CN108179380A - 一种掩膜版 - Google Patents

一种掩膜版 Download PDF

Info

Publication number
CN108179380A
CN108179380A CN201810188271.2A CN201810188271A CN108179380A CN 108179380 A CN108179380 A CN 108179380A CN 201810188271 A CN201810188271 A CN 201810188271A CN 108179380 A CN108179380 A CN 108179380A
Authority
CN
China
Prior art keywords
identified areas
circular arc
mask plate
areas
stick
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201810188271.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108179380B (zh
Inventor
丁渭渭
徐鹏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201810188271.2A priority Critical patent/CN108179380B/zh
Publication of CN108179380A publication Critical patent/CN108179380A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108179380B publication Critical patent/CN108179380B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明公开了一种掩膜版，包括版体，版体上具有：抓持区域；位于抓持区域内侧的圆弧标识区域；位于圆弧标识区域内侧的焊接区域；位于圆弧标识区域内侧的条块标识区域；和位于条块标识区域内侧的有效显示区域；其中，圆弧标识区域和条块标识区域内开设有应力平衡槽，在张网及焊接过程中既能够保证有效显示区域受力均匀，还能够保证焊接区域较为平坦、不发生褶皱，制成的套装掩膜版蒸镀效果较好，避免蒸镀后显示产品出现混色不良。

Description

一种掩膜版
技术领域
本文涉及蒸镀技术领域，尤指一种掩膜版。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode)有机发光二极管是一种使用越来越广泛的器件结构，它是利用电子和空穴的复合形成激子而产生光发射的，通过调节驱动电流的大小可以得到不同的发光亮度。这种发光方式不同于传统的TFT-LCD(薄膜晶体管)方式，具有显著优势。具体为：
1、结构简单，能够自发光，无需背光源，从而可以减小屏幕厚度；
2、采用脉冲式驱动，响应时间短、速度快；
3、视角接近180°，相比LCD屏更为宽广；
4、低功耗，由于OLED不需要彩膜，因而其功耗取决于要显示的影像；
5、对比度高，可展现纯黑画面；
6、对温度适应性好，即在较宽的温度范围内都能保持良好的显示效果。
目前，真空蒸镀法虽难免会有些许材料浪费，但其所得器件寿命较长，工艺复杂性适中，仍是制备OLED器件的惯用方法。在这种制备方法中，FMM(Fine Metal Mask，高精度金属掩膜版，如图1所示)是保证有机发光材料蒸镀到设计位置的必需物品，其通常由抓持区域100、有效显示区域400、应力平衡标识区域200及焊接区域300等几部分组成。有效显示区域400为实际蒸镀区域，为了保证蒸镀效果，需要保证有效显示区域400在张网及焊接过程中受力均匀，焊接区域300不能出现褶皱。应力平衡标识区域200用于缓解应力，降低张网力对有效显示区域400的影响。抓持区域100和焊接区域300用于抓取FMM和将FMM与金属框架焊接为蒸镀时所用的套装掩膜版。
现有的应力平衡标识区域200为条状(应力平衡区域上开设应力平衡槽)，这种设计结构简单，但其对应力的缓解作用较差，有效显示区域400容易出现应力不均，焊接区域300容易发生褶皱，会导致显示产品出现混色不良。随着玻璃利用率的提高(即有效显示区域400面积的增大)，可用于设计应力平衡标示区域的面积逐渐减小，这种不良也会随之提高。
发明内容
为了解决上述技术问题中的至少之一，本文提供了一种掩膜版，在张网及焊接过程中有效显示区域受力均匀，焊接区域不会发生褶皱，制成的套装掩膜版蒸镀效果较好，避免蒸镀后显示产品出现混色不良。
本发明实施例提供的掩膜版，包括版体，所述版体上具有：抓持区域；位于所述抓持区域内侧的圆弧标识区域；位于所述圆弧标识区域内侧的焊接区域；位于所述圆弧标识区域内侧的条块标识区域；和位于所述条块标识区域内侧的有效显示区域；其中，所述圆弧标识区域和所述条块标识区域内开设有应力平衡槽。
可选地，所述圆弧标识区域的凹曲面朝外。
可选地，所述条块标识区域包括：块状标识区域，位于所述圆弧标识区域的内侧；和条状标识区域，位于所述块状标识区域的内侧。
可选地，所述块状标识区域包括横置的多个块状标识框，多个所述块状标识框排列成一行或多行，所述块状标识框内开设所述应力平衡槽。
可选地，所述条状标识区域包括横置的条状标识框，所述条状标识框内开设所述应力平衡槽。
可选地，所述焊接区域位于所述块状标识区域和所述条状标识区域之间。
可选地，所述圆弧标识区域包括半圆形标示框，所述半圆形标示框内开设所述应力平衡槽。
可选地，所述圆弧标识区域和所述条块标识区域通过仿真分析进行确定。
可选地，所述应力平衡槽为通槽或盲孔槽，且所述应力平衡槽呈六边形状、正方形状、圆形状或栅条形状。
可选地，所述条块标识区域的左端与所述版体的左边缘之间的距离、以及所述条块标识区域的右端与所述版体的右边缘之间的距离均不大于1mm。
与现有技术相比，本发明提供的掩膜版，其版体上具有圆弧标识区域和条块标识区域，应力平衡槽开设在圆弧标识区域和条块标识区域上，在张网及焊接过程中既能够保证有效显示区域受力均匀，还能够保证焊接区域较为平坦、不发生褶皱，制成的套装掩膜版蒸镀效果较好，避免蒸镀后显示产品出现混色不良。
本文的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本文而了解。本文的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本文技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本文的技术方案，并不构成对本文技术方案的限制。
图1为相关技术所述的掩膜版的结构示意图；
图2为本发明一个实施例所述的掩膜版的局部结构示意图；
图3为图2所示的掩膜版中应力平衡槽一实施例的剖视局部结构示意图；
图4为图2所示的掩膜版中应力平衡槽另一实施例的剖视局部结构示意图；
图5为图2所示的掩膜版中应力平衡槽一实施例的局部结构示意图；
图6为图2所示的掩膜版中应力平衡槽另一实施例的局部结构示意图；
图7为图2所示的掩膜版中应力平衡槽又一实施例的局部结构示意图；
图8为图2所示的掩膜版中应力平衡槽再一实施例的局部结构示意图。
其中，图2至图8中附图标记与部件名称之间的对应关系为：
1版体，11抓持区域，12圆弧标识区域，13焊接区域，14有效显示区域，15应力平衡槽，16条状标识区域，17块状标识区域。
具体实施方式
为使本文的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本文的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本文，但是，本文还可以采用其他不同于在此描述的方式来实施，因此，本文的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
下面结合附图描述本文一些实施例的掩膜版。
本发明实施例提供的掩膜版，如图2所示，包括版体1，所述版体1上具有：抓持区域11；位于所述抓持区域11内侧的圆弧标识区域12；位于所述圆弧标识区域12内侧的焊接区域13；位于所述圆弧标识区域12内侧的条块标识区域；和位于所述条块标识区域内侧的有效显示区域14；其中，所述圆弧标识区域12和所述条块标识区域内开设有应力平衡槽15。
该掩膜版，其版体1上具有圆弧标识区域12和条块标识区域，应力平衡槽15开设在圆弧标识区域12和条块标识区域上，在张网及焊接过程中既能够保证有效显示区域14受力均匀，还能够保证焊接区域13较为平坦、不发生褶皱，制成的套装掩膜版蒸镀效果较好，避免蒸镀后显示产品出现混色不良。
掩膜版为金属掩膜版，在进行蒸镀时，加热蒸发的有机材料分子会穿过有效显示区域14的开口沉积到显示背板上的阳极处。
其中，抓持区域11、圆弧标识区域12、焊接区域13和条块标示区域关于有效显示区域14对称上下对称设置。
可选地，所述圆弧标识区域12的凹曲面朝外(即：开口朝外)，其半径和位置通过仿真分析确定，可以调节。
具体地，所述圆弧标识区域12为半圆形标示框，所述半圆形标示框内开设所述应力平衡槽15。
可选地，所述条块标识区域包括：块状标识区域17，位于所述圆弧标识区域12的内侧；和条状标识区域16，位于所述块状标识区域17的内侧。
具体地，所述块状标识区域17包括横置的多个间隔的块状标识框，多个所述块状标识框排列成一行或多行(如一行、两行或三行等)，任一行包括一个或多个块状标识框，块状标识框的长宽尺寸和相互间隔尺寸通过仿真分析确定，所述块状标识框内开设所述应力平衡槽15。
具体地，所述条状标识区域16包括横置的条状标识框，所述条状标识框内开设所述应力平衡槽15。
进一步地，所述焊接区域13位于所述块状标识区域17和所述条状标识区域16之间，焊接区域13应力平衡效果较好，张网及焊接后更不容易发生褶皱。
可选地，所述应力平衡槽15为全通刻形成的通槽(如图3所示)或半通刻形成的盲孔槽(如图4所示)等，所述应力平衡槽15呈六边形状(如图5所示)、正方形状(如图6所示，)、圆形状(如图7所示)或栅条形状(如图8所示)等，均可实现本申请的目的，其宗旨未脱离本发明的设计思想，在此不再赘述，均应属于本申请的保护范围内。
再者，所述条块标识区域的左端与所述版体1的左边缘之间的距离、以及所述条块标识区域的右端与所述版体1的右边缘之间的距离均不大于1mm，优选设计为0.5mm左右。
综上所述，本发明提供的掩膜版，其版体上具有圆弧标识区域和条块标识区域，应力平衡槽开设在圆弧标识区域和条块标识区域上，在张网及焊接过程中既能够保证有效显示区域受力均匀，还能够保证焊接区域较为平坦、不发生褶皱，制成的套装掩膜版蒸镀效果较好，避免蒸镀后显示产品出现混色不良。
在本文的描述中，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本文中的具体含义。
在本说明书的描述中，术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本文的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且，描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
虽然本文所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本文而采用的实施方式，并非用以限定本文。任何本文所属领域内的技术人员，在不脱离本文所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本文的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种掩膜版，包括版体，其特征在于，所述版体上具有：
抓持区域；
位于所述抓持区域内侧的圆弧标识区域；
位于所述圆弧标识区域内侧的焊接区域；
位于所述圆弧标识区域内侧的条块标识区域；和
位于所述条块标识区域内侧的有效显示区域；
其中，所述圆弧标识区域和所述条块标识区域内开设有应力平衡槽。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述圆弧标识区域的凹曲面朝外。
3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述条块标识区域包括：
块状标识区域，位于所述圆弧标识区域的内侧；和
条状标识区域，位于所述块状标识区域的内侧。
4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述块状标识区域包括横置的多个块状标识框，多个所述块状标识框排列成一行或多行，所述块状标识框内开设所述应力平衡槽。
5.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述条状标识区域包括横置的条状标识框，所述条状标识框内开设所述应力平衡槽。
6.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述焊接区域位于所述块状标识区域和所述条状标识区域之间。
7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述圆弧标识区域包括半圆形标示框，所述半圆形标示框内开设所述应力平衡槽。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述圆弧标识区域和所述条块标识区域通过仿真分析进行确定。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述应力平衡槽为通槽或盲孔槽，且所述应力平衡槽呈六边形状、正方形状、圆形状或栅条形状。
10.根据权利要求1至7中任一项所述的掩膜版，其特征在于，所述条块标识区域的左端与所述版体的左边缘之间的距离、以及所述条块标识区域的右端与所述版体的右边缘之间的距离均不大于1mm。
CN201810188271.2A 2018-03-07 2018-03-07 一种掩膜版 Active CN108179380B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810188271.2A CN108179380B (zh) 2018-03-07 2018-03-07 一种掩膜版

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810188271.2A CN108179380B (zh) 2018-03-07 2018-03-07 一种掩膜版

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108179380A true CN108179380A (zh) 2018-06-19
CN108179380B CN108179380B (zh) 2020-05-12

Family

ID=62553639

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810188271.2A Active CN108179380B (zh) 2018-03-07 2018-03-07 一种掩膜版

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108179380B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110423983A (zh) * 2019-08-30 2019-11-08 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
CN112281113A (zh) * 2020-10-28 2021-01-29 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板与掩膜板组件
CN112662994A (zh) * 2020-12-04 2021-04-16 合肥维信诺科技有限公司 掩膜版及其制备方法
WO2022041891A1 (zh) * 2020-08-31 2022-03-03 合肥维信诺科技有限公司 掩膜板及掩膜板组件

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103572205A (zh) * 2013-07-09 2014-02-12 景智电子股份有限公司 金属遮罩
CN103911583A (zh) * 2012-12-29 2014-07-09 上海天马微电子有限公司 Amoled金属掩膜板
CN204803392U (zh) * 2015-07-27 2015-11-25 昆山国显光电有限公司 精密掩膜板
CN105568218A (zh) * 2016-01-11 2016-05-11 友达光电股份有限公司 一种遮罩组件
CN105803389A (zh) * 2016-05-18 2016-07-27 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103911583A (zh) * 2012-12-29 2014-07-09 上海天马微电子有限公司 Amoled金属掩膜板
CN103572205A (zh) * 2013-07-09 2014-02-12 景智电子股份有限公司 金属遮罩
CN204803392U (zh) * 2015-07-27 2015-11-25 昆山国显光电有限公司 精密掩膜板
CN105568218A (zh) * 2016-01-11 2016-05-11 友达光电股份有限公司 一种遮罩组件
CN105803389A (zh) * 2016-05-18 2016-07-27 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110423983A (zh) * 2019-08-30 2019-11-08 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
CN110423983B (zh) * 2019-08-30 2021-11-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
WO2022041891A1 (zh) * 2020-08-31 2022-03-03 合肥维信诺科技有限公司 掩膜板及掩膜板组件
CN112281113A (zh) * 2020-10-28 2021-01-29 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板与掩膜板组件
CN112281113B (zh) * 2020-10-28 2022-10-18 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板与掩膜板组件
CN112662994A (zh) * 2020-12-04 2021-04-16 合肥维信诺科技有限公司 掩膜版及其制备方法
CN112662994B (zh) * 2020-12-04 2023-04-25 合肥维信诺科技有限公司 掩膜版及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN108179380B (zh) 2020-05-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108179380A (zh) 一种掩膜版
TWI741192B (zh) 像素結構、ｏｌｅｄ顯示幕以及蒸鍍掩膜板
US9812512B2 (en) Pixel structure and display apparatus
CN106816453A (zh) 有机发光二极管显示装置
US20180207677A1 (en) Vacuum evaporation apparatus
CN110045539A (zh) 显示面板、显示面板的制造方法和显示装置
CN109192753A (zh) Oled显示面板及其制备方法
CN106637074B (zh) 蒸镀掩膜板、oled基板及测量蒸镀像素偏位的方法
CN107369702A (zh) 一种oled显示面板及其制作方法
CN103160775A (zh) 蒸镀掩膜板对位***
US20040263065A1 (en) Active organic light emitting diode display structure
CN108231845A (zh) 一种显示面板、电子设备
CN107968103A (zh) 像素结构及其制造方法、显示装置
CN108666420A (zh) 掩模板及其制作方法
CN102776473B (zh) 有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置
CN110331377A (zh) 掩膜片及其制作方法、开口掩膜板及其使用方法、薄膜沉积设备
CN109904196A (zh) 显示面板及其制备方法、电子装置
KR20030095580A (ko) 기판정렬장치 및 기판정렬방법
CN110350009A (zh) 阵列基板及其制备方法和显示面板
CN109713163A (zh) 有机发光显示面板及其制作方法、显示装置
CN102766844B (zh) 有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置
CN106158907B (zh) Oled显示器件
JP2004152704A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
CN106676469A (zh) 蒸镀掩膜板及其制造方法
KR20040067985A (ko) 일렉트로 루미네센스 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant