CN101265441A - 多晶硅片水基清洗剂 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种多晶硅片水基清洗剂,是浅黄色透明液体,有如下组分和重量百分配比:表面活性剂20~40、溶剂5~15、光亮剂10~20、分散剂(TD-1、TD-2)10~18、pH调节剂15~20、去离子水30~40。是利用表面活性剂的复配性能,提高了表面去污力及保持清洁度的持续性,同时可使硅片洗后无水痕,更加光亮,对于多晶硅片等物料具有良好的清洁效果,并且提高了清洗速度和耐用性能。配制浓度低、用料少,不仅降低了用户的使用成本,还减少了污水排放,达到了节能减排的目的。
Description
技术领域:
本发明涉及一种硅片超声波清洗剂,尤其是一种可提高去垢能力、清洗速度以及耐用性能的多晶硅片水基清洗剂。
背景技术:
硅片首先是将硅棒切割成片状,经过研磨、抛光、腐蚀等工序,以获得平整光洁的表面,然后再经过清洗、氧化、光刻、外延生长、固态扩散等复杂的加工过程,才能形成半导体材料。其中的清洗主要是去除切割过程中产生的沙粒、残留的水溶性线切割悬浮液、金属离子、指纹等,清洗效果将直接影响硅片的质量,必需满足除垢彻底、无腐蚀氧化、无残留等技术要求。目前,随着太阳能电池的日益增长率,清洗液的需求量也在逐年递增,但是,迄今为止还没有专用于多晶硅片的超声波清洗液。现有清洗液存在着去垢能力差、清洗速度慢以及耐用性能不强的缺点,导致作业用清洗剂浓度高、用量大,直接提高了生产成本,同时换槽频繁、次数多,增加了污水排放量,不利于环境保护。
发明内容:
本发明是为了解决现有技术所存在的上述技术问题,提供一种可提高去垢能力、清洗速度以及耐用性能的多晶硅片水基清洗剂。
本发明的技术解决方案是:一种多晶硅片水基清洗剂,其特征在于是浅黄色透明液体,有如下组分和重量百分配比:
表面活性剂 20~40
溶剂 5~15
光亮剂 10~20
分散剂 10~18
PH调节剂 15~20
去离子水 30~40。
所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷醇酰胺、聚季胺盐、改性聚胺阳离子中的一种或两种。
所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚为8~9个碳的伯醇或仲醇,乙氧基为8~10个,丙氧基为3~6。
所述脂肪醇聚氧乙烯醚为8~14个碳的醇,乙氧基为3~6个。
所述烷醇酰胺为16~18个碳的月桂基或椰子油基。
所述的溶剂为乙醇、萜烯、C8~C12醇混合脂、低碳醇混合脂中的一种或两种。
所述PH调节剂为单乙醇胺、碳酸钠、乳酸、柠檬酸、羟基乙酸的一种或三种。
所述的光亮剂为甲基甘氨酸钾、改性马来酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物钠的一种或两种。
本发明是利用表面活性剂的复配性能,提高了表面去污力及保持清洁度的持续性,同时可使硅片洗后无水痕,更加光亮,对于多晶硅片等物料具有良好的清洁效果,并且提高了清洗速度和耐用性能。配制浓度低、用料少,不仅降低了用户的使用成本,还减少了污水排放,达到了节能减排的目的。
具体实施方式:
原料及重量百分比如下:一种多晶硅片水基清洗剂,其特征在于是浅黄色透明液体,有如下组分和重量百分配比:表面活性剂20~40、溶剂5~15、光亮剂10~20、分散剂(TD-1、TD-2)10~18、PH调节剂15~20、去离子水30~40。
所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷醇酰胺、聚季胺盐、改性聚胺阳离子中的一种或两种。
所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚为8~9个碳的伯醇或仲醇,乙氧基为8~10个,丙氧基为3~6。
所述脂肪醇聚氧乙烯醚为8~14个碳的醇,乙氧基为3~6个。
所述烷醇酰胺为16~18个碳的月桂基或椰子油基。
所述的溶剂为乙醇、萜烯、C8~C12醇混合脂TC-800,低碳醇混合脂TY-609中的一种或两种。
所述PH调节剂为单乙醇胺、碳酸钠、乳酸、柠檬酸、羟基乙酸的一种或三种。
所述的光亮剂为甲基甘氨酸钾、改性马来酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物钠的一种或两种。
各原料可在重量范围内进行选择,使重量之和为100%,配制产品的外观为浅黄色透明液体。
适用本发明清洗工艺如下:
清洗产品:切割后的多晶硅片。
使用药剂:本发明实施例。
使用浓度:按3%配比,清洗槽约130升,实际使用量为4升。
清洗时间:300S
使用温度:60~65℃左右。
在用量及其他清洗条件相同时,通过多次清洗,得出以下数据:
清洗剂 | 原清洗剂 | 本发明实施例 |
清洗数量 | 5000片 | 8000片以上 |
通过以上数据可以看出本发明的耐用性能与现有技术相比大大提高。清洗后的残液颜色加深,说明清洗液得到了充分的利用,清洗剂成本支出大幅下降。大大减少了换槽次数,污水排放量大幅减少,达到了节能减排的目的。溶垢力更强,可在短时间内彻底清除硅片表面的铁离子和各种杂质,使硅片洗后无水痕,而且更加光亮。
Claims (8)
1.一种多晶硅片水基清洗剂,其特征在于是浅黄色透明液体,有如下组分和重量百分配比:
表面活性剂 20~40
溶剂 5~15
光亮剂 10~20
分散剂 10~18
PH调节剂 15~20
去离子水 30~40。
2.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂,其特征在于:所述的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、烷醇酰胺、聚季胺盐、改性聚胺阳离子中的一种或两种。
3.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂,其特征在于:所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚为8~9个碳的伯醇或仲醇,乙氧基为8~10个,丙氧基为3~6。
4.根据权利要求2或3所述的多晶硅片水基清洗剂,其特征在于:所述脂肪醇聚氧乙烯醚为8~14个碳的醇,乙氧基为3~6个。
5.根据权利要求4所述的多晶硅片水基清洗剂,其特征在于:所述烷醇酰胺为16~18个碳的月桂基或椰子油基。
6.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂,其特征在于:所述的溶剂为乙醇、萜烯、C8~C12醇混合脂、低碳醇混合脂中的一种或两种。
7.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂,其特征在于:所述PH调节剂为单乙醇胺、碳酸钠、乳酸、柠檬酸、羟基乙酸的一种或三种。
8.根据权利要求1所述的多晶硅片水基清洗剂,其特征在于:所述的光亮剂为甲基甘氨酸钾、改性马来酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物钠的一种或两种。
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Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102533470A (zh) * | 2011-12-29 | 2012-07-04 | 镇江市港南电子有限公司 | 一种硅片清洗液 |
CN103484261A (zh) * | 2012-06-13 | 2014-01-01 | 浙江瑞翌新材料科技有限公司 | 一种太阳能硅片清洗剂 |
CN103525576A (zh) * | 2013-10-30 | 2014-01-22 | 合肥市华美光电科技有限公司 | 一种水基乙醇电路板清洗剂及其制备方法 |
CN103555445A (zh) * | 2013-10-30 | 2014-02-05 | 合肥市华美光电科技有限公司 | 一种水基抗菌电路板清洗剂及其制备方法 |
CN103571640A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-02-12 | 合肥中南光电有限公司 | 一种水基led芯片清洗剂及其制备方法 |
CN103571664A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-02-12 | 合肥中南光电有限公司 | 一种环保太阳能硅片清洗剂及其制备方法 |
CN103571644A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-02-12 | 合肥中南光电有限公司 | 一种水基硅片清洗剂及其制备方法 |
CN104862093A (zh) * | 2015-04-28 | 2015-08-26 | 苏州永创达电子有限公司 | 一种酸性超声波清洗剂 |
CN106148028A (zh) * | 2016-07-29 | 2016-11-23 | 烟台新时代健康产业日化有限公司 | 一种具有高效清洁功能的组合物 |
CN106350302A (zh) * | 2016-08-24 | 2017-01-25 | 安徽正田能源科技有限公司 | 一种硅片加工用胶水清除剂及其制备方法 |
CN106350269A (zh) * | 2016-08-24 | 2017-01-25 | 安徽正田能源科技有限公司 | 一种硅片表面污渍分解剂及其加工方法 |
CN106479700A (zh) * | 2016-10-12 | 2017-03-08 | 佛山迅拓奥科技有限公司 | 一种半导体硅材料研磨液清洗剂及其制备方法 |
CN106833954A (zh) * | 2017-01-23 | 2017-06-13 | 常州时创能源科技有限公司 | 单晶硅片制绒预清洗液的添加剂及其应用 |
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CN109294758A (zh) * | 2018-08-31 | 2019-02-01 | 浙江帝恒实业有限公司 | 一种新能源汽车用清洗剂及其制备方法 |
CN111254003A (zh) * | 2018-11-30 | 2020-06-09 | 洛阳阿特斯光伏科技有限公司 | 一种切割过程中使用的冷却液及其制备方法和用途 |
CN113430069A (zh) * | 2020-03-23 | 2021-09-24 | 上海新阳半导体材料股份有限公司 | 一种低羟胺水基清洗液、其制备方法及应用 |
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Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102533470A (zh) * | 2011-12-29 | 2012-07-04 | 镇江市港南电子有限公司 | 一种硅片清洗液 |
CN103484261A (zh) * | 2012-06-13 | 2014-01-01 | 浙江瑞翌新材料科技有限公司 | 一种太阳能硅片清洗剂 |
CN103525576A (zh) * | 2013-10-30 | 2014-01-22 | 合肥市华美光电科技有限公司 | 一种水基乙醇电路板清洗剂及其制备方法 |
CN103555445A (zh) * | 2013-10-30 | 2014-02-05 | 合肥市华美光电科技有限公司 | 一种水基抗菌电路板清洗剂及其制备方法 |
CN103571640A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-02-12 | 合肥中南光电有限公司 | 一种水基led芯片清洗剂及其制备方法 |
CN103571664A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-02-12 | 合肥中南光电有限公司 | 一种环保太阳能硅片清洗剂及其制备方法 |
CN103571644A (zh) * | 2013-10-31 | 2014-02-12 | 合肥中南光电有限公司 | 一种水基硅片清洗剂及其制备方法 |
CN104862093A (zh) * | 2015-04-28 | 2015-08-26 | 苏州永创达电子有限公司 | 一种酸性超声波清洗剂 |
CN106148028A (zh) * | 2016-07-29 | 2016-11-23 | 烟台新时代健康产业日化有限公司 | 一种具有高效清洁功能的组合物 |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20080917 |