CN112863326B - 透明屏、透明屏的制作方法及移动终端 - Google Patents

Abstract

本申请实施例公开了一种透明屏、透明屏的制作方法及移动终端，透明屏包括基板，基板上设置有像素阵列区域，像素阵列区域包括透明像素阵列区域；透明像素阵列区域包括第一像素阵列和微型透镜阵列；微型透镜阵列设置在第一像素阵列的像素间隙之间；微型透镜阵列包括微型凹透镜阵列和微型凸透镜阵列；微型凸透镜阵列设置在透明像素阵列区域的出光侧，微型凹透镜阵列设置在透明像素阵列区域的入光侧。本申请实施例可以在语音通话时动态调整物理层编码方式，可以通过微型透镜阵列实现透明屏的效果。

Description

透明屏、透明屏的制作方法及移动终端

技术领域

本申请涉及终端技术领域，具体涉及一种透明屏、透明屏的制作方法及移动终端。

背景技术

随着电子设备的发展，移动终端技术的发展也日益加快。透明屏移动终端是目前移动终端发展的一个方向。透明屏移动终端是指设计有透明屏幕的移动终端，用户通过透明屏幕可以看到移动终端内部结构。

目前，透明屏移动终端因像素、走线及驱动电路等原因导致透明屏的透过率不高。为了提高透明屏的透过率，有些厂商常用牺牲透明屏的部分像素，牺牲透明屏的显示效果从而实现增大透过率。

发明内容

本申请实施例提供了一种透明屏、透明屏的制作方法及移动终端，可以通过微型透镜阵列实现透明屏的效果。

第一方面，本申请实施例提供一种透明屏，所述透明屏包括基板，所述基板上设置有像素阵列区域，所述像素阵列区域包括透明像素阵列区域；

所述透明像素阵列区域包括第一像素阵列和微型透镜阵列；所述微型透镜阵列设置在所述第一像素阵列的像素间隙之间；

所述微型透镜阵列包括微型凹透镜阵列和微型凸透镜阵列；所述微型凸透镜阵列设置在所述透明像素阵列区域的出光侧，所述微型凹透镜阵列设置在所述透明像素阵列区域的入光侧。

第二方面，本申请实施例提供了一种透明屏的制作方法，包括：

提供一基板；

确定所述基板上的透明像素阵列区域

在所述透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列。

第三方面，本申请实施例提供一种移动终端，包括前置摄像头模组以及第一方面所述的透明屏，所述前置摄像头模组层叠设在所述透明屏的透明像素阵列区域的入光侧。

可以看出，本申请实施例中所描述的透明屏，可以在基板上的透明像素阵列区域的出光侧设置微型凸透镜阵列，在基板上的透明像素阵列区域的入光侧设置微型凹透镜阵列，微型凸透镜阵列和微型凹透镜阵列组成的类似“猫眼”结构，透明像素阵列区域的入光侧的光线可以绕过像素、金属线遮蔽部分，到达屏外，使得用户从透明像素阵列区域的出光侧向屏内观看时，可以看到透明像素阵列区域的入光侧的信息，从而实现透明屏效果。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例公开的一种透明屏的结构示意图；

图2a是本申请实施例公开的一种透明像素阵列区域的剖面示意图；

图2b是本申请实施例公开的另一种透明像素阵列区域的剖面示意图；

图2c是本申请实施例公开的另一种透明像素阵列区域的剖面示意图；

图3是本申请实施例公开的一种微型透镜组的结构示意图；

图4是本申请实施例公开的一种凸透镜和凹透镜组成的成像***的结构示意图；

图5是本申请实施例公开的一种填充区域的结构示意图；

图6是本申请实施例中公开的一种非透明像素阵列区域的结构示意图；

图7是本申请实施例公开的一种透明屏的制作方法的流程示意图；

图8是本申请实施例公开的一种移动终端的结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、***、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其他步骤或单元。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

本申请实施例所涉及到的移动终端可以包括各种具有无线通信功能的手持设备、车载设备、可穿戴设备、计算设备或连接到无线调制解调器的其他处理设备，以及各种形式的用户设备(User Equipment，UE)，移动台(Mobile Station，MS)，终端设备(terminaldevice)等等。为方便描述，上面提到的设备统称为移动终端。

下面对本申请实施例进行详细介绍。

请参阅图1，图1是本申请实施例公开的一种透明屏的结构示意图。如图1所示，该透明屏100包括基板10、基板10上设置有像素阵列区域20，像素阵列区域20包括透明像素阵列区域30；

透明像素阵列区域30包括第一像素阵列31和微型透镜阵列32；微型透镜阵列32设置在第一像素阵列31的像素间隙之间；

微型透镜阵列32包括微型凹透镜阵列321和微型凸透镜阵列322；微型凸透镜阵列322设置在透明像素阵列区域30的出光侧，微型凹透镜阵列322设置在透明像素阵列区域30的入光侧。

本申请实施例中，图1是透明屏100的透明像素阵列区域30的出光侧的平面示意图。像素阵列区域20中的黑白相间的区域为透明像素阵列区域30，透明像素阵列区域30中的灰色区域组成第一像素阵列31，第一像素阵列31中每个灰色矩形区域代表一个像素。透明像素阵列区域30中的白色区域组成微型透镜阵列32。微型透镜阵列32中每个白色矩形区域代表微型凸透镜阵列322中的一个微型凸透镜。

第一像素阵列31中的像素与微型凸透镜阵列322中微型凸透镜的排列方式并不限于图1所述的方式。本申请实施例不做限定。

第一像素阵列31中的像素的面积与凸透镜阵列322中微型凸透镜的面积可以相等，也可以不相等，本申请实施例不做限定。

为了便于理解本申请实施例，图1中的像素阵列中的每个像素以灰色矩形区域为例进行示意，图1中的微型透镜阵列中的每个微型凸透镜以白色矩形区域为例进行示意。图1中的像素阵列中的每个像素的形状可以是圆形、椭圆形、四边形、矩形、六边形等各种形状，图1中的微型透镜阵列中的每个微型凸透镜的形状可以是圆形、椭圆形、四边形、矩形、六边形等各种形状，本申请实施例不做限定。

为了更好的更详尽的展示透明像素阵列区域的具体结构，下面结合图2a、图2b和图2c进行说明。图2a、图2b和图2c展示的部件是相同的，因为图中标号繁多，故采用三幅图来分别标示。

请参阅图2a，图2a是本申请实施例公开的一种透明像素阵列区域的剖面示意图。如图2a所示，该透明像素阵列区域30包括第一像素阵列31，第一像素阵列31包括像素点311、像素点312、像素点313、像素点314等。如图2a所示，黑色矩形框代表第一像素阵列31中的像素。比如，标有字母R的矩形框代表第一像素阵列31中的红色像素点，标有字母G的矩形框代表第一像素阵列31中的绿色像素点，标有字母B的矩形框代表第一像素阵列31中的蓝色像素点。像素点的间隙为微型透镜阵列。微型透镜阵列的具体结构可以参见图2b。

请参阅图2b，图2b是本申请实施例公开的另一种透明像素阵列区域的剖面示意图。如图2b所示，微型透镜阵列32包括微型凹透镜阵列321和微型凸透镜阵列322。微型凹透镜阵列321包括微型凹透镜3211、微型凹透镜3212、微型凹透镜3213、微型凹透镜3214等。微型凸透镜阵列322包括微型凸透镜3221、微型凸透镜3222、微型凸透镜3223、微型凸透镜3224。微型凸透镜阵列322设置在透明像素阵列区域30的出光侧，微型凹透镜阵列322设置在透明像素阵列区域30的入光侧。图2b中的处于透明像素阵列区域30的出光侧的凸起的部分为微型凸透镜阵列322中的微型凸透镜(如图2b中的3221、3222、3223、3224等)，图2b中的处于透明像素阵列区域30的入光侧的凹陷的部分为微型凹透镜阵列321中的微型凹透镜(如图2b中的3211、3212、3213、3214等)。

可选的，如图2c所示，微型透镜阵列32还包括填充区域阵列323，图2c中的白色矩形框用于表示填充区域阵列323中的填充区域，填充区域阵列323包括填充区域3231、填充区域3232、填充区域3233、填充区域3234等。其中，填充区域阵列中的填充区域可以填充空气，也可以填充透明材质。

结合图2a、图2b、图2c可以看出，微型凹透镜阵列321、填充区域阵列323、微型凸透镜阵列322层叠设置；填充区域阵列323设置在微型凹透镜阵列321与微型凸透镜阵列322之间。

微型透镜阵列32可以包括多个微型透镜组，每个微型透镜组都可以包括一个微型凹透镜、一个微型凸透镜和一个填充区域。请参阅图3，图3是本申请实施例公开的一种微型透镜组的结构示意图，如图3所示，微型透镜组321包括微型凹透镜3211、微型凸透镜3221和填充区域3231。微型凹透镜3211、微型填充区域3231、微型凸透镜3221层叠设置，填充区域3231设置在微型凹透镜3211与微型凸透镜3221之间。

微型凹透镜3211与微型凸透镜3221可以组成“猫眼”，“猫眼”的原理如

图4所示，图4是本申请实施例公开的一种凸透镜和凹透镜组成的成像***的结构示意图。如图4所示，L1为微型凹透镜、L2为微型凸透镜、AB为透明屏内的物体。当用户从透明屏外往内看时，由于L1的焦距非常短，L1将AB缩小成A’B’，A’B’为AB经过L1形成的虚像，A’B’正好落入L2的第一焦点之内，L2对A’B’起到放大的作用，最后形成一个放大的虚像A”B”，虚像A”B”正好落入透明屏外人眼的明视距离附近，从而可以在透明屏外看清透明屏内的物体。

需要说明的是，微型凹透镜3211的焦距、微型凸透镜3221的焦距可以根据微型凹透镜3211与微型凸透镜3221之间的距离进行确定，满足透明屏外预设距离(比如，距离屏幕30厘米)内的观看效果。

可选的，请参阅图5，图5是本申请实施例公开的一种填充区域的结构示意图。如图5所示，第一填充区域3231为填充区域阵列包含的至少两个填充区域中的任一个；第一填充区域3231包括第一透明填充区域32311和第一非透明填充区域32312，第一非透明填充区域32312位于第一透明填充区域32311与目标像素之间，目标像素为第一像素阵列31中包围第一填充区域3231的像素。从图5可以看出，目标像素包括像素R1、像素B1、像素B2和像素G1。

图5是透明屏的透明像素阵列区域的出光侧局部放大的平面示意图。从图5可以看出，第一填充区域3231的黑色边框区域为第一非透明填充区域32312，第一填充区域3231的中间白色区域为第一透明填充区域32311。第一填充区域3231的中间白色区域由透明材质制成，第一非透明填充区域32312由非透明材质制成。第一非透明填充区域32312可以起到隔离周围的目标像素之间的干扰。结合图3可知，第一透明填充区域32311可以使得光线从微型凹透镜过来的光线通过，也可以使得从微型凸透镜过来的光线通过。

其中，第一透明填充区域32311内可以填充空气，也可以填充透明材质。

可选的，请参阅图6，图6是本申请实施例中公开的一种非透明像素阵列区域的结构示意图。从图1可以看出，非透明像素阵列区域40属于像素阵列区域20的组成部分。非透明像素阵列区域40包括第二像素阵列41和像素界定层42；像素界定层42设置在第二像素阵列41的像素间隙之间。如图6所示，图6中的灰色矩形框表示第二像素阵列41中的像素，比如，图6中标有字母G的灰色矩形框表示第二像素阵列41中的绿色像素点，图6中标有字母B的灰色矩形框表示第二像素阵列41中的蓝色像素点，图6中标有字母R的灰色矩形框表示第二像素阵列41中的红色像素点。图6中第二像素阵列41包括像素点411、像素点412、像素点413、像素点414等。图6中像素界定层42包括像素点421、像素点422、像素点423、像素点424等。

像素界定层42为非透明材质，比如，可以为稀土金属氧化物陶瓷，由于稀土金属氧化物陶瓷对可见光不透明，从而可以避免相邻像素之间的发光串扰问题。

像素界定层42可以采用真空溅射、真空蒸镀、分子束外延、喷涂、溶胶-凝胶法、物理或化学气相沉积中的一种制得。

可选的，第一像素阵列31的像素密度与第二像素阵列41的像素密度相同。

像素密度相同，指的是在相同面积内，第一像素阵列31的像素点的个数与第二像素阵列41的像素点的个数相同。

本申请实施例中，第一像素阵列31的像素密度与第二像素阵列41的像素密度相同，保证透明像素阵列区域与非透明像素阵列区域的像素阵列的像素密度相同，可以在不牺牲透明屏的显示效果的情况下，实现增大透明屏的透明像素阵列区域的透过率。

可选的，微型凹透镜阵列321的材料包括光学胶或玻璃粉，微型凹透镜阵列321的材料还可以包括光学胶与玻璃粉的组合；微型凸透镜阵列322的材料包括光学胶或玻璃粉，微型凸透镜阵列322的材料还可以包括光学胶与玻璃粉的组合。

可选的，微型凹透镜阵列321中的微型凹透镜为圆形、矩形、六边形中的任一种；微型凸透镜阵列322中的微型凸透镜为圆形、矩形、六边形中的任一种。

本申请实施例中所描述的透明屏，可以在基板上的透明像素阵列区域的出光侧设置微型凸透镜阵列，在基板上的透明像素阵列区域的入光侧设置微型凹透镜阵列，微型凸透镜阵列和微型凹透镜阵列组成的类似“猫眼”结构，透明像素阵列区域的入光侧的光线可以绕过像素、金属线遮蔽部分，到达屏外，使得用户从透明像素阵列区域的出光侧向屏内观看时，可以看到透明像素阵列区域的入光侧的信息，从而实现透明屏效果。

请参阅图7，图7是本申请实施例公开的一种透明屏的制作方法的流程示意图。如图7所示，该方法包括如下步骤。

701，提供一基板；

702，确定基板上的透明像素阵列区域；

703，在透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列。

图7所示的方法用于制造图2a、图2b、图2c中的透明像素阵列区域中的微型凸透镜阵列和微型凹透镜阵列。

本申请实施例中，在透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列具体可以包括：

通过光刻胶热回流法或灰度掩膜法或激光直写法在透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列。

可选的，通过光刻胶热回流法在所述基板的透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列，具体可以包括如下步骤：

(11)对基板上的光刻胶在掩模的遮蔽下进行曝光，曝光图案呈圆形，矩形或正六边形；

(12)对曝光后的光刻胶进行显影并清洗残余物质；

(13)将经过清洗后的基板放置于加热平台上，热熔成型。

光刻胶热回流法具有工艺简单，对材料和设备的要求较低，工艺参数稳定且易于控制，复制容易等优点，可以用于微透镜阵列的制作。

可选的，通过灰度掩膜法在所述基板的透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列，具体可以包括如下步骤：

(21)对基板上的不同区域的光刻胶采用不同灰度等级掩模版遮蔽下进行曝光，通过一次光刻实现基板上多台阶衍射光学元件或连续位相变化的浮雕图形；

(22)将基板上的多台阶衍射光学元件或连续位相变化的浮雕图形经刻蚀处理或薄膜沉积处理，将基板上经刻蚀处理或薄膜沉积处理后的多台阶衍射光学元件或连续位相变化的浮雕图形地转移到基底上。

本申请实施例中，灰度掩模技术利用灰度等级掩模版经一次光刻实现多台阶衍射光学元件或连续位相变化的浮雕图形，然后经刻蚀(或薄膜沉积)，将图形高保真地转移到基底上。该技术把复杂的多次光刻和图形转移简化为一次完成，无套刻中对准误差等问题，适合于大批量生产，缩短了生产周期和降低了成本。灰度掩模技术关键之处就是灰度等级掩模版的制作。目前比较常用的两种方法是彩色编码掩模版和高能电子束敏感玻璃掩模版。前者利用不同颜色，表示不同的灰度等级，一种颜色代表一个灰度等级，四相位表面浮雕分布，用四种颜色表示，八相位浮雕表面分布用八种颜色表示，然后再将用颜色表示的灰度图形，用高分辨率彩色打印机打印在透明胶片上，再将此彩色胶片通过精缩转到成黑白透明胶片上，这样就形成了具有不同灰度等级掩模版，通过一次曝光可得到多相位台阶的浮雕表面分布结构。

可选的，通过激光直写法在所述基板的透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列，具体可以包括如下步骤：

(31)利用强度可变的激光束对涂在基板表面的光刻胶进行变剂量曝光；

(32)对曝光后的基板进行显影并清洗参与物质，在显影后在光刻胶表面形成所需要的浮雕轮廓。

激光直写方法以其易于操作，并且具有制作的微光学元件尺寸小、精度高的优点，其在微精细研究和加工领域得到了广泛的应用。激光直写技术利用强度可变的激光束对涂在基片表面的光刻胶进行变剂量曝光，显影后在光刻胶表面形成所需要的浮雕轮廓。激光直写的最大优点是器件定位后可一次写出多个相位阶数或连续相位的二元光学器件，从而避免了多次掩模套刻丧失的共轴精度。

请参阅图8，图8是本申请实施例公开的一种移动终端的结构示意图。如图8所示，该移动终端可以包括透明屏100和前置摄像头模组200，前置摄像头模组200层叠设在透明屏100的透明像素阵列区域30的入光侧。

如图8所示，由于透明屏100的非透明像素阵列区域40无法透光，前置摄像头模组200无法通过非透明像素阵列区域40获取出光侧的光线，前置摄像头模组200无法设置在透明屏100的非透明像素阵列区域40。

前置摄像头模组200可以包括镜头模组，所述前置摄像头200的镜头模组设置在靠近透明像素阵列区域30的入光侧。

本申请实施例中的前置摄像头模组200设置在透明屏100的屏下，可以实现屏下摄像的功能。

需要说明的是，对于前述的各方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置，可通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如所述单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个***，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通信连接，可以是电性或其它的形式。

所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。

以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种透明屏，其特征在于，所述透明屏包括基板，所述基板上设置有像素阵列区域，所述像素阵列区域包括透明像素阵列区域；

所述透明像素阵列区域包括第一像素阵列和微型透镜阵列；所述微型透镜阵列设置在所述第一像素阵列的像素间隙之间；

所述微型透镜阵列包括微型凹透镜阵列、填充区域阵列和微型凸透镜阵列；所述微型凹透镜阵列、所述填充区域阵列、所述微型凸透镜阵列层叠设置；所述填充区域阵列设置在所述微型凹透镜阵列与所述微型凸透镜阵列之间；

所述微型凸透镜阵列设置在所述透明像素阵列区域的出光侧，所述微型凹透镜阵列设置在所述透明像素阵列区域的入光侧，所述微型透镜阵列包括多个微型透镜组，每个微型透镜组都包括一个微型凹透镜、一个微型凸透镜和一个填充区域，所述一个微型凹透镜、所述一个填充区域所述一个微型凸透镜层叠设置。

2.根据权利要求1所述的透明屏，其特征在于，

所述填充区域阵列包括第一填充区域，所述第一填充区域为所述填充区域阵列包含的至少两个填充区域中的任一个；

所述第一填充区域包括第一透明填充区域和第一非透明填充区域，所述第一非透明填充区域位于所述第一透明填充区域与目标像素之间，所述目标像素为所述第一像素阵列中包围所述第一填充区域的像素。

3.根据权利要求1或2所述的透明屏，其特征在于，所述像素阵列区域还包括非透明像素阵列区域，所述非透明像素阵列区域包括第二像素阵列和像素界定层；所述像素界定层设置在所述第二像素阵列的像素间隙之间。

4.根据权利要求3所述的透明屏，其特征在于，所述第一像素阵列的像素密度与所述第二像素阵列的像素密度相同。

5.根据权利要求1~2、4任一项所述的透明屏，其特征在于，所述微型凹透镜阵列的材料包括光学胶或玻璃粉；所述微型凸透镜阵列的材料包括光学胶或玻璃粉。

6.一种透明屏的制作方法，其特征在于，制造如权利要求1~5任一项所述的透明屏，所述方法包括：

提供一基板；

确定所述基板上的透明像素阵列区域；

在所述透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列，在所述微型凹透镜阵列与所述微型凸透镜阵列之间形成填充区域阵列，所述微型凹透镜阵列、所述填充区域阵列、所述微型凸透镜阵列层叠设置。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述基板的透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列，包括：

通过光刻胶热回流法在所述基板的透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述基板的透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列，包括：

通过灰度掩膜法在所述基板的透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在所述基板的透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列，包括：

通过激光直写法在所述基板的透明像素阵列区域的出光侧形成微型凸透镜阵列，在所述基板的透明像素阵列区域的入光侧形成微型凹透镜阵列。

10.一种移动终端，其特征在于，包括前置摄像头模组以及如权利要求1~5任一项所述的透明屏，所述前置摄像头模组层叠设在所述透明屏的透明像素阵列区域的入光侧。

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