偏光片20b中只需包括一层液晶涂布偏光层即可，因此设置液晶涂布偏光层201包括阵列基板液晶涂布偏光层201a和彩膜基板液晶涂布偏光层201b，设置保护膜层202包括阵列基板保护膜层202a和彩膜基板保护膜层202b。可选的，阵列基板液晶涂布偏光层201a和彩膜基板液晶涂布偏光层201b均可以通过涂布液晶材料的方式得到，其厚度可以为0.1μm-10μm。

可选的，当显示面板为液晶显示面板时，显示面板还可以包括平坦膜层(图4中未示出)，平坦膜层分别位于阵列基板101的基底与阵列基板晶涂布偏光层201a之间以及彩膜基板102的基底与彩膜基板液晶涂布偏光层201b之间，用于对阵列基板晶涂布偏光层201a和彩膜基板液晶涂布偏光层201b提供平坦的涂布环境。

综上，当显示面板为液晶显示面板时，显示面板包括显示功能层和偏光片，显示功能层包括阵列基板、彩膜基板和位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，偏光片包括位于阵列基板上的第一偏光片和位于彩膜基板上的第二偏光片，第一偏光片和第二偏光片分别包括一液晶涂布偏光层和保护膜层，液晶涂布偏光层的厚度较小，可以降低阵列基板和彩膜基板的厚度，进而降低整个显示面板的厚度。

请参考图5，图5是本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图，如图5所示，显示面板的制备方法可以包括：

S110、提供一显示功能层。

示例性的，本发明实施例中的显示面板可以为液晶显示面板或者有机发光显示面板，当所述显示面板为液晶显示面板时，显示功能层可以包括阵列基板、彩膜基板和夹持于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；当所述显示面板为有机发光显示面板时，显示功能层可以包括阵列基板、阳极电极、有机发光层和阴极电极等。

S120、在所述显示功能层的至少一侧制备偏光片，所述偏光片包括至少一层液晶涂布偏光层和位于所述液晶涂布偏光层上远离所述显示功能层一侧的保护膜层。

示例性的，偏光片可以包括液晶涂布偏光层和保护膜层，所述液晶涂布偏光层的厚度可以为0.1μm-10μm，所述保护膜层的材料可以包括聚氮化硅、聚氧化硅、聚氮氧化硅，聚碳氮化硅、聚碳氧化硅以及聚碳氮氧化硅中的至少一种

可选的，在显示功能层的至少一侧制备偏光片，可以包括：

采用液晶涂布的方式在显示功能层上制备至少一层液晶涂布偏光层；

在液晶涂布偏光层上进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层。

示例性的，采用液晶涂布的方式在显示功能层上制备至少一层液晶涂布层，具体可以使用旋转涂布、喷涂或者其他涂布方法在在显示功能层上至少一层液晶涂布层，采用液晶涂布的方式制备液晶涂布偏光层可以保证液晶偏光层厚度较小且厚度均匀。

可选的，在液晶涂布偏光层上进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层，可以包括：

使用热沉积、旋转涂布、喷涂、滴涂、丝网印刷、喷墨、溅射、真空镀膜、电子书热蒸发、原子层沉积、化学气相沉积以及离子束辅助沉积中的至少一种镀膜方法，在所述液晶涂布偏光层上进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层。可选的，所述化学气相沉积可以包括等离子体增强化学气相沉积、高密度等离子体化学气相沉积、电感耦合离子体化学气相沉积中的至少一种。

可选的，在液晶涂布偏光层上进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层之后，还可以包括：

对保护膜层进行紫外线固化或者热固化。

示例性的，在液晶涂布偏光层上进行保护膜层镀膜之后，对保护膜层进行紫外线固化或者热固化，可以保证成膜质量良好。

综上，本发明实施例提供的显示面板的制备方法，采用液晶涂布的方式在显示功能层上制备至少一层液晶涂布偏光层，替代现有技术中通过压敏胶粘贴的方式制备偏光层，不仅保证液晶涂布偏光层具有较小的厚度，降低偏光片的厚度，进而降低整个显示面板的厚度；同时，减少压敏胶的使用，降低了显示面板的制备成本；而且通过保护膜层对液晶涂布偏光层进行保护，提升偏光片的封装效果，进而提升整个显示面板的封装效果。

请参考图6，图6是本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程示意图，图6所示的制备方法与图5所示的制备方法的区别在于增加了平坦膜层的制备流程，如图6所示，显示面板的制备方法可以包括：

S210、提供一显示功能层。

S220、在所述显示功能层上制备平坦膜层，所述平坦膜层位于所述显示功能层与所述液晶涂布偏光层之间，用于对所述液晶涂布偏光层提供平坦的涂布环境。

示例性的，平坦膜层位于显示功能层与液晶涂布偏光层之间，用于对显示功能层进行平坦化，为液晶涂布偏光层提供平坦的涂布环境，保证液晶涂布偏光层可以正常涂布，得到厚度均匀的液晶涂布偏光层。

可选的，平坦膜层和保护膜层的材料可以相同，例如，平坦膜层的材料也可以包括聚氮化硅、聚氧化硅、聚氮氧化硅，聚碳氮化硅、聚碳氧化硅以及聚碳氮氧化硅中的至少一种。

可选的，平坦膜层的制备方法可以与保护膜层的制备方法相同，采用镀膜的方式在显示功能层上制备形成平坦膜层。具体的，可以使用热沉积、旋转涂布、喷涂、滴涂、丝网印刷、喷墨、溅射、真空镀膜、电子书热蒸发、原子层沉积、化学气相沉积以及离子束辅助沉积中的至少一种镀膜方法，在显示功能层上镀膜形成平坦膜层。可选的，所述化学气相沉积可以包括等离子体增强化学气相沉积、高密度等离子体化学气相沉积、电感耦合离子体化学气相沉积中的至少一种。

可选的，在显示功能层上镀膜形成平坦膜层之后，还可以包括：对平坦膜层进行紫外线固化或者热固化。保证平坦膜层成膜质量良好。

S230、在所述平坦膜层上制备偏光片，所述偏光片包括至少一层液晶涂布偏光层和位于所述液晶涂布偏光层上远离所述显示功能层一侧的保护膜层。

综上，在显示功能层和液晶涂布偏光层之间设置平坦膜层，保证液晶涂布偏光层有一个较平坦的涂布环境，保证液晶涂布偏光层的成膜质量，得到厚度均匀同一的液晶涂布偏光层，提升偏光片的封装效果。

请参考图7，图7是本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程示意图，具体的，图7所示的显示面板的制备方法可以为有机发光显示面板的制备方法，如图7所示，显示面板的制备方法可以包括：

S310、提供一显示功能层。

S320、在所述显示功能层上制备封装层，所述封装层位于所述显示功能层与所述偏光片之间，用于对所述显示功能层进行保护。

示例性的，当显示面板为有机发光显示面板时，所述显示面板的制备方法还可以包括在显示功能层上制备封装层，封装层用于保护显示功能层，主要起到阻水阻氧的作用，防止显示功能层受水或氧的侵蚀。可选的，封装层可以包括多层有机层和有机层的层叠设置，本发明实施例不对封装层具体的设置情况进行限定，也不对封装层的制备方法进行限定，只需所述封装层可以对显示功能层进行保护即可。

S330、在所述封装层上制备偏光片，所述偏光片包括依序堆叠的第一液晶涂布偏光层、第二液晶涂布偏光层和保护膜层。

可选的，在封装层上制备偏光片，可以包括：

采用液晶涂布的方式在封装层上远离显示功能层的一侧制备第一液晶涂布偏光层，第一液晶涂布偏光层为四分之一波长位向差液晶涂布层，作为偏光片的圆偏补偿层；

采用液晶涂布的方式在第一液晶涂布偏光层上远离封装层的一侧制备第二液晶涂布偏光层，第二液晶涂布偏光层作为偏光片的线偏光层；

在第二液晶涂布偏光层上远离第一液晶涂布偏光层的一侧进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层。

示例性的，当显示面板为有机发光显示面板时，显示面板中内置背光源，为了防止外界环境光影响有机发光显示面板的图像显示质量时，需要设置偏光片包括圆偏补偿层和线偏光层，因此，偏光片的液晶涂布偏光层可以包括第一液晶涂布偏光层和第二液晶涂布偏光层，第一液晶涂布偏光层为四分之一波长位向差液晶涂布层，作为偏光片的圆偏补偿层；第二液晶涂布偏光作为偏光片的线偏光层，第一液晶涂布偏光层和第二液晶涂布偏光层共同作用，用于防止外界环境光进入有机发光显示面板，影响有机发光显示面板的图像显示质量。可选的，第一液晶涂布偏光层可以采用液晶涂布的方式在封装层上制备，第二液晶涂布偏光层同样可以采用液晶涂布的方式在第一液晶涂布偏光层上制备。可选的，第一液晶涂布偏光层的厚度可以为0.1μm-10μm，第二液晶涂布偏光层的厚度可以为0.1μm-10μm。

可选的，由于第二液晶涂布偏光层作为偏光片的线偏光层，因此，在第一液晶涂布偏光层上远离封装层的一侧制备第二液晶涂布偏光层之后，还可以包括：对第二液晶涂布偏光层进行染料处理。通过对第二液晶涂布偏光层进行染料处理，保证第二液晶涂布偏光层的线偏特性。

可选的，当显示面板为有机发光显示面板时，在显示功能层上制备平坦膜层，具体可以是：在封装层上制备平坦膜层。平坦膜层位于封装层与第一液晶涂布偏光层之间，用于对封装层进行平坦处理，为第一液晶涂布偏光层提供平坦的涂布环境。

综上，当显示面板为有机发光显示面板时，显示面板包括显示功能层、封装层和偏光片，偏光片包括第一液晶涂布偏光层、第二液晶涂布偏光层和保护膜层，封装层用于对显示功能层进行保护，通过液晶涂布的方式制备第一液晶涂布偏光层和第二液晶涂布偏光层，保证第一液晶涂布偏光层和第二液晶涂布偏光层的厚度均较小，通过第一液晶涂布偏光层和第二液晶涂布偏光层降低偏光片的厚度，进而降低整个显示面的厚度；并且，当所述有机发光显示面板为柔性有机发光显示面板时，还可以保证柔性有机发光显示面板可柔可弯曲的特性。

请参考图8，图8是本发明实施例提供的另一种显示面板的制备方法的流程示意图，具体的，图8所示的显示面板的制备方法可以为液晶显示面板的制备方法，如图8所示，显示面板的制备方法可以包括：

S410、提供一显示功能层，所述显示功能层包括阵列基板、彩膜基板和位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层。

示例性的，当所述显示面板为液晶显示面板时，显示功能层可以包括阵列基板、彩膜基板和液晶层。

S420、在所述阵列基板远离所述液晶层的一侧制备第一偏光片，所述第一偏光片包括阵列基板液晶涂布偏光层和阵列基板保护膜层；在所述彩膜基板远离所述液晶层的一侧制备第二偏光片，所述第二偏光片包括彩膜基板液晶涂布偏光层和彩膜基板保护膜层。

当显示面板为液晶显示面板时，显示面板的阵列基板和彩膜基板上都需要设置偏光片，用于液晶显示面板的正常显示。因此，偏光片可以包括位于阵列基板上远离液晶层一侧的第一偏光片和位于彩膜基板上远离液晶层一侧的第二偏光片，由于液晶显示面板上的偏光片只需要吸收方向与偏光片的偏光轴垂直的光，只让沿着偏光片的偏光轴方向的光透过，因此，第一偏光片和第二偏光片中只需包括一层液晶涂布偏光层即可，因此设置液晶涂布偏光层包括阵列基板液晶涂布偏光层和彩膜基板液晶涂布偏光层，设置保护膜层包括阵列基板保护膜层和彩膜基板保护膜层。可选的，阵列基板液晶涂布偏光层和彩膜基板液晶涂布偏光层均可以采用液晶涂布的方式得到，其厚度均可以为0.1μm-10μm。

可选的，当显示面板为液晶显示面板时，所述显示面板的制备方法还可以包括：

在所述阵列基板上远离所述液晶层的一侧制备平坦膜层，在所述彩膜基板上远离所述液晶层的一侧制备平坦膜层。

示例性的，平坦膜层分别位于阵列基板的基底与阵列基板晶涂布偏光层之间以及彩膜基板的基底与彩膜基板液晶涂布偏光层之间，用于对阵列基板晶涂布偏光层和彩膜基板液晶涂布偏光层提供平坦的涂布环境。

综上，当显示面板为液晶显示面板时，显示面板包括显示功能层和偏光片，显示功能层包括阵列基板、彩膜基板和位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，偏光片包括位于阵列基板上的第一偏光片和位于彩膜基板上的第二偏光片，第一偏光片和第二偏光片分别包括一液晶涂布偏光层和保护膜层，液晶涂布偏光层采用液晶涂布的方式制备，保证液晶涂布偏光层的厚度较小，可以降低阵列基板和彩膜基板的厚度，进而降低整个显示面板的厚度。

请参考图9，图9是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，所述显示装置可以包括本发明任意实施例所述的显示面板1。所述显示装置可以为诸如手机之类的智能设备。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (17)

1.一种显示面板，其特征在于，包括显示功能层和位于所述显示功能层至少一侧的偏光片，其中，所述偏光片包括至少一层液晶涂布偏光层和位于所述液晶涂布偏光层上远离所述显示功能层一侧的保护膜层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述液晶涂布偏光层的厚度为0.1μm-10μm。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

平坦膜层，位于显示功能层与所述液晶涂布偏光层之间，用于对所述液晶涂布偏光层提供平坦的涂布环境。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，当所述显示面板为有机发光显示面板时，所述显示面板还包括：

封装层，位于所述显示功能层与所述偏光片之间，用于对所述显示功能层进行保护；

所述偏光片包括依序堆叠的第一液晶涂布偏光层、第二液晶涂布偏光层和保护膜层，其中，所述第一液晶涂布偏光层为四分之一波长位向差液晶涂布层，作为所述偏光片的圆偏补偿层；所述第二液晶涂布偏光层作为所述偏光片的线偏光层；所述保护膜层位于所述第二液晶涂布偏光层上远离所述封装层的一侧。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，当所述显示面板为有机发光显示面板时，所述平坦膜层位于所述封装层与所述第一液晶涂布偏光层之间。

6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述平坦膜层与所述保护膜层的材料相同。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述保护膜层的材料包括聚氮化硅、聚氧化硅、聚氮氧化硅，聚碳氮化硅、聚碳氧化硅以及聚碳氮氧化硅中的至少一种。

8.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一显示功能层；

在所述显示功能层的至少一侧制备偏光片，所述偏光片包括至少一层液晶涂布偏光层和位于所述液晶涂布偏光层上远离所述显示功能层一侧的保护膜层。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述在所述显示功能层的至少一侧制备偏光片，包括：

采用液晶涂布的方式在所述显示功能层上制备至少一层液晶涂布偏光层；

在所述液晶涂布偏光层上进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层。

10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述液晶涂布偏光层的厚度为0.1μm-10μm。

11.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述在所述显示功能层的至少一侧制备偏光片之前，还包括：

在所述显示功能层上制备平坦膜层，所述平坦膜层位于所述显示功能层与所述液晶涂布偏光层之间，用于对所述液晶涂布偏光层提供平坦的涂布环境。

12.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述在所述液晶涂布偏光层上进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层之后，还包括：

对所述保护膜层进行紫外线固化或者热固化。

13.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，当所述显示面板为有机发光显示面板时，所述在所述显示功能层的至少一侧制备偏光片之前，还包括：

在所述显示功能层上制备封装层，所述封装层位于所述显示功能层与所述偏光片之间，用于对所述显示功能层进行保护；

所述在所述显示功能层的至少一侧制备偏光片，包括：

采用液晶涂布的方式在所述封装层上远离所述显示功能层的一侧制备第一液晶涂布偏光层，所述第一液晶涂布偏光层为四分之一波长位向差液晶涂布层，作为所述偏光片的圆偏补偿层；

采用液晶涂布的方式在所述第一液晶涂布偏光层上远离所述封装层的一侧制备第二液晶涂布偏光层，所述第二液晶涂布偏光层作为所述偏光片的线偏光层；

在所述第二液晶涂布偏光层上远离所述第一液晶涂布偏光层的一侧进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层。

14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，当所述显示面板为有机发光显示面板时，所述在所述显示功能层上制备平坦膜层，包括：

在所述封装层上制备平坦膜层。

15.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述在所述第一液晶涂布偏光层上远离所述封装层的一侧制备第二液晶涂布偏光层之后，还包括：

对所述第二液晶涂布偏光层进行染料处理。

16.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述在所述液晶涂布偏光层上进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层，包括：

使用热沉积、旋转涂布、喷涂、滴涂、丝网印刷、喷墨、溅射、真空镀膜、电子书热蒸发、原子层沉积、化学气相沉积以及离子束辅助沉积中的至少一种镀膜方法，所述液晶涂布偏光层上进行保护膜层镀膜，制备得到保护膜层。

17.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的显示面板。