CN109182964B - 掩膜板排版方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种掩膜板排版方法,包括:提供框架,具有间隔设置的预设区域、定位区域以及与预设区域和定位区域错位设置的固定区域,相邻两个预设区域的间距为第一预定距离L1;对应于定位区域设置覆盖掩膜板,覆盖掩膜板的边缘距离定位区域的中心间距为第二预定距离L2;根据预设条件将蒸镀掩膜板设置于固定区域,相邻两个固定区域的间距为第三预定距离L3,第三预定距离L3为第一预定距离L1与第二预定距离L2差值;预设条件包括:框架具有用于连接蒸镀掩膜板的连接区域,连接区域在固定区域内,连接区域的边缘至蒸镀掩膜板的边缘间距为第一距离D1,蒸镀掩膜板的蒸镀区域的边缘与蒸镀掩膜板的边缘间距为第二距离D2;第一距离D1小于第二距离D2。
Description
技术领域
本发明涉及显示面板技术领域,特别是涉及一种掩膜板排版方法。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode,简称OLED)显示器因其具有自发光、轻薄、功耗低、高对比度、高色域、可实现柔性显示等优点,已被广泛地应用于包括电脑、手机等电子产品在内的各种电子设备中。OLED显示器件包括阴极层、有机材料功能层以及阳极层等,其中,有机材料功能层一般利用掩膜版,采用蒸镀的方式将蒸镀材料蒸镀至蒸镀用背板的预设位置。
目前,掩模版的结构设计不合理,导致掩膜版排版密度低,从而导致待蒸镀基板的蒸镀有效区利用率低,严重影响一张待蒸镀基板产出单个屏体的数量。
发明内容
本发明实施例提供一种掩膜板排版方法。掩膜板排版方法能够保证蒸镀掩膜板的张网精度,提升蒸镀掩膜板的排版密度,从而提升显示面板的产量。
一方面,本发明实施例提出了一种掩膜板排版方法,其包括:
提供框架,具有间隔设置的预设区域、相邻两个预设区域之间的定位区域以及与预设区域和定位区域错位设置的固定区域,相邻两个预设区域之间的间距为第一预定距离L1;对应于定位区域设置覆盖掩膜板,覆盖掩膜板的边缘距离定位区域的中心间距为第二预定距离L2;根据预设条件将蒸镀掩膜板设置于固定区域,相邻两个固定区域之间的间距为第三预定距离L3,第三预定距离L3等于第一预定距离L1与第二预定距离L2的差值;预设条件包括:框架具有用于连接蒸镀掩膜板的连接区域,连接区域在固定区域内,连接区域的边缘至蒸镀掩膜板的边缘间距为第一距离D1,蒸镀掩膜板的蒸镀区域的边缘与蒸镀掩膜板的边缘间距为第二距离D2;第一距离D1小于第二距离D2。
根据本发明实施例的一个方面,第一距离D1为1~1.5mm
根据本发明实施例的一个方面,第二距离D2大于1.5mm。
根据本发明实施例的一个方面,预设条件还包括:覆盖掩膜板与蒸镀掩膜板具有部分交叠,覆盖掩膜板靠近蒸镀区域的边缘与蒸镀区域的边缘之间具有第三距离D3;定位区域的边缘与覆盖掩膜板的边缘之间具有第四距离D4,第三距离D3大于等于第四距离D4。
根据本发明实施例的一个方面,固定区域的宽度小于预设区域的宽度。
根据本发明实施例的一个方面,蒸镀区域具有辅助像素蒸镀区,辅助像素蒸镀区的边缘与蒸镀掩膜板的边缘间距为第二距离D2。
根据本发明实施例的一个方面,框架包括设置于固定区域的凸起以及设置于定位区域的凹槽,蒸镀掩膜板固定于凸起,覆盖掩膜板设置于凹槽内。
根据本发明实施例的一个方面,连接区域内设置焊点,蒸镀掩膜板通过焊点固定于凸起,焊点的边缘至蒸镀掩膜板的边缘间距为第一距离D1。
根据本发明实施例的一个方面,蒸镀掩膜板为条形。
根据本发明实施例的一个方面,多个预设区域沿蒸镀掩膜板的宽度方向间隔设置。
本发明所提供的掩膜板排版方法,其通过以预设区域为参照,将蒸镀掩膜板根据预设条件精准放置并固定于固定区域。使得各个蒸镀掩膜板在满足张网精度的前提下,有利于缩小相邻两个蒸镀掩膜板之间的间隙,因而能够大幅度提升掩膜板组件中蒸镀掩膜板的排版数量,同时保证张网精度,从而在一个大张玻璃基板上能够制作更多数量的显示面板,提升显示面板的产量,节省成本。
附图说明
下面将通过参考附图来描述本发明示例性实施例的特征、优点和技术效果。
图1为本发明实施例的掩膜板排版方法流程图;
图2为本发明实施例的框架和覆盖掩膜板装配结构示意图;
图3为图2中A处的放大示意图;
图4为本发明实施例的框架、覆盖掩膜板和蒸镀掩膜板局部装配结构示意图;
图5为本发明实施例的掩膜板组件的局部结构示意图;
图6为本发明实施例的掩膜板组件的整体结构示意图;
图7为图6中B处的放大示意图。
在附图中,附图并未按照实际的比例绘制。
标记说明:
101、框架;101a、预设区域;101b、定位区域;101c、固定区域;101d、连接区域;1011、凸起;1012、凹槽;1012a、长条边;
102、蒸镀掩膜板;1021、蒸镀区域;1021a、辅助像素蒸镀区;
103、间隙;
104、焊点;
105、蒸镀孔;
106、覆盖掩膜板;
D1、第一距离;
D2、第二距离;
D3、第三距离;
D4、第四距离;
L1、第一预定距离;
L2、第二预定距离;
L3、第三预定距离;
X、第一方向;Y、第二方向。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明的实施方式作进一步详细描述。以下实施例的详细描述和附图用于示例性地说明本发明的原理,但不能用来限制本发明的范围,即本发明不限于所描述的实施例。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上;术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
下述描述中出现的方位词均为图中示出的方向,并不是对本发明的掩膜板组件的具体结构进行限定。在本发明的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可视具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
为了更好地理解本发明,下面结合图1至图4根据本发明实施例的掩膜板排版方法进行详细描述。
参见图1至图3所示,本发明实施例提供一种掩膜板排版方法,其包括:
提供框架101,该框架101具有多个间隔设置的预设区域101a、相邻两个预设区域101a之间的定位区域101b以及与预设区域101a和定位区域101b错位设置的固定区域101c,相邻两个预设区域101a之间的间距为第一预定距离L1。参见图3所示,本实施例的固定区域101c与预设区域101a和定位区域101b错位设置指的是固定区域101c与预设区域101a在第一方向X上彼此不重叠或仅有部分重叠区域,固定区域101c与定位区域101b在第一方向X上彼此不重叠或仅有部分重叠区域。
对应于定位区域101b设置覆盖掩膜板106,覆盖掩膜板106的边缘距离定位区域101b的中心间距为第二预定距离L2。
根据预设条件将蒸镀掩膜板102设置于固定区域101c,相邻两个固定区域101c之间的间距为第三预定距离L3,第三预定距离L3等于第一预定距离L1与第二预定距离L2的差值。
预设条件包括:框架101具有用于连接蒸镀掩膜板102的连接区域101d,连接区域101d在固定区域101c内,连接区域101d的边缘至蒸镀掩膜板102的边缘间距为第一距离D1,蒸镀掩膜板102的蒸镀区域1021的边缘与蒸镀掩膜板102的边缘间距为第二距离D2;第一距离D1小于第二距离D2。
上述实施例中的预设区域101a是用于放置蒸镀掩膜板102的参考区域。定位区域101b用于为放置覆盖掩膜板106提供精确定位。固定区域101c是用于实现最终固定蒸镀掩膜板102的区域。预设区域101a、定位区域101b、固定区域101c和连接区域101d如图2中虚线框示出的区域,上述各区域均为虚拟区域,并不限定框架101的结构。在将蒸镀掩膜板102设置于固定区域101c后,相邻两个蒸镀掩膜板102的间隙与第三预定距离L3相关。相邻两个蒸镀掩膜板102的间隙小于第一预定距离L1。
本发明所提供的掩膜板排版方法,其通过以预设区域101a为参照,将蒸镀掩膜板102根据预设条件精准放置并固定于固定区域101c。使得各个蒸镀掩膜板102在满足张网精度的前提下,有利于缩小相邻两个蒸镀掩膜板102之间的间隙,因而能够大幅度提升掩膜板组件中蒸镀掩膜板102的排版数量,同时保证张网精度,从而在一个大张玻璃基板上能够制作更多数量的显示面板,提升显示面板的产量,节省成本。
在一个实施例中,参见图4所示,第一距离D1为1~1.5mm。优选地,第一距离D1为1~1.1mm。第二距离D2大于1.5mm。这样,能够保证蒸镀掩膜板102的张网精度,同时也降低蒸镀掩膜板102的边缘发生翘曲的可能性。
本实施例中,预设条件还包括:覆盖掩膜板106与蒸镀掩膜板102具有部分交叠,覆盖掩膜板106靠近蒸镀区域1021的边缘与蒸镀区域1021的边缘之间具有第三距离D3,而定位区域101b的边缘与覆盖掩膜板106的边缘之间具有具有第四距离D4,第三距离D3大于等于第四距离D4。这样,能够有利于缩小两个蒸镀掩膜板102之间的间隙,或者,减小蒸镀掩膜板102自身尺寸,在单位面积内能够设置更多数量的蒸镀掩膜板102,提高蒸镀掩膜板102的单位面积排版率。在一个实施例中,第三距离D3为0.3~0.5mm,第四距离D4为0.3mm。
本实施例中,固定区域101c的宽度小于预设区域101a的宽度。参见图2所示,固定区域101c在第一方向X上的尺寸为宽度尺寸。预设区域101a在第一方向X上的尺寸为宽度尺寸。这样,在本实施例中,蒸镀掩膜板102的尺寸与固定区域101c的尺寸相对应,因此可以减小蒸镀掩膜板102自身在第一方向X上的尺寸,从而在单位面积内能够设置更多数量的蒸镀掩膜板102,提高蒸镀掩膜板102的单位面积排版率。
本实施例中,蒸镀区域1021具有辅助像素蒸镀区1021a。辅助像素蒸镀区1021a的边缘与蒸镀掩膜板102的边缘间距为第二距离D2。蒸镀掩膜板102上设置的辅助像素蒸镀区1021a用于蒸镀辅助像素。蒸镀掩膜板102的蒸镀区域1021还具有与辅助像素蒸镀区1021a相邻的显示像素蒸镀区。蒸镀掩膜板102上设置的显示像素蒸镀区用于蒸镀显示像素。
本实施例中,框架101包括设置于固定区域101c的凸起1011以及设置于定位区域101b的凹槽1012。蒸镀掩膜板102固定于凸起1011,而覆盖掩膜板106设置于凹槽1012内。覆盖掩膜板106的边缘距离凹槽1012的中心间距为第二预定距离L2。
在一个实施例中,连接区域101d内设置焊点104。蒸镀掩膜板102通过焊点固定于凸起1011。焊点104的边缘至蒸镀掩膜板102的边缘间距为第一距离D1。
在一个实施例中,蒸镀掩膜板102为具有预定宽度和长度的条形结构体。多个预设区域101a沿蒸镀掩膜板102的宽度方向间隔设置。
为了更好地理解本发明,下面结合图5至图7根据本发明实施例的掩膜板排版方法完成蒸镀掩膜板102排版后形成的掩膜板组件进行详细描述。
图5为本发明实施例的掩膜板组件的局部结构。参考图5,掩膜板组件包括框架101,蒸镀掩膜板102以及焊点104。框架101为框形结构。蒸镀掩膜板102的数量为多个。多个蒸镀掩膜板102沿第一方向X依次设置于框架101上。相邻两个蒸镀掩膜板102之间具有间隙103。焊点104的数量为多个,焊点104将蒸镀掩膜板102固定于框架101。在一个蒸镀掩膜板102中,最靠近间隙103的焊点104与蒸镀掩膜板102的边缘之间在第一方向X上具有最短的第一距离D1。蒸镀掩膜板102具有多个蒸镀孔105,最靠近间隙103的蒸镀孔105与蒸镀掩膜板102的边缘之间在第一方向X上具有最短的第二距离D2。第一距离D1小于第二距离D2。
有机发光显示面板具有堆叠结构。在该堆叠结构中,发射层***在阳极和阴极之间并基于如下原理实现颜色:从阳极和阴极注入到发射层中的空穴和电子会复合发射光。在本实施例中,使用蒸镀掩模板102蒸镀发射层材料,以制造有机发光显示面板。
通常有机发光显示面板制作在大张玻璃基板上,大张的玻璃基板可以同时形成多个有机发光显示面板。形成多个有机发光显示面板后进行切割。在蒸镀发光材料的过程中,将掩膜板组件与大张的玻璃基板对应,发光材料通过掩膜板组件的蒸镀孔105蒸镀到大张的玻璃基板上。
本实施例的掩膜板组件包括框架101。框架101一般为框形结构。框形结构的中空区域对应大张的玻璃基板上的蒸镀有效区设置。蒸镀形成的多个有机发光显示面板位于蒸镀有效区内。图5示意性地示出了矩形的框架101,但本实施例的框架101的形状不限于矩形,还可以是其他的形状。框架101用于支撑和固定多个蒸镀掩膜板102。
本实施例的多个蒸镀掩膜板102沿着第一方向X依次设置于框架101上。蒸镀掩膜板102可以为精细金属掩膜板(Fine Metal Mask,FMM),厚度很薄、热膨胀系数小,具有较高的蒸镀精度。蒸镀掩膜板102上具有多个蒸镀孔105。一个蒸镀孔105可以在玻璃基板上蒸镀一个以上的像素。发光材料通过蒸镀孔105蒸镀到玻璃基板上,从而形成发光像素。
本实施例中,在第一方向X上依次排列的多个蒸镀掩膜板102之间通常具有间隙103。该间隙103通常无法做到很小,较大的间隙103会使得在框架101上单位面积内排布的蒸镀掩膜板102数量变少,从而导致大张玻璃基板上产出的有机发光显示面板变少。
在第二方向Y上,蒸镀掩膜板102具有相对的两端。为了实现蒸镀掩膜板102和框架101的固定,通常将蒸镀掩膜板102焊接到框架101上,因而多个焊点104分布于蒸镀掩膜板102的两端,以将蒸镀掩膜板102固定于框架101上。
如图5所示,在第一方向X上,每个蒸镀掩膜板102具有相对的两个边缘。在X方向上,每个蒸镀掩膜板102上的多个焊点104中处于最外侧的焊点104到蒸镀掩膜板102的两个边缘具有两个距离。两个距离中最短的距离为上述的第一距离D1。在Y方向上,每个蒸镀掩膜板102上的多个蒸镀孔105中处于最外侧的蒸镀孔105到蒸镀掩膜板102的两个边缘具有两个距离。两个距离中最短的距离为上述的第二距离D2。
在一个实施例中,第一距离D1为1~1.5mm,第二距离D2大于1.5mm。这样,能够保证蒸镀掩膜板102的张网精度,同时也降低蒸镀掩膜板102的边缘发生翘曲的可能性。
本发明所提供的掩膜板组件和蒸镀方法,蒸镀掩膜板102的结构设计合理,能够在满足蒸镀掩膜板102张网精度的同时,缩小相邻两个蒸镀掩膜板102之间的间隙103,因而能够大幅度提升掩膜板组件中蒸镀掩膜板102的排版数量,从而在一个大张玻璃基板上能够制作更多数量的显示面板,提升显示面板的产量,节省成本。
继续参考图5,蒸镀掩膜板102的形状可以为条形。蒸镀掩膜板102具有预定宽度和长度。蒸镀掩膜板102的宽度方向为第一方向X。条形的蒸镀掩膜板102上包括为多个有机发光显示面板进行蒸镀的蒸镀孔105。蒸镀掩膜板102的延伸方向为第二方向Y,这里蒸镀掩膜板102的延伸方向即为条形的延伸方向。第二方向Y与第一方向X相互交叉,即多个蒸镀掩膜板102沿着第一方向X依次排列,并且每个蒸镀掩膜板102沿着第二方向Y延伸。可选地,第一方向X和第二方向Y垂直。可选地,框架101可以设置为矩形,并且该矩形的长边和短边分别平行于第一方向X和第二方向Y。蒸镀掩膜板102的延伸方向为第二方向Y,即蒸镀掩膜板102沿着矩形框架的一条边的方向延伸。多个蒸镀掩膜板102沿着矩形框架101的另一条边的方向依次排布。这种设置方式能够实现蒸镀掩膜板102的最佳排布方式,在特定形状的框架101上能够排布更多的蒸镀掩膜板102。
为了更好的实现蒸镀掩膜板102和框架101之间的固定连接,可以在蒸镀掩膜板102延伸方向上的一端通过规则排布的多个焊点104进行连接。可选地,焊点104在蒸镀掩膜板102的沿第二方向Y的两端分别呈阵列分布。该阵列的列行方向分别平行于第一方向X和第二方向Y。在这种条件下,位于同一行的焊点104(行方向为第二方向Y)与最靠近的间隙103可以具有相同距离,与蒸镀掩膜板102的边缘可以具有相同的最短的第一距离D1,从而能够有利于缩小两个蒸镀掩膜板102之间的间隙,在单位面积内能够设置更多数量的蒸镀掩膜板102,提高蒸镀掩膜板102的单位面积排版率。
图6为本发明实施例提供的掩膜板组件的整体结构。图7为图6中A区域的放大示意图。一并参考图6和图7,与上述实施方式中相同的部分此处不再赘述,本实施例的掩膜板组件还可以包括覆盖掩膜板106。覆盖掩膜板106用于覆盖相邻蒸镀掩膜板102之间的间隙103,防止在蒸镀过程中有机发光材料通过相邻蒸镀掩模板之间的间隙103蒸镀到玻璃基板上。覆盖掩模板106也能够用于为蒸镀掩膜板102提供支撑力,阻止蒸镀掩膜板102下垂,避免蒸镀掩膜板102上的蒸镀孔105变形,保证蒸镀掩膜板102上的蒸镀孔105的蒸镀精度。覆盖掩模板106同样通过焊接的方式固定到框架101,为了完全覆盖住间隙103,覆盖掩模板106与蒸镀掩模板102之间具有部分交叠。覆盖掩模板106靠近蒸镀孔105的边缘与最靠近间隙的蒸镀孔之间在第一方向X上具有第三距离D3,第三距离D3为0.3~0.5mm。
如图7所示,在第一方向X上,一个覆盖掩膜板106具有相对的两个边缘。一个覆盖掩膜板106的两个边缘分别与两个相邻的蒸镀掩膜板102层叠设置。一个蒸镀掩膜板102上设置的多个蒸镀孔105中最靠近相邻的覆盖掩膜板106的一个边缘的距离为上述的第三距离D3。
本实施例中,通过设置覆盖掩模板106靠近蒸镀孔105的边缘与最靠近间隙103的蒸镀孔105之间在第一方向X上具有第三距离D3为0.3~0.5mm,能够有利于缩小两个蒸镀掩膜板102之间的间隙,或者,减小蒸镀掩膜板102自身在第一方向X上的尺寸,在单位面积内能够设置更多数量的蒸镀掩膜板102,提高蒸镀掩膜板102的单位面积排版率。可选地,在本实施例中,覆盖掩膜板106为条形,并完全覆盖相邻蒸镀掩膜板102之间的间隙103。条形的覆盖掩膜板106的延伸方向为第二方向Y,即与蒸镀掩膜板102的延伸方向相同。
本实施例中,与蒸镀掩膜板102类似的方式,覆盖掩膜板106同样可以通过焊接与框架101实现固定,框架101上,在框架与蒸镀掩膜板102进行固定的部分上可以设置多个凸起1011,多个凸起1011可以沿着第一方向X排布,相邻的凸起1011之间具有凹槽1012,蒸镀掩膜板102固定到框架101的多个凸起1011上。可选地,一个蒸镀掩膜板102可以分别在蒸镀掩膜板102的一个端部固定在一个凸起1011上。由于蒸镀掩膜板102为条形并且沿着第二方向Y延伸,因而蒸镀掩膜板102固定于在第二方向Y上相对设置的凸起1011之上,而覆盖掩膜板106固定于相邻的凸起1011之间的凹槽1012内。
可以理解地,凹槽1012是由相邻的两个凸起1011之间具有一定的距离形成的,因此凹槽1012具有由相邻的凸起1011构成的长条边1012a。该长条边1012a即为构成凹槽1012的凸起1011的边缘,长条边1012a的延伸方向可以为第二方向Y,如图7所示,覆盖掩膜板106位于长条边1012a所构成的凹槽1012内,长条边1012a最靠近覆盖掩膜板106的一个边缘,长条边1012a与最靠近的覆盖掩膜板106的边缘之间在第一方向X上具有第四距离D4。第四距离D4可以为0.3mm,覆盖掩膜板106的边缘为沿着第二方向Y延伸的边缘。通过设置第四距离D4为0.3mm,能够有利于缩小两个蒸镀掩膜板102之间的间隙,在单位面积内能够设置更多数量的蒸镀掩膜板102,提高蒸镀掩膜板102的单位面积排版率。
进一步地,本发明实施例还提供了一种蒸镀方法,包括将上述任一种掩膜板组件放置于目标基板上方,这里目标基板即前述实施方式中的大张的玻璃基板,通过上述掩膜板组件对目标基板进行蒸镀。
本发明所提供的掩膜板组件和蒸镀方法,由于蒸镀掩膜板102的结构设计合理,能够在满足蒸镀掩膜板102张网精度的同时,缩小相邻两个蒸镀掩膜板102之间的间隙103,因而能够大幅度提升掩膜板组件中蒸镀掩膜板102的排版数量,提升张网精度,从而在一个大张玻璃基板上能够制作更多数量的显示面板,提升显示面板的产量,节省成本。
虽然已经参考优选实施例对本发明进行了描述,但在不脱离本发明的范围的情况下,可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件,尤其是,只要不存在结构冲突,各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本发明并不局限于文中公开的特定实施例,而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。
Claims (9)
1.一种掩膜板排版方法,其特征在于,包括:
提供框架,具有间隔设置的预设区域、位于相邻两个所述预设区域之间的定位区域以及与所述预设区域和所述定位区域错位设置的固定区域,相邻两个所述预设区域之间的间距为第一预定距离L1;
对应于所述定位区域设置覆盖掩膜板,所述覆盖掩膜板的边缘距离所述定位区域的中心间距为第二预定距离L2;
根据预设条件将蒸镀掩膜板设置于所述固定区域,相邻两个所述固定区域之间的间距为第三预定距离L3,所述第三预定距离L3等于所述第一预定距离L1与所述第二预定距离L2的差值;
所述预设条件包括:所述框架具有用于连接所述蒸镀掩膜板的连接区域,所述连接区域在所述固定区域内,所述连接区域的边缘至所述蒸镀掩膜板的边缘间距为第一距离D1,所述蒸镀掩膜板的蒸镀区域的边缘与所述蒸镀掩膜板的边缘间距为第二距离D2;所述第一距离D1小于所述第二距离D2;
所述预设条件还包括:所述覆盖掩膜板与所述蒸镀掩膜板具有部分交叠,所述覆盖掩膜板靠近所述蒸镀区域的边缘与所述蒸镀区域的边缘之间具有第三距离D3;所述定位区域的边缘与所述覆盖掩膜板的边缘之间具有第四距离D4,所述第三距离D3大于等于所述第四距离D4。
2.根据权利要求1所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述第一距离D1为1~1.5mm。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述第二距离D2大于1.5mm。
4.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述固定区域的宽度小于所述预设区域的宽度。
5.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述蒸镀区域具有辅助像素蒸镀区,所述辅助像素蒸镀区的边缘与所述蒸镀掩膜板的边缘间距为所述第二距离D2。
6.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述框架包括设置于所述固定区域的凸起以及设置于所述定位区域的凹槽,所述蒸镀掩膜板固定于所述凸起上,所述覆盖掩膜板设置于所述凹槽内。
7.根据权利要求6所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述连接区域内设置焊点,所述蒸镀掩膜板通过所述焊点固定于所述凸起,所述焊点的边缘至所述蒸镀掩膜板的边缘间距为所述第一距离D1。
8.根据权利要求1或2所述的掩膜板排版方法,其特征在于,所述蒸镀掩膜板为条形。
9.根据权利要求8所述的掩膜板排版方法,其特征在于,多个所述预设区域沿所述蒸镀掩膜板的宽度方向间隔设置。
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CN110098239B (zh) * | 2019-05-17 | 2021-11-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 像素结构、显示基板、掩模板及蒸镀方法 |
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CN111666923B (zh) * | 2020-07-02 | 2023-06-02 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板以及电子设备 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104317158A (zh) * | 2014-11-14 | 2015-01-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置 |
CN104651778A (zh) * | 2015-03-13 | 2015-05-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种金属掩膜板及其制作出的有机电致发光显示器件 |
CN106676469A (zh) * | 2017-01-09 | 2017-05-17 | 昆山国显光电有限公司 | 蒸镀掩膜板及其制造方法 |
WO2018045799A1 (zh) * | 2016-09-06 | 2018-03-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制作方法、以及显示装置 |
CN207109080U (zh) * | 2017-08-30 | 2018-03-16 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 掩膜板 |
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KR20120081512A (ko) * | 2011-01-11 | 2012-07-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 |
KR20120123918A (ko) * | 2011-05-02 | 2012-11-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 분할 마스크 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체의 조립방법 |
KR101837624B1 (ko) | 2011-05-06 | 2018-03-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법 |
CN105586568B (zh) * | 2016-03-18 | 2018-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板 |
CN206340548U (zh) * | 2016-12-26 | 2017-07-18 | 云谷(固安)科技有限公司 | Oled像素排布结构、金属掩膜板及oled显示屏 |
CN107523788B (zh) * | 2017-08-31 | 2023-12-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩模板及其制作方法 |
CN107723659B (zh) * | 2017-11-28 | 2019-11-08 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 用于蒸镀的掩膜板及制备方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104317158A (zh) * | 2014-11-14 | 2015-01-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置 |
CN104651778A (zh) * | 2015-03-13 | 2015-05-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种金属掩膜板及其制作出的有机电致发光显示器件 |
WO2018045799A1 (zh) * | 2016-09-06 | 2018-03-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板及其制作方法、以及显示装置 |
CN106676469A (zh) * | 2017-01-09 | 2017-05-17 | 昆山国显光电有限公司 | 蒸镀掩膜板及其制造方法 |
CN207109080U (zh) * | 2017-08-30 | 2018-03-16 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 掩膜板 |
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