CN109581828A - 曝光装置及曝光方法 - Google Patents

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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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Abstract

本发明提供一种曝光装置及曝光方法。所述曝光装置包括基板载台及设于所述基板载台上方的光罩承载框；所述基板载台用于承载待曝光的基板，所述光罩承载框用于承载光罩，所述基板载台呈往远离所述光罩承载框的方向凹陷的曲面，使得基板置于所述基板载台上时，具有与置于所述光罩承载框中的光罩相同的形变曲率，通过设置曲面的基板载台使得基板置于载台上后产生与光罩相同的形变，从而补偿因光罩形变造成的曝光偏差，提升曝光的均一性。

Description

曝光装置及曝光方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种曝光装置及曝光方法。
背景技术
在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
通常液晶显示面板由彩膜基板(CF，Color Filter)、薄膜晶体管基板(TFT，ThinFilm Transistor)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
在液晶显示器的Array制程等平板显示器的制程过程中，经常会用到曝光制程。通常曝光制程的具体过程为，先在涂有光刻胶的基板上方放置光罩，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压水银灯发出UV紫外光线，将光罩上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于光罩的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分，从而使光刻胶形成所需的图形。
随着市场对显示需求的升级，显示面板的尺寸越来越大，为了满足大尺寸显示，基板面积及光罩面积也随之增大，如图1所示，光罩1在曝光机内是通过四周的光罩框2的吸附来实现位置的固定，因而随着光罩面积的增大，光罩1会产生更大的形变，在曝光过程中会由于形变产生的折射光而造成曝光均一性下降，具体为接近式曝光机中，曝光量条件不变前提下，光罩与基板的距离越大，基板上图形的关键尺寸(CD)越大，因而由于光罩2形变导致的光罩2的中心点到基板3的距离为光罩2边缘的点到基板3的距离的不同，会造成基板3的曝光不均，对制程产生不良影响。
发明内容
本发明的目的在于提供一种曝光装置，能够补偿光罩的形变，提升曝光均匀性。
本发明的目的还在于提供一种曝光方法，能够补偿光罩的形变，提升曝光均匀性。
为实现上述目的，本发明提供了一种曝光装置，包括基板载台及设于所述基板载台上方的光罩承载框；
所述基板载台用于承载待曝光的基板，所述光罩承载框用于承载光罩，所述基板载台呈往远离所述光罩承载框的方向凹陷的曲面，使得基板置于所述基板载台上时，具有与置于所述光罩承载框中的光罩相同的形变曲率。
所述基板载台上设有吸附模块，所述吸附模块能够吸附置于基板载台上的基板，使得所述基板与所述基板载台贴合。
所述基板载台为矩形，所述基板载台的长度及宽度的范围均为700至1500mm。
所述基板载台中心的最低点与基板载台边缘的最高点的高度差为4～10μm。
所述基板载台的材料为铝合金、陶瓷或钛合金。
本发明还提供一种曝光方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板载台及设于所述基板载台上方的光罩承载框，所述基板载台呈往远离所述光罩承载框的方向凹陷的曲面；
步骤S2、提供基板及光罩，所述光罩承载框上放置光罩，在所述基板载台上放置基板，基板置于所述基板载台上后具有与置于所述光罩承载框中的光罩相同的形变曲率；
步骤S3、以所述光罩对所述基板进行曝光。
所述基板载台上设有吸附模块，步骤S2中，基板置于基板载台上后，所述吸附模块能够吸附所述基板使得所述基板与所述基板载台贴合。
所述基板载台为矩形，所述基板载台的长度及宽度的范围均为700至1500mm。
所述基板载台中心的最低点与基板载台边缘的最高点的高度差为4～10μm。
所述基板载台的材料为铝合金、陶瓷或钛合金。
本发明的有益效果：本发明提供一种曝光装置，包括基板载台及设于所述基板载台上方的光罩承载框；所述基板载台用于承载待曝光的基板，所述光罩承载框用于承载光罩，所述基板载台呈往远离所述光罩承载框的方向凹陷的曲面，使得基板置于所述基板载台上时，具有与置于所述光罩承载框中的光罩相同的形变曲率，通过设置曲面的基板载台使得基板置于载台上后产生与光罩相同的形变，从而补偿因光罩形变造成的曝光偏差，提升曝光的均一性。本发明提供一种曝光方法，能够补偿光罩的形变，提升曝光均匀性。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有的曝光装置的示意图；
图2为本发明的曝光装置的示意图；
图3为本发明的曝光方法的流程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2，本发明提供一种曝光装置，包括基板载台10及设于所述基板载台上方的光罩承载框20；
所述基板载台10用于承载待曝光的基板100，所述光罩承载框20用于承载光罩200，所述基板载台10呈往远离所述光罩承载框20的方向凹陷的曲面，使得基板100置于所述基板载台10上时，具有与置于所述光罩承载框20中的光罩200相同的形变曲率。
需要说明的是，所述光罩200的材质为硬质石英玻璃，在面积相同的情况下，其置于光罩承载框20中之后，形变曲率为固定值，因此，可通过测量光罩200的形成曲率，来设置基板载台10的曲率，进而使得基板100置于所述基板载台10上时，具有与置于所述光罩承载框20中的光罩200相同的形变曲率。
进一步地，当基板100具有与光罩200相同的形变曲率时，基板100与光罩200始终保持平行状态，从而使得基板100上的每一点均与光罩200上对应的点正确对位，且基板100上的每一点均与光罩200上对应的点的距离均相同，进而在曝光时将光罩上的图案正确曝光到所述基板100上，有效避免因光罩200形变造成的曝光偏差，提升曝光均一性。
优选地，在本发明的一些实施例中，所述光罩200及基板100的形状为矩形。
更优选地，所述光罩200的长度为960mm，宽度为800mm，厚度为10mm，形变量为4μm，所述形变量具体光罩200的边缘最高处与光罩200中心最低处的高度差。
具体地，所述基板载台10上设有吸附模块30，所述吸附模块30能够吸附置于基板载台10上的基板100，使得所述基板100与所述基板载台10贴合，从而使得基板100置于所述基板载台10上时产生相应形变。
优选地，所述基板载台10为矩形，所述基板载台10的长度及宽度的范围均为700至1500mm。
优选地，所述基板载台10中心的最低点与基板载台10边缘的最高点的高度差为4～10μm。
可选地，所述基板载台10的材料为铝合金、陶瓷或钛合金。
请参阅图3，本发明提供一种曝光方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板载台10及设于所述基板载台上方的光罩承载框20，所述基板载台10呈往远离所述光罩承载框20的方向凹陷的曲面；
步骤S2、提供基板100及光罩200，所述光罩承载框20上放置光罩200，在所述基板载台10上放置基板100，基板100置于所述基板载台10上后具有与置于所述光罩承载框20中的光罩200相同的形变曲率；
步骤S3、以所述光罩200对所述基板100进行曝光。
需要说明的是，所述光罩200的材质为硬质石英玻璃，在面积相同的情况下，其置于光罩承载框20中之后，形变曲率为固定值，因此，可通过测量光罩200的形成曲率，来设置基板载台10的曲率，进而使得基板100置于所述基板载台10上时，具有与置于所述光罩承载框20中的光罩200相同的形变曲率。
进一步地，当基板100具有与光罩200相同的形变曲率时，基板100与光罩200始终保持平行状态，从而使得基板100上的每一点均与光罩200上对应的点正确对位，且光罩200上的每一点与基板100上对应点之间的距离均相同，进而在曝光时将光罩上的图案正确曝光到所述基板100上，有效避免因光罩200形变造成的曝光偏差，提升曝光均一性。
更优选地，所述光罩200的长度为960mm，宽度为800mm，厚度为10mm，形变量为4μm，所述形变量具体光罩200的边缘最高处与光罩200中心最低处的高度差。
具体地，所述基板载台10上设有吸附模块30，所述吸附模块30能够吸附置于基板载台10上的基板100，使得所述基板100与所述基板载台10贴合，从而使得基板100置于所述基板载台10上时产生相应形变。
优选地，所述基板载台10为矩形，所述基板载台10的长度及宽度的范围均为700至1500mm。
优选地，所述基板载台10中心的最低点与基板载台10边缘的最高点的高度差为4～10μm。
可选地，所述基板载台10的材料为铝合金、陶瓷或钛合金。
综上所述，本发明提供一种曝光装置，包括基板载台及设于所述基板载台上方的光罩承载框；所述基板载台用于承载待曝光的基板，所述光罩承载框用于承载光罩，所述基板载台呈往远离所述光罩承载框的方向凹陷的曲面，使得基板置于所述基板载台上时，具有与置于所述光罩承载框中的光罩相同的形变曲率，通过设置曲面的基板载台使得基板置于载台上后产生与光罩相同的形变，从而补偿因光罩形变造成的曝光偏差，提升曝光的均一性。本发明提供一种曝光方法，能够补偿光罩的形变，提升曝光均匀性。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种曝光装置，其特征在于，包括基板载台(10)及设于所述基板载台上方的光罩承载框(20)；
所述基板载台(10)用于承载待曝光的基板(100)，所述光罩承载框(20)用于承载光罩(200)，所述基板载台(10)呈往远离所述光罩承载框(20)的方向凹陷的曲面，使得基板(100)置于所述基板载台(10)上时，具有与置于所述光罩承载框(20)中的光罩(200)相同的形变曲率。
2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载台(10)上设有吸附模块(30)，所述吸附模块(30)能够吸附置于基板载台(10)上的基板(100)，使得所述基板(100)与所述基板载台(10)贴合。
3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载台(10)为矩形，所述基板载台(10)的长度及宽度的范围均为700至1500mm。
4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载台(10)中心的最低点与基板载台(10)边缘的最高点的高度差为4～10μm。
5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载台(10)的材料为铝合金、陶瓷或钛合金。
6.一种曝光方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供一基板载台(10)及设于所述基板载台上方的光罩承载框(20)，所述基板载台(10)呈往远离所述光罩承载框(20)的方向凹陷的曲面；
步骤S2、提供基板(100)及光罩(200)，所述光罩承载框(20)上放置光罩(200)，在所述基板载台(10)上放置基板(100)，基板(100)置于所述基板载台(10)上后具有与置于所述光罩承载框(20)中的光罩(200)相同的形变曲率；
步骤S3、以所述光罩(200)对所述基板(100)进行曝光。
7.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述基板载台(10)上设有吸附模块(30)，步骤S2中，基板(100)置于基板载台(10)上后，所述吸附模块(30)能够吸附所述基板(100)使得所述基板(100)与所述基板载台(10)贴合。
8.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述基板载台(10)为矩形，所述基板载台(10)的长度及宽度的范围均为700至1500mm。
9.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述基板载台(10)中心的最低点与基板载台(10)边缘的最高点的高度差为4～10μm。
10.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述基板载台(10)的材料为铝合金、陶瓷或钛合金。
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