CN108929791A - 一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，包括以下组分及组分的质量百分比：絮凝剂0.05％‑0.1％、无机碱20％‑50％、螯合剂20％‑30％、表面活性剂1％‑2％和去离子水17.9％‑58.95％。该镭雕陶瓷玻璃清洗剂对二氧化硅、三氧化二铝、氧化镁、氧化钛等氧化物具有很强的螯合能力，清洗产品合格率在95％以上，清洗效果好，同时借助于絮凝剂的絮凝作用，使得脱离基材表面的粉尘颗粒在清洗液中迅速凝结成大的颗粒团，从而降低清洗液中的粉尘颗粒溶度，大大延长清洗液的使用寿命，进而降低成本，利于广泛推广应用。同时，本发明还公开了一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂的制备方法。

Description

一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂及其制备方法

技术领域

本发明涉及清洗剂制作的技术领域，尤其涉及一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂及其制备方法。

背景技术

近几年来，随着手机制造技术、加工工艺的更新换代，新材料的应用也层出不穷。其中手机后盖板目前还大都使用金属材料。但近两年来，随着陶瓷材料技术的迅猛发展，现在已有部分手机制造商及部分产品将手机后盖由原来的金属材料改用陶瓷(玻璃)，且发展趋势迅速。但是，陶瓷玻璃后盖在加工的过程中首先要用到镭雕切割，而在陶瓷板材镭雕切割过程中会产生高温，这样的话，在切割时所产生的切割屑微粒溅附在陶瓷板上，由于温度高，使得切割屑微粒与板材之间产生极强的静电吸附，很难清洗。据了解，目前镭雕陶瓷玻璃产品清洗后大多都有白点，良率不高。

发明内容

本发明的一个目的在于：提供一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，该镭雕陶瓷玻璃清洗剂制备简单，能迅速将镭雕陶瓷玻璃上的二氧化硅、三氧化二铝、氧化镁、氧化钛等粉尘微粒彻底清洗干净而不腐蚀基材，清洗后的基材表面无白点、水印等污物，清洗效果良好。

本发明的另一个目的在于：提供一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂的制备方法，该方法的制备工艺简易，易于实现，能快速高效制备出清洗性能优良的镭雕陶瓷玻璃清洗剂。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，包括以下组分及组分的质量百分比：絮凝剂 0.05％-0.1％、无机碱20％-50％、螯合剂20％-30％、表面活性剂1％-2％和去离子水 17.9％-58.95％。

作为一种优选的技术方案，所述絮凝剂为阳离子聚丙烯酰胺。

作为一种优选的技术方案，所述阳离子聚丙烯酰胺的分子量为350万。

作为一种优选的技术方案，所述无机碱为氢氧化钾、氢氧化钠或者氢氧化钾与氢氧化钠的混合物。

作为一种优选的技术方案，所述螯合剂为马莱酸-丙烯酸共聚物、乙二胺四乙酸二钠、柠檬酸、葡萄糖酸钠中的一种或多种。

作为一种优选的技术方案，所述表面活性剂为阴离子表面活性剂。

一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

按重量百分比称取去离子水，然后倒入搅拌桶，并加热至45-55℃，接着保持恒温；

按重量百分比称取絮凝剂并加入去离子水中，开启搅拌器对搅拌桶进行搅拌，在絮凝剂完全溶解后停止加热；

按重量百分比称取无机碱，倒入搅拌桶并对搅拌桶进行搅拌；

待搅拌桶内溶液温度降至60℃以下，按重量百分比称取螯合剂，并缓慢倒入搅拌桶并对搅拌桶进行搅拌；

按重量百分比分别称取表面活性剂，倒入搅拌桶并对搅拌桶进行搅拌，直至混合溶液成透明清液。

作为一种优选的技术方案，所述搅拌器的转速为80-100转/分。

本发明的有益效果为：提供一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，该镭雕陶瓷玻璃清洗剂制备简单，能迅速将镭雕陶瓷玻璃上的二氧化硅、三氧化二铝、氧化镁、氧化钛等粉尘微粒彻底清洗干净而不腐蚀基材，清洗后的基材表面无白点、水印等污物，清洗效果良好。提供一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂的制备方法，该方法的制备工艺简易，易于实现，能快速高效制备出清洗性能优良的镭雕陶瓷玻璃清洗剂。

具体实施方式

下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

实施例一：

本实施例提供了一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，各组分及质量百分比如下：絮凝剂0.05％；无机碱25％；去离子水44.95％。螯合剂29％；表面活性剂1％。其中，所述絮凝剂优选为阳离子聚丙烯酰胺，进一步的，该阳离子聚丙烯酰胺优选为分子量为350万阳离子聚丙烯酰胺。所述无机碱为氢氧化钠。所述螯合剂马莱酸 -丙烯酸共聚物、乙二胺四乙酸二钠、柠檬酸和葡萄糖酸钠相混合而成，其中马莱酸-丙烯酸共聚物占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比12％；乙二胺四乙酸二钠占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比3％；柠檬酸占镭雕陶瓷玻玻璃清洗剂质量百分比4％。葡萄糖酸钠占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比10％。

本实施例提供了一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

(1)按重量百分比称取去离子水，然后倒入搅拌桶，并加热至50℃，然后保持恒温；按重量百分比称取阳离子聚丙烯酰胺并加入去离子水中，开启搅拌器，使阳离子聚丙烯酰胺完全溶解后停止加热；搅拌器的转速为80转/分。

(2)按重量百分比称取氢氧化钠，倒入搅拌桶，搅拌；

(3)待搅拌桶内溶液温度降至50℃，按重量百分比称取马莱酸-丙烯酸共聚物，并倒入搅拌桶内，搅拌；

(4)待搅拌桶内溶液温度降至50℃，按重量百分比称取乙二胺四乙酸二钠、柠檬酸、葡萄糖酸钠和表面活性剂，然后倒入搅拌桶内，搅拌溶解成透明清液后即制成镭雕陶瓷玻璃清洗剂制品。

实施例二：

本实施例与实施例一的区别在于：

一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，各组分及其质量百分比如下：絮凝剂0.1％；氢氧化钾40％；去离子水29.9％。螯合剂28％；表面活性剂2％。其中所述螯合剂马莱酸-丙烯酸共聚物、乙二胺四乙酸二钠和葡萄糖酸钠相混合而成，其中马莱酸- 丙烯酸共聚物占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比11％；乙二胺四乙酸二钠占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比5％；葡萄糖酸钠占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比 12％。

实施例三：

本实施例与实施例一的区别在于：

一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，各组分及其质量百分比如下：絮凝剂0.08％；氢氧化钠10％；氢氧化钾20％；螯合剂28％；去离子水40.42％；表面活性剂1.5％。其中所述螯合剂马莱酸-丙烯酸共聚物、乙二胺四乙酸二钠和葡萄糖酸钠相混合而成，其中马莱酸-丙烯酸共聚物占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比15％；乙二胺四乙酸二钠占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比3％；葡萄糖酸钠占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比10％。

实施例四：

本实施例与实施例一的区别在于：

一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，各组分及其质量百分比如下：絮凝剂0.06％；氢氧化钠20％；氢氧化钾8％；去离子水40.94％；螯合剂30％；表面活性剂1.0％。其中所述螯合剂马莱酸-丙烯酸共聚物、乙二胺四乙酸二钠、柠檬酸和葡萄糖酸钠相混合而成，其中马莱酸-丙烯酸共聚物占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比10％；乙二胺四乙酸二钠占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比4％；柠檬酸占镭雕陶瓷玻玻璃清洗剂质量百分比4％。葡萄糖酸钠占镭雕陶瓷玻璃清洗剂质量百分比12％。

需要声明的是，上述具体实施方式仅仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理，在本发明所公开的技术范围内，任何熟悉本技术领域的技术人员所容易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (8)

1.一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，其特征在于，包括以下组分及组分的质量百分比：絮凝剂0.05％-0.1％、无机碱20％-50％、螯合剂20％-30％、表面活性剂1％-2％和去离子水17.9％-58.95％。

2.根据权利要求1所述的一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，其特征在于，所述絮凝剂为阳离子聚丙烯酰胺。

3.根据权利要求2所述的一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，其特征在于，所述阳离子聚丙烯酰胺的分子量为350万。

4.根据权利要求1所述的一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，其特征在于，所述无机碱为氢氧化钾、氢氧化钠或者氢氧化钾与氢氧化钠的混合物。

5.根据权利要求1所述的一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，其特征在于，所述螯合剂为马莱酸-丙烯酸共聚物、乙二胺四乙酸二钠、柠檬酸、葡萄糖酸钠中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂，其特征在于，所述表面活性剂为阴离子表面活性剂。

7.一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

按重量百分比称取去离子水，然后倒入搅拌桶，并加热至45-55℃，接着保持恒温；

按重量百分比称取絮凝剂并加入去离子水中，开启搅拌器对搅拌桶进行搅拌，在絮凝剂完全溶解后停止加热；

按重量百分比称取无机碱，倒入搅拌桶并对搅拌桶进行搅拌；

待搅拌桶内溶液温度降至60℃以下，按重量百分比称取螯合剂，并缓慢倒入搅拌桶并对搅拌桶进行搅拌；

按重量百分比分别称取表面活性剂，倒入搅拌桶并对搅拌桶进行搅拌，直至混合溶液成透明清液。

8.根据权利要求7所述的一种镭雕陶瓷玻璃清洗剂的制备方法，其特征在于，所述搅拌器的转速为80-100转/分。