CN110684602A - 一种lcd基板清洗剂及其使用方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种LCD基板清洗剂及其使用方法，各组分的重量份数分别是：10‑20份的氢氧化钾、10‑18份的碳酸钠、14‑26份的乙醇胺、15‑25份的丙酮、15‑25份的N‑甲基吡咯烷酮、5‑10份的非离子表面活性剂、5‑10份的无机絮凝剂、6‑8份的螯合剂和70‑100份的去离子水；使用方法，包括以下步骤，步骤一，清洗剂制作；步骤二，正常清洗线；步骤三，清洗剂清洗；步骤四，超音波清洗；步骤五，基板风干；步骤六，UV光照射；该LCD基板清洗剂及其使用方法，科学调配，采用表面活性剂和各种助剂协同作用，具有良好的清洁力的同时保证了基板的膜均匀度，且废水处理更加安全，多种清洁方法清洁更加彻底，残留物漂洗干净，避免了单一清洁方式清洁不彻底导致后期基板显示问题。
Description
技术领域
本发明涉及LCD基板技术领域，具体为一种LCD基板清洗剂及其使用方法。
背景技术
LCD即液晶显示器。LCD的构造是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶盒，下基板玻璃上设置TFT(薄膜晶体管)，上基板玻璃上设置彩色滤光片，通过TFT上的信号与电压改变来控制液晶分子的转动方向，从而达到控制每个像素点偏振光出射与否而达到显示目的。在LCD的制作过程中玻璃基板需进行充分的清洁，以保证后续工序的正常生产，同时现有的清洁方式单一，不利于残留物的充分洁净，因此设计一种LCD基板清洗剂及其使用方法是十分有必要的。
发明内容
本发明的目的在于提供一种LCD基板清洗剂及其使用方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种LCD基板清洗剂，配方包括：氢氧化钾、碳酸钠、乙醇胺、丙酮、N-甲基吡咯烷酮、非离子表面活性剂、无机絮凝剂、螯合剂和去离子水，各组分的重量份数分别是：10-20份的氢氧化钾、10-18份的碳酸钠、14-26份的乙醇胺、15-25份的丙酮、15-25份的N-甲基吡咯烷酮、5-10份的非离子表面活性剂、5-10份的无机絮凝剂、6-8份的螯合剂和70-100份的去离子水。
一种LCD基板清洗剂的使用方法，包括以下步骤，步骤一，清洗剂制作；步骤二，正常清洗线；步骤三，清洗剂清洗；步骤四，超音波清洗；步骤五，基板风干；步骤六，UV光照射；
其中在上述步骤一中，清洗剂制作包括以下步骤：
1)按照各组分的重量百分含量分别是：10-20份的氢氧化钾、10-18份的碳酸钠、14-26份的乙醇胺、15-25份的丙酮、15-25份的N-甲基吡咯烷酮、5-10份的非离子表面活性剂、5-10份的无机絮凝剂、6-8份的螯合剂和70-100份的去离子水进行选取；
2)将上述选取的原料加入反应釜中，在80-200r/min的速率下不断搅拌10-30min，直至搅拌混合均匀，再按照规格进行灌装；
其中在上述步骤二中，将待清洗的LCD基板膜面向上水平放置在正常清洗线传送带上，利用毛刷对其进行刷洗，同时喷淋除去污渍；
其中在上述步骤三中，将LCD基板浸入清洗剂原液中1-2min后拿出；再利用水压为1-3Mpa的高压纯净水对LCD基板表面进行冲洗；
其中在上述步骤四中，将LCD基板利用超声波汽相除油脂清洗机进行清洗，超声波频率为28-40KHz；
其中在上述步骤五中，将基板利用风干设备进行风干；
其中在上述步骤六中，将风干的基板利用UV光照射，检查有无破损后储存于洁净空间内。
根据上述技术方案，所述非离子表面活性剂为一种非离子聚丙烯酰胺。
根据上述技术方案，所述螯合剂为一种三聚磷酸钠。
根据上述技术方案，所述无机絮凝剂为聚合硫酸铁、聚合氯化铝和铁盐中的任一种。
根据上述技术方案，所述去离子水为电阻率为18.2MΩ.cm的超纯水。
根据上述技术方案，所述步骤一2)中，加入原料过程中也不断搅拌，速率为20-150r/min。
根据上述技术方案，所述步骤五中，风速为20-30m/s。
根据上述技术方案，所述步骤六中，UV光的波长为365nm。
与现有技术相比，本发明所达到的有益效果是：该LCD基板清洗剂及其使用方法，科学调配，采用表面活性剂和各种助剂协同作用，具有良好的清洁力的同时保证了基板的膜均匀度，且废水处理更加安全，多种清洁方法清洁更加彻底，残留物漂洗干净，避免了单一清洁方式清洁不彻底导致后期基板显示问题。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。
在附图中：
图1是本发明的使用方法立流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1，本发明提供一种技术方案：
实施例1：
一种LCD基板清洗剂，配方包括：氢氧化钾、碳酸钠、乙醇胺、丙酮、N-甲基吡咯烷酮、非离子表面活性剂、无机絮凝剂、螯合剂和去离子水，各组分的重量份数分别是：15份的氢氧化钾、15份的碳酸钠、18份的乙醇胺、20份的丙酮、15份的N-甲基吡咯烷酮、8份的非离子表面活性剂、8份的无机絮凝剂、8份的螯合剂和90份的去离子水。
一种LCD基板清洗剂的使用方法，包括以下步骤，步骤一，清洗剂制作；步骤二，正常清洗线；步骤三，清洗剂清洗；步骤四，超音波清洗；步骤五，基板风干；步骤六，UV光照射；
其中在上述步骤一中，清洗剂制作包括以下步骤：
1)按照各组分的重量百分含量分别是：15份的氢氧化钾、15份的碳酸钠、18份的乙醇胺、20份的丙酮、15份的N-甲基吡咯烷酮、8份的非离子表面活性剂、8份的无机絮凝剂、8份的螯合剂和90份的去离子水进行选取；
2)将上述选取的原料加入反应釜中，加入原料过程中不断搅拌，速率为20-150r/min，在80-200r/min的速率下不断搅拌10-30min，直至搅拌混合均匀，再按照规格进行灌装；
其中在上述步骤二中，将待清洗的LCD基板膜面向上水平放置在正常清洗线传送带上，利用毛刷对其进行刷洗，同时喷淋除去污渍；
其中在上述步骤三中，将LCD基板浸入清洗剂原液中1-2min后拿出；再利用水压为1-3Mpa的高压纯净水对LCD基板表面进行冲洗；
其中在上述步骤四中，将LCD基板利用超声波汽相除油脂清洗机进行清洗，超声波频率为28-40KHz；
其中在上述步骤五中，将基板利用风干设备进行风干，风速为20-30m/s；
其中在上述步骤六中，将风干的基板利用UV光照射，UV光的波长为365nm，检查有无破损后储存于洁净空间内。
其中，非离子表面活性剂为一种非离子聚丙烯酰胺；螯合剂为一种三聚磷酸钠；去离子水为电阻率为18.2MΩ.cm的超纯水；无机絮凝剂为一种聚合硫酸铁。
实施例2：
一种LCD基板清洗剂，配方包括：氢氧化钾、碳酸钠、乙醇胺、丙酮、N-甲基吡咯烷酮、非离子表面活性剂、无机絮凝剂、螯合剂和去离子水，各组分的重量份数分别是：15份的氢氧化钾、15份的碳酸钠、18份的乙醇胺、20份的丙酮、15份的N-甲基吡咯烷酮、8份的非离子表面活性剂、8份的无机絮凝剂、8份的螯合剂和90份的去离子水。
一种LCD基板清洗剂的使用方法，包括以下步骤，步骤一，清洗剂制作；步骤二，正常清洗线；步骤三，清洗剂清洗；步骤四，超音波清洗；步骤五，基板风干；步骤六，UV光照射；
其中在上述步骤一中，清洗剂制作包括以下步骤：
1)按照各组分的重量百分含量分别是：15份的氢氧化钾、15份的碳酸钠、18份的乙醇胺、20份的丙酮、15份的N-甲基吡咯烷酮、8份的非离子表面活性剂、8份的无机絮凝剂、8份的螯合剂和90份的去离子水进行选取；
2)将上述选取的原料加入反应釜中，加入原料过程中不断搅拌，速率为20-150r/min，在80-200r/min的速率下不断搅拌10-30min，直至搅拌混合均匀，再按照规格进行灌装；
其中在上述步骤二中，将待清洗的LCD基板膜面向上水平放置在正常清洗线传送带上，利用毛刷对其进行刷洗，同时喷淋除去污渍；
其中在上述步骤三中，将LCD基板浸入清洗剂原液中1-2min后拿出；再利用水压为1-3Mpa的高压纯净水对LCD基板表面进行冲洗；
其中在上述步骤四中，将LCD基板利用超声波汽相除油脂清洗机进行清洗，超声波频率为28-40KHz；
其中在上述步骤五中，将基板利用风干设备进行风干，风速为20-30m/s；
其中在上述步骤六中，将风干的基板利用UV光照射，UV光的波长为365nm，检查有无破损后储存于洁净空间内。
其中，非离子表面活性剂为一种非离子聚丙烯酰胺；螯合剂为一种三聚磷酸钠；去离子水为电阻率为18.2MΩ.cm的超纯水；无机絮凝剂为一种聚合氯化铝。
实施例3：
一种LCD基板清洗剂，配方包括：氢氧化钾、碳酸钠、乙醇胺、丙酮、N-甲基吡咯烷酮、非离子表面活性剂、无机絮凝剂、螯合剂和去离子水，各组分的重量份数分别是：15份的氢氧化钾、15份的碳酸钠、18份的乙醇胺、20份的丙酮、15份的N-甲基吡咯烷酮、8份的非离子表面活性剂、8份的无机絮凝剂、8份的螯合剂和90份的去离子水。
一种LCD基板清洗剂的使用方法，包括以下步骤，步骤一，清洗剂制作；步骤二，正常清洗线；步骤三，清洗剂清洗；步骤四，超音波清洗；步骤五，基板风干；步骤六，UV光照射；
其中在上述步骤一中，清洗剂制作包括以下步骤：
1)按照各组分的重量百分含量分别是：15份的氢氧化钾、15份的碳酸钠、18份的乙醇胺、20份的丙酮、15份的N-甲基吡咯烷酮、8份的非离子表面活性剂、8份的无机絮凝剂、8份的螯合剂和90份的去离子水进行选取；
2)将上述选取的原料加入反应釜中，加入原料过程中不断搅拌，速率为20-150r/min，在80-200r/min的速率下不断搅拌10-30min，直至搅拌混合均匀，再按照规格进行灌装；
其中在上述步骤二中，将待清洗的LCD基板膜面向上水平放置在正常清洗线传送带上，利用毛刷对其进行刷洗，同时喷淋除去污渍；
其中在上述步骤三中，将LCD基板浸入清洗剂原液中1-2min后拿出；再利用水压为1-3Mpa的高压纯净水对LCD基板表面进行冲洗；
其中在上述步骤四中，将LCD基板利用超声波汽相除油脂清洗机进行清洗，超声波频率为28-40KHz；
其中在上述步骤五中，将基板利用风干设备进行风干，风速为20-30m/s；
其中在上述步骤六中，将风干的基板利用UV光照射，UV光的波长为365nm，检查有无破损后储存于洁净空间内。
其中，非离子表面活性剂为一种非离子聚丙烯酰胺；螯合剂为一种三聚磷酸钠；去离子水为电阻率为18.2MΩ.cm的超纯水；无机絮凝剂为一种铁盐。
对比例：
市面上普通的清洗剂。
将上述各实施例所得成品进行对比如下表：
| pH值 | 去污力实验 | 砷含量/(mg/kg) | |
| 实施例1 | 8.2 | 0.8 | 3 |
| 实施例2 | 8.4 | 0.9 | 5 |
| 实施例3 | 7.6 | 0.8 | 3 |
| 对比例 | 7.5 | 0.6 | 8 |
综上所述，本发明科学调配，采用表面活性剂和各种助剂协同作用，具有良好的清洁力的同时保证了基板的膜均匀度，且废水处理更加安全，多种清洁方法清洁更加彻底，残留物漂洗干净，避免了单一清洁方式清洁不彻底导致后期基板显示问题。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种LCD基板清洗剂，配方包括：氢氧化钾、碳酸钠、乙醇胺、丙酮、N-甲基吡咯烷酮、非离子表面活性剂、无机絮凝剂、螯合剂和去离子水，其特征在于：各组分的重量份数分别是：10-20份的氢氧化钾、10-18份的碳酸钠、14-26份的乙醇胺、15-25份的丙酮、15-25份的N-甲基吡咯烷酮、5-10份的非离子表面活性剂、5-10份的无机絮凝剂、6-8份的螯合剂和70-100份的去离子水。
2.一种LCD基板清洗剂的使用方法，包括以下步骤，步骤一，清洗剂制作；步骤二，正常清洗线；步骤三，清洗剂清洗；步骤四，超音波清洗；步骤五，基板风干；步骤六，UV光照射；其特征在于：
其中在上述步骤一中，清洗剂制作包括以下步骤：
1)按照各组分的重量百分含量分别是：10-20份的氢氧化钾、10-18份的碳酸钠、14-26份的乙醇胺、15-25份的丙酮、15-25份的N-甲基吡咯烷酮、5-10份的非离子表面活性剂、5-10份的无机絮凝剂、6-8份的螯合剂和70-100份的去离子水进行选取；
2)将上述选取的原料加入反应釜中，在80-200r/min的速率下不断搅拌10-30min，直至搅拌混合均匀，再按照规格进行灌装；
其中在上述步骤二中，将待清洗的LCD基板膜面向上水平放置在正常清洗线传送带上，利用毛刷对其进行刷洗，同时喷淋除去污渍；
其中在上述步骤三中，将LCD基板浸入清洗剂原液中1-2min后拿出；再利用水压为1-3Mpa的高压纯净水对LCD基板表面进行冲洗；
其中在上述步骤四中，将LCD基板利用超声波汽相除油脂清洗机进行清洗，超声波频率为28-40KHz；
其中在上述步骤五中，将基板利用风干设备进行风干；
其中在上述步骤六中，将风干的基板利用UV光照射，检查有无破损后储存于洁净空间内。
3.根据权利要求1所述的一种LCD基板清洗剂，其特征在于：所述非离子表面活性剂为一种非离子聚丙烯酰胺。
4.根据权利要求1所述的一种LCD基板清洗剂，其特征在于：所述螯合剂为一种三聚磷酸钠。
5.根据权利要求1所述的一种LCD基板清洗剂，其特征在于：所述无机絮凝剂为聚合硫酸铁、聚合氯化铝和铁盐中的任一种。
6.根据权利要求1所述的一种LCD基板清洗剂，其特征在于：所述去离子水为电阻率为18.2MΩ.cm的超纯水。
7.根据权利要求2所述的一种LCD基板清洗剂的使用方法，其特征在于：所述步骤一2)中，加入原料过程中也不断搅拌，速率为20-150r/min。
8.根据权利要求2所述的一种LCD基板清洗剂的使用方法，其特征在于：所述步骤五中，风速为20-30m/s。
9.根据权利要求2所述的一种LCD基板清洗剂的使用方法，其特征在于：所述步骤六中，UV光的波长为365nm。
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