CN108687087A - 涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种涂抹构件的清洗方法，该涂抹构件的清洗方法即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态，同时为防止用户作操作负担增大。该涂抹构件的清洗方法中，向载玻片10上滴下清洗剂11，让涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触，清洗涂抹构件42。

Description

涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置

技术领域

本发明涉及一种涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置。

背景技术

已知有一种涂抹标本制作方法，在该方法中，在向载玻片上滴下血液等生物体试样后，用涂抹构件将试样展开地又广又薄，制作涂抹标本。试样会附着于涂抹构件，因此需要针对每一次试样涂抹清洗涂抹构件。例如在专利文献1中公开了一种涂抹构件的清洗方法，在该方法中，针对每一次试样涂抹擦拭涂抹构件以去除附着于涂抹构件的试样。

在先技术文献

专利文献

专利文献1特表（日本专利公表）平11－506826号公报。

发明内容

发明要解决的技术问题

在上述专利文献1的涂抹构件的清洗方法中，针对每一次试样涂抹，虽然可以通过擦拭涂抹构件去除附着于涂抹构件的试样，但是当涂抹次数增加时，蛋白质等污渍会蓄积在涂抹构件的端面，因此会使涂抹构件的端面形状发生变化。因此很难使涂抹状态保持恒定，故而在涂抹次数增加时，为了使涂抹状态保持为所希望的状态，用户需要定期进行清洁涂抹构件、更换涂抹构件等维护作业。因此，当涂抹次数增加时，存在为了使涂抹状态保持在所希望的状态下，增大用户的操作负担的问题。

本发明的目的在于，即使在涂抹次数增加的情况下也可以使涂抹状态保持为所希望的状态，同时避免增大用户的操作负担。

解决技术问题的技术手段

本发明第一层面的涂抹构件的清洗方法是一种涂抹构件的清洗方法，在该方法中，向载玻片（10）上滴下清洗剂（11）并使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触来清洗涂抹构件（42）。

在第一层面的涂抹构件的清洗方法中，如上所述，向载玻片（10）上滴下清洗剂（11）并使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触来清洗涂抹构件（42）。由此，能够通过向载玻片（10）上滴下的清洗剂（11）清洗涂抹构件（42），因此不同于针对每次涂抹的涂抹构件（42）的清洗，能够用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）。由此能够高效地去除蓄积在涂抹构件（42）上的附着物，因此能够使得涂抹构件（42）的端面形状保持恒定。由此能够使得涂抹状态保持恒定。另外，由于能够使用用于涂抹的载玻片（10）清洗涂抹构件（42），因此能够轻松地使涂抹构件（42）的清洗作业自动化。由此能够防止用户作业负担增大。因此，能够防止用户作业负担增大并使得即使涂抹次数增加也将涂抹状态保持为所希望的状态。另外，通过用载玻片（10）清洗涂抹构件（42）就不需要另外设置用于清洗的专用构件，因此还能够防止装置结构的复杂化。

在上述第一层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触一定时间，清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，能够通过清洗剂（11）高效地分解并去除涂抹构件（42）上的附着物，因此能够稳定地将涂抹状态保持恒定。

此时优选为使涂抹构件（42）接触清洗剂（11）的时间比制作涂抹标本时使涂抹构件（42）接触试样的时间长。通过这样的结构，能够使涂抹构件（42）与清洗剂（11）接触比制作涂抹标本时与试样接触的时间长的时间，因此能够更高效地分解并去除涂抹构件（42）上的附着物。

在上述第一层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为在使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触的同时，使涂抹构件（42）在载玻片（10）上移动来清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，通过使涂抹构件（42）在载玻片（10）上移动，能够使附着于涂抹构件（42）表面的清洗剂（11）从涂抹构件（42）向载玻片（10）移动并使得移动的清洗剂在载玻片（10）上扩展来迅速干燥。由此能够防止清洗剂（11）飞散。另外，能够减少涂抹构件（42）上清洗剂（11）的附着量，因此能够轻松地冲洗涂抹构件（42）上的清洗剂（11）。另外，通过使涂抹构件（42）相对于载玻片（10）和清洗剂（11）移动能够高效地剥离涂抹构件（42）的附着物。

在上述第一层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为在使涂抹构件（42）与试样接触的同时，使其在载玻片（10）上移动来制作涂抹标本时，针对每一次涂抹标本的制作，用清洗液（12）清洗涂抹构件（42），且与用清洗液（12）对涂抹构件（42）进行的清洗不同，基于一定条件使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触，清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，针对每一次涂抹标本的制作，能够清洗涂抹构件（42）的前端，因此能够防止附着物附着在涂抹构件（42）的前端。另外，不同于清洗液（12）的清洗，能够与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触来清洗涂抹构件（42），因此能够高效地去除涂抹构件（42）的前端蓄积的附着物。

此时优选为用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）之后，针对每一次涂抹标本的制作，用清洗液（12）对涂抹构件（42）进行清洗，以去除附着于涂抹构件（42）的清洗剂（11）。通过这样的结构，针对每一次涂抹，能够用清洗涂抹构件（42）的清洗液（12）从涂抹构件（42）去除清洗剂（11），因此不需要另外设置用于去除清洗剂（11）的专用的去除构件。这样也能够防止装置结构的复杂化。

在上述用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）之后用清洗液（12）清洗涂抹构件的涂抹构件的清洗方法中，优选为用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）之后在清洗液（12）中施加超声波来清洗涂抹构件（42），由此去除附着于涂抹构件（42）的清洗剂（11）。通过这样的结构，通过在清洗液（12）中施加超声波进行清洗能够高效地去除附着于涂抹构件（42）的清洗剂（11）。

针对每一次涂抹标本的制作，在上述用清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的涂抹构件的清洗方法中，优选为用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）的时间比制作涂抹标本时用清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的时间长。通过这样的结构，在制作涂抹标本时，能够以比用清洗液（12）清洗的时间长的时间用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42），因此能够更高效地分解并去除蓄积在涂抹构件（42）的附着物。

在上述第一层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为在清洗涂抹构件（42）时向载玻片（10）上滴下清洗剂（11）的量多于制作涂抹标本时向载玻片（10）滴下试样的量。通过这样的结构，能够使涂抹构件（42）以比其与试样接触的部分大的范围与清洗剂（11）接触，因此能够可靠地去除与试样接触的范围的涂抹构件（42）的附着物。由此能够轻松地使涂抹状态保持恒定。

在上述第一层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为在关闭通过使涂抹构件（42）与试样接触的同时在载玻片（10）上移动来制作涂抹标本的涂抹标本制作装置（100）时，用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，能够在结束使用涂抹标本制作装置（100）的时刻用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42），因此能够通过清洗涂抹构件（42）来防止涂抹标本的制作处理变为待机状态。

针对每一次涂抹标本的制作，在上述用清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的涂抹构件的清洗方法中，优选为，在使涂抹构件（42）与试样接触的同时，使其在载玻片（10）上移动来制作涂抹标本的涂抹标本制作装置（100）制作涂抹标本时，针对每一次涂抹标本的制作，用清洗液（12）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，针对每一次涂抹标本的制作，能够清洗涂抹构件（42）的前端，因此能够防止附着物附着在涂抹构件（42）的前端。

在上述第一层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为清洗剂（11）是含有分解蛋白质的成分的溶液。通过这样的结构，通过清洗剂（11）能够轻松地从涂抹构件（42）去除包括蛋白质的附着物。

此时优选为清洗剂（11）是含有分解蛋白质的氧化剂的溶液。通过这样的结构，通过清洗剂（11）能够化学分解包括蛋白质的附着物，因此能更确切地从涂抹构件（42）去除附着物。

在上述清洗剂（11）为包括分解蛋白质的氧化剂的溶液的涂抹构件的清洗方法中，优选为清洗剂（11）是包括次氯酸根离子的溶液。根据该结构，通过次氯酸根离子和来自次氯酸根离子的次氯酸的稳定的氧化分解作用能够更高效地从涂抹构件（42）去除附着物。

针对每一次涂抹标本的制作，在上述用清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的涂抹构件的清洗方法中，优选为清洗液（12）是包括表面活性剂和氯化钠的溶液。通过这样的结构，针对每一次涂抹标本的制作，能够用清洗液（12）去除附着于涂抹构件（42）的试样。

本发明第二层面的清洗涂抹构件的方法是涂抹构件（42）的清洗方法，在该方法中，用第一清洗液（12）清洗涂抹构件（42），用清洗能力比第一清洗液（12）强的第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42），且用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）的次数少于用第一清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的次数。

在第二层面的涂抹构件的清洗方法中，用清洗能力比第一清洗液（12）强的第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）。由此能够高效地去除蓄积于涂抹构件（42）的附着物，因此能够使涂抹构件（42）的端面形状保持恒定。由此能够使涂抹状态保持恒定。且使得用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）的次数少于用第一清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的次数。由此能够防止用户操作负担增大。因此即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态，同时能够防止增大用户的操作负担。

在上述第二层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为针对每一次涂抹标本的制作，用第一清洗液（12）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，针对每一次涂抹标本的制作，能够清洗涂抹构件（42）的前端，因此能够防止附着物附着在涂抹构件（42）的前端。

在上述第二层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为在关闭用于制作涂抹标本的涂抹标本制作装置（100）时，用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，能够在结束使用涂抹标本制作装置（100）的时刻用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42），因此通过清洗涂抹构件（42）能够防止涂抹标本的制作处理变为待机状态。

在上述第二层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为在选择用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）的模式时，用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，在涂抹标本的制作处理中需要清洗涂抹构件（42）时，能够用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42），因此能够确切地使涂抹状态保持为所希望的状态。

在上述第二层面的涂抹构件的清洗方法中，优选为第一清洗液（12）是包括表面活性剂和氯化钠的溶液，第二清洗液（11）是包括次氯酸根离子的溶液。通过这样的结构，针对每一次涂抹标本的制作，能够用第一清洗液（12）去除附着于涂抹构件（42）的试样。且通过次氯酸根离子和来自次氯酸根离子的次氯酸的稳定的氧化分解作用，能够用第二清洗液（11）更高效地从涂抹构件（42）去除附着物。

本发明第三层面的涂抹标本制作装置（100）具有：涂抹构件（42），其与试样接触的同时在载玻片（10）上移动并由此在载玻片（10）上涂抹试样；载玻片运送部（120），其将载玻片（10）运送至涂抹位置（403）；控制部（230），其控制涂抹构件（42）及载玻片运送部（120）的作业。其中，控制部（230）进行以下控制：通过载玻片运送部（120）向涂抹位置（403）运送载玻片（10），向载玻片（10）上滴下清洗剂（11），使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触来清洗涂抹构件（42）。

在第三层面的涂抹标本制作装置（100）中，如上所述设置进行以下控制的控制部（230）：通过载玻片运送部（120）向涂抹位置（403）运送载玻片（10），向载玻片（10）上滴下清洗剂（11），使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触来清洗涂抹构件（42）。由此能够通过向载玻片（10）上滴下的清洗剂（11）来清洗涂抹构件（42），因此不同于针对每次涂抹的涂抹构件（42）的清洗，能够通过清洗剂（11）来清洗涂抹构件（42）。由此能够高效地去除蓄积在涂抹构件（42）上的附着物，因此能够使涂抹构件（42）的端面形状保持恒定。由此能够使涂抹状态保持恒定。另外，可以使用用于涂抹的载玻片运送部（120）和载玻片（10）来清洗涂抹构件（42），因此不需要另外设置用于清洗的专用构件、机构、流体回路等结构。由此能够简化装置结构。此外，由于用于去除涂抹构件（42）上蓄积的附着物的清洗作业可以自动化，所以能够防止用户操作负担增大。因此即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态，同时能够防止用户操作负担增大。

在上述第三层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）进行以下控制：使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触一定时间来清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，能够用清洗剂（11）高效地分解并去除涂抹构件（42）的附着物，因此能够稳定地使涂抹状态保持恒定。

此时优选为控制部（230）进行控制，并使涂抹构件（42）接触清洗剂（11）的时间长于制作涂抹标本时涂抹构件（42）接触试样的时间。通过这样的结构，能够使涂抹构件（42）与清洗剂（11）接触比制作涂抹标本时接触试样的时间长的时间，因此能够更高效地分解并去除涂抹构件（42）的附着物。

在上述第三层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）进行以下控制：在使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触的同时，使涂抹构件（42）在载玻片（10）上移动，由此清洗涂抹构件（42）。根据该结构，通过使涂抹构件（42）在载玻片（10）上移动，能够使附着于涂抹构件（42）表面的清洗剂（11）从涂抹构件（42）向载玻片（10）移动，并使移动的清洗剂在载玻片（10）上扩展来迅速干燥。由此能够防止清洗剂（11）的飞散。另外，能够减少涂抹构件（42）上清洗剂（11）的附着量，因此能够轻松地进行涂抹构件（42）上清洗剂（11）的冲洗。另外，通过使涂抹构件（42）相对于载玻片（10）和清洗剂（11）移动，能够高效地剥离涂抹构件（42）上的附着物。

在上述第三层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为具有用清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的涂抹构件清洗部（43），针对每一次涂抹标本的制作，控制部（230）对用清洗液（12）清洗涂抹构件（42）进行控制，并基于一定条件进行控制：使得不同于用清洗液（12）进行的涂抹构件（42）的清洗，使涂抹构件（42）与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触来清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，针对每一次涂抹标本的制作，能够清洗涂抹构件（42）的前端，因此能够防止附着物附着在涂抹构件（42）的前端。另外，不同于清洗液（12）的清洗，通过与载玻片（10）上的清洗剂（11）接触来清洗涂抹构件（42），因此能够高效地去除蓄积于涂抹构件（42）前端的附着物。

在上述设置有涂抹构件清洗部（43）的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）进行以下控制：用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）之后，通过涂抹构件清洗部（43）用清洗液（12）清洗涂抹构件（42），由此去除附着于涂抹构件（42）的清洗剂（11）。通过这样的结构，针对每一次涂抹，能够通过利用清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的涂抹构件清洗部（43）能够从涂抹构件（42）去除清洗剂（11），而不需要另外设置用于去除清洗剂（11）的专用的去除构件。由此能够防止装置结构变得复杂并防止涂抹构件（42）上残留有去除涂抹构件（42）的附着物的效果的清洗剂（11）。

此时优选为控制部（230）进行以下控制：用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）之后，在清洗液（12）中施加超声波进行清洗，由此去除附着于涂抹构件（42）的清洗剂（11）。根据该结构，通过在清洗液（12）中施加超声波进行清洗能够高效地去除附着于涂抹构件（42）的清洗剂（11）。

在上述设置有涂抹构件清洗部（43）的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）控制使得用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）的时间长于制作涂抹标本时通过涂抹构件清洗部（43）用清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的时间。通过这样的结构，能够以比制作涂抹标本时用清洗液（12）进行清洗的时间长的时间用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42），因此能够更高效地分解并去除蓄积于涂抹构件（42）的附着物。

在上述第三层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为具有向载玻片（10）上滴下试样的滴下部（411），清洗剂（11）通过滴下部（411）向载玻片（10）上滴下。通过这样的结构，能够使用用于涂抹的滴下部（411）来清洗涂抹构件（42），因此不需要另外设置用于清洗的专用的构件、机构、流体回路等结构。

此时优选为：在清洗涂抹构件（42）时，控制部（230）控制使得通过滴下部（411）向载玻片（10）上滴下清洗剂（11）的量多于制作涂抹标本时通过滴下部（411）向载玻片（10）滴下试样的量。通过这样的结构，能够使涂抹构件（42）以比其与试样接触的部分大的范围与清洗剂（11）接触，因此能够确切地去除与试样接触范围的涂抹构件（42）的附着物。由此能够轻松地使涂抹状态保持恒定。

在上述第三层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）进行以下控制：用载玻片（10）上的清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）之后，通过载玻片运送部（140）从涂抹位置（403）运出载玻片（10）。通过这样的结构，能够让为了清洗涂抹构件（42）而配置于涂抹位置（403）的载玻片（10）移动，因此能够防止阻碍将下一个载玻片（10）运入涂抹位置（403）。

在上述第三层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）进行以下控制：基于关闭所述涂抹标本制作装置（100）的操作，利用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，能够在结束使用涂抹标本制作装置（100）的时刻用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42），因此能够通过清洗涂抹构件（42）来防止涂抹标本的制作处理变为待机状态。

在上述第三层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）进行以下控制：基于清洗涂抹构件（42）的模式的选择用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，在涂抹标本的制作处理中需要清洗涂抹构件（42）时，可以用清洗剂（11）清洗涂抹构件（42），因此能够确切地将涂抹状态保持为所希望的状态。

在上述设置有涂抹构件清洗部（43）的涂抹标本制作装置（100）中，优选为清洗剂（11）是包括次氯酸根离子的溶液，清洗液（12）是包括表面活性剂和氯化钠的溶液。根据该结构，通过次氯酸根离子和来自次氯酸根离子的次氯酸的稳定的氧化分解作用，能够更高效地从涂抹构件（42）去除附着物。另外，针对每一次涂抹标本的制作，能够使用清洗液（12）去除附着于涂抹构件（42）的试样。

本发明第四层面的涂抹标本制作装置（100）具有涂抹试样的涂抹构件（42）和控制部（230），其中，控制部（230）进行用第一清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的控制和用清洗能力比第一清洗液（12）强的第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）的控制，且其控制使得用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）的次数少于用第一清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的次数。

在第四层面的涂抹标本制作装置（100）中，如上所述设置进行用清洗能力比第一清洗液（12）强的第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）的控制的控制部（230）。由此能够用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42），因此不同于针对每次涂抹的涂抹构件（42）的清洗，能够用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）。由此能够高效地去除蓄积在涂抹构件（42）的附着物，因此能够使涂抹构件（42）的端面形状保持恒定。由此能够使涂抹状态保持恒定。另外，使得用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）的次数少于用第一清洗液（12）清洗涂抹构件（42）的次数。由此能够防止增大用户操作负担。因此能够在涂抹次数增加了的情况下使涂抹状态保持为所希望的状态，同时防止增大用户的操作负担。

在上述第四层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）进行以下控制：针对每一次涂抹标本的制作，使用第一清洗液（12）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，针对每一次涂抹标本的制作，能够清洗涂抹构件（42）的前端，因此能够防止附着物附着在涂抹构件（42）的前端。

在上述第四层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）进行以下控制：基于关闭涂抹标本制作装置（100）的操作，利用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，能够在结束使用涂抹标本制作装置（100）的时刻用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42），因此通过清洗涂抹构件（42）来防止涂抹标本的制作处理变为待机状态。

在上述第四层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为控制部（230）进行以下控制：基于选择用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）的模式，利用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42）。通过这样的结构，在涂抹标本的制作处理中需要清洗涂抹构件（42）时，能够用第二清洗液（11）清洗涂抹构件（42），因此能够确切地将涂抹状态保持为所希望的状态。

在上述第四层面的涂抹标本制作装置（100）中，优选为第一清洗液（12）是包括表面活性剂和氯化钠的溶液，第二清洗液（11）是包括次氯酸根离子的溶液。通过这样的结构，能够针对每一次涂抹标本的制作用第一清洗液（12）去除附着于涂抹构件（42）的试样。另外，通过次氯酸根离子和来自次氯酸根离子的次氯酸的稳定的氧化分解作用，能够用第二清洗液（11）更高效地从涂抹构件（42）去除附着物。

发明效果

即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态，同时能够防止增大用户操作负担。

附图说明

图1为本发明所涉及的涂抹标本制作方法的示意图；

图2为本发明所涉及的涂抹标本制作方法中涂抹构件的清洗作业的说明图；

图3为本发明所涉及的涂抹构件的清洗方法的流程图；

图4为本发明所涉及的制作涂抹标本和清洗涂抹构件时的参数的一例；

图5为本发明所涉及的涂抹标本制作装置的概略的示图；

图6为本发明所涉及的涂抹处理部和载玻片运送部的示意性的侧面图；

图7为本发明所涉及的第一干燥处理部和运出机构的示意性的侧面图；

图8为本发明所涉及的样本运送部和吸移部的结构的示意图；

图9为本发明所涉及的染色处理部和载玻片运送部的结构的斜视图；

图10为本发明所涉及的涂抹标本制作处理的流程图；

图11为本发明所涉及的自动样本吸移动作的流程图。

具体实施方式

下面基于附图就实施方式进行说明。

（涂抹标本制作方法的概要）

参照图1，就一实施方式的涂抹标本制作方法的概要进行说明。

本实施方式的涂抹标本制作方法是对载玻片10涂抹样本等试样来制作涂抹标本的方法。样本是采自被检体（受检者）的生物体试样，例如血液、尿、细胞等。另外，涂抹标本制作方法是向载玻片10上滴下试样，通过使涂抹构件42与试样接触的同时，使其在载玻片10上移动来制作涂抹标本的方法。

如图1所示，在涂抹标本制作方法的涂抹处理中，通过吸移管412从样本容器211吸移作为试样的样本。从滴下部411向载玻片10滴下吸移的样本。具体而言，在打开阀415a和415c且封闭阀415b和415d的状态下，通过定量部413的吸移，通过管道417a和417c从吸移管412吸移样本。然后，在打开阀415b和415c且封闭阀415a和415d的状态下，通过定量部413的排出，通过管道417c和417b从滴下部411滴下样本。

然后使涂抹构件42在与样本接触的状态下在载玻片10上移动。由此在载玻片10上展开样本使其很薄。涂抹有样本的载玻片10被运出且由第一干燥处理部50干燥。

另外，针对每一次样本的涂抹，清洗用于吸移、滴下和涂抹样本的构件。具体而言，吸移管412的外周部通过吸移管清洗部416用稀释液进行清洗。清洗中用了的稀释液通过管道416a送到废液室414。吸移管412的内部、定量部413、管道417a、417b、417c的内部经稀释液的通过来进行清洗。清洗中用了的稀释液通过阀415d和管道417d送到废液室414。另外，滴下部411通过滴下部清洗部44用稀释液进行清洗。清洗中使用过的稀释液通过管道441送到废液室414。涂抹构件42通过涂抹构件清洗部43用包括稀释液的清洗液12进行清洗。具体而言，在涂抹构件清洗部43中通过在清洗液12中施加超声波来对涂抹构件42进行清洗。清洗中用了的清洗液12通过管道431送到废液室414。清洗液12例如是在氯化钠水溶液中加了表面活性剂的溶液。由此从涂抹样本的构件去除样本，使得能够涂抹下一个样本。另外，清洗液12是权利要求书中“第一清洗液”的一例。

在此，如果用涂抹构件42涂抹了数个样本，则表面会有微粒等附着物堆积。此时涂抹构件42的与试样接触的部分的形状会发生变化，因此涂抹状态会变得不恒定。例如，在使涂抹构件42与试样接触时，涂抹构件42的附着物会阻碍试样向涂抹构件42的宽度方向扩展，使得宽度方向的试样的量不恒定。在此状态下，让涂抹构件42移动的话，则会使中央周围的试样厚，端部附近的试样薄。

在此，为了去除涂抹构件42的附着物，在本实施方式中，如图1和图2所示，向载玻片10上滴下清洗剂11，使涂抹构件42接触载玻片10上的清洗剂11来清洗涂抹构件42。即，不同于用清洗液12对涂抹构件42进行的清洗，基于一定条件使涂抹构件42接触载玻片10上的清洗剂11来清洗涂抹构件42。由此能够用滴在载玻片10上的清洗剂11清洗涂抹构件42，因此不同于针对每次涂抹的涂抹构件42的清洗，能够用清洗剂11清洗涂抹构件42。因此，能够高效地去除蓄积于涂抹构件42的附着物，因此能够使涂抹构件42的端面形状保持恒定。由此能够使涂抹状态保持恒定。另外，能够使用用于涂抹的载玻片10清洗涂抹构件42，因此能够轻松地使涂抹构件42的清洗作业自动化。由此能够防止用户作业负担增大。因此，能够防止用户作业负担增大且即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态。另外，通过用载玻片10清洗涂抹构件42，不需要另外设置用于清洗的专用构件，因此还能够防止装置结构复杂化。清洗剂11是权利要求书中“第二清洗液”的一例。

清洗剂11的清洗能力比清洗液12强。例如，清洗剂11是含有分解蛋白质的成分的溶液。用清洗剂11能够轻松地从涂抹构件42去除包括蛋白质的附着物。例如，清洗剂11是含有分解蛋白质的氧化剂的溶液。用清洗剂11能够化学分解包括蛋白质的附着物，因此能够更确切地从涂抹构件42去除附着物。优选为清洗剂11是包括次氯酸根离子的溶液。通过次氯酸根离子和来自次氯酸根离子的次氯酸的稳定的氧化分解作用，能够更高效地从涂抹构件42去除附着物。清洗剂11是次氯酸钠水溶液。例如，清洗剂11也可以用セルクリーン（注册商标）。

另外，使涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触一定时间来清洗涂抹构件42。清洗涂抹构件42时使涂抹构件42接触清洗剂11的时间长于制作涂抹标本时使涂抹构件42接触试样的时间。能够使涂抹构件42与清洗剂11接触比制作涂抹标本时与试样接触的时间长的时间，因此能够更高效地分解并去除涂抹构件42的附着物。例如，使涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触5分钟来清洗涂抹构件42。另一方面，制作涂抹标本时使涂抹构件42接触试样的时间例如是数秒。

另外，使涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触的同时使涂抹构件42在载玻片10上移动来清洗涂抹构件42。通过使涂抹构件42在载玻片10上移动能够使附着于涂抹构件42的表面的清洗剂11从涂抹构件42向载玻片10移动并使移动的清洗剂11在载玻片10上扩展且迅速干燥。由此能够防止清洗剂11的飞散。还能够减少涂抹构件42上清洗剂11的附着量，因此能够轻松地进行涂抹构件42上清洗剂11的冲洗。另外，通过使涂抹构件42相对于载玻片10和清洗剂11移动能够高效地剥离涂抹构件42的附着物。

另外，用载玻片10上的清洗剂11清洗涂抹构件42之后去除附着于涂抹构件42的清洗剂11。具体而言，用清洗剂11清洗涂抹构件42之后，针对每一次涂抹标本的制作，通过清洗液12对涂抹构件42进行清洗以去除附着于涂抹构件42的清洗剂11。即，为了去除清洗剂11，通过在清洗液12中施加超声波对涂抹构件42进行清洗。针对每一次涂抹，使用清洗涂抹构件42的清洗液12能够从涂抹构件42去除清洗剂11，因此不需要另外设置用于去除清洗剂11的专用的去除构件。这样也能够防止装置结构的复杂化。

另外，用清洗剂11清洗涂抹构件42的时间长于制作涂抹标本时用清洗液12清洗涂抹构件42的时间。能够以比制作涂抹标本时用清洗液12清洗的时间长的时间用清洗剂11清洗涂抹构件42，因此能够更高效地分解并去除蓄积于涂抹构件42的附着物。例如，用清洗剂11清洗涂抹构件42的时间是5分钟。另一方面，制作涂抹标本时用清洗液12清洗涂抹构件42的时间是10秒～20秒。为了去除清洗剂11而用清洗液12清洗涂抹构件42的时间是30秒～60秒。即，为了去除清洗剂11而用清洗液12清洗涂抹构件42的时间是制作涂抹标本时用清洗液12清洗涂抹构件42的时间的3倍。

另外，清洗涂抹构件42时向载玻片10上滴下清洗剂11的量多于制作涂抹标本时向载玻片10滴下试样的量。能够使涂抹构件42以比其与试样接触的部分大的范围与清洗剂11接触，因此能够可靠地去除与试样接触的范围内的涂抹构件42的附着物。由此能够轻松地使涂抹状态保持恒定。例如，用清洗剂11清洗涂抹构件42时，向载玻片10滴下10μL～20μL清洗剂11。另一方面，制作涂抹标本时向载玻片10滴下2～3μL试样。

涂抹构件42也可以在除载玻片10上以外的其他地方由清洗剂11清洗。例如，也可以在清洗槽中用清洗剂11清洗涂抹构件42。另外，涂抹构件42也可以在清洗槽中在清洗剂11中施加超声波来进行清洗。清洗槽也可以与用清洗液12进行清洗的涂抹构件清洗部43通用。

涂抹构件42的清洗方法包括用清洗液12清洗涂抹构件42的方法和用清洗能力比清洗液12强的清洗剂11清洗涂抹构件42的方法。清洗剂11清洗涂抹构件42的次数少于清洗液12清洗涂抹构件42的次数。例如，相对于清洗液12清洗涂抹构件42的次数为100次～500次，清洗剂11清洗1次涂抹构件42。

（涂抹构件的清洗方法）

参照图2和图3，就涂抹构件42的清洗方法的例子进行说明。

首先，在图3的步骤S1中，从吸移管412吸移清洗剂11。与步骤S1的处理并行，在步骤S2中，向涂抹位置403运送载玻片10。在步骤S3中，从滴下部411滴下清洗剂11。具体而言，如图2（A）所示，在滴下部411的前端接近载玻片10的上方的状态下，使滴下部411向载玻片10的宽度方向（X方向）移动的同时还向载玻片10上滴下清洗剂11。此时，使滴下部411向X方向移动的距离比涂抹构件42的宽度方向（X方向）的长度小。清洗剂11的滴下结束之后，使滴下部411上升并远离载玻片10。

在图3的步骤S4中，使涂抹构件42与清洗剂11接触并静置。具体而言，如图2（B）所示，使涂抹构件42向载玻片10上下降。此时，涂抹构件42的前端比起滴下的清洗剂11配置于Y2方向一侧。然后，如图2（C）所示，使涂抹构件42向Y1方向一侧后退。由此，涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触。涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触之后，清洗剂11在涂抹构件42的表面浸润并扩展。即，清洗剂11一直扩展到涂抹构件42的X方向端部的外侧。然后，如图2（D）所示，在使涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触的状态下将其静置。例如，使涂抹构件42与清洗剂11接触5分钟。由此，附着于涂抹构件42的附着物被清洗剂11分解。

在图3的步骤S5中，使涂抹构件42在载玻片10上移动。具体而言，如图2（E）所示，使涂抹构件42在载玻片10上向载玻片10的纵长方向（Y2方向）移动。由此，载玻片10上的清洗剂11涂抹于载玻片10。

在图3的步骤S6中，在涂抹构件清洗部43中用清洗液12清洗涂抹构件42。具体而言，在涂抹构件清洗部43中，在将涂抹构件42浸于清洗液12的状态下进行涂抹构件42的超声波清洗。由此，附着于涂抹构件42的附着物和清洗剂11被冲洗。在步骤S7中，干燥涂抹构件42。具体而言，在涂抹构件清洗部43中，对涂抹构件42吹风，使涂抹构件42干燥。

与步骤S6和S7的处理并行，在步骤S8中，将载玻片10运送至干燥位置。然后在步骤S9中，干燥载玻片10。具体而言，对载玻片10的上表面吹风，由此使载玻片10干燥。例如，对载玻片10吹风3分钟使其干燥。在步骤S10中，将干燥后的载玻片10运送至玻片放置部170。

与步骤S4～S10的处理并行，在步骤S11中，用稀释液清洗吸移管412。具体而言，通过吸移管清洗部416用稀释液清洗吸移管412。在步骤S12中，从吸移管412向吸移流路导入清洗剂11并将其静置。具体而言，通过定量部413向管道417a～417c吸移清洗剂11。然后，在向管道417a～417c导入了清洗剂11的状态下静置5分钟。之后，在将滴下部411配置于滴下部清洗部44的状态下，从滴下部411排出管道417a～417c内的清洗剂11。

在步骤S13中，从吸移管412向废液室导入清洗剂11并将其静置。具体而言，通过定量部413向管道417d吸移清洗剂11。然后，在向管道417d导入了清洗剂11的状态下静置1分钟。在步骤S14中，用稀释液清洗吸移流路和废液流路。由此清洗涂抹构件42、滴下部411、吸移管412等构件。

参照图4，就制作涂抹标本时和清洗涂抹构件时的参数的一例进行说明。

在制作涂抹标本时，从滴下部411排出并滴下2～3μL的试样（血液）。另外，使涂抹构件42与试样接触数秒。用清洗液12清洗涂抹构件42后，吹风48秒并由此使其干燥。

用清洗剂11清洗涂抹构件42时，从滴下部411排出并滴下15μL的清洗剂11。使涂抹构件42与清洗剂11接触5分钟。用清洗剂11清洗涂抹构件42并用清洗液12冲洗之后，吹风3分钟并由此使其干燥。

（涂抹标本制作装置的结构例）

参照图5，就涂抹标本制作装置100的结构例进行说明。涂抹标本制作装置100是用于对载玻片10进行涂抹样本的涂抹处理并对涂抹有样本的载玻片10实施样本染色处理的装置。样本例如是血液。

在图5的结构例中，涂抹标本制作装置100具有玻片供应部20、印制处理部30、涂抹处理部40、第一干燥处理部50、载玻片运送部120、附着物去除部130，以及载玻片运送部140。在图5的结构例中，涂抹标本制作装置100还具有载玻片运送部150、染色处理部160、玻片放置部170、载玻片运送部180、第二干燥处理部190、以及玻片收容部200。在图5的结构例中，涂抹标本制作装置100还具有样本运送部210、吸移部41以及控制部230。另外，在涂抹标本制作装置中，用于处理载玻片10的处理部只要至少设置有涂抹处理部即可，也可以不设置其他处理部。即，涂抹标本制作装置中也可以不设置印制处理部、染色处理部。

下面，分别将在与涂抹标本制作装置100的放置面平行的面内（即水平面内）正交的两个方向称为X方向、Y方向。在图5的例中，在平面视图中，涂抹标本制作装置100所具有的外形形状为分别沿X方向和Y方向的四边形形状。X方向为涂抹标本制作装置100的左右方向，Y方向为涂抹标本制作装置100的纵深方向。Y1方向一侧是装置的前侧，Y2方向一侧是装置的里侧。另外，与水平面正交的上下方向为Z方向。

样本运送部210在涂抹标本制作装置100中配置于最前侧。收纳样本的数个样本容器211和收纳清洗剂11的容器212放置于样本运送部210，样本运送部210将所放置的样本容器211和容器212运送至一定的取入位置。样本运送部210例如运送安放有数个样本容器211和容器212的架213。吸移部41从样本运送部210运送至取入位置的样本容器211吸移血液、尿等液体样本。另外，吸移部41从样本运送部210运送至取入位置的容器212吸移清洗剂11。吸移部41将所吸移的样本或清洗剂11供应至涂抹处理部40。

在图5的结构例中，玻片供应部20包括第一供应部21和第二供应部22。玻片供应部20也可以包括1个或3个以上的供应部。玻片供应部20分别能够在第一供应部21和第二供应部22收容多个样本涂抹前的未使用状态的载玻片10。载玻片10收容于第一供应部21和第二供应部22的内部且涂抹面朝上方平置。玻片供应部20使载玻片10的纵长方向与Y方向一致且使载玻片10的短幅方向与X方向一致来安放载玻片10。

载玻片10例如是长方形形状的板状构件。载玻片10例如有供样本涂抹的涂抹区域10a和用于显示样本信息等各种信息的印制区域10b。涂抹区域10a例如形成于纵长方向的中央部向纵长方向延伸的一定范围。印制区域10b例如形成于纵长方向的一个端部且从涂抹区域10a离开。印制区域10b例如是通过用树脂材料等对载玻片10进行涂布来实施了使其能够印制的处理的部位。印制区域10b上能够印制样本编号、日期、条形码或二维码等。

第一供应部21和第二供应部22实质上有同样结构。第一供应部21和第二供应部22在X方向上排列配置。第一供应部21和第二供应部22能够分别使内部收纳的涂抹前的载玻片10向Y2方向移动，一片一片地供应载玻片10。

在图5的结构例中，载玻片运送部120至少在玻片供应部20、印制处理部30和涂抹处理部40之间移动来运送载玻片10。即，载玻片运送部120作为在玻片供应部20、印制处理部30和涂抹处理部40通用的运送部发挥功能。另外，也可以使不同的载玻片运送部进行玻片供应部20、印制处理部30和涂抹处理部40各部之间载玻片10的运送作业。

载玻片运送部120例如能够在上表面安放1片载玻片10并进行运送。载玻片运送部120从第一供应部21接收载玻片10。载玻片运送部120还从第二供应部22接收载玻片10。载玻片运送部120能够向水平方向（XY方向）移动。载玻片运送部120还能够使所安放的载玻片10向上下方向（Z方向）移动。载玻片运送部120能够向附着物去除部130、印制处理部30和涂抹处理部40的各个处理位置运送所安放的载玻片10。载玻片运送部120按照附着物去除部130、印制处理部30和涂抹处理部40的顺序运送从玻片供应部20接收的载玻片10。载玻片10在由载玻片运送部120安放的状态下分别在附着物去除部130、印制处理部30和涂抹处理部40中被供于一定处理。也可以使载玻片运送部120能够安放数片载玻片10。也可以使载玻片运送部120能够向XY方向移动但不能向Z方向移动。

在图5的结构例中，载玻片运送部120使载玻片10的纵长方向与Y方向一致、使载玻片10的短幅方向与X方向一致来运送载玻片10。由此，能够缩短载玻片10向作为涂抹标本制作装置100的左右方向的X方向的运送路径。

附着物去除部130有去除附着于载玻片10的表面的附着物的功能。附着物去除部130对安放于载玻片运送部120的上表面的状态下的载玻片10进行附着物的去除处理。例如，附着物去除部130与无图示的压力源连接，其能够通过排出空气吹走载玻片10的涂抹区域10a和印制区域10b的附着物。附着物例如是玻璃粉末或尘埃等小异物。

在图5的结构例中，印制处理部30进行印制处理。印制处理是用于向载玻片10的表面的印制区域10b印制样本信息等各种信息的处理。向印制区域10b的印制处理例如通过热转印打印机或喷墨打印机等众所周知的印制部进行。

在图5的结构例中，涂抹处理部40进行涂抹处理。涂抹处理部40能够向载玻片10的涂抹区域10a涂抹包括样本的试样。涂抹处理部40对安放于载玻片运送部120的上表面的状态下的载玻片10涂抹样本。涂抹处理是对载玻片10的表面的涂抹区域10a涂上样本的处理。涂抹样本且使得样本的量和涂布厚度适于用载玻片10的显微镜检查。涂抹处理通过用推片等涂抹构件42的涂抹方法（所谓的Wedge法）进行。

在图5的结构例中，印制处理部30和涂抹处理部40在X方向上相邻配置。载玻片运送部120在从印制处理部30向涂抹处理部40运送载玻片10之后，从玻片供应部20接收下一个载玻片10。

在图5的结构例中，载玻片运送部140具有将运送至涂抹处理部40的载玻片10运送至第一干燥处理部50的功能。由此，载玻片运送部120向涂抹处理部40运送载玻片10，在涂抹处理部40的处理完成时，能够通过独立于载玻片运送部120而设的载玻片运送部140迅速将载玻片10运送至第一干燥处理部50。载玻片运送部140使运送至涂抹处理部40的载玻片10向Y1方向移动并使其位于第一干燥处理部50的处理位置。

第一干燥处理部50有从涂抹处理部40接收涂抹有样本的载玻片10并向载玻片10的涂抹区域10a送风的功能。第一干燥处理部50能够通过送风使涂抹于载玻片10的样本干燥。

在图5的结构例中，载玻片运送部140再将向第一干燥处理部50运送的载玻片10从第一干燥处理部50运送至载玻片运送部150。载玻片运送部140将运送至第一干燥处理部50的载玻片10向Y1方向移动并将其移交给作为第三运送部的载玻片运送部150。

载玻片运送部150配置于第一干燥处理部50和染色处理部160的Y1方向一侧且向X方向延伸。载玻片运送部150从第一干燥处理部50朝着染色处理部160和玻片放置部170之间的取出位置向X1方向运送载玻片10。载玻片运送部150有收纳载玻片10的收纳部并能够向X方向移动收纳部。载玻片运送部150将和放置面大致平行的、呈放倒状态的载玻片10接收到收容部内再将其变为与放置面基本垂直的立起状态，然后搬送至取出位置。因此，在取出位置载玻片10以涂抹面沿着上下方向（Z方向）的立起状态被安放。被运送至取出位置的载玻片10再被运送至染色处理部160或玻片放置部170。

染色处理部160对涂抹在载玻片10上的样本进行染色。染色处理部160相对于第一干燥处理部50在X1方向一侧排列配置，其接收从第一干燥处理部50向X1方向运送的载玻片10。

染色处理部160沿Y方向延伸。染色处理部160具有存储染色液701的染色槽和存储清洗液702的清洗槽。在染色处理部160中，在染色槽和清洗槽中对涂抹完毕的载玻片10进行染色处理和清洗处理。

玻片放置部170配置于染色处理部160的Y1方向一侧，其安放载玻片10并使其能够放入、取出。玻片放置部170中能够放置数个能够收容数个载玻片10的玻片收容容器240。

载玻片运送部180能够在染色处理部160、玻片放置部170和载玻片运送部150的取出位置之间运送载玻片10。载玻片运送部180例如能够在染色处理部160、玻片放置部170和载玻片运送部150的取出位置上方的高度位置向X方向、Y方向和Z方向各方向移动。由此，载玻片运送部180能够夹持并取出分别配置于染色处理部160、玻片放置部170和载玻片运送部150的取出位置的载玻片10，或者分别向染色处理部160、玻片放置部170和取出位置运送载玻片10。载玻片运送部150的取出位置可以是染色处理部160和玻片放置部170之间的位置。由此能够使载玻片运送部150的取出位置为离染色处理部160和玻片放置部170两者近的位置，能够有效地从载玻片运送部150的取出位置向染色处理部160和玻片放置部170两者运送载玻片10。

通过上述载玻片运送部180在染色处理部160、玻片放置部170和载玻片运送部150的取出位置之间运送载玻片10的结构，涂抹标本制作装置100不仅能够从取出位置向染色处理部160运送进行了印制处理和涂抹处理的载玻片10，还能够将其从取出位置向玻片放置部170运送。涂抹标本制作装置100还能够从玻片放置部170向染色处理部160运送用户手动放置在玻片放置部170的样本涂抹完毕的载玻片10。由此，除了进行印制处理、涂抹处理和染色处理的通常模式下的作业之外，还能够进行以下作业：不对进行了印制处理和涂抹处理的载玻片10进行染色处理而直接将其送出至玻片放置部170的涂抹模式下的作业，以及对用户手动放置在玻片放置部170的样本涂抹完毕的载玻片10进行染色处理部160的染色处理并将其送出至玻片收容部200的染色模式下的作业。这样就能够按照用户需求进行多种作业，提高了装置的便利性。另外，玻片放置部170配置于染色处理部160的前侧，因此用户对玻片放置部170进行的玻片收容容器240的放置操作和回收操作、或针对玻片收容容器240的载玻片10的放置操作和回收操作与玻片供应部20一样能够在装置的前侧进行。因此，用户进行的操作能够更加简单地进行，进一步提高涂抹标本制作装置100的用户使用性。

另外，在图5的结构例中，玻片供应部20和玻片放置部170分别相对于样本运送部210在Y2方向一侧排列配置。玻片供应部20和玻片放置部170相对于样本运送部210在Y2方向一侧相邻。由此，能够使玻片供应部20和玻片放置部170排列配置在配置于装置前侧的样本运送部210的附近位置，因此能够将需要由用户进行操作的部分集中于装置的前侧。即，能够分别将向样本运送部210放置样本容器211的操作、向玻片供应部20安放新的载玻片10的操作、将涂抹完样本的载玻片10取出或放入玻片放置部170的操作的各位置集中于装置前侧的附近位置。由此，需要由用户进行的操作变得更容易，因此提高了装置的便利性。

在图5的结构例中，除了染色处理部160、玻片放置部170和取出位置之外，载玻片运送部180还能够向第二干燥处理部190和玻片收容部200运送载玻片10。向第二干燥处理部190和玻片收容部200运送载玻片10的作业也可以由不同于载玻片运送部180的其他运送部进行。

在图5的结构例中，第二干燥处理部190相对于染色处理部160在Y2方向一侧排列配置。第二干燥处理部190接收从染色处理部160向Y2方向运送的载玻片10。

第二干燥处理部190有例如通过送风使染色处理部160染色完毕的载玻片10干燥的功能。第二干燥处理部190将干燥了的载玻片10移交到玻片收容部200。

玻片收容部200有接收并收容处理结束的载玻片10的功能。在图5的结构例中，玻片收容部200相对于第二干燥处理部190在X1方向一侧排列配置，其接收从第二干燥处理部190向X1方向运送的载玻片10。

玻片收容部200中能够放置数个能够收纳载玻片10的玻片收容容器240。玻片收容部200使放置于放置位置的空的玻片收容容器240向Y2方向一直移动至收容位置。收容位置是相对于第二干燥处理部190在X1方向一侧相邻的位置。载玻片运送部180将载玻片10从第二干燥处理部190向X1方向移动，将处理结束了的载玻片10放置于收容位置的玻片收容容器240。玻片收容部200使收纳有载玻片10的玻片收容容器240向X1方向移动之后使其向Y1方向移动并将其配置于回收位置。放置位置和回收位置是与玻片供应部20和玻片放置部170在X方向上排列的位置。用户能够取出配置于放置位置的玻片收容容器240。

在图5的结构例中，玻片收容部200包括第一运送路径201和第二运送路径202。第一运送路径201使玻片收容容器240沿着Y2方向从放置收容载玻片10的玻片收容容器240的放置位置向收纳来自第二干燥处理部190的载玻片10的玻片收容容器240内的收容位置移动。第二运送路径202使在收容位置收纳了载玻片10的玻片收容容器240沿Y1方向向相对于放置位置来说排列在X1方向一侧的回收位置移动。由此，通过放置位置和回收位置配置于装置主体的前侧（Y1方向一侧）的结构，能够与玻片供应部20一样在装置的前侧进行玻片收容部200中的玻片收容容器240的放置操作和回收操作。因此，需要由用户进行的操作就变得更加简单，进一步提高涂抹标本制作装置100的用户使用性。

控制部230具有无图示的CPU和存储器，其控制涂抹标本制作装置100的各部的动作。例如，控制部230控制滴下部411、涂抹构件42、以及载玻片运送部120、140的各动作。控制部230具有输出部231。输出部231例如是液晶显示器等显示部。输出部231还可以是打印机。

通过这样的结构，涂抹标本制作装置100能够对载玻片10进行印制处理、样本的涂抹处理、染色处理的各处理来自动制作涂抹标本。

（涂抹处理部的结构）

在图6所示结构例中，涂抹处理部40对载玻片运送部120安放的载玻片10进行处理。由此，在涂抹处理部40中，能够不将载玻片运送部120上的载玻片10移交给其他支撑构件而在载玻片运送部120上直接对载玻片10进行涂抹处理。

在图6的结构例中，涂抹处理部40包括滴下部411和涂抹构件42。滴下部411有向运送来的载玻片10滴下试样的功能。涂抹构件42有在载玻片10涂抹滴下的样本的功能。由此，能够通过通用的涂抹处理部40进行向载玻片10滴下样本的作业和涂抹所滴下的样本的作业。

滴下部411和涂抹构件42一起配置于载玻片运送部120运送的载玻片10上方的位置。涂抹构件42通过一边与试样接触一边在载玻片10上移动来在载玻片10上涂抹试样。涂抹构件42例如是推片。涂抹构件42能够通过无图示的移动机构向上下方向（Z方向）和Y方向移动。在图6的结构例中，载玻片运送部120能够向XY方向移动，因此不需要设置使涂抹构件42向X方向移动的机构。滴下部411与吸移部41流体性连接，其由用于排出吸移部41所吸移的样本的喷嘴构成。滴下部411能够通过无图示的移动机构例如向X方向（与图6的纸面正交的方向）移动。

涂抹处理部40使滴下部411向涂抹区域10a的上方移动，向涂抹区域10a滴下试样。接着，涂抹处理部40将涂抹构件42的端面与样本的液滴接触并静置数秒。由此，试样沿着涂抹构件42的端面向载玻片10的短幅方向（X方向）扩展。然后，通过使涂抹构件42向载玻片10的纵长方向（Y方向）移动来向涂抹区域10a涂抹样本。涂抹处理部40中还设置有针对每一次涂抹标本的制作用清洗液12清洗涂抹构件42的涂抹构件清洗部43（参照图1）。具体而言，针对每次涂抹标本的制作用清洗液12清洗涂抹构件42。

在此，在本实施方式中，控制部230进行以下控制：通过载玻片运送部120向涂抹位置403运送载玻片10，通过滴下部411向载玻片10上滴下清洗剂11，使涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触来清洗涂抹构件42。由此，能够用载玻片10上滴下的清洗剂11清洗涂抹构件42，因此不同于针对每次涂抹的涂抹构件42的清洗，能够用清洗剂11清洗涂抹构件42。由此能够高效地去除蓄积于涂抹构件42的附着物，因此能够使涂抹构件42的端面形状保持恒定。由此能够使涂抹状态保持恒定。另外，能够使用用于涂抹的滴下部411、载玻片运送部120和载玻片10清洗涂抹构件42，因此不需要另外设置用于清洗的专用构件、机构、流体回路等结构。由此能够简化装置结构。另外，能够使去除涂抹构件42上蓄积的附着物的清洗自动化，因此能防止用户操作负担增大。因此，即使在涂抹次数增加了的情况下也能使涂抹状态保持为所希望的状态，同时能够防止增大用户的操作负担。

控制部230也可以控制在载玻片10上以外的其他地方用清洗剂11清洗涂抹构件42。例如，控制部230也可以控制在清洗槽中用清洗剂11清洗涂抹构件42。控制部230还进行以下控制：用清洗液12清洗涂抹构件42，以及用清洗能力比清洗液12强的清洗剂11清洗涂抹构件42。另外，控制部230控制并使得用清洗剂11清洗涂抹构件42的次数少于用清洗液12清洗涂抹构件42的次数。

控制部230控制使涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触一定时间来清洗涂抹构件42。具体而言，控制部230控制使得清洗涂抹构件42时使涂抹构件42接触清洗剂11的时间长于制作涂抹标本时使涂抹构件42接触试样的时间。

控制部230还进行以下控制：使涂抹构件42接触载玻片10上的清洗剂11的同时，使涂抹构件42在载玻片10上移动来清洗涂抹构件42。控制部230还进行以下控制：用清洗剂11清洗涂抹构件42之后，通过涂抹构件清洗部43（参照图1）用清洗液12清洗涂抹构件42，由此去除附着于涂抹构件42的清洗剂11。具体而言，控制部230进行控制并使得用清洗剂11清洗涂抹构件42的时间长于制作涂抹标本时通过涂抹构件清洗部43用清洗液12清洗涂抹构件42的时间。

另外，控制部230控制使得清洗涂抹构件42时由滴下部411向载玻片10上滴下清洗剂11的量多于制作涂抹标本时由滴下部411向载玻片10滴下试样的量。

控制部230还进行以下控制：用载玻片10上的清洗剂11清洗涂抹构件42之后，通过载玻片运送部140从涂抹位置403运出载玻片10。通过这样的结构，能够使为了清洗涂抹构件42而配置于涂抹位置403的载玻片10移动，因此能够防止其阻碍将下一个载玻片10运入涂抹位置403。另外，为了清洗涂抹构件42而使用过的载玻片10被移送至玻片放置部170。之后，为了清洗涂抹构件42而使用过的载玻片10由用户废弃。

另外，从玻片供应部20供应为了清洗涂抹构件42使用的载玻片10，且由载玻片运送部120运送。载玻片运送部120上的载玻片10由附着物去除部130去除附着物之后运送到涂抹处理部40，不进行印制处理。然后，在载玻片10安放于载玻片运送部120的状态下，向载玻片10滴下清洗剂11。也可以对用于清洗涂抹构件42的载玻片10进行印制处理。此时，通过进行印制处理，使得用户能够轻松地识别出为了清洗涂抹构件42而进行了涂抹处理的载玻片10。

控制部230控制基于关掉涂抹标本制作装置100的电源的操作用清洗剂11清洗涂抹构件42。即，基于关闭所述涂抹标本制作装置100的操作，控制部230控制利用清洗剂11清洗涂抹构件42。能够在结束使用涂抹标本制作装置100的时刻用清洗剂11清洗涂抹构件42，因此能够通过清洗涂抹构件42来防止涂抹标本的制作处理变为待机状态。此时，控制部230也可以控制并进行染色处理部160的清洗。也可以为控制部230控制基于打开涂抹标本制作装置100的电源的操作用清洗剂11清洗涂抹构件42。

控制部230还进行以下控制：基于清洗涂抹构件42的模式的选择用清洗剂11清洗涂抹构件42。在涂抹标本的制作处理中需要清洗涂抹构件42时，可以用清洗剂11清洗涂抹构件42，因此能够确切地使涂抹状态保持为所希望的状态。

例如用户选择菜单界面的维护，选择涂抹构件清洗。然后，将收纳有清洗剂11的容器212装配于样本运送部210的架213。然后通过按下开始按钮，容器212被引入，清洗剂11被吸移，清洗涂抹构件42、吸移流路和废液室。另外，容器212中收纳有充足的用于清洗涂抹构件42、吸移流路和废液室的清洗剂11。

（第一干燥处理部和运出机构的结构）

接下来参照图7，就第一干燥处理部50和载玻片运送部140、载玻片运送部150进行说明。在图7的结构例中，载玻片运送部140设置于配置有涂抹处理部40的位置。载玻片运送部140能够从载玻片运送部120向Y1方向推出载玻片10并将其移交给第一干燥处理部50。

载玻片运送部140能够向Y方向移动。载玻片运送部140与载玻片10的Y2方向一侧端面抵接，其能够从位于涂抹处理部40的载玻片运送部120向第一干燥处理部50向Y1方向运出载玻片10。

第一干燥处理部50包括配置于载玻片10上方位置的送风扇51。送风扇51朝向载玻片10向Y2方向一侧的斜下方送风。

在图7的结构例中，载玻片运送部140能够从第一干燥处理部50向Y1方向推出载玻片10并将载玻片10移交给载玻片运送部150。载玻片运送部140还能够向Y1方向推出载玻片运送部150的收纳部，使载玻片运送部150转动。具体而言，载玻片运送部150的收纳部能够以X方向的转动轴为中心转动。从第一干燥处理部50向载玻片运送部150运出载玻片10时，载玻片运送部150的收纳部由于被载玻片运送部140推动而转动，且变成沿水平方向延伸的姿态。载玻片运送部150在接收载玻片10之后转动，变成沿垂直方向延伸的姿态。

（样本运送部和吸移部的详细结构）

参照图8，就样本运送部210和吸移部41的结构进行说明。样本运送部210具有能够安放收纳有样本容器211和容器212的架213的第一安放部801和第二安放部802，以及用于运送架213的运送路线803。第一安放部801和第二安放部802在水平方向上排列，第一安放部801配置在X2方向一侧，第二安放部802配置在X1方向一侧。第一安放部801和第二安放部802的Y2方向一侧配置运送路线803。运送路线803在X方向上延伸，且连接第一安放部801和第二安放部802。

第一安放部801是用于安放用户投入的架213的凹状区域。爪部804分别突出地设置在第一安放部801的两侧面。爪部804在突出的状态下向Y2方向移动，由此向Y2方向推动架213来将其移送到运送路线803。

运送路线803是输送带输送带，其向X1方向运送架213。

吸移部41设置于运送路线803的上侧。吸移部41具有样本容器放置部811、条形码读取器812、吸移管412。样本容器放置部811具有用于夹持样本容器211或容器212的夹持部814。夹持部814向下方移动夹持在运送路线803上的供应位置805的样本容器211或容器212，向上方移动来从架213取出样本容器211或容器212。样本容器放置部811通过使夹持部814夹持的样本容器211或容器212摇动来搅拌样本容器211内部的样本或容器212内部的试剂。

样本容器放置部811能够向Y方向移动，在夹持部814夹持了样本容器211或容器212的状态下样本容器放置部811向Y2方向移动，由此向涂抹标本制作装置100内部移送样本容器211或容器212。

样本容器放置部811向涂抹标本制作装置100内部的读取位置815移送样本容器211或容器212。样本容器211上贴附有印刷有样本ID的条形码的条形码标签。容器212上贴附有印刷有试剂ID的条形码的条形码标签。条形码读取器812从位于读取位置815的样本容器211的条形码读取样本ID。另外，条形码读取器812从位于读取位置815的容器212的条形码读取试剂ID。由此，控制部230获取吸移的样本和试剂的信息。

样本容器放置部811再向Y2方向移送样本容器211或容器212，使其位于吸移位置813。前端尖锐的管状的吸移管412贯通样本容器211或容器212的盖，吸移样本或试剂。

吸移样本后，样本容器放置部811向Y1方向移动，夹持部814向下方移动，由此将样本容器211或容器212返还到架213的原来的位置。

第二安放部802是用于安放样本吸移后的架213的凹状区域。运送路线803的Y2方向一侧设置有能够向Y1方向移动的架移送部806。运送路线803将架213运送到X1方向的末端之后，架移送部806向Y1方向移动。由此，架213被架移送部806推着向Y1方向移动，到达第二安放部802。

样本容器放置部811也能够从涂抹标本制作装置100的壳体向Y1方向突出。用户能够将样本容器211放置于向Y1方向送出的样本容器放置部811。放置有样本容器211的样本容器放置部811向Y2方向移动，由此向涂抹标本制作装置100内部移送样本容器211。样本吸移后，样本容器放置部811再次到达涂抹标本制作装置100的外部。由此将样本容器211返还给用户。

（染色处理部和载玻片运送部的详细结构）

参照图9，就染色处理部160和载玻片运送部180的结构进行说明。在以下说明中，将上下方向称为Z方向。

染色处理部160具有染色槽161和清洗槽162。涂抹标本制作装置100分别对染色槽161和清洗槽162供应染色液701和清洗液702，其还具有用于排出的流体回路部700。

染色槽161和清洗槽162分别呈上侧开放的容器状，其内部能够存储染色液701和清洗液702。染色槽161和清洗槽162分别能够***宽度方向为X方向，厚度方向为Y方向的载玻片10。

优选为染色槽161包括第一染色槽711和第二染色槽712。在图9中例示了染色槽包括第一染色槽711、第二染色槽712、第三染色槽713、第四染色槽714和第五染色槽715的5个染色槽161。

清洗槽162包括第一清洗槽721和第二清洗槽722。

在染色处理部160中，第一染色槽711、第二染色槽712、第三染色槽713、第一清洗槽721、第四染色槽714、第五染色槽715、以及第二清洗槽722沿着Y2方向依次排列。

在染色槽161的内部设置有板状的第一安放部716和第二安放部717且其在X方向上相互分离。另外，数个第一安放部716和第二安放部717等间隔地在Y方向上排列。1片载玻片10***第一安放部716与第二安放部717和与之相邻的第一安放部716和第二安放部717之间的空间。***的载玻片10的宽度方向的两端部分由第一安放部716和第二安放部717支撑，其维持立起的状态。清洗槽162也能在使载玻片10以立起的状态下安放载玻片10。

载玻片10从第一染色槽711开始按顺序被运送到各槽，在一定的设定时间内，载玻片10被各个槽中存储的染色液701或清洗液702浸渍来进行处理。

载玻片运送部180配置于染色处理部160和玻片放置部170的上方（Z1方向）。优选为载玻片运送部180包括第一运送部730和第二运送部740。通过除了第一运送部730还设置第二运送部740，能够分别进行从取出位置向染色处理部160运送载玻片10的作业和从染色处理部160向玻片收容部200运送载玻片10的作业，提高运送效率。第一运送部730和第二运送部740能够通过移动机构181分别在水平方向上（即X方向和Y方向）移动。

移动机构181具有向Y方向延伸的Y轴导轨751和Y轴滑块752、向X方向延伸的X轴导轨753和X轴滑块754、以及Y轴电机755和X轴电机756。Y轴电机755和X轴电机756例如能够采用步进电机或伺服电机。

Y轴导轨751固定于支撑构件757的下表面。支撑构件757是涂抹标本制作装置100的壳体的顶部或支撑用的梁构件等。Y轴滑块752安装于Y轴导轨751的下表面一侧（Z2方向一侧），其能够沿Y轴导轨751移动。Y轴电机755通过无图示的传递机构使Y轴滑块752在Y方向上移动。传递机构例如可以采用皮带轮机构或齿条齿轮机构等。

X轴导轨753固定于Y轴滑块752的下表面。X轴滑块754安装于X轴导轨753的下表面一侧（Z2方向一侧），其能够沿X轴导轨753移动。X轴电机756通过无图示的传递机构使X轴滑块754在X方向上移动。

Y轴滑块752、X轴导轨753、X轴滑块754、X轴电机756、以及Y轴电机755分别设置有一对。第一运送部730安装于一个X轴滑块754的下表面一侧，第二运送部740安装于另一个X轴滑块754的下表面一侧。由此，第一运送部730和第二运送部740能够沿各自的X轴导轨753相互独立地在X方向上移动。另外，第一运送部730和第二运送部740能够沿通用的Y轴导轨751相互独立地在Y方向上移动。

第一运送部730和第二运送部740的结构是共同的。第一运送部730和第二运送部740分别具有手部件182、用于使手部件182升降的Z轴电机761、以及传递机构762。Z轴电机761通过传递机构762使手部件182升降。传递机构762例如可以采用皮带轮机构或齿条齿轮机构等。

手部件182能够夹持1片载玻片10。在图9中例示了用一对夹持板763夹着载玻片10的厚度方向来夹持载玻片10的结构。一对夹持板763分别与载玻片10的表面和背面接触来夹着载玻片10。一对夹持板763能够在载玻片10的厚度方向（Y方向）上相对移动。夹持板763的移动例如能够用气缸、电机、螺线管等驱动器来实现。手部件182也可以是夹着载玻片10的宽度方向的结构。

第一运送部730能够向第一染色槽711、第二染色槽712、第三染色槽713、以及第一清洗槽721的各上方位置移动。因此，第一运送部730能够分别相对于第一染色槽711、第二染色槽712、第三染色槽713、以及第一清洗槽721一片一片地***和拔出载玻片10。

第一运送部730还能向取出位置和玻片放置部170的各上方位置移动。因此，第一运送部730能够从取出位置拔出1片载玻片10，还能相对于玻片放置部170一片一片地***和拔出载玻片10。

第二运送部740能够向第一清洗槽721、第四染色槽714、第五染色槽715、以及第二清洗槽722的各上方位置移动。因此，第二运送部740能够分别相对于第一清洗槽721、第四染色槽714、第五染色槽715、以及第二清洗槽722一片一片地***和拔出载玻片10。

第二运送部740还能向第二干燥处理部190和玻片收容部200的收容位置的各上方位置移动。因此，第二运送部740能够相对于第二干燥处理部190一片一片地***和拔出载玻片10，还能相对于在玻片收容部200的收容位置的玻片收容容器240一片一片地***载玻片10。

第一运送部730和第二运送部740分别能够并行运送不同的载玻片10。第一运送部730和第二运送部740的动作范围在第一清洗槽721中重复，载玻片10的移交在第一清洗槽721中进行。移交的位置也可以是第一清洗槽721以外的其他位置。

第二干燥处理部190具有收纳部771和送风部772。收纳部771是上部开口的容器，其能够将数个载玻片10以立起的状态进行收纳。送风部772能够向收纳部771的内部送风。通过送风部772送风来干燥收纳部771收纳的染色完毕的载玻片10。

（涂抹标本制作装置的涂抹标本制作动作）

参照图10，就涂抹标本制作装置100的涂抹标本制作动作的例子进行说明。涂抹标本制作装置100的控制由控制部230进行。

首先，在图10的步骤S21中进行样本的吸移处理。通过吸移部41从由样本运送部210运送至吸移位置的样本容器211吸移样本。与步骤S21的处理并行，在步骤S22中，向附着物去除部130运送载玻片10。具体而言，从玻片供应部20向载玻片运送部120供应载玻片10。然后，将被安放在载玻片运送部120的载玻片10运送至附着物去除部130。在步骤S23中通过附着物去除部130对载玻片运送部120安放的载玻片10进行附着物去除处理。

在步骤S24中，通过载玻片运送部120向印制处理部30运送载玻片10。在步骤S25中，通过印制处理部30对被安放在载玻片运送部120上的载玻片10进行印制处理。

在步骤S26中，通过载玻片运送部120向涂抹处理部40运送载玻片10。在步骤S27中，通过涂抹处理部40对安放在载玻片运送部120上的载玻片10进行涂抹处理。

在步骤S28中，载玻片10被运送至第一干燥处理部50。具体而言，通过载玻片运送部140从载玻片运送部120向第一干燥处理部50移交载玻片10。在步骤S29中，通过第一干燥处理部50对涂抹于载玻片10的样本进行干燥处理。

在步骤S30中，通过载玻片运送部150向取出位置运送载玻片10。具体而言，通过载玻片运送部140将载玻片10从第一干燥处理部50移交至载玻片运送部150的收纳部。载玻片运送部150将安置在收纳部内的载玻片10搬送至取出位置。

在步骤S31中，向染色处理部160运送载玻片10。具体而言，通过载玻片运送部180从载玻片运送部150的取出位置取出载玻片10，并将其运送至染色处理部160。在步骤S32中，通过染色处理部160对载玻片10上涂抹的样本进行染色处理。按照处理工序的顺序依次向各染色槽和各清洗槽运送载玻片10。在该过程中，载玻片10在染色处理部160内从Y1方向一侧向Y2方向一侧移动。

在步骤S33中，向第二干燥处理部190运送载玻片10。具体而言，通过载玻片运送部180将载玻片10从染色处理部160移交至第二干燥处理部190。在步骤S34中，通过第二干燥处理部190对涂抹于载玻片10并被染色了的样本进行干燥处理。由此在载玻片10上制作涂抹标本。

在步骤S35中，向玻片收容部200运送载玻片10。具体而言，通过载玻片运送部180将载玻片10从第二干燥处理部190移交至配置于玻片收容部200的放置位置的玻片收容容器240。然后，玻片收容容器240被运送到回收位置。在回收位置，制作有涂抹标本的载玻片10在玻片收容部200被保管。之后，涂抹标本制作处理结束。

另外，在进行到涂抹处理的涂抹模式下，在步骤S30中，运送至取出位置的载玻片10通过载玻片运送部180被运送至玻片放置部170，由此处理结束。用户能够从玻片放置部170回收进行了印制处理和涂抹处理的未染色的载玻片10。

在从染色处理开始进行的染色模式下，对用户装配于玻片放置部170的涂抹完毕的载玻片10进行步骤S31以后的处理。此时，载玻片10由载玻片运送部180从玻片放置部170向染色处理部160运送。

（自动样本吸移作业）

参照图11，就涂抹标本制作装置100的涂抹标本制作作业的样本吸移处理进行详细说明。涂抹标本制作装置100的控制由控制部230进行。自动样本吸移作业是从由样本运送部210自动运送的样本容器211吸移样本的作业。

在步骤S41中，样本运送部210运送架213，使1个样本容器211位于供应位置805。在步骤S42中，夹持部814从架213取出在供应位置805的样本容器211，搅拌样本之后，将其移送至涂抹标本制作装置100内部。

在步骤S43中，样本容器放置部811向读取位置815移送样本容器211，条形码读取器812从样本容器211的条形码读取样本ID。在步骤S44中，控制部230向无图示的主机发送读取到的样本ID，并咨询指令。指令包括涂抹条件、染色条件。在步骤S45中，样本容器放置部811向吸移位置813移送样本容器211，吸移管412从样本容器211吸移样本。之后，在步骤S46中，样本容器放置部811将样本容器211返还到架213的原来的位置，自动样本吸移作业结束。

另外，用清洗剂11清洗涂抹构件42时，代替样本容器211从架213取出收纳有清洗剂11的容器212。然后，与样本容器211同样地，容器212被移送至吸移位置813，吸移管412从容器212吸移清洗剂11。

本次公开的实施方式在所有方面均为例示，绝无限制性。本发明的范围不由上述实施方式的说明所限，仅由权利要求书所示，还包括与权利要求书均等意义和范围内的所有变更（变形例）。

符号说明

10：载玻片，11：清洗剂（第二清洗液），12：清洗液（第一清洗液），42：涂抹构件，43：涂抹构件清洗部，100：涂抹标本制作装置，120、140：载玻片运送部，230：控制部，403：涂抹位置，411：滴下部。

Claims (38)

1.一种涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

向载玻片上滴下清洗剂；

使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触，清洗所述涂抹构件。

2.根据权利要求1所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触一定时间，清洗所述涂抹构件。

3.根据权利要求2所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

使所述涂抹构件接触所述清洗剂的时间长于制作涂抹标本时使所述涂抹构件接触试样的时间。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

在使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触的同时，使所述涂抹构件在载玻片上移动来清洗所述涂抹构件。

5.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

针对每一次涂抹标本的制作，用不同于所述清洗剂的清洗液清洗所述涂抹构件；

不同于用所述清洗液对所述涂抹构件进行的清洗，基于一定条件使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触，清洗所述涂抹构件。

6.根据权利要求5所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

用所述清洗剂清洗所述涂抹构件之后，针对每一次涂抹标本的制作，用清洗所述涂抹构件的所述清洗液清洗所述涂抹构件，由此去除附着于所述涂抹构件的所述清洗剂。

7.根据权利要求6所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

用所述清洗剂清洗所述涂抹构件之后，在所述清洗液中施加超声波清洗所述涂抹构件，由此去除附着于所述涂抹构件的所述清洗剂。

8.根据权利要求5所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

用所述清洗剂清洗所述涂抹构件的时间长于制作涂抹标本时用所述清洗液清洗所述涂抹构件的时间。

9.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

清洗所述涂抹构件时向载玻片上滴下所述清洗剂的量多于制作涂抹标本时向载玻片滴下试样的量。

10.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

在关闭通过使所述涂抹构件与试样接触的同时在载玻片上移动来制作涂抹标本的涂抹标本制作装置时，用所述清洗剂清洗所述涂抹构件。

11.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

所述清洗剂是含有分解蛋白质的成分的溶液。

12.根据权利要求11所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

所述清洗剂是包括分解蛋白质的氧化剂的溶液。

13.根据权利要求12所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

所述清洗剂是包括次氯酸根离子的溶液。

14.根据权利要求5所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

所述清洗液是包括表面活性剂和氯化钠的溶液。

15.一种涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

用第一清洗液清洗所述涂抹构件；

用清洗能力比所述第一清洗液强的第二清洗液清洗所述涂抹构件；

用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件的次数少于用所述第一清洗液清洗所述涂抹构件的次数。

16.根据权利要求15所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

针对每一次涂抹标本的制作，用所述第一清洗液清洗所述涂抹构件。

17.根据权利要求15或16所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

在关闭制作涂抹标本的涂抹标本制作装置时，用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件。

18.根据权利要求15或16所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

在选择用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件的模式时，用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件。

19.根据权利要求15或16所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

所述第一清洗液是包括表面活性剂和氯化钠的溶液；

所述第二清洗液是包括次氯酸根离子的溶液。

20.一种涂抹标本制作装置，包括：

涂抹构件，通过使所述涂抹构件与试样接触的同时使所述涂抹构件在载玻片上移动将试样涂抹于载玻片上；

载玻片运送部，向涂抹位置运送载玻片；

控制部，控制所述涂抹构件和所述载玻片运送部的作业；

其中，所述控制部进行以下控制：通过所述载玻片运送部向涂抹位置运送载玻片，向载玻片上滴下清洗剂，使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触来清洗所述涂抹构件。

21.根据权利要求20所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触一定时间来清洗所述涂抹构件。

22.根据权利要求21所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行控制，使所述涂抹构件与所述清洗剂接触的时间长于制作涂抹标本时所述涂抹构件与试样接触的时间。

23.根据权利要求20～22中任意一项所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触的同时，使所述涂抹构件在载玻片上移动来清洗所述涂抹构件。

24.根据权利要求20～22中任意一项所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述涂抹标本制作装置包括用清洗液清洗所述涂抹构件的涂抹构件清洗部；

所述控制部进行以下控制：针对每一次涂抹标本的制作，利用不同于所述清洗剂的所述清洗液清洗所述涂抹构件的控制，以及不同于用所述清洗液对所述涂抹构件进行的清洗，基于一定条件让所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触来清洗所述涂抹构件的控制。

25.根据权利要求24所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：用所述清洗剂清洗所述涂抹构件之后，通过所述涂抹构件清洗部用所述清洗液清洗所述涂抹构件，由此去除附着于所述涂抹构件的所述清洗剂。

26.根据权利要求25所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：用所述清洗剂清洗所述涂抹构件之后，在所述清洗液中施加超声波进行清洗，由此去除附着于所述涂抹构件的所述清洗剂。

27.根据权利要求24所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行控制，使得用所述清洗剂清洗所述涂抹构件的时间长于制作涂抹标本时通过所述涂抹构件清洗部用所述清洗液清洗所述涂抹构件的时间。

28.根据权利要求20～22中任意一项所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述涂抹标本制作装置包括向载玻片上滴下试样的滴下部；

所述清洗剂通过所述滴下部向载玻片上滴下。

29.根据权利要求28所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行控制，使得清洗所述涂抹构件时通过所述滴下部向载玻片上滴下所述清洗剂的量多于制作涂抹标本时通过所述滴下部向载玻片滴下试样的量。

30.根据权利要求20～22中任意一项所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：用载玻片上的所述清洗剂清洗所述涂抹构件之后，通过所述载玻片运送部从涂抹位置运出载玻片。

31.根据权利要求20～22中任意一项所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：基于关闭所述涂抹标本制作装置的操作，用所述清洗剂清洗所述涂抹构件。

32.根据权利要求20～22中任意一项所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：基于清洗所述涂抹构件的模式的选择，用所述清洗剂清洗所述涂抹构件。

33.根据权利要求24所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述清洗剂是包括次氯酸根离子的溶液；

所述清洗液是包括表面活性剂和氯化钠的溶液。

34.一种涂抹标本制作装置，包括：

涂抹构件，用于涂抹试样；

控制部，进行以下控制：用第一清洗液清洗所述涂抹构件的控制，以及用清洗能力比所述第一清洗液强的第二清洗液清洗所述涂抹构件的控制，且所述控制部控制使得用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件的次数少于用所述第一清洗液清洗所述涂抹构件的次数。

35.根据权利要求34所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：针对每一次涂抹标本的制作，用所述第一清洗液清洗所述涂抹构件。

36.根据权利要求34或35所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：基于关闭所述涂抹标本制作装置的操作，用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件。

37.根据权利要求34或35所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述控制部进行以下控制：基于选择用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件的模式，用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件。

38.根据权利要求34或35所述的涂抹标本制作装置，其特征在于：

所述第一清洗液是包括表面活性剂和氯化钠的溶液；

所述第二清洗液是包括次氯酸根离子的溶液。