CN108389820B - 保持用具以及包括该保持用具的载体组件 - Google Patents

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Abstract

本公开涉及液晶显示产品的工艺处理技术领域。本公开公开了一种保持用具。在一个实施例中,一种保持用具,所述保持用具至少包括:支承件、防划伤保持件和连接件;其中,所述支承件构造成用于被连接至一载体,该载体用于承载一目标基板;所述防划伤保持件构造成用于以不接触该目标基板的方式将该目标基板保持在该载体上;而所述连接件固定地连接支承件和防划伤保持件。同时,本公开还公开了一种包括该保持用具的载体组件。

Description

保持用具以及包括该保持用具的载体组件
技术领域
本公开涉及液晶显示产品的工艺处理技术领域,尤其地涉及一种保持用具以及一种包括该保持用具的载体组件。
背景技术
液晶显示产品的制造过程中,通常需要对玻璃基板进行溅镀和拓印等处理工艺。例如,在溅镀处理工艺中,玻璃基板需要被保持在载体上以便对玻璃基板的待处理表面执行溅镀处理。目前常用的做法上是:通过设置在载体四周的夹持构件和支撑构件等将玻璃基板支撑保持在溅镀设备的载体上以便对玻璃基板执行溅镀处理。目前所采用的夹持构件,在夹持状态下通常是使夹持构件的夹持片以直接接触玻璃基板的待处理表面边缘的方式来将玻璃基板夹持在载体上;而且,目前所采用的夹持构件中,夹持片通常采用不锈钢材质制成。在执行溅镀处理的过程中,由于玻璃基板难免正常晃动,此时夹持片容易对玻璃基板的待处理表面边缘造成划伤,从而导致玻璃基板不良,进而制约产线稼动率,耗费设备宕机时间,不利于产线产能的提高。
发明内容
本公开的至少一个目的旨在解决现有技术中存在的上述问题和缺陷的至少一个方面。
本公开的至少一个目的在于提供一种用于将目标基板(例如玻璃基板)保持到载体的保持用具,其能够在有效保持目标基板的同时防止目标基板的待处理表面边缘被划伤,从而降低目标基板的不良发生率。
本公开的另一个目的在于提供一种包括前述保持用具的载体组件,其能够在有效保持目标基板的同时防止目标基板的待处理表面边缘被划伤,从而降低目标基板的不良发生率。
根据本公开的一个方面,提供一种保持用具,保持用具至少包括:支承件、防划伤保持件和连接件;其中,支承件构造成用于被连接至一载体,该载体用于承载一目标基板;防划伤保持件构造成用于以不接触该目标基板的方式将该目标基板保持在该载体上;而连接件固定地连接支承件和防划伤保持件。
在至少一个实施例中,防划伤保持件由耐温有机复合材料制成,耐温有机复合材料能够耐受至少300摄氏度的温度。
在至少一个实施例中,耐温有机复合材料包括聚醚醚酮材料和/或聚酰亚胺材料。
在至少一个实施例中,防划伤保持件进一步包括:支撑部分和挡块部分,该支撑部分构造成用于被支撑在该载体上,其中防划伤保持件通过支撑部分固定地连接至连接件;而该挡块部分延伸自所述支撑部分并且构造成用于当该目标基板被承载在该载体上时阻挡该该目标基板脱离该载体。
在至少一个实施例中,支撑部分限定有用于面向该目标基板的基准表面和第一倾斜表面,第一倾斜表面延伸自基准表面并且相对于基准表面的倾斜角度范围约为10°-25°,而挡块部分限定有用于面向该目标基板的第二倾斜表面,第二倾斜表面相对于基准表面的倾斜角度范围约为10°-25°。
在至少一个实施例中,第一倾斜表面与第二倾斜表面大致相互平行,其中,第一倾斜表面相对于基准表面的倾斜角度约为15°,以及第二倾斜表面相对于基准表面的倾斜角度约为15°。
在至少一个实施例中,挡块部分构造成第二倾斜表面在保持用具将该目标基板保持在该载体上时与该目标基板大致平行,并且与该目标基板之间具有间隙;以及,支撑部分构造成第一倾斜表面在保持用具将该目标基板保持在该载体上时被支撑在该目标基板上。
在至少一个实施例中,挡块部分和支撑部分一体成型;以及,支承件和防划伤保持件分别通过紧固件固定地连接至连接件。
在至少一个实施例中,目标基板可以为用于液晶显示的玻璃基板。
根据本公开的另一个方面,提供一种载体组件,包括:用于承载一目标基板的载体;以及,可枢转地设置在所述载体上的若干前述任一实施例所述的保持用具。
本公开提供的保持用具和包括该保持用具的载体组件,其中,保持用具采用由例如聚醚醚酮(PEEK)材料和/或聚酰亚胺(PI)材料等耐温有机复合材料制成的防划伤保持件,并且,防划伤保持件以不接触该目标基板的方式将作为目标基板的玻璃基板保持在载体上,有效防止了目标基板的待处理表面边缘被划伤,从而降低了目标基板的不良发生率,相应地提高了产线稼动率,降低了设备宕机时间,进而提高产能,降低成本。也就是说,防划伤保持件设计成在确保第二倾斜表面在该目标基板被保持在该载体上时与该目标基板之间具有间隙,在确保目标基板被保持在该载体上时的正常晃动的同时防止防划伤保持件的第二倾斜表面与目标基板之间不必要的接触和摩擦,在有效起到保持作用的同时避免了目标基板的待处理表面边缘被划伤。此外,本公开提供的保持用具和包括该保持用具的载体组件,将防划伤保持件设计成使得其面向目标基板的基准表面与第一和第二倾斜表面之间存在一定角度范围,弥补保持用具被弹性地加载到载体上时产生的弹性余量,有效确保了保持用具的保持效果。
通过下文中参照附图对本公开所作的描述,本公开的其它目的和优点将显而易见,并可帮助对本公开有全面的理解。
附图说明
图1是根据本公开一个具体实施例的一种保持用具100的整体结构示意图;
图2是图1所示的保持用具100的正视图;
图3和图4分别是图2中的A-A剖面图和B-B剖面图;
图5和图6分别是根据本公开一个具体实施例的连接件130的一种结构的正面和反面的示意图;
图7是根据本公开一个具体实施例的支承件110的结构示意图;
图8和图9分别是根据本公开一个具体实施例的防划伤保持件120的一种结构的正面和反面示意图;
图10是图8和图9所示的防划伤保持件120的放大的侧视图;
图11是根据本公开一个具体实施例的载体组件的结构示意图,显示了通过若干保持用具100将一目标基板200支撑保持在载体300上时的状态;和
图12是图11中沿着A-A剖开的放大的剖面结构示意图。
具体实施方式
下面通过实施例,并结合附图,对本公开的技术方案作进一步具体的说明。在说明书中,相同或相似的附图标号指示相同或相似的部件。下述参照附图对本公开实施方式的说明旨在对本公开的总体公开构思进行解释,而不应当理解为对本公开的一种限制。
另外,在下面的详细描述中,为便于解释,阐述了许多具体的细节以提供对本公开实施例的全面理解。然而,明显地,一个或多个实施例可以在没有这些具体细节的情况下也可以被实施。
本公开主要涉及液晶显示产品的工艺处理技术领域。
根据本公开的一个总体技术构思,提供一种保持用具,所述保持用具至少包括:支承件、防划伤保持件和连接件;其中,所述支承件构造成用于被连接至一载体,该载体用于承载一目标基板;所述防划伤保持件构造成用于以不接触该目标基板的方式将该目标基板保持在该载体上;而所述连接件固定地连接支承件和防划伤保持件。同时,根据本公开的总体技术构思,还提供一种载体组件,包括:用于承载一目标基板的载体,以及可枢转地设置在所述载体上的若干前述保持用具。
图1是根据本公开一个具体实施例的一种保持用具100的整体结构示意图;图2是图1所示的保持用具100的正视图;以及图3和图4分别是图2中的A-A剖面图和B-B剖面图。
如图1至图4所示,本公开实施例提供了一种保持用具100,该保持用具100至少包括:支承件110、防划伤保持件120和连接件130;其中,支承件110构造成用于被连接至一载体200(参见附图11和12以及下文中相关的描述),该载体用于承载一目标基板300(参见附图11和12);防划伤保持件120构造成用于以不接触该目标基板的方式将该目标基板保持在该载体上;而连接件130分别通过紧固件141和142固定地连接支承件110和防划伤保持件120。为了配合安装到溅镀设备的载体以便保持目标基板,如图1至图4所示,根据本公开实施例所述的保持用具100还可以附加地包括:可转动地连接至支承件110并且被构造成用于将支承件110可枢转地连接至载体的枢轴150,以及弹性加载在枢轴150上的载压弹簧160,其中,如图1所示,枢轴150可以通过紧固件140固定安装至载体。
本公开实施例提供的保持用具100,主要用于将目标基板(例如玻璃基板)保持到溅镀设备的载体上,以便对目标基板执行溅镀处理。实际操作中,多个根据本公开实施例提供的保持用具100分别安装在溅镀设备的载体两侧处,当目标基板被放置在载体上时,每个保持用具100作用在目标基板的待处理表面边缘处,更详细地,每个保持用具100通过支承件110被连接至载体200的旁侧并且使得防划伤保持件120以不接触该目标基板的方式被设置在目标基板的待处理表面边缘之上,从而通过多个保持用具100将目标基板保持在载体上。需要说明的是,本文中所描述的目标基板的“待处理表面边缘”是指目标基板的待处理表面的靠近其周沿的部分,属于该待处理表面的一部分。
图5和图6分别是根据本公开一个具体实施例的连接件130的一种结构的正面和反面的示意图。
如图5和图6所示,本公开实施例提供的保持用具100中,连接件130主要用来连接支承件110和防划伤保持件120。连接件130可以采用例如铝质材料制成的板状结构,而且,板状连接件130上至少形成有用于通过紧固件配合与支承件紧固连接的第一紧固孔131以及用于通过紧固件配合与防划伤保持件紧固连接的第二紧固孔132。如图5和图6所示,板状连接件130形成有两个第一紧固孔131和两个第二紧固孔132。
在一个实施例中,返回图3和图4,连接件130与支承件110和防划伤保持件120分别以面接触的方式紧固连接在一起。
图7是根据本公开一个具体实施例的支承件110的结构示意图。
如图7所示,在本公开实施例提供的保持用具100中,支承件110主要用来被连接至一载体,该载体用于承载一目标基板。支承件110可以采用例如铜质材料制成。支承件110形成有以供枢轴150穿过的枢轴孔111,而且,支承件110还形成有用于利用紧固件与连接件130的第一紧固孔131紧固连接的支承件紧固孔112。
根据本公开实施例,防划伤保持件120由耐温有机复合材料制成。这里所描述的耐温有机复合材料指的是能够耐受至少300摄氏度的温度的有机复合材料,例如,可以包括但不限于聚醚醚酮(PEEK)材料和/或聚酰亚胺(PI)材料;在一个实施例中,防划伤保持件120可以由聚醚醚酮(PEEK)材料制成。由于防划伤保持件120由耐温有机复合材料制成,其在高温下具有加工延展性,即在高温溅镀处理工艺中不易变形或丧失其保持功能,从而能够保证保持效果。而且,防划伤保持件120由例如聚醚醚酮(PEEK)材料的耐温有机复合材料制成,避免了现有技术中采用金属夹持片时容易划伤玻璃基板的表面边缘的问题。因此,本公开提供的保持用具,采用由例如聚醚醚酮(PEEK)材料和/或聚酰亚胺(PI)材料等耐温有机复合材料制成的防划伤保持件,并且,防划伤保持件以不接触该目标基板的方式将作为目标基板的玻璃基板保持在载体上,有效防止了目标基板的待处理表面边缘被划伤,从而降低了目标基板的不良发生率,相应地提高了产线稼动率,降低了设备宕机时间,进而提高产能,降低成本。
图8和图9分别是根据本公开一个具体实施例的防划伤保持件120的一种结构的正面和反面示意图;以及图10是图8和图9所示的防划伤保持件120的放大的侧视图。
如图8至图10所示,防划伤保持件120可以进一步包括支撑部分121和挡块部分122。支撑部分121构造成被支撑在该载体上,并且防划伤保持件120通过支撑部分121固定地连接至连接件130。挡块部分122延伸自支撑部分121并且构造成用于当目标基板被承载在载体上时阻挡目标基板脱离载体。在一个实施例中,挡块部分122和支撑部分121一体成型,从结构上来说,挡块部分122延伸自支撑部分121,并且挡块部分122从其延伸自支撑部分121的延伸段至其自由端具有大致渐缩的形状。此外,支撑部分121上形成有保持件紧固孔123,用于利用紧固件与连接件130的第二紧固孔132紧固连接。
具体地,如图9和图10所示,防划伤保持件120中,支撑部分121限定有用于面向该目标基板的基准表面1211和第一倾斜表面1212,其中,第一倾斜表面1212延伸自基准表面1211并且相对于基准表面1211的倾斜角度α范围约为10°-25°。与此同时,挡块部分122限定有用于面向该目标基板的第二倾斜表面1221,第二倾斜表面1221相对于基准表面1211的倾斜角度范围亦约为10°-25°。换言之,支撑部分121的第一倾斜表面1212和挡块部分122的第二倾斜表面1221均倾斜于支撑部分121的基准表面1211,采用这种结构,当保持用具100被弹性地加载到载体上时,由于支撑部分121的第一倾斜表面1212与基准表面1211之间存在一定角度范围,在保持用具100将目标基板保持在载体上时可以通过使支撑部分121的第一倾斜表面1212(而非基准表面1211)与载体接触以使得支撑部分121被支撑在载体上,弥补或卸除保持用具100凭借载压弹簧160被弹性地加载到载体上时产生的弹性余量,从而有效确保了保持用具100的保持效果。
此外,如前所述,防划伤保持件120中,挡块部分122构造成用于当目标基板被承载在载体上时阻挡目标基板脱离载体。具体地,在上述的支撑部分121的第一倾斜表面1212与基准表面1211之间存在一定角度范围的基础上,在一个具体实施例中,第一倾斜表面1212与第二倾斜表面1221可以大致相互平行。例如,第一倾斜表面1212相对于基准表面1211的倾斜角度可以约为15°,而第二倾斜表面1221相对于基准表面1211的倾斜角度亦可以约为15°。这样,当保持用具100将目标基板保持在载体上时,挡块部分122的第二倾斜表面1221可以与该目标基板大致平行,从而与该目标基板之间可以具有一定间隙,例如大约0.5mm的间隙,这样,当保持用具100将目标基板保持在载体上时,由于支撑部分121的第一倾斜表面1212(而非基准表面1211)与载体接触以使得支撑部分121被支撑在载体上,而且第一倾斜表面1212与挡块部分122的第二倾斜表面1221大致相互平行,从而可以确保第二倾斜表面1221在该目标基板被保持在载体上时与该目标基板之间存在间隙,在确保目标基板被保持在该载体上时的正常晃动的同时既能防止挡块部分122的第二倾斜表面1221与目标基板的待处理表面边缘之间产生不避免的接触和摩擦,又能阻挡目标基板脱离载体,在有效起到保持作用的同时避免了目标基板的待处理表面边缘被划伤。
与此同时,本公开还提供了一种载体组件。图11示意性地显示了根据本公开具体实施例所述的保持用具100将一目标基板300支撑保持在载体200上时的结构示意图。如图11所示,根据本公开具体实施例提供的一种载体组件至少包括:用于承载一目标基板300的载体200,以及,可枢转地设置在所述载体200上的若干前述的保持用具100。图11显示了这些保持用具100分布在载体200周边的位置,用于将目标基板300保持在载体200上,以便对目标基板300执行溅镀处理。例如,保持用具100可以通过前述的加载有载压弹簧160的枢轴150可枢转地安装到载体200周边的位置。需要注意的是,虽然图11示意性地显示了:载体组件中的载体200和设置在载体200周边的若干保持用具100、以及通过保持用具100被支撑保持在载体200上的目标基板300,但是,载体组件还包括但不限于例如用于固定该目标基板300的支撑构件等其它部件,为了清楚的目的,这些部件在附图中被省略。此外,理论上,为了较好地实现保持效果,保持用具100(尤其是其中防划伤保持件的挡块部分)应该接触目标基板300的表面以取得较佳保持效果,然而由于目标基板300在执行溅镀处理的实践过程中难免正常晃动,如图12所示,当目标基板300通过保持用具100被支撑保持在载体200上时,保持用具的防划伤保持件120的挡块部分的第二倾斜表面与该目标基板300之间可以具有一定间隙(如图12中双箭头所示的位置),例如大约0.5mm的间隙。这样,在确保目标基板被保持在该载体上时的正常晃动的同时既能防止挡块部分122的第二倾斜表面1221与目标基板的待处理表面边缘之间产生不避免的接触和摩擦,又能阻挡目标基板脱离载体,在有效起到保持作用的同时避免了目标基板的待处理表面边缘被划伤。
本公开提供的保持用具和包括该保持用具的载体组件,其中,保持用具采用由例如聚醚醚酮(PEEK)材料和/或聚酰亚胺(PI)材料等耐温有机复合材料制成的防划伤保持件,并且,防划伤保持件以不接触该目标基板的方式将作为目标基板的玻璃基板保持在载体上,有效防止了目标基板的待处理表面边缘被划伤,从而降低了目标基板的不良发生率,相应地提高了产线稼动率,降低了设备宕机时间,进而提高产能,降低成本。也就是说,防划伤保持件设计成在确保第二倾斜表面在该目标基板被保持在该载体上时与该目标基板之间具有间隙,在确保目标基板被保持在该载体上时的正常晃动的同时防止防划伤保持件的第二倾斜表面与目标基板之间不必要的接触和摩擦,在有效起到保持作用的同时避免了目标基板的待处理表面边缘被划伤。此外,本公开提供的保持用具和包括该保持用具的载体组件,将防划伤保持件设计成使得其面向目标基板的基准表面与第一和第二倾斜表面之间存在一定角度范围,弥补保持用具被弹性地加载到载体上时产生的弹性余量,有效确保了保持用具的保持效果。
虽然已对本公开的一些实施例进行了图示和说明,本领域普通技术人员应当理解,在不背离本公开的总体构思的原则和精神的情况下,可以对这些实施例做出改变,本公开的范围以权利要求和它们的等同物限定。
应注意,措词“包括”不排除其它元件或步骤,措词“一”或“一个”不排除多个。另外,权利要求的任何元件标号不应理解为限制本公开的范围。

Claims (9)

1.一种保持用具,包括:
支承件,构造成用于被连接至一载体,该载体用于承载一目标基板;
防划伤保持件,构造成用于以不接触该目标基板的方式将该目标基板保持在该载体上;以及
连接件,固定地连接所述支承件和所述防划伤保持件;
其中,所述防划伤保持件进一步包括:
支撑部分,构造成用于被支撑在该载体上,其中所述防划伤保持件通过所述支撑部分固定地连接至所述连接件;和
挡块部分,延伸自所述支撑部分并且构造成用于当该目标基板被承载在该载体上时阻挡该目标基板脱离该载体;
其中,所述支撑部分限定有用于面向该目标基板的基准表面和第一倾斜表面,所述第一倾斜表面延伸自所述基准表面,而所述挡块部分限定有用于面向该目标基板的第二倾斜表面。
2.如权利要求1所述的保持用具,其中,所述防划伤保持件由耐温有机复合材料制成,所述耐温有机复合材料能够耐受至少300摄氏度的温度。
3.如权利要求2所述的保持用具,其中,所述耐温有机复合材料包括聚醚醚酮材料和/或聚酰亚胺材料。
4.如权利要求1所述的保持用具,其中,所述第一倾斜表面相对于所述基准表面的倾斜角度范围为10°-25°,而所述第二倾斜表面相对于所述基准表面的倾斜角度范围为10°-25°。
5.如权利要求4所述的保持用具,其中,所述第一倾斜表面与第二倾斜表面相互平行,其中,所述第一倾斜表面相对于所述基准表面的倾斜角度为15°,以及第二倾斜表面相对于所述基准表面的倾斜角度为15°。
6.如权利要求4所述的保持用具,其中,所述挡块部分构造成所述第二倾斜表面在所述保持用具将该目标基板保持在该载体上时与该目标基板平行,并且与该目标基板之间具有间隙;以及,所述支撑部分构造成所述第一倾斜表面在所述保持用具将该目标基板保持在该载体上时被支撑在该载体上。
7.如权利要求1所述的保持用具,其中,所述挡块部分和所述支撑部分一体成型;以及,所述支承件和所述防划伤保持件分别通过紧固件固定地连接至所述连接件。
8.如权利要求1所述的保持用具,其中,所述目标基板为用于液晶显示的玻璃基板。
9.一种载体组件,包括:
用于承载一目标基板的载体;以及
可枢转地设置在所述载体上的若干如权利要求1-8中任一所述的保持用具。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102161409A (zh) * 2009-12-15 2011-08-24 信越化学工业株式会社 玻璃基板运送用容器以及玻璃基板运送台车
CN103261474A (zh) * 2010-08-27 2013-08-21 应用材料公司 用于基板的载具及组装该载具的方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102153998B1 (ko) * 2013-02-19 2020-09-10 삼성디스플레이 주식회사 기판 수납 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102161409A (zh) * 2009-12-15 2011-08-24 信越化学工业株式会社 玻璃基板运送用容器以及玻璃基板运送台车
CN103261474A (zh) * 2010-08-27 2013-08-21 应用材料公司 用于基板的载具及组装该载具的方法

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