CN107977632A - 一种阵列基板、显示装置及其纹路识别方法 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种阵列基板、显示装置及其纹路识别方法，涉及指纹识别技术领域，可在显示装置的显示区域实现纹路识别，有利于实现窄边框。阵列基板包括：设置在衬底基板上、且位于显示区域中的多个发光器件，还包括：设置在衬底基板上的遮光层，遮光层用于遮挡发光器件发出的多原色光中至少一种原色的光，遮光层上具有位于显示区域中的多个成像小孔，多个成像小孔与多个发光器件在衬底基板上的正投影均不重叠；设置在遮光层下方的纹路识别层，纹路识别层包含对应于成像小孔的传感器单元，位于一成像小孔周围的至少一个发光器件发出的光可经显示装置显示侧的待识别体反射穿过该成像小孔照射到传感器单元上。用于在显示区域实现纹路识别。

Description

一种阵列基板、显示装置及其纹路识别方法
技术领域
本发明涉及指纹识别技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示装置及其纹路识别方法。
背景技术
随着生活水平的不断提高，各种终端设备已成为生活中的必需品，而用户对终端设备的要求也越来越高。对于安全性而言，因纹路具有个体唯一性特征，而使得纹路识别具有优良的隐私保护功能，因此纹路识别被广泛应用在各种终端设备中，以增加用户体验以及安全性。
由于现有显示装置中的纹路识别装置一般设置在显示装置的边框位置，这样就不利于实现窄边框，影响了显示装置的美观。
发明内容
本发明的实施例提供一种阵列基板、显示装置及其纹路识别方法，可在显示装置的显示区域实现纹路识别，有利于实现窄边框。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，提供一种应用于集成纹路识别结构的显示装置中的阵列基板，包括：设置在衬底基板上、且位于显示区域中的多个发光器件，阵列基板还包括：设置在所述衬底基板上的遮光层，所述遮光层用于遮挡所述发光器件发出的多原色光中至少一种原色的光，所述遮光层上具有位于所述显示区域中的多个成像小孔，所述多个成像小孔与所述多个发光器件在所述衬底基板上的正投影均不重叠；设置在所述遮光层下方的纹路识别层，所述纹路识别层包含对应于所述成像小孔的传感器单元，位于一所述成像小孔周围的至少一个所述发光器件发出的光可经所述显示装置显示侧的待识别体反射穿过该成像小孔照射到所述传感器单元上。
优选的，所述阵列基板还包括：设置在所述发光器件和所述衬底基板之间的平坦层以及用于间隔所述发光器件的像素界定层；其中，所述平坦层和/或所述像素界定层与所述遮光层共用。
优选的，所述遮光层可遮挡可见光。
优选的，所述遮光层的材料包括聚酰亚胺以及掺杂在所述聚酰亚胺中的黑色吸光物质，所述遮光层可遮挡蓝光和绿光。
进一步优选的，所述阵列基板还包括设置在所述遮光层和所述纹路识别层之间的绿色滤光片或蓝色滤光片。
优选的，所述遮光层的材料为光密度值在2.0～10.0的有机材料，且所述遮光层的厚度为3～4μm。
优选的，所述成像小孔均匀分布在整个所述显示区域；或者，所述成像小孔均匀分布在所述显示区域中的一预设区域。
优选的，所述成像小孔为圆孔。
进一步优选的，所述成像小孔的直径为5～10μm。
第二方面，提供一种显示装置，包括上述的阵列基板。
第三方面，提供一种纹路识别方法，应用于上述的显示装置中，所述方法包括：控制发光器件发光；根据传感器单元检测到的光信号转换成的电信号进行纹路识别。
优选的，遮光层用于遮挡蓝光和绿光；控制发光器件发光，具体包括：控制用于发绿光的发光器件发光和/或控制用于发蓝光的发光器件发光。
本发明实施例提供一种阵列基板、显示装置及其纹路识别方法，阵列基板包括遮光层和发光器件，遮光层可以对发光器件发出的多原色光中的至少一种原色的光进行遮挡，这样被遮挡的原色的光照到待识别体上，经待识别体的反射只能透过遮光层上的成像小孔射到纹路识别层，从而在纹路识别层上进行成像，纹路识别层对待识别体所成的像进行检测便可以实现纹路识别。由于本发明实施例发光器件以及遮光层上的成像小孔都设置在显示区域，因而可以在实现显示的同时在显示区域实现纹路识别，从而避免了占用显示装置的边框位置，有利于实现窄边框。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1(a)为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图一；
图1(b)为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图二；
图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图三；
图3为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图四；
图4为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图五；
图5为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图六；
图6为本发明实施例提供的一种不同厚度的遮光层的吸收光谱示意图；
图7(a)为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图七；
图7(b)为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图八；
图8为本发明实施例提供的一种纹路识别方法的流程示意图。
附图标记：
10-衬底基板；20-发光器件；201-阳极；202-发光层；203-阴极；30-遮光层；301-成像小孔；40-纹路识别层；50-平坦层；60-像素界定层；70-薄膜晶体管；701-栅极；702-栅绝缘层；703-有源层；704-源极；705-漏极；80-缓冲层；90-绿色滤光片(蓝色滤光片)。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种应用于集成纹路识别结构的显示装置中的阵列基板，如图1(a)和图1(b)所示，包括：设置在衬底基板10上、且位于显示区域中的多个发光器件20。阵列基板还包括：设置在衬底基板10上的遮光层30，遮光层30用于遮挡发光器件20发出的多原色光中至少一种原色的光，遮光层30上具有位于显示区域中的多个成像小孔301，多个成像小孔301与多个发光器件20在衬底基板10上的正投影均不重叠；设置在遮光层30下方的纹路识别层40，纹路识别层40包含对应于成像小孔301的传感器单元(本发明实施例附图中未示意出)，位于一成像小孔301周围的至少一个发光器件20发出的光可经显示装置显示侧的待识别体反射穿过该成像小孔301照射到传感器单元(Sensor)上。
本发明实施例实现纹路识别的原理为：发光器件20发出的光经显示装置显示侧的待识别体的反射射向纹路识别层40，由于发光器件20发出的多原色光中的至少一种原色的光被遮光层30遮挡，因此被遮挡的原色的光只能透过遮光层30上的成像小孔301射到纹路识别层40，这样一来，被遮挡的原色的光照到待识别体上，经待识别体反射穿过成像小孔301便可以在纹路识别层40上对待识别体的纹路进行成像，纹路识别层40对待识别体所成的像进行识别从而可以得到待识别体的纹路，以实现纹路识别。
需要说明的是，第一，对于发光器件20的类型不进行限定，可以是OLED(OrganicLight-Emitting Diode，有机发光二极管)发光器件或QLED(Quantum Dot Light EmittingDiodes，量子点发光二极管)发光器件等。
当发光器件20为OLED发光器件或QLED发光器件时，如图2所示，发光器件20包括阳极201、阴极203以及设置在阳极201和阴极203之间的发光层202，发光器件20还可以包括设置在阳极201和阴极203之间的空穴注入层、空穴传输层、电子注入层和电子传输层中的至少一层。
第二，对于发光器件20发出光的颜色不进行限定，发光器件20可以发白光，也可以发多原色光中的任一原色的光。例如发光器件20可以发出红光、绿光或蓝光，又例如，发光器件20可以发出黄光、品红光或青光。
第三，遮光层30可以对发光器件20发出的光均进行遮挡，即遮光层30可遮挡可见光；也可以对发光器件20发出的多原色光中至少一种原色的光进行遮挡。示例的，多个发光器件20用于发出红光、绿光或蓝光，遮光层30可以对红光、绿光和蓝光均进行遮挡，也可以仅遮挡绿光和蓝光。
此处，被遮挡的原色光由于只能透过遮光层30上的成像小孔301，因此被遮挡的原色的光照射到待识别体上被待识别体反射通过成像小孔301便可以成像，而未被遮挡的原色光由于可以透过遮光层30，因此不能成像。
在此基础上，遮光层30可以是阵列基板上本身就有的膜层，也可以是额外单独设置的膜层。
第四，对于遮光层30上设置的成像小孔301的个数不进行限定，可以根据需要进行相应设置，成像小孔301的个数可以与发光器件20的个数相同，也可以不相同。优选的，成像小孔301的个数小于发光器件20的个数。
此处，对于成像小孔301的形状不进行限定，可以是方形、圆形或三角形等。当成像小孔301的形状为圆形时，此时成像小孔301为圆孔，对于成像小孔301的直径，以能对待识别体的纹路进行成像为准。本发明实施例优选的，成像小孔301的直径为5～10μm。此外，本发明实施例优选成像小孔301中心对称。
第五，对于纹路识别层40上设置的传感器单元的个数不进行限定，可以是一个成像小孔301对应设置一个传感器单元，也可以是一个成像小孔301对应设置多个传感器单元，当然还可以是一个传感器单元对应设置多个成像小孔301。
第六，本发明实施例所指的待识别体可以是手指、手掌或脚趾等，对此不进行限定。
第七，纹路识别层40可以如图1(a)所示，设置在衬底基板10靠近遮光层30的一侧，也可以如图1(b)所示，设置在衬底基板10远离遮光层30的一侧。
本发明实施例提供一种应用于集成纹路识别结构的显示装置中的阵列基板，阵列基板包括遮光层30和发光器件20，遮光层30可以对发光器件20发出的多原色光中的至少一种原色的光进行遮挡，这样被遮挡的原色的光照到待识别体上，经待识别体的反射只能透过遮光层30上的成像小孔301射到纹路识别层40，从而在纹路识别层40上进行成像，纹路识别层40对待识别体所成的像进行检测便可以实现纹路识别。由于本发明实施例发光器件20以及遮光层30上的成像小孔301都设置在显示区域，因而可以在实现显示的同时在显示区域实现纹路识别，从而避免了占用显示装置的边框位置，有利于实现窄边框。
优选的，如图3所示，阵列基板还包括：设置在发光器件20和衬底基板10之间的平坦层(Planarization，简称PLN)50以及用于间隔发光器件20的像素界定层60(PixelDefining Layer，简称PDL)；其中，平坦层50和/或像素界定层60与遮光层30共用。
此处，可以平坦层50与遮光层30共用；也可以是像素界定层60与遮光层30共用；当然还可以是平坦层50和像素界定层60均与遮光层30共用。当平坦层50与遮光层30共用时，此时选用的平坦层50的材料既可以起到平坦化作用，又可以起到遮光作用；当像素界定层60与遮光层30共用时，此时选用的像素界定层60的材料既可以起到像素界定的作用，又可以起到遮光作用。当平坦层50和像素界定层60均与遮光层30共用时，此时平坦层50和像素界定层60都起到遮光作用。
基于上述，当平坦层50或像素界定层60与遮光层30共用时，可以在形成平坦层50或像素界定层60后通过曝光显影工艺在平坦层50或像素界定层60上形成成像小孔301；当平坦层50和像素界定层60与遮光层30共用时，可以在形成平坦层50后通过曝光显影工艺在平坦层50上形成第一成像小孔，在形成像素界定层60后通过曝光显影工艺在像素界定层60上形成第二成像小孔，第一成像小孔和第二成像小孔构成成像小孔301；也可以在形成平坦层50和像素界定层60后，对平坦层50和像素界定层60进行曝光显影工艺，以在平坦层50和像素界定层60同时形成成像小孔301。
需要说明的是，现有技术中的平坦层50和像素界定层60的材料都是透明材料，而本发明实施例由于平坦层50和/或像素界定层60与遮光层30共用，因此平坦层50和像素界定层60中与遮光层30共同的层的材料不能是透明材料，应为至少能遮挡多原色光中至少一种原色光的遮光材料。
此外，阵列基板除了包括平坦层50和像素界定层60外，如图4所示，还可以包括薄膜晶体管70，薄膜晶体管70包括栅极701、栅绝缘层702、有源层703、源极704和漏极705，薄膜晶体管70的漏极705与发光器件20的阳极201电连接，平坦层50设置在薄膜晶体管70上。在此基础上，如图5所示，阵列基板还可以包括设置在衬底基板10和薄膜晶体管70之间的缓冲层80(Buffer)或其它膜层等，本发明实施例不再一一赘述。
本发明实施例，平坦层50和/或像素界定层60与遮光层30共用，利用平坦层50和/或像素界定层60起到遮光层30的作用，这样就无需再单独设置遮光层30，一方面简化了阵列基板的制作工艺；另一方面，减小了阵列基板的厚度，有利于实现显示装置的轻薄化。
需要说明的是，本发明实施例除了平坦层50和/或像素界定层60可以与遮光层30共用外，阵列基板上原有的其它膜层也可以和遮光层30共用。示例的，遮光层30还可以和阵列基板上的绝缘层共用。
本发明实施例，遮光层30用于遮挡发光器件20发出的多原色光中至少一种原色的光，当遮光层30不能对发光器件20发出的光均遮挡时，此时由于未被遮挡的原色的光会直接透过遮光层30，这样未被遮挡的原色的光照射到待识别体上经待识别体的反射不会在纹路识别层40上进行成像，而被遮光层30遮挡的原色的光经待识别体的反射透过遮光层30上的成像小孔301会在纹路识别层40上对待识别体的纹路进行成像，因而未被遮挡的原色的光射到纹路识别层40会影响被遮挡的原色的光在纹路识别层40所成的像。基于此，本发明实施例优选的，遮光层30可遮挡可见光，即遮光层30可遮挡发光器件20发出的所有的光，这样一来，发光器件20发出的光便只能透过成像小孔301射到纹路识别层40，而光透过成像小孔301便可以成像，从而使得发光器件20发出的多原色光射到待识别体，经待识别体反射都可以透过成像小孔301在纹路识别层40成像，因此使得待识别体纹路成像更清晰，提高了纹路识别结构识别纹路的准确性。
优选的，遮光层30的材料包括聚酰亚胺以及掺杂在聚酰亚胺中的黑色吸光物质，遮光层30可遮光蓝光和绿光。
其中，对于黑色吸光物质的具体材料不进行限定，例如可以为石墨烯、碳黑或黑色有机材料等。在此基础上，对于黑色吸光物质在聚酰亚胺中的掺杂比例不进行限定，可以根据需要进行设定。
图6为遮光层30的材料包括聚酰亚胺以及掺杂在所述聚酰亚胺中的黑色吸光物质时，不同厚度的遮光层30的吸收光谱示意图，图6中曲线a为厚度为2μm的遮光层30的吸收光谱曲线；图6中曲线b为厚度为3μm的遮光层30的吸收光谱曲线；图6中曲线c为厚度为4μm的遮光层30的吸收光谱曲线。从图6中可以看出该遮光层30材料在蓝光波段和绿光波段有较大的吸收率，在红光波段(长波波段)有较大的透光率，且遮光层30的厚度越大，遮光层30对蓝光波段和绿光波段的吸收率越大。
本发明实施例，当遮光层30的材料包括聚酰亚胺以及掺杂在所述聚酰亚胺中的黑色吸光物质时，由于遮光层30可遮挡蓝光和绿光，因此蓝光和绿光照射到待识别体上，经待识别体反射可以透过遮光层30上的成像小孔301对待识别体的纹路在纹路识别层40进行成像，纹路识别层40通过对待识别体所成的像进行检测便可以进行纹路识别。
由于遮光层30可遮挡蓝光和绿光，因此发光器件20发出的除蓝光和绿光以外的其它原色的光都可以透过遮光层30照射到纹路识别层40，而这些杂散光照到纹路识别层40会影响待识别体纹路成像，因此本发明实施例进一步优选的，如图7(a)和图7(b)所示，阵列基板还包括设置在遮光层30和纹路识别层40之间的绿色滤光片90或蓝色滤光片90。
其中，对于绿色滤光片90或蓝色滤光片90的设置位置不进行限定，可以如图7(a)所示设置在衬底基板10远离遮光层30的一侧；也可以如图7(b)所示设置在衬底基板10靠近遮光层30的一侧。此外，绿色滤光片90或蓝色滤光片90和纹路识别层40可以设置在衬底基板10的同一侧，也可以设置在衬底基板10的相对两侧。
此处，可以在遮光层30和纹路识别层40之间设置绿色滤光片90，这样就只有绿光可以照射到纹路识别层40；也可以在遮光层30和纹路识别层40之间设置蓝色滤光片90，这样就只有蓝光可以照射到纹路识别层40。
本发明实施例，在遮光层30和纹路识别层40之间设置绿色滤光片90或蓝色滤光片90，这样就只有蓝光或绿光可以照射到纹路识别层40，其它原色的光都可以被滤掉，从而消除了杂散光，确保了待识别体在纹路识别层40所成的像是清晰的，有利于纹路识别的准确性。
优选的，遮光层30的材料为光密度值(Optical Density，简称OD值)在2.0～10.0的有机材料，且遮光层30的厚度为3～4μm。
本发明实施例，当遮光层30的材料为光密度值在2.0～10.0的有机材料，且遮光层30的厚度为3～4μm，这样可以确保光从成像小孔301出射，从遮光层30其它部分透过的光较少，从而使得照射到纹路识别层40上的杂散光更少，有利于纹路识别的准确性。
优选的，成像小孔301均匀分布在整个显示区域；或者，成像小孔301均匀分布在显示区域中的一预设区域。
此处，对于预设区域的大小和设置位置不进行限定，可以根据需要进行设置。例如预设区域可以设置在显示区域的右下方。
本发明实施例，当成像小孔301均匀分布在整个显示区域时，此时整个显示区域都可以进行纹路识别；当成像小孔301均匀分布在显示区域中的一预设区域，此时预设区域可以进行纹路识别。
本发明实施例提供一种显示装置，包括上述的阵列基板。
此处，显示装置除包括阵列基板外，还可以包括封装膜层或与阵列基板对盒的封装盖板。
其中，本发明实施例提供的显示装置可以是显示不论运动(例如，视频)还是固定(例如，静止图像)的且不论文字还是图画的图像的任何装置。更明确地说，预期所述实施例可实施在多种电子装置中或与多种电子装置关联，所述多种电子装置例如(但不限于)移动电话、无线装置、个人数据助理(PDA)、手持式或便携式计算机、GPS接收器/导航器、相机、MP4视频播放器、摄像机、游戏控制台、手表、时钟、计算器、电视监视器、平板显示器、计算机监视器、汽车显示器(例如，里程表显示器等)、导航仪、座舱控制器和/或显示器、相机视图的显示器(例如，车辆中后视相机的显示器)、电子相片、电子广告牌或指示牌、投影仪、建筑结构、包装和美学结构(例如，对于一件珠宝的图像的显示器)等。此外，显示装置还可以是显示面板。
本发明实施例提供一种显示装置，显示装置的阵列基板包括遮光层30和发光器件20，遮光层30可以对发光器件20发出的多原色光中的至少一种原色的光进行遮挡，这样被遮挡的原色的光照到待识别体上，经待识别体的反射只能透过遮光层30上的成像小孔301射到纹路识别层40，从而在纹路识别层40上进行成像，纹路识别层40对待识别体所成的像进行检测便可以实现纹路识别。由于本发明实施例发光器件20以及遮光层30上的成像小孔301都设置在显示区域，因而可以在实现显示的同时在显示区域实现纹路识别，从而避免了占用显示装置的边框位置，有利于实现窄边框。
本发明实施例还提供一种纹路识别方法，应用于上述的显示装置中，如图8所示，纹路识别方法包括：
S100、控制发光器件20发光。
此处，可以控制显示装置中的发光器件20均发光，也可以部分发光器件20发光，例如控制用于发出同一原色的发光器件20发光，进一步示例的，控制用于发蓝光的发光器件20发光。
S101、根据传感器单元检测到的光信号转换成的电信号进行纹路识别。
此处，发光器件20发光的光中被遮光层30遮挡的光照射到待识别体上，经待识别体反射透过遮光层30的成像小孔301在纹路识别层40成像，纹路识别层40的传感器单元根据检测到的光信号转化成的电信号便可以进行纹路识别。
本发明实施例提供一种纹路识别方法，由于显示装置的阵列基板包括遮光层30和发光器件20，遮光层30可以对发光器件20发出的多原色光中的至少一种原色的光进行遮挡，这样被遮挡的原色的光照到待识别体上，经待识别体的反射只能透过遮光层30上的成像小孔301射到纹路识别层40，从而在纹路识别层40上进行成像，纹路识别层40上的传感器单元对待识别体所成的像进行检测便可以实现纹路识别。由于本发明实施例发光器件20以及遮光层30上的成像小孔301都设置在显示区域，因而可以在实现显示的同时在显示区域实现纹路识别，从而避免了占用显示装置的边框位置，有利于实现窄边框。
优选的，遮光层30用于遮挡蓝光和绿光；步骤S100具体包括：
控制用于发绿光的发光器件20发光和/或控制用于发蓝光的发光器件20发光。
其中，可以仅控制绿光的发光器件20发光，用于发出其它原色光的发光器件20不发光；也可以仅控制发蓝光的发光器件20发光，用于发出其它原色光的发光器件20不发光；当然还可以是控制发蓝光的发光器件20和发绿光的发光器件20均发光；用于发出其它原色光的发光器件20不发光。
此处，需要说明的是，本发明实施例提供的显示装置既可以进行显示，又可以进行纹路识别，由于纹路识别的时间较短，因此在进行纹路识别时，只控制部分发光器件20发光不会影响显示装置的正常显示。
本发明实施例，由于在进行纹路识别时，控制用于发绿光的发光器件20发光和/或控制用于蓝光的发光器件20发光，而遮光层30用于遮挡蓝光和绿光，因而进行纹路识别时，发光器件20发出的光照射到待识别体被待识别体反射后只能透过遮光层30上的成像小孔301照射到纹路识别层40，防止光透过遮光层30成像小孔301以外的部分射到纹路识别层40，消除了纹路识别层40上的杂散光，确保待识别体纹路是清晰的，有利于纹路识别的准确性。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种应用于集成纹路识别结构的显示装置中的阵列基板，包括：设置在衬底基板上、且位于显示区域中的多个发光器件，其特征在于，还包括：
设置在所述衬底基板上的遮光层，所述遮光层用于遮挡所述发光器件发出的多原色光中至少一种原色的光，所述遮光层上具有位于所述显示区域中的多个成像小孔，所述多个成像小孔与所述多个发光器件在所述衬底基板上的正投影均不重叠；
设置在所述遮光层下方的纹路识别层，所述纹路识别层包含对应于所述成像小孔的传感器单元，位于一所述成像小孔周围的至少一个所述发光器件发出的光可经所述显示装置显示侧的待识别体反射穿过该成像小孔照射到所述传感器单元上。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：设置在所述发光器件和所述衬底基板之间的平坦层以及用于间隔所述发光器件的像素界定层；
其中，所述平坦层和/或所述像素界定层与所述遮光层共用。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层可遮挡可见光。
4.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层的材料包括聚酰亚胺以及掺杂在所述聚酰亚胺中的黑色吸光物质，所述遮光层可遮挡蓝光和绿光。
5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述遮光层和所述纹路识别层之间的绿色滤光片或蓝色滤光片。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述遮光层的材料为光密度值在2.0～10.0的有机材料，且所述遮光层的厚度为3～4μm。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述成像小孔均匀分布在整个所述显示区域；或者，所述成像小孔均匀分布在所述显示区域中的一预设区域。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述成像小孔为圆孔。
9.根据权利要求8所述的阵列基板，其特征在于，所述成像小孔的直径为5～10μm。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的阵列基板。
11.一种纹路识别方法，其特征在于，应用于如权利要求10所述的显示装置中，所述方法包括：
控制发光器件发光；
根据传感器单元检测到的光信号转换成的电信号进行纹路识别。
12.根据权利要求11所述的纹路识别方法，其特征在于，遮光层用于遮挡蓝光和绿光；
控制发光器件发光，具体包括：
控制用于发绿光的发光器件发光和/或控制用于发蓝光的发光器件发光。
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