CN107863448B - 一种显示屏及其制造方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种显示屏及其制造方法、显示装置，涉及显示技术领域，改善显示装置的透明显示效果。所述显示屏包括：显示面板，显示面板包括呈阵列排布的多个像素显示区和呈阵列排布的多个透光区，且多个像素显示区和多个透光区交替排布；位于显示面板背侧的背侧凹透镜阵列，背侧凹透镜阵列中的背侧凹透镜与透光区一一对应。背侧凹透镜将来自显示屏后方的物品的光导向对应的透光区，增加了来自显示屏后方的物品的光透过显示屏的透过率，进而改善显示装置的透明显示效果。本发明提供的显示屏用于实现透明显示功能。

Description

一种显示屏及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示屏及其制造方法、显示装置。
背景技术
目前，为了方便人们生活，提出一种可形成透明显示状态以使观看者看到其后方景象的显示装置，较常见地，该种显示装置可用于例如橱窗、冰箱等需要展示显示装置后方的实体物品的场所。而有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)器件因具有自发光、色彩丰富、响应速度快、视角宽、重量轻、厚度薄、耗电少、可实现柔性显示等优点，因此受到广泛关注。因此，研究人员有志于将OLED器件应用于可形成透明显示状态的显示装置，研发出利用OLED器件实现显示的同时，可形成透明状态的OLED显示装置。
现有的显示装置通常包括显示屏，显示屏包括呈阵列排布的多个像素区，每个像素区包括发光显示区和透光区，使发光显示区内的OLED器件发光，OLED器件发出的光经显示屏的显示侧出射，实现显示屏的显示功能，显示屏后方的物品反射的光透过透光区后经显示屏的显示侧出射，实现显示屏的透明功能，从而实现显示装置的透明显示状态。然而，在现有的显示屏中，由于其结构设计的问题，导致显示屏后方的物品反射的光或发出的光透过显示屏时的透过率较小，造成显示装置的透明显示效果较差。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示屏，用于改善显示装置的透明显示效果。
为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种显示屏，显示面板，所述显示面板包括呈阵列排布的多个像素显示区和呈阵列排布的多个透光区，且多个所述像素显示区和多个所述透光区交替排布；
位于所述显示面板背侧的背侧凹透镜阵列，所述背侧凹透镜阵列中的背侧凹透镜与所述透光区一一对应。
优选地，所述背侧凹透镜的面积大于或等于对应的所述透光区的面积。
优选地，所述背侧凹透镜为双面凹透镜；
或者，
所述背侧凹透镜为平凹透镜，且所述背侧凹透镜的凹面相对所述背侧凹透镜的平面远离所述显示面板。
优选地，所述背侧凹透镜由环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚二甲基硅氧烷制成。
优选地，所述显示屏包括设置在所述显示面板背侧的背侧透明基体膜层，所述背侧凹透镜阵列形成在所述背侧透明基体膜层上。
优选地，所述显示屏还包括位于所述显示面板的显示侧的显示侧凹透镜阵列，所述显示侧凹透镜阵列中的显示侧凹透镜与所述透光区一一对应。
优选地，所述显示侧凹透镜的面积大于或等于对应的所述透光区的面积。
优选地，所述显示侧凹透镜为双面凹透镜；
或者，
所述显示侧凹透镜为平凹透镜，且所述显示侧凹透镜的凹面相对所述显示侧凹透镜的平面远离所述显示面板。
优选地，所述显示侧凹透镜由环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚二甲基硅氧烷制成。
优选地，所述显示屏包括设置在所述显示面板的显示侧的显示侧透明基体膜层，所述显示侧凹透镜阵列形成在所述显示侧透明基体膜层上。
优选地，所述背侧凹透镜的凹面的曲率半径大于或等于所述显示侧凹透镜的凹面的曲率半径。
优选地，所述显示面板为OLED面板，包括：
衬底基板；
形成在所述衬底基板上的OLED器件，所述OLED器件设置在所述像素显示区；
其中，所述衬底基板上与所述透光区对应的区域内设置有透明填充部。
优选地，所述透明填充部由透明树脂制成。
优选地，所述显示面板的显示侧还设置有平凸透镜，所述平凸透镜与所述像素显示区相对，且所述平凸透镜的凸面相对所述平凸透镜的平面远离所述显示面板。
优选地，每个所述平凸透镜与所述像素显示区内的一个子像素相对。
当本发明提供的显示屏工作时，显示面板中的像素显示区发光，像素显示区显示，实现显示屏的显示功能；显示屏后方的物品反射的光或发出的光则经背侧凹透镜汇聚至显示面板中对应的透光区，然后穿过透光区后经显示面板的显示侧出射，实现显示屏的透明功能，从而实现显示装置的透明显示功能。在本发明提供的显示屏中，由于在显示面板背侧设置有与透光区一一对应的背侧凹透镜，背侧凹透镜将显示屏后方的物品反射的光或发出的光导向透光区，使显示屏后方的物品反射的光或发出的光更多的穿过透光区后经显示面板的显示侧出射，从而增加显示屏后方的物品反射的光或发出的光透过显示屏时的透过率，进而改善显示装置的透明显示效果。
本发明的目的在于提供一种显示屏的制造方法，用于改善显示装置的透明显示效果。
为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种显示装置，所述显示装置包括如上述技术方案所述的显示屏。
所述显示装置与上述显示屏相对于现有技术所具有的优势相同，在此不再赘述。
本发明的目的在于提供一种显示装置，用于改善显示装置的透明显示效果。
为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种如上述技术方案所述的显示屏的制造方法，包括：
形成背侧透明基体膜层；
采用光刻技术或压印技术，在所述背侧透明基体膜层上形成背侧凹透镜阵列。
优选地，所述显示屏的制造方法还包括：
形成显示侧透明基体膜层；
采用光刻技术或压印技术，在所述显示侧透明基体膜层上形成显示侧凹透镜阵列。
优选地，所述光刻技术为激光直写技术，所述压印技术为纳米压印技术。
所述显示屏的制造方法与上述显示屏相对于现有技术所具有的优势相同，在此不再赘述。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1为本发明实施例提供的一种显示屏的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的另一种显示屏的结构示意图；
图3为本发明实施例中像素显示区和透光区的排列方式一；
图4为本发明实施例中像素显示区和透光区的排列方式二；
图5为本发明实施例中像素显示区和透光区的排列方式三；
图6为本发明实施例提供的显示屏的制造方法的流程图；
图7为图6中步骤S200的流程图一；
图8为图6中步骤S200的流程图二；
图9为图6中步骤S200的流程图三；
图10为采用压印技术形成背侧透镜阵列膜的工艺流程图；
图11为图6中步骤S300的流程图一；
图12为图6中步骤S300的流程图二；
图13为图6中步骤S300的流程图三；
图14为图6中步骤S100的流程图一；
图15为图6中步骤S100的流程图二。
附图标记：
10-显示面板，10A-像素显示区，
10A1-R子像素，10A2-G子像素，
10A3-B子像素，10B-透光区，
11-衬底基板，12-薄膜晶体管，
121-栅极，122-栅极绝缘层，
123-有源层，124-源极，
125-漏极，13-钝化层，
14-平坦化层，15-OLED器件，
151-阳极，152A-R有机层，
152B-G有机层，152C-B有机层，
153-阴极，16-像素界定层，
17-光阻间隔层，18-封装层，
20-背侧凹透镜，30-显示侧凹透镜，
40-平凸透镜，50-背侧透明基体膜层，
60-上压印模具，70-下压印模具，
80-显示侧透明基体膜层。
具体实施方式
为了进一步说明本发明实施例提供的显示屏及其制造方法、显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。
请参阅图1或图2，本发明实施例提供的显示屏包括：显示面板10，显示面板10包括呈阵列排布的多个像素显示区10A和呈阵列排布的多个透光区10B，且多个像素显示区10A和多个透光区10B交替排布；位于显示面板10背侧的背侧凹透镜阵列，背侧凹透镜阵列中的背侧凹透镜20与透光区10B一一对应。
举例来说，请继续参阅图1或图2，本发明实施例提供的显示屏包括显示面板10，显示面板10可以为OLED显示面板，显示面板10具有显示侧以及与显示侧相对的背侧，其中，图1或图2中显示面板10的下侧为显示面板10的背侧，图1或图2中显示面板10的上侧为显示面板10的显示侧，显示面板10的背侧朝向显示屏的后方，显示面板10的显示侧朝向显示屏的前方，显示面板10包括多个像素显示区10A和多个透光区10B，多个像素显示区10A和多个透光区10B均呈阵列排布，且多个像素显示区10A和多个透光区10B交替排布，多个像素显示区10A和多个透光区10B交替排布的方式可以有多种，例如，相邻的两个透光区10B之间至少有一个像素显示区10A；像素显示区10A显示时，像素显示区10A显示的光经显示面板10的显示侧出射，显示面板10显示画面，实现显示屏的显示功能，即实现显示装置的显示功能；透光区10B呈透明状态，显示屏后方(图1或图2中显示屏的下方)的物品反射的光或发出的光可以穿过透光区10B后经显示面板10的显示侧出射，使得显示屏的前方的人可以通过透光区10B看到显示屏的后方的物品或景象，实现显示屏的透明功能，即实现显示装置的透明功能。
请继续参阅图1或图2，本发明实施例那个的显示屏还包括背侧凹透镜阵列，背侧凹透镜阵列设置在透明显示面的背侧，背侧凹透镜阵列包括呈阵列排布的多个背侧凹透镜20，多个背侧凹透镜20与多个透光区10B一一对应，也可以理解为，请继续参阅1或图2，图1或图2中显示面板10的下侧为显示面板10的背侧，图1或图2中显示面板10的上侧为显示面板10的显示侧，背侧凹透镜阵列设置在图1或图2中显示面板10的下侧，背侧凹透镜阵列中的背侧凹透镜20将显示屏后方的物品反射的光或发出的光导向对应的透光区10B。当显示屏的后方的物品反射的光或发出的光经背侧凹透镜20后穿过透光区10B，然后经显示面板10的显示侧出射，使得显示屏的前方的人可以通过透光区10B看到显示屏的后方的物品或景象，而由于显示面板10的背侧设置有将显示屏后方的物品反射的光或发出的光导向对应的透光区10B的背侧凹透镜阵列，因而可以增加显示屏的后方的物品反射的光或发出的光穿过透光区10B的量，增加显示屏后方的物品反射的光或发出的光透过显示屏时的透过率。
由上述可知，当本发明实施例提供的显示屏工作时，显示面板10中的像素显示区10A发光，像素显示区10A显示，实现显示屏的显示功能；显示屏后方的物品反射的光或发出的光则经背侧凹透镜导向显示面板10中对应的透光区10B，然后穿过透光区10B后经显示面板10的显示侧出射，实现显示屏的透明功能，从而实现显示装置的透明显示功能。在本发明实施例提供的显示屏中，由于在显示面板10背侧设置有与透光区10B一一对应的背侧凹透镜20，背侧凹透镜20将显示屏后方的物品反射的光或发出的光导向对应的透光区10B，因而可以使显示屏后方的物品反射的光或发出的光更多的穿过透光区10B后经显示面板10的显示侧出射，从而增加显示屏后方的物品反射的光或发出的光透过显示屏时的透过率，进而改善显示装置的透明显示效果。
本发明实施例提供的显示屏可以应用于橱窗、冰箱门、洗衣机门、车窗等处，在显示画面的同时，使位于显示屏前方的人可以透过显示屏看到显示屏后方的物品或景象，例如，当本发明实施例提供的显示屏应用于冰箱门时，显示屏可以显示冰箱里存放的物品名称等信息或其它相关信息，使用者在不打开冰箱门的情况下，可以透过显示屏看到冰箱里相应物品的存放位置以及数量等相关信息。
请继续参阅图1或图2，在本发明实施例中，背侧凹透镜20的覆盖面积大于或等于对应的透光区10B的面积。如此，可以增加背侧凹透镜20导入透光区10B的光的强度。
在上述实施例中，背侧凹透镜20的结构可以为多种，例如，请参阅图1，背侧凹透镜20可以为平凹透镜，此时，背侧凹透镜20的凹面相对背侧凹透镜20的平面远离显示面板10，例如，如图1所示，图1中显示面板10的下侧为显示面板10的背侧，背侧凹透镜20为平凹透镜，背侧凹透镜20的凹面位于背侧凹透镜20的平面的下侧；或者，请参阅图2，背侧凹透镜20可以为双面凹透镜。
在上述实施例中，背侧凹透镜20的材料可以为多种，优选地，背侧凹透镜20的材料为有机材料，例如，背侧凹透镜20的材料可以为环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷等，环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷均具有光学透明、成本低、易于复制等优点，将背侧凹透镜20的材料选择为环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷等中的一种，可以提高背侧凹透镜20的光学性能，同时降低背侧凹透镜20的制造难度，例如背侧凹透镜20可以采用纳米压印的方法制造。其中，背侧凹透镜20的材料更优选为聚二甲基硅氧烷，聚二甲基硅氧烷是一种高分子有机硅化合物，具有光学透明衰减系数小、化学结构稳定、机械性能好、容易复制、无毒、生物相容、柔性等特性，将背侧凹透镜20的材料选择为聚二甲基硅氧烷，可以进一步提高背侧凹透镜20的光学性能，同时降低背侧凹透镜20的制造难度，同时降低制造背侧凹透镜20的成本。
请继续参阅图1或图2，本发明实施例提供的显示屏包括设置在显示面板10背侧的背侧透明基体膜层50，背侧凹透镜阵列形成在背侧透明基体膜层50上。如此设计，背侧凹透镜阵列的多个背侧凹透镜均形成在同一背侧透明基体膜层50上，可以方便背侧凹透镜的定位，防止背侧凹透镜20与对应的透光区10B之间发生偏移。
请继续参阅图1或图2，本发明实施例提供的显示屏还包括位于显示面板10的显示侧的显示侧凹透镜阵列，显示侧凹透镜阵列中的显示侧凹透镜30余透光区10B一一对应。当显示屏后方的物品反射的光或发出的光透过显示面板10的透光区10B后，透过显示侧凹透镜30后出射，显示侧凹透镜30将透过对应的透光区10B的光发散，因而可以增加经透光区10B后经透明显示面的显示侧出射的光的出射角度，从而提高显示屏后方的物品或景象的可视角度。
请继续参阅图1或图2，在本发明实施例中，显示侧凹透镜30的覆盖面积大于或等于对应的透光区10B的面积。如此，可以增加显示侧凹透镜30导出的光的强度。
在上述实施例中，显示侧凹透镜30的结构也可以为多种，例如，请参阅图1，显示侧凹透镜30可以为平凹透镜，此时，显示侧凹透镜30的凹面相对显示侧凹透镜30的平面远离显示面板10，例如，如图1所示，图1中显示面板10的上侧为显示面板10的显示侧，显示侧凹透镜30为平凹透镜，显示侧凹透镜30的凹面位于显示侧凹透镜30的平面的上侧；或者，请参阅图2，显示侧凹透镜30可以为双面凹透镜。
在上述实施例中，背侧凹透镜20可以为平凹透镜或双面凹透镜，显示侧凹透镜30也可以为平凹透镜或双面凹透镜，在实际应用中，背侧凹透镜20的结构和显示侧凹透镜30的结构可以根据实际需要进行选择。例如，请参阅图1，背侧凹透镜20和显示侧凹透镜30均为平凹透镜；或者，请参阅图2，背侧凹透镜20和显示侧凹透镜30均为双面凹透镜；或者，背侧凹透镜20为平凹透镜，显示侧凹透镜30为双面凹透镜；或者，背侧凹透镜20为双面凹透镜，显示侧凹透镜30为平凹透镜。
显示侧凹透镜30的材料可以为多种，优选地，显示侧凹透镜30的材料为有机材料，例如，显示侧凹透镜30的材料可以为环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷等，环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷均具有光学透明、成本低、易于复制等优点，将显示侧凹透镜30的材料选择为环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷等中的一种，可以提高显示侧凹透镜30的光学性能，同时降低显示侧凹透镜30的制造难度，例如显示侧凹透镜30可以采用纳米压印的方法制造。其中，显示侧凹透镜30的材料更优选为聚二甲基硅氧烷，聚二甲基硅氧烷是一种高分子有机硅化合物，具有光学透明衰减系数小、化学结构稳定、机械性能好、容易复制、无毒、生物相容、柔性等特性，将显示侧凹透镜30的材料选择为聚二甲基硅氧烷，可以进一步提高显示侧凹透镜30的光学性能，同时降低显示侧凹透镜30的制造难度，同时降低制造显示侧凹透镜30的成本。
请继续参阅图1或图2，本发明实施例提供的显示屏包括设置在显示面板10显示侧的显示侧透明基体膜层80，显示侧凹透镜阵列形成在显示侧透明基体膜层80上。如此设计，显示侧凹透镜阵列的多个显示侧凹透镜均形成在同一显示侧透明基体膜层80上，可以方便显示侧凹透镜的定位，防止显示侧凹透镜30与对应的透光区10B之间发生偏移。
在本发明实施例中，背侧凹透镜20的凹面的形状和显示侧凹透镜30的凹面的形状可以根据实际需要进行设定，例如，背侧凹透镜20的凹面和显示侧凹透镜30的凹面可以均为球面，此时，背侧凹透镜20的凹面的曲率半径和背侧凹透镜20的凹面的曲率半径可以根据实际需要进行设定，优选地，背侧凹透镜20的凹面的曲率半径大于或等于显示侧凹透镜30的凹面的曲率半径，背侧凹透镜20的凹面的曲率半径大于或等于显示侧凹透镜30的凹面的曲率半径，可以使得显示屏后方的物品反射的光或发出的光更多的由背侧凹透镜20导入透光区10B，增加显示屏后方的物品反射的光或发出的光中透过透光区10B的光的强度，同时，显示侧凹透镜30将透过透光区10B的光导出，增加经透光区10B后由显示面板10的显示侧出射的光的出射角度，提高显示屏后方的物品或景象的可视角度。
在本发明实施例中，显示面板10可以为OLED显示面板，具体地，请继续参阅图1或图2，显示面板10包括：衬底基板11，衬底基板11上与每个像素显示区10A对应的区域内的至少三个子像素，以及封装像素显示区10A和透光区10B的封装层18；每个子像素包括依次形成在衬底基板11上的薄膜晶体管12和OLED器件15，薄膜晶体管12与OLED器件15之间设置有钝化层13(Passivation SiNx，PVX)和平坦化层14，每个OLED器件15的周围还设置有像素界定层16。
举例来说，每个像素显示区10A内的子像素的个数根据显示装置的配色方式进行设定，例如，显示装置的配色方式为RGB(Red红，Green绿，Blue蓝)配色方式时，每个像素显示区10A内的子像素的个数则为三个，三个子像素中，一个为R子像素，一个为G子像素，一个为B子像素；显示装置的配色方式为RGBW(Red红，Green绿，Blue蓝，White白)配色方式时，每个像素显示区10A内的子像素的个数则为四个，四个子像素中，一个R子像素，一个为G子像素，一个为B子像素，一个为W子像素。
在本发明实施例中，以显示装置的配色方式为RGB(Red红，Green绿，Blue蓝)配色方式为例进行说明，请参阅图1或图2，显示面板10包括衬底基板11、位于衬底基板11上与每个像素显示区10A对应的区域内的三个子像素、以及用于封装像素显示区10A和透光区10B的封装层18，其中，三个子像素中，一个为R子像素10A1，一个为G子像素10A2，一个为B子像素10A3，每个子像素包括依次形成在衬底基板11上的薄膜晶体管12和OLED器件15，薄膜晶体管12可以为非晶硅薄膜晶体管12、单晶硅薄膜晶体管12、多晶硅薄膜晶体管12、金属氧化物薄膜晶体管12等，另外，薄膜晶体管12的结构也可以根据实际需要选择，例如薄膜晶体管12可以为顶栅薄膜晶体管12、底栅薄膜晶体管12等，在本发明实施例中，以薄膜晶体管12为金属氧化物薄膜晶体管12且为底栅薄膜晶体管12为例进行说明，薄膜晶体管12包括栅极121、覆盖栅极121的栅极绝缘层122(Gate Insulator，GI)、位于栅极绝缘层122上的有源层123、分别与有源层123接触的源极124和漏极125，薄膜晶体管12上覆盖有钝化层13(Passivation SiNx，PVX)和平坦化层14(Planarization，PLN)，OLED器件15形成在平坦化层14上，OLED器件15包括依次形成在平坦化层14上的阳极151、有机层和阴极153，其中，R子像素10A1中OLED器件15的有机层为R有机层152A，可以发出红光，G子像素10A2中OLED器件15的有机层为G有机层152B，可以发出绿光，B子像素10A3中OLED器件15的有机层为B有机层152C，可以发出蓝光，OLED器件15的阳极151与薄膜晶体管12的漏极125连接，每个OLED器件15的周围还设置有像素界定层16(Pixel Define Layer，PDL)和光阻间隔层17(PhotoSpacer，PS)，像素界定层16和光阻间隔层17均环绕OLED器件15的有机层设置。
在上述实施例中，栅极绝缘层122、钝化层13、平坦化层14和像素界定层16分别与透光区10B对应的部分可以去除，也可以不去除，当栅极绝缘层122、钝化层13、平坦化层14和像素界定层16分别与透光区10B对应的部分不去除时，请参阅图1，沿由衬底基板11指向封装层18的方向，衬底基板11上与透光区10B对应的区域内依次层叠设置有薄膜晶体管12的栅极绝缘层122、钝化层13、平坦化层14和像素界定层16。在透光区10B内保留栅极绝缘层122、钝化层13、平坦化层14和像素界定层16，因而在制造显示屏时，可以不用将栅极绝缘层122、钝化层13、平坦化层14和像素界定层16分别与透光区10B对应的部分去除，减少了制造显示屏的工艺步骤；另外，在透光区10B内保留栅极绝缘层122、钝化层13、平坦化层14和像素界定层16，因而衬底基板11上与透光区10B对应的区域内不是空白，像素显示区10A与透光区10B之间的高度落差较小，在后续形成封装层18时，可以防止因像素显示区10A与透光区10B之间的高度落差较大而造成封装效果较差。
当栅极绝缘层122、钝化层13、平坦化层14和像素界定层16分别与透光区10B对应的部分去除时，请参阅图2，可以在衬底基板11与封装层18之间设置有位于透光区10B内的透明填充部，其中，透明填充部可以为透明树脂填充部，即透明填充部的材料可以为透明树脂。在衬底基板11与封装层18之间设置位于透光区10B内的透明填充部，可以降低衬底基板11上透光区10B域像素显示区10A之间的高度落差，在后续形成封装层18时，可以防止因像素显示区10A与透光区10B之间的高度落差较大而造成封装效果较差。
请继续参阅图1或图2，OLED器件15包括依次层叠在平坦化层14上的阳极151、有机层和阴极153，其中，阴极153同时覆盖像素显示区10A和透光区10B，阴极153为透明阴极153，也就是说，OLED器件15为顶发射OLED器件15，且显示面板10中所有子像素的OLED器件15共用一个阴极153，在制造阴极153时，形成透明导电膜层后，无需对透明导电膜层进行刻蚀，以形成每个OLED器件15对应的阴极153，减少了制造显示屏的工艺步骤。
在本发明实施例中，阳极151的材料可以为多种，例如，阳极151的材料可以直接采用金属材料，以增加阳极151对OLED器件15的有机层发出的光的反射作用，增加OLED器件15的出光强度，或者，阳极151包括两层铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)层和位于两层铟锡氧化物层之间的反射金属层，阳极151包括铟锡氧化物，可以提高阳极151与阴极153之间的功函数，进而增加OLED器件15的出光强度，同时，阳极151包括反射金属层，可以对OLED器件15的有机层发出的光进行反射，进而增加OLED器件15的出光强度。
在本发明实施例中，阴极153的材料可以为多种，例如，阴极153可以为金属氧化物导电材料阴极153，或者，阴极153可以为金属阴极153，或者，阴极153可以为由金属层和无机材料层构成的复合阴极153。当阴极153为金属阴极153，或者，由金属层和无机材料层构成的复合阴极153时，阴极153的厚度大于或等于10nm，且阴极153的厚度小于或等于20nm，以防止因阴极153的厚度太厚例如大于20nm而造成阴极153的透明度降低，同时防止因阴极153的厚度太薄例如小于10nm而造成阴极153出现不均匀的现象以及阴极153的制造难度增加的问题。
在上述实施例中，多个像素显示区10A和多个透光区10B交替排列，在实际应用中，多个像素显示区10A和多个透光区10B的排列方式可以有多种。例如，请参阅图3，在行的方向上，相邻的两个透光区10B之间至少有一个像素显示区10A，如在行的方向上相邻的两个透光区10B之间设置有一个像素显示区10A，在列的方向上，透光区10B和像素显示区10A不交替排列，也就是说，多个透光区10B排列形成多列透光区10B，多个像素显示区10A排列形成多列像素显示区10A，多列透光区10B和多列像素显示区10A交替排列，即相邻的两列透光区10B之间至少有一列像素显示区10A，如相邻的两列透光区10B之间设置有一列像素显示区10A。
或者，请参阅图4，在列的方向上，相邻的两个透光区10B之间至少有一个像素显示区10A，如在列的方向上相邻的两个透光区10B之间设置有一个像素显示区10A，在行的方向上，透光区10B和像素显示区10A不交替排列，也就是说，多个透光区10B排列形成多行透光区10B，多个像素显示区10A排列形成多行像素显示区10A，多行透光区10B和多行像素显示区10A交替排列，即相邻的两行透光区10B之间至少有一行像素显示区10A，如相邻的两行透光区10B之间设置有一行像素显示区10A。
或者，请参阅图5，在行的方向上，相邻的两个透光区10B之间至少有一个像素显示区10A，在列的方向上，相邻的两个透光区10B之间也至少有一个像素显示区10A，也就是说，在列方向上和在列的方向上，透光区10B和像素显示区10A均交替排列，例如，请继续参阅图5，在行的方向上，相邻的两个透光区10B之间有一个像素显示区10A，在列的方向上，相邻的两个透光区10B之间有一个像素显示区10A。
请继续参阅图1或图2，在本发明实施例提供的显示屏中，显示面板10的显示侧还设置有平凸透镜阵列，平凸透镜阵列中的平凸透镜40与对应的一个像素显示区10A中的至少一个子像素对应，且平凸透镜40的凸面相对平凸透镜40的平面远离显示面板10。在显示面板10的显示侧设置与像素显示区10A相对的平凸透镜40，且平凸透镜40的凸面相对平凸透镜40的平面远离显示面板10，像素显示区10A内子像素的OLED器件15发出的光则经平凸透镜40后由显示面板10的显示侧出射，OLED器件15发出的光基本为平行光，平行光经平凸透镜40的平面入射至平凸透镜40内，然后经平凸透镜40的凸面出射，因而平凸透镜40可以增加OLED器件15发出的光的出射角度，从而增加显示屏显示的画面的可视角度，同时，平凸透镜40还可以减少OLED器件15发出的光经显示面板10的显示侧出射时的全反射现象的发生，从而增加OLED器件15发出的光经显示面板10的显示侧出射的强度。
在本发明实施例中，请继续参阅图1或图2，平凸透镜40的数量可以根据像素显示区10A的数量或子像素的数量设定，例如，平凸透镜40的数量为多个，每个平凸透镜40与一个像素显示区10A相对，此时，每个平凸透镜40同时对对应的像素显示区10A内的至少三个子像素发出的光进行作用，或者，平凸透镜40的数量为多个，每个平凸透镜40与像素显示区10A内的一个子像素相对，即每个子像素对应设置一个平凸透镜40，可以增加每个子像素发出的光经显示面板10的显示侧出射的强度，从而可以改善显示装置的画面显示效果。
在显示面板10的显示侧设置多个显示侧凹透镜30和多个平凸透镜40时，多个显示侧凹透镜30和多个平凸透镜40可以均形成在显示侧透明基体膜层上，构成整体结构，以方便多个显示侧凹透镜30和多个平凸透镜40的制造，同时方便多个显示侧凹透镜30和多个平凸透镜40的安装。
本发明实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括如上述实施例所述的显示屏。
所述显示装置与上述显示屏相对于现有技术所具有的优势相同，在此不再赘述。
请参阅图6，本发明实施例还提供一种显示屏的制造方法，用于制造如上述实施例所述的显示屏，所述显示屏的制造方法包括：
步骤S100、形成显示面板，显示面板包括呈阵列排布的多个像素显示区和呈阵列排布的多个透光区，且多个像素显示区和多个透光区交替排布。
步骤S200、在显示面板的背侧形成背侧凹透镜阵列，背侧凹透镜阵列中的背侧凹透镜与透光区一一对应。
所述显示屏的制造方法与上述显示屏相对于现有技术所具有的优势相同，在此不再赘述。
请参阅图7，步骤S200、在显示面板的背侧形成背侧凹透镜阵列，可以包括：
步骤S201、形成背侧透明基体膜层。
具体地，可以采用挤压、沉积、涂覆等方式形成背侧透明基体膜层，背侧透明基体膜层的材料可以为环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷等，优选为聚二甲基硅氧烷。
步骤S202、采用光刻技术或压印技术，在背侧透明基体膜层的一个表面或相对的两个表面形成背侧凹透镜的凹面，即在背侧透明基体膜层上形成背侧凹透镜阵列。
具体地，当背侧凹透镜为平凹透镜时，则采用光刻技术或压印技术，在背侧透明基体膜层的一个表面形成平凹透镜的凹面，位于显示面板背侧的所有平凹透镜的凹面均形成在背侧透明基体膜层上，因而所有平凹透镜均形成在背侧透明基体膜层上，即所有背侧凹透镜均形成在背侧透明基体膜层上，以形成包括呈阵列排布的多个背侧凹透镜的背侧透镜阵列膜；当背侧凹透镜为双面凹透镜时，则采用光刻技术或压印技术，在背侧透明基体膜层相对的两个表面形成双面凹透镜的两个凹面，此时，位于显示面板背侧的所有双面凹透镜的凹面均形成在背侧透明基体膜层上，因而所有双面凹透镜均形成在背侧透明基体膜层上，即所有背侧凹透镜均形成在背侧透明基体膜层上，以形成包括呈阵列排布的多个背侧凹透镜的背侧透镜阵列膜。
其中，当采用光刻技术形成背侧凹透镜的凹面时，可以采用激光直写技术形成背侧凹透镜的凹面，利用激光直写技术形成背侧凹透镜的凹面时，根据背侧透明基体膜层的材料确实是否需要对背侧透明基体膜层进行刻蚀；当采用压印技术形成背侧凹透镜的凹面时，可以采用纳米压印技术形成背侧凹透镜的凹面，请参阅图10，以背侧凹透镜为双面凹透镜为例详细说明采用纳米压印技术形成背侧凹透镜的凹面，首先，制备上压印模具60和下压印模具70，上压印模具60和下压印模具70上均具有与需要形成的背侧透镜阵列膜80相互补的结构；然后，将背侧透明基体膜层50置于上压印模具60和下压印模具70之间，例如，将背侧透明基体膜层50置于下压印模具70上，上压印模具60与下压印模具70相对；然后，将上压印模具60、下压印模具70均与背侧透明基体膜层50压合，可以理解为，将上压印模具60压向背侧透明基体膜层50，背侧透明基体膜层50在上压印模具60和下压印模具70的作用下，形成背侧凹透镜的结构，同时，可以采用光照方式或加热方式，使背侧透明基体膜层50固化，使背侧透明基体膜层50保持在上压印模具60和下压印模具70的作用下所形成的结构；然后，将上压印模具60和上压印模具60分别与背侧透明基体膜层50分离，即进行脱模操作，完成在背侧透明基体膜层50上形成背侧凹透镜，即完成在背侧透明基体膜层50上形成背侧凹透镜阵列。
步骤S203、将形成有背侧凹透镜阵列的背侧透明基体膜层贴合在显示面板的背侧表面上，其中，当背侧凹透镜为平凹透镜时，背侧凹透镜的凹面相对背侧凹透镜的平面远离显示面板。
具体地，在背侧透明基体膜层上形成背侧凹透镜阵列的步骤完成后，则将形成有背侧凹透镜阵列的背侧透明基体膜层贴合在显示面板的背侧表面上，背侧凹透镜阵列中的背侧凹透镜与对应的透明区相对。需要注意的是，当背侧凹透镜为平凹透镜时，背侧凹透镜的凹面相对背侧凹透镜的平面远离显示面板。
利用上述步骤S201、步骤S202以及步骤S203来在显示面板的背侧形成背侧凹透镜阵列时，则是先在背侧透明基体膜层上形成包括呈阵列排布的多个背侧凹透镜的背侧凹透镜阵列，然后将形成有背侧凹透镜阵列的背侧透明基体膜层贴合在显示面板的背侧表面上，在实际应用中，还可以直接在显示面板的背侧表面上形成包括呈阵列排布的多个背侧凹透镜的背侧凹透镜阵列，具体地，当背侧凹透镜为平凹透镜时，请参阅图8，步骤S200、在显示面板的背侧形成背侧凹透镜阵列，可以包括：
步骤S211、在显示面板的背侧表面上形成背侧透明基体膜层。例如，可以采用涂覆、等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)等方式，在显示面板的背侧表面上形成背侧透明基体膜层。
步骤S212、采用光刻技术或压印技术，在背侧透明基体膜层背向显示面板的表面形成背侧凹透镜的凹面，即在背侧透明基体膜层上形成背侧凹透镜阵列。其中，光刻技术可以为激光直写技术，压印技术可以为纳米压印技术。
当背侧凹透镜为双面凹透镜时，请参阅图9，步骤S200、在显示面板的背侧形成背侧凹透镜阵列，可以包括：
步骤S221、在显示面板的背侧表面上与透光区对应的区域内形成背侧透明弧面凸起部，背侧透明弧面凸起部的凸面与对应的背侧凹透镜的凹面相匹配。具体地，可以先在显示面板的背侧表面上形成透明膜层，然后采用光刻技术或压印技术，形成背侧透明弧面凸起部。
步骤S222、形成背侧透明基体膜层，背侧透明基体膜层覆盖显示面板的背侧表面和背侧透明弧面凸起部。具体地，可以采用涂覆、等离子体增强化学气相沉积法(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)等方式，在显示面板的背侧表面上形成背侧透明基体膜层，背侧透明基体膜层覆盖显示面板的背侧表面和背侧透明弧面凸起部，此时，背侧透明基体膜层朝向显示面板的表面与背侧透明弧面凸起部的部分呈凹面，作为背侧凹透镜朝向显示面板的凹面。
步骤S223、采用光刻技术或压印技术，在背侧透明基体膜层背向显示面板的表面形成背侧凹透镜的凹面，背侧透明基体膜层背向显示面板的表面的凹面与背侧透明基体膜层朝向显示面板的表面接触背侧透明弧面凸起部的部分共同构成背侧凹透镜，因而在背侧透明基体膜层上形成背侧凹透镜阵列。其中，光刻技术可以为激光直写技术，压印技术可以为纳米压印技术。
请继续参阅图6，在步骤S100、形成显示面板之后，所述显示屏的制造方法还包括：
步骤S300、在显示面板的显示侧形成显示侧凹透镜阵列和平凸透镜阵列，显示侧凹透镜阵列中的显示侧凹透镜与透光区一一对应，平凸透镜阵列中的每个平凸透镜与对应的像素显示区中的至少一个子像素相对。
具体地，步骤S300可以采用多种方式来实现，例如，请参阅图11，步骤S300、在显示面板的显示侧形成显示侧凹透镜阵列和平凸透镜阵列，可以包括：
步骤S301、形成显示侧透明基体膜层。步骤S301与步骤S201类似，在此不再赘述。
步骤S302、采用光刻技术或压印技术，在显示侧透明基体膜层的一个表面形成平凸透镜的凸面，在显示侧透明基体膜层的一个表面或相对的两个表面形成显示侧凹透镜的凹面，形成显示侧凹透镜阵列和平凸透镜阵列，其中，在显示侧透明基体膜层的一个表面形成显示侧凹透镜的凹面时，显示侧透明基体膜层上形成显示侧凹透镜的凹面的表面与显示侧透明基体膜层上形成平凸透镜的凸面的表面为同一表面。步骤S302与步骤S202类似，在此不再赘述。
步骤S303、将形成有显示侧凹透镜阵列和平凸透镜阵列的显示侧透明基体膜层贴合在显示面板的显示侧表面上，其中，平凸透镜的凸面相对平凸透镜的平面远离显示面板。
或者，请参阅图12，步骤S300、在显示面板的显示侧形成显示侧凹透镜阵列和平凸透镜阵列，可以包括：
步骤S311、在显示面板的显示侧表面上形成显示侧透明基体膜层。
步骤S312、采用光刻技术或压印技术，在显示侧透明基体膜层背向显示面板的表面形成显示侧凹透镜的凹面和平凸透镜的凸面，即在显示侧透明基体膜层上形成显示侧凹透镜阵列和平凸透镜阵列。
或者，请参阅图13，步骤S300、在显示面板的显示侧形成显示侧凹透镜阵列和平凸透镜阵列，可以包括：
步骤S321、在显示面板的显示侧表面上与透光区对应的区域内形成显示侧透明弧面凸起部，显示侧透明弧面凸起部的凸面与对应的显示侧凹透镜的凹面相匹配。
步骤S322、形成显示侧透明基体膜层，显示侧透明基体膜层覆盖显示面板的显示侧表面和显示侧透明弧面凸起部。
步骤S323、采用光刻技术或压印技术，在显示侧透明基体膜层背向显示面板的表面形显示侧凹透镜的凹面和平凸透镜的凸面，即在显示侧透明基体膜层上形成显示侧凹透镜阵列和平凸透镜阵列。
在上述实施例中，步骤S100、形成显示面板时，可以根据显示面板的实际结构来确定，例如，当显示面板中栅极绝缘层、钝化层、平坦化层、像素界定层分别与透光区对应的区域内的部分均不去除时，请参阅图14，步骤S100、形成显示面板，可以包括：
步骤S101、提供一衬底基板。
步骤S102、在衬底基板与像素显示区对应的区域内形成各子像素的薄膜晶体管，其中，薄膜晶体管的栅极位于衬底基板上，薄膜晶体管的栅极绝缘层覆盖栅极和衬底基板，薄膜晶体管的有源层位于栅极绝缘层上，薄膜晶体管的源极和漏极分别与有源层接触。
步骤S103、形成钝化层，钝化层覆盖源极、漏极、有源层和栅极绝缘层。
步骤S104、形成平坦化层，平坦化层覆盖钝化层。
步骤S105、形成贯穿平坦化层和钝化层的过孔，过孔暴露出薄膜晶体管的漏极。
步骤S106、在像素显示区内形成各子像素的OLED器件的阳极，阳极通过过孔与对应的薄膜晶体管的漏极连接。
步骤S107、形成像素界定层，像素界定层位于OLED器件的周围，且像素界定层覆盖平坦化层上与透光区对应的区域。
步骤S108、形成光阻间隔层，光阻间隔层位于像素界定层上，且光阻间隔层位于OLED器件的周围。
步骤S109、形成OLED器件的有机层。
步骤S110、形成OLED器件的阴极，阴极覆盖有机层、光阻间隔层和像素界定层。
步骤S111、形成封装层，封装层覆盖阴极和衬底基板。
或者，当显示面板中栅极绝缘层、钝化层、平坦化层、像素界定层分别与透光区对应的区域内的部分均去除，并在透光区内形成透明填充部时，请参阅图15，步骤S100、形成显示面板，可以包括：
步骤S121、提供一衬底基板。
步骤S122、在衬底基板与像素显示区对应的区域内形成各子像素的薄膜晶体管，其中，薄膜晶体管的栅极位于衬底基板上，薄膜晶体管的栅极绝缘层覆盖栅极以及衬底基板上除与透光区对应的区域以外的区域，薄膜晶体管的有源层位于栅极绝缘层上，薄膜晶体管的源极和漏极分别与有源层接触。
步骤S123、形成钝化层，钝化层不覆盖衬底基板与透光区对应的区域。
步骤S124、形成平坦化层，平坦化层覆盖钝化层，平坦化层不覆盖衬底基板与透光区对应的区域。
步骤S125、形成贯穿平坦化层和所述钝化层的过孔，过孔暴露出薄膜晶体管的漏极。
步骤S126、在像素显示区内形成各子像素的OLED器件的阳极，阳极通过过孔与对应的薄膜晶体管的漏极连接。
步骤S127、形成像素界定层，像素界定层位于OLED器件的周围，且像素界定层不覆盖衬底基板与透光区对应的区域。
步骤S128、形成光阻间隔层，光阻间隔层位于像素界定层上。
步骤S129、形成OLED器件的有机层。
步骤S130、在衬底基板上与透光区对应的区域内形成透明填充部。
步骤S131、形成OLED器件的阴极，阴极覆盖有机层、光阻间隔层和透明填充部。
步骤S132、形成封装层，封装层覆盖阴极和衬底基板。
在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (19)

1.一种显示屏，其特征在于，所述显示屏包括：
显示面板，所述显示面板包括呈阵列排布的多个像素显示区和呈阵列排布的多个透光区，且多个所述像素显示区和多个所述透光区交替排布；
位于所述显示面板背侧的背侧凹透镜阵列，所述背侧凹透镜阵列中的背侧凹透镜与所述透光区一一对应。
2.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述背侧凹透镜的面积大于或等于对应的所述透光区的面积。
3.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，
所述背侧凹透镜为双面凹透镜；
或者，
所述背侧凹透镜为平凹透镜，且所述背侧凹透镜的凹面相对所述背侧凹透镜的平面远离所述显示面板。
4.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述背侧凹透镜由环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚二甲基硅氧烷制成。
5.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述显示屏包括设置在所述显示面板背侧的背侧透明基体膜层，所述背侧凹透镜阵列形成在所述背侧透明基体膜层上。
6.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述显示屏还包括位于所述显示面板的显示侧的显示侧凹透镜阵列，所述显示侧凹透镜阵列中的显示侧凹透镜与所述透光区一一对应。
7.根据权利要求6所述的显示屏，其特征在于，所述显示侧凹透镜的面积大于或等于对应的所述透光区的面积。
8.根据权利要求6所述的显示屏，其特征在于，
所述显示侧凹透镜为双面凹透镜；
或者，
所述显示侧凹透镜为平凹透镜，且所述显示侧凹透镜的凹面相对所述显示侧凹透镜的平面远离所述显示面板。
9.根据权利要求6所述的显示屏，其特征在于，所述显示侧凹透镜由环氧树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或聚二甲基硅氧烷制成。
10.根据权利要求6所述的显示屏，其特征在于，所述显示屏包括设置在所述显示面板的显示侧的显示侧透明基体膜层，所述显示侧凹透镜阵列形成在所述显示侧透明基体膜层上。
11.根据权利要求6所述的显示屏，其特征在于，所述背侧凹透镜的凹面的曲率半径大于或等于所述显示侧凹透镜的凹面的曲率半径。
12.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述显示面板为OLED面板，包括：
衬底基板；
形成在所述衬底基板上的OLED器件，所述OLED器件设置在所述像素显示区；
其中，所述衬底基板上与所述透光区对应的区域内设置有透明填充部。
13.根据权利要求12所述的显示屏，其特征在于，所述透明填充部由透明树脂制成。
14.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述显示面板的显示侧还设置有平凸透镜阵列，所述平凸透镜阵列中的每个平凸透镜与对应的所述像素显示区中的至少一个子像素相对，且所述平凸透镜的凸面相对所述平凸透镜的平面远离所述显示面板。
15.根据权利要求14所述的显示屏，其特征在于，每个所述平凸透镜与所述像素显示区内的一个子像素相对。
16.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1～15任一所述的显示屏。
17.一种如权利要求1～15任一所述的显示屏的制造方法，其特征在于，包括：
形成背侧透明基体膜层；
采用光刻技术或压印技术，在所述背侧透明基体膜层上形成背侧凹透镜阵列。
18.根据权利要求17所述的显示屏的制造方法，其特征在于，所述显示屏的制造方法还包括：
形成显示侧透明基体膜层；
采用光刻技术或压印技术，在所述显示侧透明基体膜层上形成显示侧凹透镜阵列和平凸透镜阵列。
19.根据权利要求17或18所述的显示屏的制造方法，其特征在于，所述光刻技术为激光直写技术，所述压印技术为纳米压印技术。
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