CN107817651A - 一种用于tft‑lcd光刻胶组合物 - Google Patents

一种用于tft‑lcd光刻胶组合物 Download PDF

Info

Publication number
CN107817651A
CN107817651A CN201710851500.XA CN201710851500A CN107817651A CN 107817651 A CN107817651 A CN 107817651A CN 201710851500 A CN201710851500 A CN 201710851500A CN 107817651 A CN107817651 A CN 107817651A
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
photoetching compositions
class
tft
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201710851500.XA
Other languages
English (en)
Inventor
白航空
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hefei Huike Jinyang Technology Co Ltd
Original Assignee
Hefei Huike Jinyang Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hefei Huike Jinyang Technology Co Ltd filed Critical Hefei Huike Jinyang Technology Co Ltd
Priority to CN201710851500.XA priority Critical patent/CN107817651A/zh
Publication of CN107817651A publication Critical patent/CN107817651A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于TFT‑LCD光刻胶组合物，其是由以下重量份数的原料组成：固化树脂25‑32份、碱溶性树脂18‑26份、多官能基单体7‑23份、颜料分散体13‑19份、流平剂5‑9份、光引发剂11‑14份、溶剂80‑92份。本发明的光刻胶组合物解决了改善光刻胶组合物涂膜流平性不好，在高温后烘后，膜层表面有明显收缩的问题，具有膜层表面致密、平滑的优点，同时在受热条件下光刻胶薄膜中的自由基聚合引发剂受热分解成自由基，引发固化树脂中未经光固化反应完全的双键进一步聚合交联，进一步增加了该光刻胶的交联密度，本发明提供的光刻胶采用具有碳碳双键的固化树脂同时作为光固化树脂和热固化树脂，其不会和碱溶性树脂中的羧酸基团发生反应，提高了该光刻胶的存储稳定性。

Description

一种用于TFT-LCD光刻胶组合物
技术领域
本发明涉及TFT-LCD技术领域，具体涉及一种用于TFT-LCD光刻胶组合物。
背景技术
目前常用的彩色滤光片上彩色膜层的主流制作方法是颜料分散法。其基本原理是将光刻胶组合物涂覆在透明的衬底基板上，而后以紫外线灯类似光线进行照射，使光刻胶组合物固化形成彩色膜层。光刻胶组合物中包含有颜料分散液、单体、低聚物、稀释剂、流平剂和溶剂等，其中流平剂主要作用是调节光刻胶组合物涂膜的流平。光刻胶像素制备工艺一般是涂膜、前烘、曝光、显影和高温后烘。若光刻胶组合物像素的流平性不好，在高温后烘后，膜层表面很容易收缩。而已有的光刻胶组合物在使用过程中均存在上述缺陷。
发明内容
本发明旨在提供了一种用于TFT-LCD光刻胶组合物。
本发明提供如下技术方案：
一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其是由以下重量份数的原料组成：固化树脂25-32份、碱溶性树脂18-26份、多官能基单体7-23份、颜料分散体13-19份、流平剂5-9份、光引发剂11-14份、溶剂80-92份。
所述固化树脂为丙烯酸酯树脂，所述丙烯酸酯树脂中-CH2＝CH-COO-基团与-CH2＝CH(CH3)-COO-基团的总个数大于等于2。
所述碱可溶树脂为甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸甲酯和/或甲基丙烯酸丁酯的共聚物。
所述多官能基单体多官能基单体选自二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双季戊四醇五六丙烯酸酯、五丙烯酸酯、异戊四醇四丙烯酸酯中的两种或多种。
所述光引发剂选自苯偶姻类、苯乙酮类、胺基苯乙酮类、酰基膦氧化物类、二苯甲酮类、蒽醌类、噻吨酮类、三芳基咪唑二聚体类、吖啶类、二苯基钛茂类、叔胺类光引发剂中的至少一种。
所述溶剂选自丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或多种。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明的光刻胶组合物基于合理的组分搭配，解决了改善光刻胶组合物涂膜流平性不好，在高温后烘后，膜层表面有明显收缩的问题，具有膜层表面致密、平滑的优点，同时本发明的光刻胶组合物在受热条件下光刻胶薄膜中的自由基聚合引发剂受热分解成自由基，引发固化树脂中未经光固化反应完全的双键进一步聚合交联，进一步增加了该光刻胶的交联密度，本发明提供的光刻胶采用具有碳碳双键的固化树脂同时作为光固化树脂和热固化树脂，其不会和碱溶性树脂中的羧酸基团发生反应，提高了该光刻胶的存储稳定性。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1 一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其是由以下重量份数的原料组成：固化树脂25份、碱溶性树脂18份、多官能基单体7份、颜料分散体13份、流平剂5份、光引发剂11份、溶剂80份。
所述固化树脂为丙烯酸酯树脂，所述丙烯酸酯树脂中-CH2＝CH-COO-基团与-CH2＝CH(CH3)-COO-基团的总个数大于等于2。
所述碱可溶树脂为甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸甲酯和/或甲基丙烯酸丁酯的共聚物。
所述多官能基单体多官能基单体选自二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双季戊四醇五六丙烯酸酯、五丙烯酸酯、异戊四醇四丙烯酸酯中的两种或多种。
所述光引发剂选自苯偶姻类、苯乙酮类、胺基苯乙酮类、酰基膦氧化物类、二苯甲酮类、蒽醌类、噻吨酮类、三芳基咪唑二聚体类、吖啶类、二苯基钛茂类、叔胺类光引发剂中的至少一种。
所述溶剂选自丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或多种。
实施例2 一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其是由以下重量份数的原料组成：固化树脂32份、碱溶性树脂26份、多官能基单体23份、颜料分散体19份、流平剂9份、光引发剂14份、溶剂92份。
所述固化树脂为丙烯酸酯树脂，所述丙烯酸酯树脂中-CH2＝CH-COO-基团与-CH2＝CH(CH3)-COO-基团的总个数大于等于2。
所述碱可溶树脂为甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸甲酯和/或甲基丙烯酸丁酯的共聚物。
所述多官能基单体多官能基单体选自二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双季戊四醇五六丙烯酸酯、五丙烯酸酯、异戊四醇四丙烯酸酯中的两种或多种。
所述光引发剂选自苯偶姻类、苯乙酮类、胺基苯乙酮类、酰基膦氧化物类、二苯甲酮类、蒽醌类、噻吨酮类、三芳基咪唑二聚体类、吖啶类、二苯基钛茂类、叔胺类光引发剂中的至少一种。
所述溶剂选自丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或多种。
实施例3 一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其是由以下重量份数的原料组成：固化树脂29份、碱溶性树脂23份、多官能基单体15份、颜料分散体16份、流平剂7份、光引发剂13份、溶剂86份。
所述固化树脂为丙烯酸酯树脂，所述丙烯酸酯树脂中-CH2＝CH-COO-基团与-CH2＝CH(CH3)-COO-基团的总个数大于等于2。
所述碱可溶树脂为甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸甲酯和/或甲基丙烯酸丁酯的共聚物。
所述多官能基单体多官能基单体选自二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双季戊四醇五六丙烯酸酯、五丙烯酸酯、异戊四醇四丙烯酸酯中的两种或多种。
所述光引发剂选自苯偶姻类、苯乙酮类、胺基苯乙酮类、酰基膦氧化物类、二苯甲酮类、蒽醌类、噻吨酮类、三芳基咪唑二聚体类、吖啶类、二苯基钛茂类、叔胺类光引发剂中的至少一种。
所述溶剂选自丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或多种。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (6)

1.一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其特征在于，其是由以下重量份数的原料组成：固化树脂25-32份、碱溶性树脂18-26份、多官能基单体7-23份、颜料分散体13-19份、流平剂5-9份、光引发剂11-14份、溶剂80-92份。
2.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其特征在于：所述固化树脂为丙烯酸酯树脂，所述丙烯酸酯树脂中-CH2＝CH-COO-基团与-CH2＝CH(CH3)-COO-基团的总个数大于等于2。
3.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其特征在于：所述碱可溶树脂为甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸甲酯和/或甲基丙烯酸丁酯的共聚物。
4.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其特征在于：所述多官能基单体多官能基单体选自二丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、双季戊四醇五六丙烯酸酯、五丙烯酸酯、异戊四醇四丙烯酸酯中的两种或多种。
5.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其特征在于：所述光引发剂选自苯偶姻类、苯乙酮类、胺基苯乙酮类、酰基膦氧化物类、二苯甲酮类、蒽醌类、噻吨酮类、三芳基咪唑二聚体类、吖啶类、二苯基钛茂类、叔胺类光引发剂中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的一种用于TFT-LCD光刻胶组合物，其特征在于：所述溶剂选自丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或多种。
CN201710851500.XA 2017-09-19 2017-09-19 一种用于tft‑lcd光刻胶组合物 Pending CN107817651A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710851500.XA CN107817651A (zh) 2017-09-19 2017-09-19 一种用于tft‑lcd光刻胶组合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710851500.XA CN107817651A (zh) 2017-09-19 2017-09-19 一种用于tft‑lcd光刻胶组合物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107817651A true CN107817651A (zh) 2018-03-20

Family

ID=61607737

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710851500.XA Pending CN107817651A (zh) 2017-09-19 2017-09-19 一种用于tft‑lcd光刻胶组合物

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107817651A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112485967A (zh) * 2020-12-29 2021-03-12 安徽邦铭新材料科技有限公司 一种用于tft-lcd光刻胶组合物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050074563A1 (en) * 2001-09-25 2005-04-07 Masahiro Tatsuzawa Alkali-soluble maleimide copolymer and liquid crystal display comprising the same
CN103792789A (zh) * 2014-01-27 2014-05-14 京东方科技集团股份有限公司 一种光刻胶组合物
CN104865794A (zh) * 2014-02-20 2015-08-26 上海飞凯光电材料股份有限公司 一种光刻胶
CN105785716A (zh) * 2014-12-26 2016-07-20 上海飞凯光电材料股份有限公司 一种光刻胶
CN106338887A (zh) * 2016-09-20 2017-01-18 深圳市容大感光科技股份有限公司 一种光致抗蚀剂组合物及其用途

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050074563A1 (en) * 2001-09-25 2005-04-07 Masahiro Tatsuzawa Alkali-soluble maleimide copolymer and liquid crystal display comprising the same
CN103792789A (zh) * 2014-01-27 2014-05-14 京东方科技集团股份有限公司 一种光刻胶组合物
CN104865794A (zh) * 2014-02-20 2015-08-26 上海飞凯光电材料股份有限公司 一种光刻胶
CN105785716A (zh) * 2014-12-26 2016-07-20 上海飞凯光电材料股份有限公司 一种光刻胶
CN106338887A (zh) * 2016-09-20 2017-01-18 深圳市容大感光科技股份有限公司 一种光致抗蚀剂组合物及其用途

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112485967A (zh) * 2020-12-29 2021-03-12 安徽邦铭新材料科技有限公司 一种用于tft-lcd光刻胶组合物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9726975B2 (en) Photoresist composition
CN107353854A (zh) 一种oca光学胶和oca光学胶膜
CN111117340B (zh) Uv油墨膜
WO2017177795A1 (zh) 一种自由基-阳离子混杂型光固化体系及其应用
CN104076606A (zh) 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
CN106459316A (zh) 光固化性树脂组合物
CN107300831A (zh) 一种应用于led光固化的可固化组合物
KR100791817B1 (ko) 감광성 수지 조성물
CN107817651A (zh) 一种用于tft‑lcd光刻胶组合物
US10745590B2 (en) Photo-curable adhesive composition, cured product and use thereof
JP2016167066A (ja) ソルダーレジスト用樹脂組成物、ソルダーレジスト用フィルム、ソルダーレジスト層付き回路基板、及びパッケージ
CN107272336A (zh) 一种含芴类光引发剂的感光性树脂组合物及其应用
CN102070985A (zh) 一种能在低能量下固化的紫外光固化涂料
CN112764315A (zh) 适用于无前烘工艺的感光性组合物及其制备方法
CN109694487A (zh) 一种反射型近紫外截止保护膜
CN109467651B (zh) 光固化环氧乙烯基酯树脂及其合成方法
JP4464522B2 (ja) 感光性樹脂組成物およびディスプレー用カラーフィルタ
KR100741297B1 (ko) 감광성 수지 조성물
KR100622579B1 (ko) 디지타이저용 보호층 조성물 및 보호층 제조방법
KR100716934B1 (ko) 포토레지스트용 아크릴레이트 수지
KR20070095496A (ko) 유기발광 다이오드(oled)의 캡가공용 감광성 수지 조성물
JP2023055509A (ja) 積層フィルム、構造体、構造体の作製方法
JPH06308310A (ja) カラーフイルタの製造法
JPH03122359A (ja) コンクリート構造物面への転写印刷法
JPH08137101A (ja) カラーフィルター用感光性樹脂組成物、感光性フィルム及びカラーフィルター

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20180320