CN107419218A - 掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法 - Google Patents

Abstract

本发明的目的在于提供一种掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法，该掩模版框架包括：框架主体，所述框架主体包括第一表面；设置在所述框架主体的第一表面上的沟槽，所述沟槽包括与所述第一表面平行的槽底面及相对的两侧壁；在所述第一表面和所述槽底面中的至少一个面的边界对应位置处还设置有辅助面，所述辅助面与所述槽底面不平行，且所述辅助面与所述槽底面不垂直，使所述辅助面经图像采集器采集的图案区别于所述槽底面和所述第一表面经图像采集器采集的图案，以识别所述沟槽的边界。本发明能够提高沟槽的识别准确性。

Description

掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法

技术领域

本发明涉及显示器制造技术领域，尤其涉及一种掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法。

背景技术

精细金属掩膜(FMM Mask)模式，是通过蒸镀方式将OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)材料按照预定程序蒸镀到LTPS(低温多晶硅)背板上，利用FMM上的图形，蒸镀红、绿、蓝有机物到规定位置上。

目前蒸镀装置对蒸镀掩模版的框架(Frame)上的沟槽(Groove)进行定位时所采用的方法是，通过CCD(图像采集器)识别沟槽的两个相对侧壁的边界。但是在目前的框架沟槽设计中，如图1所示，框架的表面1到沟槽的侧壁2到沟槽的槽底面3是直角的过渡形态，CCD发出光照射沟槽所在区域，光在框架的表面和沟槽的底面都是竖直反射的，CCD感应的结果是两个平面是亮面，同时由于框架的表面到沟槽的侧壁到沟槽的底面都是直角的过渡形态，所以CCD最终反应的画面是，整体都是亮面，没有明确的过渡线，从而使CCD很难分辨沟槽的两边边界(也就是，框架的表面和沟槽的底面之间的边界)，影响设备对框架上沟槽的定位，影响设备的自动化运行状态，有时候识别较差的时候，设备调整过大，沟槽会超出CCD视野，严重的时候出现设备部件之间的冲突，影响设备的运行。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法，能够提高沟槽的识别准确性。

本发明所提供的技术方案如下：

一种掩模版框架，包括：

框架主体，所述框架主体包括第一表面；

设置在所述框架主体的第一表面上的沟槽，所述沟槽包括与所述第一表面平行的槽底面及相对的两侧壁；

在所述第一表面和所述槽底面中的至少一个面的边界对应位置处还设置有辅助面，所述辅助面与所述槽底面不平行，且所述辅助面与所述槽底面不垂直，使所述辅助面经图像采集器采集的图案区别于所述槽底面和所述第一表面经图像采集器采集的图案，以识别所述沟槽的边界。

进一步的，每一侧壁具有与所述第一表面连接过渡的上过渡边沿和与所述槽底面连接过渡的下过渡边沿，其中沿每一侧壁的上过渡边沿设置有第一倒角面结构，所述第一倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

进一步的，每一侧壁具有与所述第一表面连接过渡的上过渡边沿和与所述槽底面连接过渡的下过渡边沿，其中沿每一侧壁的下过渡边沿设置有第二倒角面结构，所述第二倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

进一步的，所述沟槽的两个侧壁中至少一部分与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

进一步的，所述沟槽的两个侧壁中至少一部分为与所述槽底面之间呈预设斜夹角的斜面结构。

进一步的，所述槽底面的四周边界包括：

与所述两侧壁过渡连接的、相对设置的两个下过渡边沿；

及，连接在两个下过渡边沿之间的槽底边沿；

其中，沿所述槽底边沿设置有一第三倒角面结构，所述第三倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

进一步的，所述槽底面的四周边界包括：

与所述两侧壁过渡连接的、相对设置的两个下过渡边沿；

及，连接在两个下过渡边沿之间的槽底边沿；

其中，所述框架主体的第一表面的边界包括与所述槽底边沿的延伸方向一致、并在所述沟槽处断开的第一边界线，沿所述第一边界线设置有一第四倒角面结构，所述第四倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

一种蒸镀装置，包括如上所述的掩模版框架。

一种掩模版框架定位方法，所述方法应用于如上所述的掩模版框架；所述方法包括：

通过图像采集器采集所述掩模版框架的框架主体第一表面上沟槽所在区域的图像；

根据所述图像采集器所采集的图像中图案的亮度不同，识别所述沟槽的边界。

进一步的，根据所述图像采集器所采集的图像中图案的亮度不同，识别所述沟槽的边界，包括：

当所述辅助面设置在上过渡边沿或者下过渡边沿或者所述沟槽的两侧壁上时，识别所述图像中的暗条纹图案为所述沟槽的边界；

当所述辅助面设置在所述框架主体的第一表面的第一边界线时，识别所述图像中的亮条纹图案的边界为所述沟槽的边界；

当所述辅助面设置在所述沟槽的槽底边沿时，识别所述图像中的暗条纹图案的边界为所述沟槽的边界。

本发明的有益效果如下：

上述方案，通过在掩模版框架上增加辅助面，由于该辅助面与槽底面及框架主体的第一表面既不平行也不垂直，因此该辅助面经图像采集器所采集的图案会与槽底面及框架主体的第一表面之间存在差异，且该辅助面设置在所述槽底面或者所述第一表面的边界对应的位置处，因此，可以利用这种差异来形成对比，识别出沟槽的边界，以提高识别沟槽边界的稳定性。

附图说明

图1表示现有技术中掩模版框架的沟槽结构示意图；

图2表示本发明实施例1中所提供的掩模版框架的局部立体结构示意图；

图3表示本发明实施例1中所提供的掩模版框架的局部主视图；

图4表示本发明实施例1中所提供的掩模版框架经图像采集器感应后的图案的示意图；

图5表示本发明实施例2中所提供的掩模版框架的局部立体结构示意图；

图6表示本发明实施例2中所提供的掩模版框架的局部主视图；

图7表示本发明实施例2中所提供的掩模版框架的另一种实施方式的结构示意图；

图8表示本发明实施例2中所提供的掩模版框架经图像采集器感应后的图案的示意图；

图9表示本发明实施例3中所提供的掩模版框架的一种实施方式的主视图；

图10表示本发明实施例3中所提供的掩模版框架的另一种实施方式的主视图；

图11表示本发明实施例3中所提供的掩模版框架经图像采集器感应后的图案的示意图；

图12表示现有技术中的掩模版框架的另一视角的立体结构示意图；

图13表示本发明实施例4中所提供的掩模版框架的立体结构示意图；

图14表示本发明实施例4中所提供的掩模版框架经图像采集器感应后的图案的示意图；

图15表示本发明实施例5中所提供的掩模版框架的立体结构示意图；

图16表示本发明实施例5中所提供的掩模版框架经图像采集器感应后的图案的示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

针对现有技术中掩模版框架上的沟槽边界识别稳定性差的问题，本发明提供了一种掩模版框架、蒸镀装置及掩模版框架定位方法，能够提高沟槽的定位准确性。

如图2至图16所示，本发明实施例中所提供的掩模版框架包括：

框架主体，所述框架主体包括第一表面101；

设置在所述框架主体的第一表面101上的沟槽200，所述沟槽200包括与所述第一表面101平行的槽底面201及相对的两侧壁202；

在所述第一表面101和所述槽底面201中的至少一个面的边界对应位置处还设置有辅助面300，所述辅助面300与所述槽底面201不平行，且所述辅助面300与所述槽底面201不垂直，使所述辅助面300经图像采集器采集的图案区别于所述槽底面201和所述第一表面101经图像采集器采集的图案，以识别所述沟槽200的边界。

上述方案中，采用图像采集器识别掩模版框架上的沟槽200时，图像采集器所发出光竖直射向框架主体的第一表面101，因此光在框架主体的第一表面101及沟槽200的槽底面201都是竖直反射的，图像采集器所感应的图像中框架主体的第一表面101及沟槽200的槽底面201均为亮面，本发明中通过在掩模版框架上增加辅助面300，由于该辅助面300与槽底面201及框架主体的第一表面101既不平行也不垂直，因此图像采集器所发出的光经该辅助面300反射时不是竖直反射的，经所述图像采集器所感应的图案会与槽底面201及框架主体的第一表面101之间存在差异，且将该辅助面300设置在所述槽底面201或者所述第一表面101的边界处，因此，可以利用这种差异来形成对比，识别出沟槽200的边界，以提高识别沟槽200边界的稳定性。

以下说明本发明所提供的掩模版框架中辅助面300设置方式的几种优选实施例。

实施例1

图2所示为本发明所提供的掩模版框架的第一种实施例的结构示意图。

如图2所示，在本实施例中，在所述沟槽200的两个相对的侧壁202中，每一个侧壁202均具有一与所述第一表面101连接过渡的上过渡边沿以及与所述槽底面201连接过渡的下过渡边沿2022，其中所述上过渡边沿和所述下过渡边沿2022的延伸方向与所述沟槽200的槽体贯通方向(图中Y方向)平行，沿每一侧壁202的上过渡边沿设置有第一倒角面结构310，所述第一倒角面结构310与所述槽底面201不平行且不垂直，以形成所述辅助面300。

在本实施例中，采用上述方案，通过在沟槽200的两个相对的侧壁202的上过渡边沿上增加辅助面300，来识别沟槽200的两个侧壁202的上过渡边沿，由此来识别所述沟槽200的边界，也就是，确定如图2所示的X方向上沟槽200的宽度边界。

其中，所述第一倒角面结构310优选为与所述槽底面201呈第一预设夹角的第一斜面结构。当然可以理解的是，所述第一倒角面结构310的具体倾斜角度并不进行限定，且所述第一倒角面结构310也可以不是一个斜面结构，而是弧形曲面结构等。

如图2和图3所示，对于所述第一倒角面结构310，当图像采集器的竖直光入设到该第一倒角面结构310上时，反射光不是竖直方向，因此图像采集器无法接受到该第一倒角面结构310的反射光，因此图像采集器所感应到的图像中所述第一倒角面结构310对应的图案是暗面(如图4中310’所示图案即表示所述第一倒角面结构310经图像采集器所感应到的暗条纹图案)；如图4所示，对于框架主体的第一表面101和所述沟槽200的槽底面201，当图像采集器的竖直光入设到该第一表面101和槽底面201上时反射光是竖直方向，图像采集器可以接受到，因此图像采集器感应到的图像中所述第一表面101和所述槽底面201对应的图案是亮面(如图4中101’所示图案表示所述第一表面101经图像采集器所感应到的亮面图案，201’所示图案表示所述槽底面201经图像采集器所感应的亮面图案)，这样，如图4所示，就在两个亮面101’和201’和之间形成一条暗条纹图案310’，该暗条纹图案310’即识别为沟槽200的边界。

需要说明的是，在本发明的说明书中，所述暗条纹图案是指亮度明显低于其周围图案的亮度的图案，所述亮条纹图案是指亮度明显高于其周围图案的亮度的图案。

实施例2

图5和图6所示为本发明所提供的掩模版框架的第二种实施例的结构示意图。

如图5和图6所示，在本实施例中，在所述沟槽200的两个相对的侧壁202中，每一个侧壁202均具有一与所述第一表面101连接过渡的上过渡边沿2021以及与所述槽底面201连接过渡的下过渡边沿，其中所述上过渡边沿2021和所述下过渡边沿的延伸方向与所述沟槽200的槽体贯通方向(图中Y方向)平行，沿每一侧壁202的下过渡边沿设置有第二倒角面结构320，所述第二倒角面结构320与所述槽底面201不平行且不垂直，以形成所述辅助面300。

采用上述方案，在本实施例中，通过在沟槽200的两个相对的侧壁202的下过渡边沿上增加辅助面300，来识别沟槽200的两个侧壁202的下过渡边沿，由此来识别所述沟槽200的边界，也就是，确定如图所示的X方向上沟槽200的宽度边界。

其中，所述第二倒角面结构320优选为与所述槽底面201呈第二预设夹角的第二斜面结构。当然可以理解的是，所述第二倒角面结构320的具体倾斜角度并不进行限定，例如：如图5和图7所示，为所述第二倒角面结构320的两种实施方式；并且所述第二倒角面结构320也可以不是一个斜面结构，而是弧形曲面结构等。

如图5所示，对于所述第二倒角面结构320，当图像采集器的竖直光入设到该第二倒角面结构320上时，反射光不是竖直方向，因此图像采集器无法接受到该第二倒角面结构320的反射光，因此图像采集器所感应到的图像中所述第二倒角面结构320对应的图案是暗面(如图8中320’所示图案即表示所述第二倒角面结构320经图像采集器所感应到的暗条纹图案)；如图8所示，对于框架主体的第一表面101和所述沟槽200的槽底面201，当图像采集器的竖直光入设到该第一表面101和槽底面201上时反射光是竖直方向，图像采集器可以接受到，因此图像采集器感应到的图像中所述第一表面101和所述槽底面201对应的图案是亮面(如图8中101’所示图案表示所述第一表面101经图像采集器所感应到的亮面图案，201’所示图案表示所述槽底面201经图像采集器所感应的亮面图案)，这样，如图8所示，就在两个亮面101’、201’之间形成一条暗条纹图320’，该暗条纹图案320’即识别为沟槽200的边界。

需要说明的是，在本发明中，所述暗条纹图案是指亮度明显低于其周围图案的亮度的图案，所述亮条纹图案是指亮度明显高于其周围图案的亮度的图案。

实施例3

图9和图10所示为本发明所提供的掩模版框架的第三种实施例的结构示意图。

如图9和图10所示，在本实施例中，所述沟槽200的两个侧壁202中至少一部分与所述槽底面201不平行且不垂直，以形成所述辅助面300。

采用上述方案，在本实施例中，通过将沟槽200的两个相对的侧壁202设置为辅助面300，来识别沟槽200的两个侧壁202，由此来识别所述沟槽200的边界，也就是，确定如图所示的X方向上沟槽200的宽度边界。

其中，所述沟槽200的两个侧壁202可以直接整体设置为与所述槽底面201之间呈预设夹具的斜面结构(如图9所示)，也可以是在所述沟槽200的两个侧壁202的一部分设计为斜面结构，例如：如图10所示，是将所述沟槽200的两个侧壁202设计为由两个斜面构成。

如图9所示，对于所述沟槽200的两个侧壁202的斜面结构，当图像采集器的竖直光入设到该沟槽200的侧壁202上的斜面结构时，反射光不是竖直方向，因此图像采集器无法接受到该沟槽200的侧壁202上的斜面结构的反射光，因此图像采集器所感应到的图像中所述沟槽200侧壁202上的斜面结构对应的图案是暗面(如图11中202’所示图案即表示所述侧壁202经图像采集器所感应到的暗条纹图案)；如图11所示，对于框架主体的第一表面101和所述沟槽200的槽底面201，当图像采集器的竖直光入设到该第一表面101和槽底面201上时反射光是竖直方向，图像采集器可以接受到，因此图像采集器感应到的图像中所述第一表面101和所述槽底面201对应的图案是亮面(如图11中101’所示图案表示所述第一表面101经图像采集器所感应到的亮面图案，201’所示图案表示所述槽底面201经图像采集器所感应的亮面图案)，这样，如图11所示，就在两个亮面101’、201’之间形成一条暗条纹图案202’，该暗条纹图案202’即识别为沟槽200的边界。

需要说明的是，在本发明中，所述暗条纹图案是指亮度明显低于其周围图案的亮度的图案，所述亮条纹图案是指亮度明显高于其周围图案的亮度的图案。

实施例4

图13所示为本发明所提供的掩模版框架的第四种实施例的结构示意图。

如图13所示，在本实施例中，所述槽底面201的四周边界包括：与所述两侧壁202过渡连接的、相对设置的两个下过渡边沿2022；及，连接在两个下过渡边沿2022之间的槽底边沿2023；其中，沿所述槽底边沿2023设置有一第三倒角面结构330，所述第三倒角面结构330与所述槽底面201不平行且不垂直，以形成所述辅助面300。

如图13所示，所述沟槽200的上过渡边沿2021、下过渡边沿2022的延伸方向均与所述沟槽200的槽体贯通方向(图中Y方向)平行，所述槽底边沿2023的延伸方向(图中X方向)与所述沟槽200的槽体贯通方向垂直。在本实施例中，通过在所述沟槽200的沿与槽体贯通方向相垂直的槽底边沿2023上设置辅助面，来识别所述沟槽200的边界，也就是，确定如图所示的X方向上沟槽200的宽度边界。

图12所示为现有技术中的框架主体的另一个视角的结构示意图。如图12所示，在现有技术中，对于框架主体来说，其还包括与第一表面1连接的侧表面4，沟槽的槽底边沿5即形成在该侧表面4上，且将该框架主体的侧表面4被沟槽断开而形成两部分，分别为第一侧表面部分a和第二侧表面部分b，该第一侧表面部分a和第二侧表面部分b均与沟槽的槽底面3垂直。

在本实施例中，如图13所示，通过将沟槽200的沿与沟槽200的槽体贯通方向相垂直的槽底边沿2023上设置第三倒角面结构330，图像采集器发出的光在沟槽200的槽底边沿2023处的第三倒角面结构330的反射光不是竖直的，因此，图像采集器无法接受到该第三倒角面结构330的反射光，因此图像采集器所感应到的图像中所述第三倒角面结构330对应的图案是暗面(如图14中330’所示图案即表示所述第三倒角面结构330经图像采集器所感应到的暗条纹图案)；而图像采集器所感应到的该第三倒角面结构330周围的部分的图案应为所述框架主体的第一表面101和所述槽底面201对应的图案，因此，图像采集器感应到的图像中所述第三倒角面结构330周围区域对应的图案是亮面(如图14中101’所示图案表示所述第一表面101经图像采集器所感应到的亮面图案，201’所示图案表示所述槽底面201经图像采集器所感应的亮面图案)，这样，如图14所示，就在两个亮面101’、201’之间形成一条暗条纹图案330’，该暗条纹图案330’的沿Y向延伸的两个边界即识别为沟槽200的边界。

需要说明的是，在本发明中，所述暗条纹图案是指亮度明显低于其周围图案的亮度的图案，所述亮条纹图案是指亮度明显高于其周围图案的亮度的图案。

实施例5

图15所示为本发明所提供的掩模版框架的第五种实施例的结构示意图。

如图15所示，在本实施例中，所述槽底面201的四周边界包括：与所述两侧壁202过渡连接的、相对设置的两个下过渡边沿2022；及，连接在两个下过渡边沿2022之间的槽底边沿2023；其中，所述框架主体的第一表面101的边界包括与所述槽底边沿2023的延伸方向一致、并在所述沟槽200处断开的第一边界线102，沿所述第一边界线102设置有一第四倒角面结构，所述第四倒角面结构与所述槽底面201不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

如图15所示，所述沟槽200的上过渡边沿、下过渡边沿2022的延伸方向均与所述沟槽200的槽体贯通方向(图中Y方向)平行，所述槽底边沿2023的延伸方向(图中X方向)与所述沟槽200的槽体贯通方向垂直。在本实施例中，通过在所述沟槽200的槽口的两侧沿Y向设置辅助面300，即，沿所述框架主体的第一边界线102设置辅助面，来识别所述沟槽200的边界，也就是，确定如图所示的X方向上沟槽200的宽度边界。

图12所示为现有技术中的框架主体的另一个视角的结构示意图。如图12所示，在现有技术中，对于框架主体来说，其还包括与第一表面1连接的侧表面4，沟槽的槽底边沿5即形成在该侧表面4上，且将该框架主体的侧表面4被沟槽断开而形成两部分，分别为第一侧表面部分a和第二侧表面部分b，该第一侧表面部分a和第二侧表面部分b均与沟槽的槽底面3垂直。

在本实施例中，沿所述框架主体的第一表面101的第一边界线102设置第四倒角面结构，也就是说，将现有技术中框架主体的侧表面中的第一侧表面部分和第二侧表面部分均设计为斜面结构，形成第一侧斜面部分A和第二侧斜面部分B，该第四倒角面结构包括所述第一侧斜面部分A和所述第二侧斜面部分B。

图像采集器发出的光在第一侧斜面部分A和第二侧斜面部分B上的反射光不是竖直的，因此，图像采集器无法接受到该第一侧斜面部分A和第二侧斜面部分B的反射光，因此图像采集器所感应到的图像中所述第一侧斜面部分A和第二侧斜面部分B所对应的图案是暗面(如图16中A’所示图案即表示所述第一侧斜面部分A经图像采集器所感应到的暗条纹图案，B’所示图案即表示所述第二侧斜面部分B经图像采集器所感应到的暗条纹图案)；而在所述第一侧斜面部分A和所述第二侧斜面部分B之间的部分为所述沟槽200的槽底面201，因此，图像采集器感应到的图像中所述第一侧斜面部分A和第二侧斜面部分B之间的部分所对应的图案是亮面(如图16中201’所示图案即表示所述槽底面201经图像采集器所感应到的亮面图案，)，这样，如图16所示，就在两个暗面A’、B’之间形成一条明条纹图案201’，该明条纹图案201’的沿Y向延伸的两个边界即识别为沟槽200的边界。

需要说明的是，在本发明中，所述暗条纹图案是指亮度明显低于其周围图案的亮度的图案，所述亮条纹图案是指亮度明显高于其周围图案的亮度的图案。

在本发明的实施例中还提供了一种蒸镀装置，包括本发明实施例中所提供的掩模版框架。

此外，本发明实施例中还提供了一种掩模版框架定位方法，所述方法应用于如上所述的掩模版框架；所述方法包括：

通过图像采集器采集所述掩模版框架的框架主体第一表面101上沟槽200所在区域的图像；根据所述图像采集器所采集的图像中图案的亮度不同，识别所述沟槽200的边界。

进一步的，所述方法中，根据所述图像采集器所采集的图像中图案的亮度不同，识别所述沟槽200的边界，具体包括：

当所述辅助面300设置在上过渡边沿或者下过渡边沿2022或者所述沟槽200的两侧壁202上时，识别所述图像中的暗条纹图案为所述沟槽200的边界；

当所述辅助面300设置在所述框架主体的第一表面101的第一边界线时，识别所述图像中的亮条纹图案的边界为所述沟槽200的边界；

当所述辅助面300设置在所述沟槽200的槽底边沿时，识别所述图像中的暗条纹图案的边界为所述沟槽200的边界。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种掩模版框架，包括：

框架主体，所述框架主体包括第一表面；

设置在所述框架主体的第一表面上的沟槽，所述沟槽包括与所述第一表面平行的槽底面及相对的两侧壁；

其特征在于，在所述第一表面和所述槽底面中的至少一个面的边界对应位置处还设置有辅助面，所述辅助面与所述槽底面不平行，且所述辅助面与所述槽底面不垂直，使所述辅助面经图像采集器采集的图案区别于所述槽底面和所述第一表面经图像采集器采集的图案，以识别所述沟槽的边界。

2.根据权利要求1所述的掩模版框架，其特征在于，

每一侧壁具有与所述第一表面连接过渡的上过渡边沿和与所述槽底面连接过渡的下过渡边沿，其中沿每一侧壁的上过渡边沿设置有第一倒角面结构，所述第一倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

3.根据权利要求1所述的掩模版框架，其特征在于，

每一侧壁具有与所述第一表面连接过渡的上过渡边沿和与所述槽底面连接过渡的下过渡边沿，其中沿每一侧壁的下过渡边沿设置有第二倒角面结构，所述第二倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

4.根据权利要求1所述的掩模版框架，其特征在于，

所述沟槽的两个侧壁中至少一部分与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

5.根据权利要求4所述的掩模版框架，其特征在于，

所述沟槽的两个侧壁中至少一部分为与所述槽底面之间呈预设斜夹角的斜面结构。

6.根据权利要求1所述的掩模版框架，其特征在于，

所述槽底面的四周边界包括：

与所述两侧壁过渡连接的、相对设置的两个下过渡边沿；

及，连接在两个下过渡边沿之间的槽底边沿；

其中，沿所述槽底边沿设置有一第三倒角面结构，所述第三倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

7.根据权利要求1所述的掩模版框架，其特征在于，

所述槽底面的四周边界包括：

与所述两侧壁过渡连接的、相对设置的两个下过渡边沿；

及，连接在两个下过渡边沿之间的槽底边沿；

其中，所述框架主体的第一表面的边界包括与所述槽底边沿的延伸方向一致、并在所述沟槽处断开的第一边界线，沿所述第一边界线设置有一第四倒角面结构，所述第四倒角面结构与所述槽底面不平行且不垂直，以形成所述辅助面。

8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括如权利要求1至7任一项所述的掩模版框架。

9.一种掩模版框架定位方法，其特征在于，所述方法应用于如权利要求1至7任一项所述的掩模版框架；所述方法包括：

通过图像采集器采集所述掩模版框架的框架主体第一表面上沟槽所在区域的图像；

根据所述图像采集器所采集的图像中图案的亮度不同，识别所述沟槽的边界。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，

根据所述图像采集器所采集的图像中图案的亮度不同，识别所述沟槽的边界，包括：

当所述辅助面设置在上过渡边沿或者下过渡边沿或者所述沟槽的两侧壁上时，识别所述图像中的暗条纹图案为所述沟槽的边界；

当所述辅助面设置在所述框架主体的第一表面的第一边界线时，识别所述图像中的亮条纹图案的边界为所述沟槽的边界；

当所述辅助面设置在所述沟槽的槽底边沿时，识别所述图像中的暗条纹图案的边界为所述沟槽的边界。