CN107002264B - 电铸部件的制造方法 - Google Patents

电铸部件的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107002264B
CN107002264B CN201580066377.XA CN201580066377A CN107002264B CN 107002264 B CN107002264 B CN 107002264B CN 201580066377 A CN201580066377 A CN 201580066377A CN 107002264 B CN107002264 B CN 107002264B
Authority
CN
China
Prior art keywords
electroformed parts
electroformed
manufacturing
parts
component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201580066377.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN107002264A (zh
Inventor
阿部洋辅
池田智夫
岛亮一
小野义树
浅见拓
佐佐木阳介
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Citizen Watch Co Ltd filed Critical Citizen Watch Co Ltd
Publication of CN107002264A publication Critical patent/CN107002264A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107002264B publication Critical patent/CN107002264B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/08Perforated or foraminous objects, e.g. sieves
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/0033D structures, e.g. superposed patterned layers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/20Separation of the formed objects from the electrodes with no destruction of said electrodes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/20Separation of the formed objects from the electrodes with no destruction of said electrodes
    • C25D1/22Separating compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/094Multilayer resist systems, e.g. planarising layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B13/00Gearwork
    • G04B13/02Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B15/00Escapements
    • G04B15/14Component parts or constructional details, e.g. construction of the lever or the escape wheel
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B17/00Mechanisms for stabilising frequency
    • G04B17/04Oscillators acting by spring tension
    • G04B17/06Oscillators with hairsprings, e.g. balance
    • G04B17/066Manufacture of the spiral spring
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/28Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/268
    • H01L21/283Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current
    • H01L21/288Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a liquid, e.g. electrolytic deposition
    • H01L21/2885Deposition of conductive or insulating materials for electrodes conducting electric current from a liquid, e.g. electrolytic deposition using an external electrical current, i.e. electro-deposition
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04DAPPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
    • G04D3/00Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
    • G04D3/0069Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for working with non-mechanical means, e.g. chemical, electrochemical, metallising, vapourising; with electron beams, laser beams

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Micromachines (AREA)

Abstract

在具有通过相互嵌合而密接的部分的第1电铸部件(40)以及第2电铸部件(60)的制造时,在形成第1电铸部件(40)后,将该第1电铸部件(40)作为电铸模的一部分来形成第2电铸部件(60)。另外,通过将第1电铸部件(40)作为电铸模的一部分来形成第2电铸部件(60),将第1电铸部件(40)的形状转印到第2电铸部件(60)。由此能在一系列制造工序中一次性精度良好地制造形状不同的多个种类的部件。

Description

电铸部件的制造方法
技术领域
本发明涉及用在精密设备等中的精密微细部件的制造所用的电铸部件的制造方法。
背景技术
作为电镀技术的一种的电气铸造(以下称作「电铸」)通过使电解的金属或离子电沉积到原模的表面来制造(复制)重现原模的形状或表面的凹凸的金属制品(电铸部件)。在这样的电铸中,能通过使用精密加工的电铸模制造有高转印性的部件。近年来,提出通过LIGA(Lithographie Galvanofomung Abformung,光刻、电铸和注塑)技术,使用如硅工艺那样利用感光材料的光刻而制造的电铸模来制造钟表等的精密部件。
具体地,过去例如有如下技术(例如参考下述专利文献1):在一表面具有导电性的基板上用光阻剂形成开口图案,在该开口内进行2次通过电铸形成金属层的工序后,将基板和下层的金属层除去,从而得到上层的金属层所形成的具有表面形态不同的凹凸面的电铸体。
另外,过去例如有如下技术例如参考下述(专利文献2):在以光刻形成于导电性基板上的树脂模通过电铸形成金属制构成部件层,重复多次通过研磨或磨削来进行平坦化的工序,来制造阶梯的三维微细结构体。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:JP特开2011-89169号公报
专利文献2:JP特开2008-126375号公报
发明内容
发明要解决的课题
但如上述那样,在通过电铸制造电铸体或微细结构体等(以下称作「电铸部件」)的现有的电铸部件的制造方法中,虽然能在一系列制造工序中制造有凹凸面的部件和多级形状的电铸部件,但只能制造1个种类的电铸部件。
为此,上述的现有的电铸部件的制造方法在电铸制造多个种类的部件的情况下,需要在分开的制造工序中制造各个电铸部件,有制造效率差这样的问题。特别在设为制造对象的多个种类的电铸部件是在一部分具备级差部的部件(阶梯部件)的情况下,该阶梯部件的制造所涉及的工序数变多,不得不在其他种类的电铸部件之外的制造工序中制造工序数多的电铸部件,有制造效率差这样的问题。
另外,上述的现有的电铸部件的制造方法由于在另外的制造工序中制造各个电铸部件,因此在设为制造对象的多个种类的电铸部件是以使一部分相互密接或抵接的状态相对移动的电铸部件的情况下,有难以确保相互抵接的部分的制造精度这样的问题。
本发明为了消除上述的现有技术的问题点而提出,目的在于,提供能在一系列制造工序中一次性精度良好地制造形状不同的多个种类的部件的电铸部件的制造方法。
另外,本发明为了消除上述的现有技术的问题点而提出,目的在于,提供一种电铸部件的制造方法,其能在一系列制造工序中一次性精度良好地制造形状不同的多个种类的至少一部分相互密接或抵接的部件。
进而本发明的目的在于,为了消除上述的现有技术的问题点提供一种电铸部件的制造方法,能在一系列制造工序中一次性精度良好地制造形状不同的多个种类的以至少一部分相互密接或抵接的状态相对移动的部件。
用于解决课题的手段
为了解决上述的课题、达成目的,本发明所涉及的电铸部件的制造方法特征在于,包括如下工序:对形成于导电层的表面侧的第1光阻挡层进行图案形成来形成第1贯通孔,该第1贯通孔沿着所述导电层与所述第1光阻挡层的层叠方向贯通该第1光阻挡层;通过将所述导电层作为一方的电极的电铸来在所述导电层的表面侧当中的所述第1贯通孔内使第1电铸构件沉积;通过将所述第1电铸构件以及所述第1光阻挡层的表面侧平坦化来形成第1电铸部件;从形成所述第1电铸部件的所述导电层除去所述第1光阻挡层;在除去所述第1光阻挡层而露出的所述第1电铸部件的表面形成脱离用的膜;在所述导电层的表面侧形成从表面侧覆盖所述第1电铸部件的第2光阻挡层,对该第2光阻挡层进行图案形成来形成第2贯通孔,该第2贯通孔以所述第1电铸部件的一部分向其内侧突出的状态沿着所述层叠方向贯通该第2光阻挡层;通过将所述导电层作为一方的电极的电铸来在所述导电层的表面侧当中的所述第2贯通孔内使第2电铸构件沉积;通过将所述第2电铸构件以及所述第2光阻挡层的表面侧平坦化来形成第2电铸部件;从所述第1电铸部件、所述第2电铸部件以及所述第2光阻挡层除去所述导电层;和从除去所述导电层的所述第1电铸部件以及所述第2电铸部件除去所述第2光阻挡层。
另外,本发明所涉及的电铸部件的制造方法在上述的发明的基础上,特征在于,所述电铸部件的制造方法包括如下工序:进行所述第1电铸部件中的至少位于所述第2贯通孔内的部分的角部的倒角,在进行所述倒角的工序之后进行形成所述脱离用的膜的工序。
另外,本发明所涉及的电铸部件的制造方法在上述的发明的基础上,特征在于,进行所述倒角的工序通过电解研磨或湿式蚀刻来进行所述角部的倒角。
另外,本发明所涉及的电铸部件的制造方法在上述的发明的基础上,特征在于,所述导电层形成在由绝缘材料或半导电材料构成的基板的表面。
另外,本发明所涉及的电铸部件的制造方法在上述的发明的基础上,特征在于,形成所述脱离用的膜的工序将表面氧化膜形成为所述脱离用的膜。
另外,本发明所涉及的电铸部件的制造方法在上述的发明的基础上,特征在于,所述第1电铸部件以及所述第2电铸部件是至少一部分相互密接或抵接的部件。
另外,本发明所涉及的电铸部件的制造方法在上述的发明的基础上,特征在于,所述第1电铸部件以及所述第2电铸部件是至少一部分以相互密接或抵接的状态相对移动的部件。
另外,本发明所涉及的电铸部件的制造方法在上述的发明的基础上,特征在于,形成所述第1电铸部件的工序通过从表面侧磨削所述第1电铸构件以及所述第1光阻挡层来进行平坦化。
另外,本发明所涉及的电铸部件的制造方法在上述的发明的基础上,特征在于,形成所述第2电铸部件的工序通过从表面侧磨削所述第2电铸构件以及所述第2光阻挡层来进行平坦化。
发明的效果
根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,起到了能在一系列制造工序一次性精度良好地制造形状不同的多个种类的部件的效果。
另外,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,起到了能在一系列制造工序中一次性精度良好地制造形状不同的多个种类的至少一部分相互密接或抵接的部件的效果。
进而根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,起到能在一系列制造工序中一次性精度良好地制造形状不同的多个种类的以至少一部分相互密接或抵接的状态相对移动的部件的效果。
附图说明
图1是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其1)。
图2是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其2)。
图3是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其3)。
图4是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其4)。
图5是表示电铸槽内的配置状态的说明图。
图6是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其5)。
图7是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其6)。
图8是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其7)。
图9是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其8)。
图10是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其9)。
图11是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其10)。
图12是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其11)。
图13是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其12)。
图14表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图(其1)。
图15表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图(其2)。
图16表示本发明所涉及的实施方式2的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图(其1)。
图17表示本发明所涉及的实施方式2的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图(其2)。
图18表示本发明所涉及的实施方式2的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图(其3)。
图19表示本发明所涉及的实施方式2的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图(其4)。
图20表示本发明所涉及的实施方式2的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图(其5)。
图21表示本发明所涉及的实施方式2的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图(其6)。
图22表示本发明所涉及的实施方式2的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图(其7)。
图23是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其1)。
图24是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其2)。
图25是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其3)。
图26是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其4)。
图27是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其5)。
图28是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其6)。
图29是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其7)。
图30是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其8)。
图31是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其9)。
图32是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其10)。
图33是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的说明图(其11)。
图34是表示机械式钟表中的摆轮以及该装备于摆轮的砝码的一例的说明图(其1)。
图35是表示机械式钟表中的摆轮以及该装备于摆轮的砝码的一例的说明图(其2)。
图36是表示用本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的摆轮以及该装备于摆轮的砝码的制造例的说明图(其1)。
图37是表示用本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的摆轮以及该装备于摆轮的砝码的制造例的说明图(其2)。
图38是表示用本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的摆轮以及该装备于摆轮的砝码的制造例的说明图(其3)。
图39是表示齿轮与轴承的嵌合状态的俯视图。
图40是表示用本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的齿轮以及轴承的制造例的说明图(其1)。
图41是表示用本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的齿轮以及轴承的制造例的说明图(其2)。
图42是表示用本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的齿轮以及轴承的制造例的说明图(其3)。
图43是表示擒纵轮的俯视图。
图44是将图43中虚线示出的长圆A所包围的部分局部放大来表示的俯视图。
图45是将图44中的从箭头B方向观察的部分局部放大来表示的俯视图。
图46是表示本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的擒纵轮以及平板状的小部件的制造例的说明图(其1)。
图47是表示本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的擒纵轮以及平板状的小部件的制造例的说明图(其2)。
图48是表示本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的擒纵轮以及平板状的小部件的制造例的说明图(其3)。
图49是表示本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的擒纵轮以及平板状的小部件的制造例的说明图(其4)。
图50是表示本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的擒纵轮以及平板状的小部件的制造例的说明图(其5)。
图51是表示转子的一部分的说明图(其1)。
图52是表示转子的一部分的说明图(其2)。
图53是表示转子所具备的转子轴的说明图(其1)。
图54是表示转子所具备的转子轴的说明图(其2)。
图55是表示装入到指针式钟表的针以及套筒的说明图。
具体实施方式
以下参考附图来详细说明本发明所涉及的电铸部件的制造方法的优选的实施方式。
<实施方式1>
在实施方式1中,作为本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法,说明应用LIGA(Lithographie,Galvanoformung,Abformung,光刻、电铸和注塑)法的电铸部件的制造方法。LIGA法是将X射线光刻、电铸和铸模组合来制造目的的部件(结构物)的方法,能制造宽高比(与加工宽度相对的深度(高度)之比)大的部件。
在使用LIGA法制造电铸部件时,对厚度100μm以上的阻挡剂(感光性有机材料)隔着掩模(X射线掩模)用X射线进行曝光,由此将该掩模的图案转印在阻挡剂上。由此能制造100μm以上的深度(高度)、横向(沿着基板的面的方向)任意形状的部件。X射线优选使用从例如直线前进性良好的同步加速辐射(SR)光装置产生的X射线。
实施方式1的电铸部件的制造方法,例如能用在组装该电铸部件而构成的制品中相互嵌合或卡合的电铸部件(第1电铸部件以及第2电铸部件)的制造。这样的电铸部件具体例如能由轴和轴承、或者构成齿轮系的齿轮等实现。相互嵌合的电铸部件(第1电铸部件以及第2电铸部件)也可以相对旋转或滑动那样进行嵌合。
更具体地,根据实施方式1的电铸部件的制造方法,能将相互嵌合的电铸部件当中、轴所嵌入的轴承作为第1电铸部件,将嵌入到轴承的轴作为嵌入的第2电铸部件。另外,更具体地,根据实施方式1的电铸部件的制造方法,能由构成齿轮系的各齿轮实现相互卡合的第1电铸部件以及第2电铸部件的各自。
(电铸部件的制造次序)
首先说明本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法。图1~图4以及图6~图13是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法的电铸部件的制造次序的说明图。图5是表示电铸槽内的配置状态的说明图。在图1~图4以及图6~图13中示意示出实施方式1的电铸部件的制造方法的电铸部件的各制造工序中的电铸部件的截面。在图5中示意示出实施方式1的电铸部件的制造方法的一个工序中的电铸槽内的配置状态。
在实施方式1的电铸部件的制造方法的电铸部件的制造时,首先如图1所示那样准备基板1。基板1例如能使用有良好的绝缘性的绝缘材料(绝缘件)形成。具体地,基板1例如能使用玻璃或塑料等的绝缘材料形成。
或者,基板1例如也可以使用有半导电性的半导体材料(半导电件)形成。在该情况下,具体地,基板1例如能用硅(Si)等半导体材料形成。在实施方式1中,将用硅形成的硅基板用作基板1。以下对硅基板标注标号1来进行说明。
接下来如图2所示那样在硅基板1的表面侧形成导电层2。导电层2能使用有良好的导电性的材料形成。具体地,导电层2例如能用溅射等方法将铜(Cu)或金(Au)等金属材料以均匀的厚度涂布在硅基板1的表面来形成。更具体地,导电层2(籽晶金属)通过在硅基板1的表面侧将铜(Cu)或金(Au)等金属材料设置为1μm~2μm程度的厚度来形成。导电层2也被称作籽晶金属。
接下来,如图3所示那样在导电层2的表面侧形成第1光阻挡层3,对该第1光阻挡层3进行图案形成,由此在该第1光阻挡层3形成开口(第1贯通孔)3a。开口3a例如在厚度方向上贯通第1光阻挡层3那样形成。在作为电铸部件而制造例如轴和轴承的情况下,开口3a设置在成为轴承的部件,为了承受轴而形成为能***(嵌合)该轴的大小(内径以及深度)。由形成开口3a的第1光阻挡层3以及导电层2实现第1电铸模7。
在第1电铸模7的形成时,具体地,首先在导电层2的表面侧以比要制造的第1电铸部件的厚度更厚的厚度涂布正型的光阻剂,形成第1光阻挡层3。第1光阻挡层3例如涂布成数100μm~500μm程度的均匀的厚度。
接下来,在第1光阻挡层3的表面侧设置将与开口3a对应的部分以外的部分遮光的光掩模。然后在设置了光掩模的状态下照射紫外线或X射线等来进行曝光。之后将第1光阻挡层3(硅基板1)使用碱溶液等进行显影,将通过曝光而感光的部分除去。能通过这样的图案形成来形成开口3a,能作成第1电铸模7。
第1电铸模7并不限于使用正型的光阻剂来作成。第1电铸模7也可以使用负型的光阻剂来作成。在使用负型的光阻剂作成第1电铸模7的情况下,使用仅将与开口3a对应的部分遮光的光掩模。
接下来,如图4所示那样,进行将实现第1电铸模7的导电层2作为一方的电极的电铸,在第1光阻挡层3中的开口3a内的导电层2的表面侧使第1电铸构件4沉积。在使第1电铸构件4沉积的电铸时,在图5所示的电铸槽15内填充电解液16,在该电解液16的液中浸渍图3所示的第1电铸模7。第1电铸模7在电解液16的液中以使第1光阻挡层3侧与对置电极17对置的状态浸渍。
对置电极17使用与第1电铸构件4相同的金属材料形成。具体地,对置电极17例如能使用镍(Ni)。电解液16使用与进行电铸的金属相应的电解液。具体地,在作为第1电铸构件4对镍进行电铸的情况下,使用镍电解液。更具体地,作为第1电铸构件4对镍进行电铸的情况下的电解液16例如使用包含氨基磺酸镍水和盐的水溶液。作为使第1电铸构件4沉积的电铸中所用的电铸材料,并不限于镍,还能使用铜(Cu)、金(Au)、银(Ag)、铁(Fe)、含这些金属的合金等、能用在电铸中的全部材料。
在使第1电铸构件4沉积的电铸时,接下来在浸渍在电解液16的液中的状态的第1电铸模7的导电层2与对置电极17之间由电源18施加直流电压。为了让对置电极17成为正电极(阳极)、导电层2成为负电极(阴极)而施加直流电压。通过施加直流电压,电解液16中从对置电极17电解的金属离子向图5中箭头F示出的方向泳动,从而在第1电铸模7的第1光阻挡层3的开口3a内的导电层2的表面侧电沉积。
从对置电极17电解的金属离子的电沉积,在施加直流电压的期间持续。由此,从对置电极17电解的金属离子不断作为第1电铸构件4而沉积。电铸进行到第1电铸构件4形成为从第1光阻挡层3的表面少许突出而***的程度的厚度为止。
接下来,如图6所示那样,通过将第1电铸构件4以及第1光阻挡层3的表面侧平坦化来形成第1电铸部件4A、4B。具体地,例如将第1电铸构件4的表面侧的一部分和第1光阻挡层3一起磨削从而平坦化,来形成第1电铸部件4A、4B。在将第1电铸构件4的表面侧的一部分以及第1光阻挡层3的表面侧平坦化时的磨削中,包含利用磨床(磨石)的「磨削」以及与利用磨石的磨削相比使表面性状(表面粗糙度)更平滑的「研磨」。第1电铸构件4以及第1光阻挡层3的平坦化,进行到第1电铸构件4以及第1光阻挡层3成为给定的厚度为止。
接下来如图7所示那样,从导电层2除去第1光阻挡层3。第1光阻挡层3例如能通过使将第1电铸构件4以及第1光阻挡层3平坦化的硅基板1浸渍到剥离液中来除去。剥离液是溶解第1光阻挡层3但不溶解导电层2、第1电铸构件4、硅基板1的药液,能使用公知的各种药液。
接下来,在第1电铸部件4A、4B的表面当中、露出到外部的表面,形成用于使第2电铸部件易于从第1电铸部件脱离的脱离用的膜。该脱离用的膜能由使用树脂形成的膜(树脂膜)、使用含碳或氢的有机化合物等形成的膜、使用氮形成的膜(氮化膜)等实现。这些脱离用的膜的形成能使用公知的技术进行。
或者脱离用的膜能用氧化膜实现。例如能将如图7所示那样除去第1光阻挡层3的硅基板1投入到设为给定的氧化气氛的氧化炉,使其氧化给定的时间,由此形成实现脱离用的膜的氧化膜。或者也可以将如图7所示那样除去第1光阻挡层3的硅基板1暴露在大气中一定时间来使表面氧化,用由此形成的表面氧化膜形成实现脱离用的膜的氧化膜。使第2电铸部件的脱离容易的脱离用的膜由于极薄,因而省略图示。
接下来如图8所示那样,在导电层2的表面侧形成第2光阻挡层5,通过对该第2光阻挡层5进行图案形成来在该第2光阻挡层5形成开口(第2贯通孔)5a。开口5a在厚度方向上贯通第2光阻挡层5那样形成。另外,在沿着该硅基板1的板厚方向观察硅基板1的情况下,开口5a形成得与第1电铸部件4A、4B部分重复。
由此在开口5a内,第1电铸部件4A、4B当中不与第2光阻挡层5重复(不重叠)的部分局部突出。由形成开口5a的第2光阻挡层5、在开口5a内突出的第1电铸部件4A、4B以及导电层2实现第2电铸模8。
在第2电铸模8的形成时,具体地,首先在导电层2的表面侧以比要制造的第2电铸部件的厚度更厚的厚度涂布正型的光阻剂,形成第2光阻挡层5。第2光阻挡层5从表面侧覆盖第1电铸部件4A、4B而形成。
接下来,在第2光阻挡层5的表面侧设置将与开口5a对应的部分以外的部分遮光的光掩模。然后在设置了光掩模的状态下照射紫外线或X射线等来进行曝光。之后将第2光阻挡层5(硅基板1)使用碱溶液等进行显影,将通过曝光而感光的部分除去。能通过这样的图案形成来形成开口5a,能作成第2电铸模8。
第2电铸模8能与上述的第1电铸模7同样地形成,并不限于使用正型的光阻剂形成。第2电铸模8也可以使用负型的光阻剂来作成。在使用负型的光阻剂形成第2电铸模8的情况下,使用仅将与开口5a对应的部分遮光的光掩模。
上述的脱离用的膜形成在第1电铸部件4A、4B与第2电铸部件接触的表面即可。例如也可以取代在图7所示那样通过将第1光阻挡层3除去而露出的第1电铸部件4A、4B的外表面整体设置脱离用的膜,如图8所示那样,在第2光阻挡层5形成开口5a的状态下,在开口5a内露出的第1电铸部件4A、4B的表面形成脱离用的膜。
接下来,如图9所示那样进行将实现第2电铸模8的导电层2作为一方的电极的电铸,在第2光阻挡层5中的开口5a内的导电层2的表面侧以及第1电铸部件4A、4B的表面侧使第2电铸构件6沉积。在使第2电铸构件6沉积的电铸时,在上述的图5所示的电铸槽15内填充电解液16,在该电解液16的液中浸渍图9所示的第2电铸模8。
第2电铸模8在电解液16的液中以使第2光阻挡层5侧与对置电极17对置的状态浸渍。电解液16与使第1电铸构件4沉积的电铸同样地使用与进行电铸的金属即形成第2电铸构件6的材料相应的电解液。第2电铸构件6既可以由与第1电铸构件4相同的金属实现,也可以由不同于第1电铸构件4的金属实现。
在使第2电铸构件6沉积的电铸时,接下来在浸渍在电解液16的液中的状态的第2电铸模8的导电层2与对置电极17之间,与使第1电铸构件4沉积时同样地由电源18施加直流电压。在该情况下,对置电极17成为正电极(阳极),导电层2成为负电极(阴极)。通过施加直流电压,电解液16中从对置电极17电解的金属离子向图5中箭头F示出的方向泳动,从而在第2电铸模8的第2光阻挡层5的开口5a内的导电层2的表面侧电沉积。使第2电铸构件6沉积的电铸进行到第2电铸构件6形成为从第2光阻挡层5的表面少许突出而***的程度的厚度为止。
在上述的用于使第2电铸部件的脱离容易的脱离用的膜介于第2电铸构件6与第1电铸部件4A、4B而存在的状态下使第2电铸部件6沉积。即,在第1电铸部件4A、4B和第2电铸构件6中,上述的用于使第2电铸部件的脱离容易的脱离用的膜介于相互对置的面之间而存在。
接下来,如图10所示那样,通过将第2电铸构件6以及第2光阻挡层5的表面侧平坦化来形成第2电铸部件6A、6B。具体地,例如将第2电铸构件6的表面侧的一部分和第2光阻挡层5一起磨削来平坦化,从而形成第2电铸部件6A、6B。平坦化进行到第2电铸构件6以及第2光阻挡层5成为给定的厚度为止。在将第2电铸构件6的表面侧的一部分以及第2光阻挡层5的表面侧平坦化时的磨削中,包含利用磨床(磨石)的「磨削」以及与利用磨石的磨削相比使表面性状(表面粗糙度)更平滑的「研磨」。第2电铸构件6以及第2光阻挡层5的平坦化进行到第2电铸构件6以及第2光阻挡层5成为给定的厚度为止。
接下来如图11所示那样除去硅基板1以及导电层2。硅基板1以及导电层2,例如能通过从硅基板1的背面侧磨削硅基板1以及导电层2来除去。在除去硅基板1以及导电层2时的磨削中,包含利用磨床(磨石)的「磨削」以及与利用磨石的磨削相比使表面性状(表面粗糙度)更平滑的「研磨」。由此除去硅基板1以及导电层2,留下由第1电铸部件4A、4B以及第2电铸部件6A、6B和第2光阻挡层5构成的结构物。
在硅基板1以及导电层2的除去时,也可以在图10所示那样平坦化的第2光阻挡层5以及第2电铸部件6A、6B的表面侧根据需要贴附强化支承板或保护贴膜等,来对第2光阻挡层5以及第2电铸部件6A、6B进行支承(强化)。由此在用磨削以及研磨除去硅基板1以及导电层2时,防止了第1电铸部件4A、4B等的结构物的一部分脱落,能容易地进行硅基板1以及导电层2的除去。
接下来如图12所示那样除去第2光阻挡层5。例如将图11所示的结构物浸渍在剥离液中使第2光阻挡层5溶解,由此进行第2光阻挡层5的除去。由此第1电铸部件4A、4B和第2电铸部件6A、6B以紧贴的状态留下。
之后如图13所示那样,个别取出第1电铸部件4A、4B和第2电铸部件6A、6B。如上述那样,由于用于使第2电铸部件的脱离容易的脱离用的膜介于第1电铸部件4A、4B与第2电铸部件6A、6B的接触面间存在,因此在除去第2光阻挡层5时仅施加稍许的力就能使第1电铸部件4A、4B和第2电铸部件6A、6B无损伤地脱离,能个别取出第1电铸部件4A、4B和第2电铸部件6A、6B。
如此地,能在一系列制造工序中一次性效率良好且精度良好地制造与第1电铸部件4A、4B重叠的部分成为梯级部的带阶梯的第2电铸部件6A、6B和平板状的第1电铸部件4A、4B。另外,在第1电铸部件4A、4B和第2电铸部件6A、6B如图12所示那样具有在相互密接或抵接的状态下相对移动的面的情况下,能精度良好地形成相对移动的面。第1电铸部件4A、4B和第2电铸部件6A、6B的材料能选择与各自用途相应的最佳的金属。
在实施方式1中的电铸部件的制造时,说明了作为基板而使用硅基板1的示例。能对硅基板1进行基于D-RIE(深反应RIE)技术的蚀刻加工。由此在实施方式1中的电铸部件的制造时,通过作为基板而使用硅基板1,能容易地加工电铸模(第1电铸模7、第2电铸模8)的形状。
由此能提高电铸模(第1电铸模7、第2电铸模8)的形状的自由度,能形成复杂的形状的电铸模(第1电铸模7、第2电铸模8)。例如对图2所示那样形成导电层2之前的图1所示的状态的硅基板1进行与第1电铸部件4A、4B的下部(第1电铸部件4A、4B中的导电层2侧)的形状相应的蚀刻加工,能由此在第1电铸部件4A、4B的下部形成复杂的形状。
上述的图6~图13所示的第1电铸部件4A、4B既可以分别是独立的部件,也可以是一体的部件。上述的图10~图13所示的第2电铸部件6A、6B既可以分别是独立的部件,也可以是一体的部件。另外,也可以让第1电铸部件4A、4B分别是独立的部件,第2电铸部件6A、6B是一体的部件。或者也可以让第1电铸部件4A、4B是一体的部件,第2电铸部件6A、6B分别是独立的部件。
(第1电铸部件以及第2电铸部件的一例)
接下来说明用上述的实施方式1的电铸部件的制造方法制造的第1电铸部件以及第2电铸部件的一例。图14以及图15是表示本发明所涉及的实施方式1的电铸部件的制造方法的电铸部件的制造次序的一部分的说明图。
在图14以及图15中示出第1电铸部件4A、4B是一体的部件且第2电铸部件6A、6B是一体的部件的情况下的电铸部件的制造次序的一部分。在图14中示出与上述的图12中示出的工序相当的工序。在图15中示出与上述的图13中示出的工序相当的工序。
在第1电铸部件4A、4B是一体的部件且第2电铸部件6A、6B是一体的部件的情况下,在除去第2光阻挡层5的状态下,如图14以及图15所示那样,第1电铸部件4A、4B构成单一的第1电铸部件40。另外,在该状态下,如图14以及图15所示那样,第2电铸部件6A、6B构成单一的第2电铸部件60。
第2电铸部件60例如能由形成大致圆筒形状的构件实现。第2电铸部件60如图14以及图15所示那样具备圆筒部60a。在圆筒部60a中,在表面侧的端部设置凸缘部60b。
在第2电铸部件60中,在圆筒60a的内周形成在轴心方向上贯通圆筒部60a的中心孔60c。中心孔60c的内径在圆筒部60a以及凸缘部60b被设为相同尺寸。即,凸缘部60b的内径与圆筒部60a的内径相等,凸缘部60b的外径大于圆筒部60a的外径。这样的第2电铸部件60具体例如能由在圆筒部60a与凸缘部60b的边界具备梯级的、轴承等的带阶梯部件实现。
第1电铸部件40例如能由图15所示那样的构件实现,其在中心部具备圆形的开口部40a,环状且形成平板状。第1电铸部件40更具体例如能由连杆或齿轮等实现。在第1电铸部件40中,开口部40a的内径形成得与圆筒部60a的外径相同(或稍大)。
由此,通过使第2电铸部件60的圆筒部60a嵌合在开口部40a来使第1电铸部件40的内周面和第2电铸部件60的外周面相互密接(或抵接),能在这样的状态下使第1电铸部件40和第2电铸部件60相对移动。
第1电铸部件40以及第2电铸部件60可以是在轴部相互嵌合的大齿轮和小齿轮(龆轮)。第1电铸部件40可以是第2电铸部件60能相对旋转地嵌合的部件。第1电铸部件40和第2电铸部件60只要是具有相互密接或抵接地相对移动的面的部件即可,并不限于环状、圆筒状或圆柱状的部件。
如以上说明的那样,根据实施方式1的电铸部件的制造方法,能在一系列制造工序中高精度制造第1电铸部件40以及第2电铸部件60那样具有通过相互嵌合而密接的部分的2个种类的电铸部件。即,第2电铸部件60由于将第1电铸部件40中的开口部40a作为模而形成,因此能使形成的第1电铸部件40和第2电铸部件60没有偏离或松动地高精度嵌合。
另外,根据实施方式1的电铸部件的制造方法,在相互嵌合的部件当中至少一方是具备第2电铸部件60中的圆筒部60a与凸缘部60b的边界部分那样的级差部的部件(带阶梯部件)的情况下,也能在一系列制造工序中高精度制造这2个种类的电铸部件。并且,由此在制造至少一方是带阶梯部件、相互嵌合的多个种类的部件的情况下,也不会在嵌合的状态下发生部件间的偏离或松动,能高精度嵌合。
由此在相互嵌合的部件彼此在密接或抵接的状态下相对移动(滑动)的情况下,也能使得不会发生部件间的偏离或松动、精度地相对移动(滑动)。并且,由此能防止使这些部件彼此相对移动而引起的部件彼此的碰撞导致的冲击或者部件间的摩擦导致的疲劳等引起的部件的损伤,能谋求各部件的耐久性的提升。
<实施方式2>
接下来说明本发明所涉及的实施方式2的电铸部件的制造方法。在实施方式2中,对与上述的实施方式1相同部分以相同标号示出,省略说明。图16~图22是表示本发明所涉及的实施方式2的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序的一部分的说明图。实施方式2的电铸部件的制造方法下的电铸部件的制造次序,进行与上述的图1~图4以及图6所示的各工序相同的工序,以后进行图16~图22所示的各工序。
(电铸部件的制造次序)
在以实施方式2的电铸部件的制造方法进行电铸部件的制造时,首先与上述的图1~图4以及图6所示的各工序同样,通过将第1电铸构件4以及第1光阻挡层3的表面侧平坦化来形成第1电铸部件4A、4B。接下来如图16所示那样进行第1电铸部件4A、4B的角部的倒角(倒圆)。该倒角对第1电铸部件4A、4B中的至少位于开口5a内的部分的角部进行。
具体地,倒角例如能通过对第1电铸部件4A、4B进行电解研磨来实现。在电解研磨时,首先如上述的图6所示那样,使将第1电铸构件4以及第1光阻挡层3平坦化的硅基板1(参考上述的图6)浸渍到填充于图5所示的电铸槽15内的电解液16中。这时,硅基板1在电解液16的液中以使第1电铸部件4A、4B侧(硅基板1的表面侧)与对置电极17对置的状态浸渍。
然后在浸渍在电解液16的液中的状态的硅基板1的导电层2与对置电极17之间,由电源18施加直流电压。使对置电极17成为负电极(阴极)、导电层2以及第1电铸部件4A、4B成为正电极(阳极)来施加直流电压。即,直流电压能通过施加与进行上述的电铸情况相反极性的电压来施加。
使导电层2以及第1电铸部件4A、4B为阳极,使对置电极17为阴极,在这样的状态下施加直流电压。通过如此施加直流电压,在电解液16中,在与进行上述的电铸的情况相反方向上流过电流,第1电铸部件4A、4B被电解。通过第1电铸部件4A、4B的电解而产生的金属离子向与图5中箭头F所示的方向相反方向泳动。
在第1电铸部件4A、4B的电解时,角部优先溶解。由此进行第1电铸部件4A、4B的角部的倒角,在第1电铸部件4A、4B形成倒角部4a。电解研磨(直流电压的施加)进行与第1电铸部件4A、4B、第2电铸部件6A、6B的形状、第1电铸部件4A、4B的大小等相应的给定时间。
进行电解研磨的给定时间越长,则相比于短的情况则角部越多地被电解(溶解),更大地被倒角,形成更平缓的R形状。在实施方式2的电铸部件的制造方法的电铸部件的制造中,进行电解研磨的给定时间设为短时间,以使进行电解研磨后的第1电铸部件4A、4B仅角部被倒角,成为与进行电解研磨前的第1电铸部件4A、4B的形状大致同等的形状。
倒角部4a并不限于通过电解研磨形成。也可以取代电解研磨,通过湿式蚀刻来形成倒角部4a。使将第1电铸构件4以及第1光阻挡层3平坦化的硅基板1浸渍在溶解第1电铸部件4A、4B(第1电铸构件4)的蚀刻液中给定时间,由此进行该情况下的湿式蚀刻。
在进行湿式蚀刻的情况下,也与电解研磨同样,第1电铸部件4A、4B的角部优先溶解。由此进行第1电铸部件4A、4B的角部的倒角,在第1电铸部件4A、4B形成倒角部4a。湿式蚀刻进行与第1电铸部件4A、4B、第2电铸部件6A、6B的形状、第1电铸部件4A、4B的大小等相应的给定时间。
进行湿式蚀刻的给定时间越长,则相比于短的情况下,角部越多被蚀刻(溶解),越大被倒角,形成越平缓的R形状。在实施方式2的电铸部件的制造方法进行的电铸部件的制造中,在通过湿式蚀刻进行倒角的情况下,进行湿式蚀刻的给定时间设为短时间,以使进行湿式蚀刻后的第1电铸部件4A、4B仅角部被倒角,成为与进行湿式蚀刻前的第1电铸部件4A、4B的形状大致同等的形状。
接下来,在进行第1电铸部件4A、4B的角部的倒角后,在第1电铸部件4A、4B的表面当中露出到外部的表面形成脱离用的膜。然后如图17所示那样在导电层2的表面侧形成第2光阻挡层5,通过对该第2光阻挡层5进行图案形成来在该第2光阻挡层5形成开口(第2贯通孔)5a。开口5a与上述的实施方式1同样地在厚度方向上贯通第2光阻挡层5那样形成。另外,开口5a与上述的实施方式1同样,在沿着该硅基板1的板厚方向观察硅基板1的情况下,形成得与第1电铸部件4A、4B部分重复。
由此在开口5a内,第1电铸部件4A、4B当中不与第2光阻挡层5重复(不重叠)的部分局部突出。在开口5a内,第1电铸部件4A、4B中的倒角部4a突出。在该状态下,如图18所示那样,与上述的实施方式1同样,进行以导电层2为一方的电极的电铸,直到第2电铸构件6形成为从第2光阻挡层5的表面少许突出而***的程度的厚度。
第2电铸构件6在与第1电铸部件4A、4B中的倒角部4a对置的部分形成弯曲的R形状,以覆盖倒角部4a。由于在第1电铸部件4A、4B的角部形成倒角部4a,因此在其上重叠进行电铸而形成的第2电铸构件6的内侧的角部成为转印倒角部4a而对应的凹曲面(或斜面状)。
关于上述的脱离用的膜,例如可以取代图16所示那样在除去第1光阻挡层3而露出的第1电铸部件4A、4B的外表面整体设置脱离用的膜,而如图17所示那样,在第2光阻挡层5形成开口5a的状态下,在露出于开口5a内的第1电铸部件4A、4B的表面形成脱离用的膜。
以后进行与上述的实施方式1中的图10~图13所示的工序同样的工序。即,如图19所示那样进行第2电铸构件6以及第2光阻挡层5的平坦化,接下来如图20所示那样进行硅基板1以及导电层2的除去。接下来,如图21所示那样,在除去第2光阻挡层5后,如图22所示那样个别取出第1电铸部件4A、4B和第2电铸部件6A、6B。
如上述那样在第1电铸部件4A、4B的角部形成倒角部4a。由此如图22所示那样,第2电铸部件6A、6B中与该倒角部4a对置的角部6b也成为与第1电铸部件4A、4B的倒角部4a对应的凹曲面(或斜面状)。
由此能使第1电铸部件4A、4B中的倒角部4a、以及第2电铸部件6A、6B的角部6b中的应力分散。并且由此能提高第1电铸部件4A、4B以及第2电铸部件6A、6B的强度,能提升耐久性。
如以上说明的那样,根据实施方式2的电铸部件的制造方法,进行第1电铸部件4A、4B当中与至少位于开口5a内的第2电铸部件6A、6B重叠的部分的角部的倒角。由此能消除第1电铸部件4A、4B(第1电铸部件40)以及第2电铸部件6A、6B(第2电铸部件60)相互接触的部分中的边缘。
由此,在相互嵌合的部件当中至少一方是具备第2电铸部件60中的圆筒部60a与凸缘部60b的边界部分那样的级差部的带阶梯部件的情况下,也能消除接触所引起的应力局部集中,能使该应力分散。并且,由此除了上述的实施方式1的电铸部件的制造方法的作用效果以外,还能提高第1电铸部件4A、4B以及第2电铸部件6A、6B的强度,提升耐久性。
另外,根据实施方式2的电铸部件的制造方法,能在电铸部件的角部进行倒角(倒圆)。由此能提高电铸部件的审美性,能谋求美观的提升。特别是,通过将通过实施方式2的电铸部件的制造方法制造的电铸部件用作能视觉辨识机芯的钟表的部件,能提高该钟表的审美性,能谋求美观的提升。
在实施方式2的电铸部件的制造方法的电铸部件的制造时,也能在一系列制造工序中制造图14以及图15所示的第1电铸部件40以及第2电铸部件60那样环状且平板状的部件、和与其重叠的部分成为梯级部的带阶梯的圆筒或圆柱状的部件。在该情况下,由于在第1电铸部件40和第2电铸部件60具有通过嵌合等而密接并相对旋转(移动)的面时,该密接的部分的角部4a也被倒角而没有边缘,因此消除了接触所引起的应力局部集中,能提高各电铸部件的强度,能提升耐久性。
<实施方式3>
接下来说明本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法。在实施方式3中,对与上述的实施方式1、实施方式2相同部分以相同标号示出,省略说明。图23~图33是表示本发明所涉及的实施方式3的电铸部件的制造方法的电铸部件的制造次序的说明图。
(电铸部件的制造次序)
在用实施方式3的电铸部件的制造方法进行的电铸部件的制造时,首先如图23所示那样准备基板10。基板10例如能使用有良好的导电性的导电材料(导电件)形成。具体地,基板10例如能使用铜、黄铜、不锈钢等金属(包含合金)等的导电材料形成。
在实施方式3的电铸部件的制造方法中,通过使用用导电材料形成的基板10,不再需要上述的实施方式1、实施方式2中的在基板(硅基板)1的表面形成导电层2的工序(参考图2)。在实施方式3中,将用导电材料形成的金属基板用作基板10。以下在金属基板标注标号10来进行说明。
接下来进行与上述的实施方式1中的图3、图4以及图6~图13所示的工序同样的工序。即,首先在金属基板10的表面侧形成第1光阻挡层3,通过对该第1光阻挡层3进行图案形成,如图24所示那样在第1光阻挡层3形成开口(第1贯通孔)3a。由形成于金属基板10的表面侧且形成开口3a的第1光阻挡层3以及金属基板10实现第1电铸模7’。
接下来如图25所示那样,将实现第1电铸模7’的金属基板10作为一方的电极,与上述的实施方式1同样地进行电铸,在金属基板10的表面侧、在第1光阻挡层3中的开口3a内,使第1电铸构件4沉积。接下来与上述的实施方式1同样地,如图26所示那样,通过将第1电铸构件4以及第1光阻挡层3的表面侧平坦化来形成第1电铸部件4A、4B。
接下来如图27所示那样从金属基板10除去第1光阻挡层3。第1光阻挡层3例如能与上述的实施方式1同样地通过使将第1电铸构件4以及第1光阻挡层3平坦化的金属基板10浸渍在剥离液中来除去。然后在第1电铸部件4A、4B的表面当中露出到外部的表面形成脱离用的膜。
接下来,在金属基板10的表面侧形成第2光阻挡层5,对该第2光阻挡层5进行图案形成,由此如图28所示那样在第2光阻挡层5形成开口(第2贯通孔)5a。由形成于金属基板10的表面侧且形成开口5a的第2光阻挡层5以及金属基板10实现第2电铸模8’。
接下来如图29所示那样,将实现第2电铸模8’的金属基板10作为一方的电极,与上述的实施方式1同样地进行电铸,在第2光阻挡层5中的开口5a内的导电层2的表面侧以及第1电铸部件4A、4B的表面侧使第2电铸构件6沉积。然后如图30所示那样,将第2电铸构件6的表面侧的一部分和第2光阻挡层5一起磨削从而平坦化,来形成第2电铸部件6A、6B。
接下来如图31所示那样,在进行金属基板10的除去后,如图32所示那样除去第2光阻挡层5。金属基板10例如能通过从与金属基板10中形成第1电铸部件4A、4B、第2电铸部件6A、6B的面(表面)相反侧的面(背面)侧磨削来除去。
之后如图33所示那样,个别取出第1电铸部件4A、4B和第2电铸部件6A、6B。由于在第1电铸部件4A、4B与第2电铸部件6A、6B之间形成脱离用的膜,因此能使第1电铸部件4A、4B以及第2电铸部件6A、6B无损伤地脱离,从而取出。
如以上说明的那样,根据实施方式3的电铸部件的制造方法,与上述的实施方式1同样地,能在一系列制造工序中高精度制造第1电铸部件40以及第2电铸部件60那样具有通过相互嵌合而密接的部分的2个种类的电铸部件。即,第2电铸部件60由于将第1电铸部件40中的开口部40a作为模而形成,因此能使形成的第1电铸部件40和第2电铸部件60不发生偏离或松动地高精度嵌合。
另外,根据实施方式3的电铸部件的制造方法,与上述的实施方式1同样,在相互嵌合的部件当中至少一方是具备第2电铸部件60中的圆筒部60a与凸缘部60b的边界部分那样的级差部的带阶梯部件的情况下,也能在一系列制造工序中高精度制造这2个种类的电铸部件。并且,由此在制造至少一方是带阶梯部件的相互嵌合的多个种类的部件的情况下,也不会发生嵌合的状态下的部件间的偏离或松动,能高精度嵌合。
由此在相互嵌合的部件彼此在密接或抵接的状态下相对移动(滑动)的情况下,也不会发生部件间的偏离或松动,能高精度地相对移动(滑动)。并且,由此能防止使这些部件彼此相对移动而引起的部件彼此的碰撞导致的冲击或者部件间的摩擦导致的疲劳等引起的部件的损伤,能谋求各部件的耐久性的提升。
进而根据实施方式3的电铸部件的制造方法,由于与上述的实施方式1、实施方式2相比,不再需要在基板(硅基板)1的表面侧形成导电层2的工序,因此减少了电铸部件的制造工序,能缩短电铸部件的制造所涉及的时间。
另外,进一步地,由于金属基板10比硅基板1等由绝缘件或半导电件构成的基板1耐久性要高,因此提升了电铸部件的制造时的可操作性,能提升制造效率。即,通过使用金属基板10,由于能在制造中途没有损坏而确实地支承第1电铸部件4A、4B(第1电铸部件40)以及第2电铸部件6A、6B(第2电铸部件60),因此能谋求电铸部件的制造效率的提升,并能谋求制造所涉及的作业者的负担减轻。
在由实施方式3的电铸部件的制造方法进行的电铸部件的制造时,也可以与上述的实施方式2同样,在图27所示的工序中,在第1电铸部件4A、4B的露出的表面形成使第2电铸部件6A、6B的脱离容易的脱离用的膜之前,进行第1电铸部件4A、4B当中与至少位于开口5a内的第2电铸部件6A、6B重叠的部分的角部的倒角。该情况下的倒角与上述同样,能通过进行短时间的电解研磨或湿式蚀刻来实施。
如此,通过进行第1电铸部件4A、4B的角部的倒角,能消除第1电铸部件4A、4B(第1电铸部件40)以及第2电铸部件6A、6B(第2电铸部件60)相互接触的部分的边缘。由此能使第1电铸部件4A、4B(第1电铸部件40)以及第2电铸部件6A、6B(第2电铸部件60)相互接触所引起的应力分散,能提高第1电铸部件4A、4B以及第2电铸部件6A、6B的强度,能提升耐久性。
<具体的部件的制造例>
接下来说明通过上述的实施方式1~3的电铸部件的制造方法制造的第1电铸部件4A、4B以及第2电铸部件6A、6B的具体的部件的制造例。
(摆轮和砝码的制造例)
首先说明装入机械式钟表的摆轮以及砝码的制造例。在机械式钟表中,将摆轮和游丝组合来构成调速器(也称作摆轮游丝机构),通过游丝的力让摆轮以固定周期往复来回转动。摆轮游丝机构通过摆轮的往复转动使擒纵叉摇摆,使擒纵轮1齿1齿地进给(即以固定速度旋转),来标记时间。擒纵叉和擒纵轮均被称作擒纵机构。
在机械式钟表中,通过摆轮的往复运动而改变机械式钟表所报知的时间的超前、滞后、即所谓的快慢程度。为此,摆轮为了进行给定的往复运动而对重量和惯性动量做出规定。一般,为了使机械式钟表成为设计那样的快慢程度,多使用装备于游丝的被称作快慢针的调整机构,或在摆轮的周围等设置砝码,由此进行调整。
图34以及图35是表示机械式钟表中的摆轮以及该装备于摆轮的砝码的一例的说明图。在图34中,示出砝码以及装备该砝码的摆轮的俯视图。图35表示将摆轮以及砝码的装备部放大的分解立体图。
如图34所示那样,在摆轮20等角度间隔装备4个小圆板状的砝码25。在摆轮20的上表面侧的各砝码装备部,如图35中放大示出的那样,形成稍长于砝码25的外径、且与砝码25的厚度同等的深度的缺口部20a。在各缺口部20a的低梯级面的中央一体形成支柱(支承轴)20b。在各砝码25设置中心孔25b,在外周面设置缺口部25a。各砝码25使中心孔25b嵌合在支柱20b,从而装备在摆轮20的各缺口部20a。
这样的摆轮20以及4个砝码25能通过使用与上述的实施方式1、实施方式3同样的制造方法在一系列制造工序中一次性制造。在使用与实施方式1同样的制造方法制造摆轮20以及4个砝码25的情况下,首先准备让摆轮20以及4个砝码25在从图34所示的方向观察的情况下全部被收纳的大小的硅基板1。在使用与实施方式3同样的制造方法制造摆轮20以及4个砝码25的情况下,首先准备让摆轮20以及4个砝码25在从图34所示的方向观察的情况下全部被收纳的大小的金属基板10。
图36~图38是表示由本发明所涉及的电铸部件的制造方法进行的机械式钟表中的摆轮以及该装备于摆轮的砝码的制造例的说明图。在图36~图38中示出与实施方式1同样的制造方法下的摆轮20以及砝码25的制造次序的一部分。图36相当于实施方式1的制造次序中的图10的工序。图37相当于实施方式1的制造次序中的图11的工序。图38相当于实施方式1的制造次序中的图13的工序。在图36~图38中示出相当于沿着图34中的X-X线切断摆轮20以及砝码25的截面的部分。另外,在图36~图38中,对与上述的实施方式1~3相同部分以相同标号表示,省略说明。
在摆轮20以及砝码25的制造时,将具有中心孔25b的小圆板状的砝码25作为第1电铸部件,将摆轮20作为第2电铸部件。首先与上述的图1~图4、图6以及图7所示的工序同样,在硅基板1的表面侧形成导电层2,在该导电层2的表面侧形成砝码25。然后在砝码25露出的表面形成用于使摆轮20的脱离容易的脱离用的膜。
接下来与图8所示的工序同样地,在导电层2的表面侧以及砝码25的表面侧的一部分形成第2光阻挡层5,对第2光阻挡层5进行图案形成,由此形成相当于一部分与砝码25重复的摆轮20的平面形状的开口5a。然后与图9所示的工序同样地,在第2光阻挡层5中的开口5a内的导电层2的表面侧以及砝码25的表面侧使第2电铸构件6沉积。
接下来如图36所示那样,通过磨削将第2电铸构件6以及第2光阻挡层5的表面侧平坦化,来形成摆轮20。图36中的摆轮20与砝码25的位置关系和图35中的摆轮20与砝码25的位置关系相反。在图36中示出摆轮20的支柱20b进入到砝码25的中心孔25b、且缺口部20a与砝码25重叠的状态。
接下来,如图37所示那样,通过从硅基板1的背面侧磨削硅基板1以及导电层2来从砝码25以及摆轮20除去硅基板1以及导电层2。之后除去光阻挡层5后,由于使摆轮20的脱离容易的脱离用的膜,能如图38所示那样使摆轮20以及砝码25无损伤、容易地脱离,能个别取出。
如此,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,能在一系列工序中一次性精度良好地制造平板状的部件的砝码25和具有缺口部20a的带阶梯部件的摆轮20。在取代硅基板1和导电层2而使用上述的实施方式3中说明的金属基板10的情况下,也与上述同样,能在一系列工序中一次性精度良好地制造摆轮20以及砝码25。
(齿轮以及轴承的制造例)
接下来说明装入机械式钟表的齿轮以及轴承的制造例。在机械式钟表中使用大量的齿轮。齿轮被轴承支承为能相对于该轴承相对旋转。图39是表示齿轮与轴承的嵌合状态的俯视图。
如图39所示那样,齿轮30具备:形成环形的环状部30b和在环状部30b的外周部分从该环状部30b辐射状突出的多个齿30a。多个齿30a在环状部30b的外周以固定的齿距辐射状突出。在齿轮30中,在环状部30b的内侧设置嵌入轴承35的圆形开口(参考图40~图42中的标号30c)。轴承35以能相对于齿轮30相对旋转的状态嵌入。在轴承35,距中心等距离、等角度间隔地形成4个固定孔35a。轴承35通过***到各固定孔35a的螺钉或销而固定在支承板等。
这样的齿轮30以及轴承35能用与上述的实施方式2同样的制造方法在一系列制造工序中一次性制造。在用与实施方式2同样的制造方法制造齿轮30以及轴承35的情况下,首先准备让齿轮30以及轴承35在从图39中箭头所示的方向观察的情况下全部被收纳的大小的硅基板1。齿轮30以及轴承35在使用与上述的实施方式1、实施方式3同样的制造方法的情况下,也能在一系列制造工序中一次性制造。
图40~图42是表示本发明所涉及的电铸部件的制造方法的机械式钟表中的齿轮30以及轴承35的制造例的说明图。在图40~图42中表示与实施方式2同样的制造方法的齿轮30以及轴承35的制造次序的一部分。图40相当于实施方式2的制造次序中的图19的工序。图41相当于实施方式2的制造次序中的图20的工序。图42相当于实施方式2的制造次序中的图22的工序。在图40~图42中表示相当于沿着图39中的Y-Y线切断齿轮30以及轴承35的截面的部分。另外,在图40~图42中,对与上述的实施方式1~3相同部分以相同标号表示,省略说明。
在齿轮30以及轴承35的制造时,将齿轮30作为第1电铸部件,将轴承35作为第2电铸部件。首先,与图1~图4、图6以及图7所示的工序同样地,在硅基板1的表面侧形成导电层2,在该导电层2的表面侧形成齿轮30。
接下来,与图16所示的工序同样地,进行齿轮30的至少与轴承35接触的部分的角部的倒角(倒圆),来形成倒角部30d。倒角部30d形成在齿轮30的圆形开口30c的上端缘(表面侧的缘)以及齿30a的前端的上端缘(表面侧的缘)。并且在齿轮30的露出的表面形成使轴承35的脱离容易的脱离用的膜。
接下来与图17所示的工序同样地,在导电层2的表面侧以及齿轮30的表面侧的一部分形成第2光阻挡层5,对第2光阻挡层5进行图案形成,由此形成相当于一部分与齿轮30重复的轴承35的平面形状的开口5a。然后与图18所示的工序同样地,在第2光阻挡层5中的开口5a内的导电层2的表面侧以及齿轮30的表面侧使第2电铸构件6沉积。
接下来如图40所示那样,通过将第2电铸构件6以及第2光阻挡层5的表面侧平坦化来形成轴承35。轴承35的小径部35b嵌入到齿轮30的圆形开口30c,大径部35c重叠在齿轮30上。这时,由于轴承35的小径部35b和大径部35c所形成的梯级部的内侧的角部与齿轮30的倒角部30d相接,因此倒角部30d的倒角形状(R形状)被转印,从而做出形成为同样的凹曲面或斜面状的角部35d。
接下来如图41所示那样,从硅基板1的背面侧磨削硅基板1以及导电层2,由此从齿轮30以及轴承35除去硅基板1以及导电层2。之后除去光阻挡层5后,由于使轴承35的脱离容易的脱离用的膜而能如图42所示那样,使齿轮30以及轴承35无损伤、容易地脱离,个别取出。
如此,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,能在一系列工序中一次性精度良好地制造平板状的部件的齿轮30、以及小径部35b和大径部35c所构成的带阶梯部件即轴承35。进一步地,另外,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,通过在齿轮30设置倒角部30d,能精度良好地形成齿轮30以及轴承35相互接触并相对旋转的面。
另外,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,由于通过在齿轮30设置倒角部30d,能消除齿轮30和轴承35接触所引起的应力局部集中,能使该应力分散,因此能提高齿轮30以及轴承35的强度,能提升耐久性。
在齿轮30以及轴承35的制造中,也可以如上述那样取代硅基板1以及导电层2而使用实施方式3中说明的金属基板10。由此也与上述的齿轮30以及轴承35同样,能在一系列工序中一次性精度良好地制造齿轮30和轴承35,且能提升耐久性。
(擒纵轮以及平板状的小部件的制造例)
接下来说明装入到机械式钟表的擒纵轮以及平板状的小部件的制造例。机械式钟表具备擒纵轮。图43是表示擒纵轮的俯视图。如图43所示那样,擒纵轮50形成环形。在擒纵轮50的外周以固定的齿距设置多个齿部51。各齿部51相对于擒纵轮50所形成的环形的辐射方向(半径方向)以一定的角度倾斜而设。
擒纵轮50在机械式钟表通过擒纵叉而1齿1齿地进给,以固定速度间歇旋转,该擒纵因叉摆轮的往复来回转动而摇摆。在擒纵叉中具备为了使擒纵轮50旋转而与擒纵轮50的齿部51卡合的擒纵叉棘爪宝石。擒纵轮50设置在从通过发条旋转的条盒轮起的齿轮系的最后。
图44是将图43中虚线示出的长圆A所包围的部分局部放大来表示的俯视图。图45是将图44中的从箭头B方向观察的部分局部放大来表示的俯视图。如图44以及图45所示那样,齿部51的前端部通过减薄前端侧的厚度而形成为梯级状。在齿部51的前端部当中的最前端设有厚度薄的薄壁部51a。
薄壁部51a的一方的侧面形成前端向侧方(外方)若干突出的释放拐角51c,另一方的侧面的前端(角部)形成锁接拐角51d。保持于擒纵叉的一方的端部的进瓦的释放拐角抵住擒纵轮50的齿部51的释放拐角51c,保持于擒纵叉的另一方端部的出瓦的锁接拐角抵住齿部51的锁接拐角51d。
在齿部51的前端部,通过设置薄壁部51a形成的梯级部的、改换厚度而成为L字状的角部51e,形成为凹曲面(R形状)。如此,通过使角部51e为凹曲面(R形状),与不使梯级部的拐角为凹曲面(R形状)而设为直角(90°)的情况相比,能使角部51e的应力分散,能提高强度。另外,通过在擒纵轮50的齿部51的前端部倒圆形成薄壁部51a而具备存油的功能,从而能防止与擒纵叉棘爪宝石的抵接导致的磨耗。
图46~图50是表示本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的机械式钟表中的擒纵轮50以及平板状的小部件的制造例的说明图。在图46~图50中示出擒纵轮50和擒纵轮50的制造所涉及的一系列制造工序中所制造的平板状的小部件45的制造次序的一部分。
在图46(a)、图47、图48(a)、图49以及图50(a)中,示出与实施方式2同样的制造方法下的擒纵轮50以及平板状的小部件的制造次序的一部分。图46(a)相当于实施方式2的制造次序中的图17的工序。图47相当于实施方式2的制造次序中的图18的工序。图48(a)相当于实施方式2的制造次序中的图19的工序。图49相当于实施方式2的制造次序中的图20的工序。图50(a)相当于实施方式2的制造次序中的图22的工序。
在图46(a)、图47、图48(a)、图49以及图50(a)示出相当于沿着图44中的Z-Z线切断擒纵轮50以及平板状的小部件的截面的部分。在图46(b)、图48(b)以及图50(b)中,分别示出图46(a)、图48(a)以及图50(a)所示的工序中从导电层2侧观察表面侧的状态。在图46(b)以及图48(b)中分别由点线表示平板状的小部件45。另外,在图46~图50中,对与上述的实施方式1~3相同部分以相同标号表示,省略说明。
在用本发明所涉及的电铸部件的制造方法制造擒纵轮50以及平板状的小部件45时,将平板状的小部件45作为第1电铸部件,将擒纵轮50作为第2电铸部件。具体地,在本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的擒纵轮50以及平板状的小部件45的制造时,首先与上述的图1~图4以及图6所示的各工序同样地通过将第1电铸构件4以及第1光阻挡层3的表面侧平坦化来形成平板状的小部件45。
在擒纵轮50以及平板状的小部件45的制造时,平板状的小部件45作为轴瓦发挥功能。接下来进行平板状的小部件45的角部的倒角(倒圆)。该倒角对平板状的小部件45中的至少位于开口5a内的部分的角部进行。然后在平板状的小部件45的表面当中露出到外部的表面形成使擒纵轮50的脱离容易的脱离用的膜。
接下来如图46所示那样,在导电层2的表面侧形成第2光阻挡层5,通过对该第2光阻挡层5进行图案形成来在该第2光阻挡层5形成开口(第2贯通孔)5a。然后如图47所示那样,与上述的实施方式2同样,进行将导电层2作为一方的电极的电铸,直到第2电铸部55沉积到从第2光阻挡层5的表面稍许突出而***的程度的厚度。
接下来如图48所示那样,将第2电铸构件55以及第2光阻挡层5的表面侧磨削平坦化,来形成擒纵轮50。在图48所示的状态下,擒纵轮50中的齿部51的薄壁部51a与小部件45紧贴地重叠。齿部51中形成级差部的角部51e与平板状的小部件45的倒角部45a相接,在角部51e转印倒角部45a的倒角形状(R形状),形成为同样的凹曲面。
接下来,通过如图49所示那样从硅基板1的背面侧磨削硅基板1以及导电层2,来从擒纵轮50以及平板状的小部件45除去硅基板1以及导电层2。之后若除去光阻挡层5,则由于使擒纵轮50的脱离容易的脱离用的膜,如图50所示那样,能使擒纵轮50以及平板状的小部件45无损伤、容易地脱离,能个别取出。
如此,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,能在一系列工序中一次性精度良好地制造带阶梯部件的擒纵轮50和平板状的部件的小部件45。在取代硅基板1和导电层2而使用上述的实施方式3中说明的金属基板10的情况下,也与上述同样,能在一系列工序中一次性精度良好地制造擒纵轮50以及平板状的小部件45。
另外,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,能通过将设于平板状的小部件45的倒角部45a的倒角形状(R形状)转印到角部51e来制造带阶梯部件的擒纵轮50。由此能消除擒纵叉棘爪宝石接触到擒纵轮50所引起的应力局部集中,能使该应力分散,因此能提高薄壁部51a的强度并能提升耐久性。并且由此能提升擒纵轮50的耐久性。
进而根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,能通过将在平板状的小部件45沉积的第2电铸构件6和第2光阻挡层5一起磨削来在齿部51的前端部形成薄壁部51a。由此,由于不用对齿部51的前端部实施进行磨削等的加工就能形成薄壁部51a,因此能防止在制造中途擒纵轮50损坏。并且由此能谋求擒纵轮50的制造效率的提升。
擒纵轮50的制造所涉及的一系列制造工序中制造的平板状的小部件45能变更为任意的平面形状。能通过调整平板状的小部件45的形状来使该平板状的小部件45成为例如粘贴或嵌入在钟表的钟表盘的刻度片、安装在上述的摆轮20的砝码25等各种部件。
(转子轴的制造例)
接下来说明装入石英式钟表等中的转子轴的制造例。图51以及图52是表示转子的一部分的说明图。图52示出沿着穿过A-A线的平面切断图51所示的转子的一部分的截面。图53以及图54是表示转子所具备的转子轴的说明图。图54示出沿着穿过B-B线的平面切断图53所示的转子轴的截面。
如图51~图54所示那样,转子所具备的转子轴52b,一端侧被转子轴承52a支承,设置得能绕轴心旋转。转子轴承52a固定在保持线圈的底板53。转子轴52b设置得能相对于转子轴承52a相对旋转。
在转子轴52b另一端侧设有转子龆轮54。另外,转子轴52b具备设于底板53与转子龆轮54之间的转子磁铁58。转子磁铁58被转子磁铁保持构件57保持。转子磁铁保持构件57在保持转子磁铁58的状态下嵌入在转子轴52b。
在转子轴承52a,在转子轴52b侧的端部形成倒角部56。倒角部56被进行倒角(倒圆),转子轴52b的轴心侧比外周侧更向转子轴52b侧突出,形成倒角形状(R形状)。在转子轴52b,在转子轴承52a侧的端部设置与倒角部56的倒角形状(R形状)对应的凹部(省略标号)。转子轴承52a和转子轴52b通过使倒角部56和凹部抵接来接触。
例如能使用与上述的实施方式2同样的制造方法在一系列制造工序中一次性制造这样的转子轴承52a以及转子轴52b。在利用与实施方式2同样的制造方法的转子轴承52a以及转子轴52b的制造时,将转子轴承52a作为第1电铸部件,将转子轴52b作为第2电铸部件。
具体地,在利用与实施方式2同样的制造方法的转子轴承52a以及转子轴52b的制造时,首先与上述的图1~图4、图6以及图7所示的工序同样地在硅基板1的表面侧形成导电层2,在该导电层2的表面侧形成转子轴承52a。接下来,与图16所示的工序同样地进行转子轴承52a的至少与转子轴52b接触的部分(前端部)的倒角(倒圆),形成倒角部。然后在转子轴承52a的露出的表面形成使转子轴52b的脱离容易的脱离用的膜。
接下来,与图17所示的工序同样地在导电层2的表面侧以及转子轴承52a的表面侧的一部分形成第2光阻挡层5,对第2光阻挡层5进行图案形成,由此形成相当于与转子轴承52a重复的转子轴52b的平面形状的开口5a。然后与图18所示的工序同样地,在第2光阻挡层5中的开口5a内的导电层2的表面侧以及齿轮30的表面侧使第2电铸构件6沉积。
例如能通过分体形成转子轴52b和转子龆轮54,用光阻剂形成转子轴52b的成形所相关的开口5a(第2电铸模8)。或者,多次形成第2光阻挡层5,调整各第2光阻挡层5的图案形成形状,能由此用光阻剂形成具备转子龆轮54等的级差部的转子轴52b。
由于在转子轴承52a中至少与转子轴52b接触的部分(前端部)被作成进行倒角(倒圆)而得到的倒角部,因此在转子轴52b中的转子轴承52a侧的端部转印该倒角部,成为凹曲面(或擂钵状)。
接下来,通过将第2电铸构件6以及第2光阻挡层5的表面侧磨削给定量来形成第2电铸构件6,形成转子轴52b。之后除去第2光阻挡层5来形成转子轴承52a以及转子轴52b。
如此,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,能在一系列工序中一次性精度良好地制造固定于底板的转子轴承52a和能相对于该转子轴承52a相对旋转的转子轴52b。并且根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,通过在转子轴承52a的前端部设置倒角部,能防止应力在转子轴承52a与转子轴52b的接触部分局部集中,能减低转子轴承52a与转子轴52b之间的摩擦。由此能谋求电动机的消耗电力的减低。
在转子轴以及转子轴承的制造时,既可以如上述那样用本发明所涉及的电铸部件的制造方法制造转子轴以及转子轴承的整体,也可以用本发明所涉及的电铸部件的制造方法仅制造转子轴承52a中的与转子轴52b的接合部(接触部:参考图54中的标号540)。
具体地,例如可以用LIGA法仅制造「转子轴承52a中的与转子轴52b接触的部分以及其周边部分」以及「转子轴52b中的与转子轴承52a接触的部分以及其周边部分」。具体地,可以用LIGA法仅制造转子轴承52a以及转子轴52b当中图54中被点线框540包围的部分。在如此限定在设为制造对象的部件当中相互接触的部分用LIGA法进行制造的情况下,另外制造形成长轴形状的其他部分(轴),在用LIGA法制造的部分接合另外制造的部分(轴)来形成转子轴承52a或转子轴52b。
或者,在用LIGA法制造转子轴承52a以及转子轴52b那样形成长轴形状的部件的情况下,例如可以用LIGA法仅制造转子轴承52a以及转子轴52b的任意一方中的与另一方接触的部分以及其周边部分。
在用LIGA法制造转子轴承52a以及转子轴52b那样形成长轴形状的部件的整体的情况下,相对于电铸中成为电极的导电层2的面积,让第1电铸构件4、第2电铸构件6所沉积的厚度方向的尺寸较大,为了使第1电铸构件4、第2电铸构件6沉积与目的的厚度相应的量需要长时间。与此相对,通过上述那样限定在设为制造对象的部件当中相互接触的部分用LIGA法进行制造,能在一系列制造工序中精度良好地制造至少一部分相互密接或抵接的部件中的密接或抵接的部分。由此在作为制品装入时,不会发生部件间的偏离或松动,能精度良好地使其密接或抵接。
(齿轮以及轴承的制造例)
接下来说明装入机械式钟表、石英式钟表等中的齿轮以及轴承的制造例。一般,齿轮(省略图示)具备齿轮部和齿轮轴而构成,其中齿轮部为大致圆盘形状,在外周部具备辐射状突出的齿,齿轮轴设于该齿轮部的旋转中心。轴承(省略图示)能旋转地保持齿轮中的齿轮轴的两端。齿轮在由轴承确定的位置相对于该轴承相对旋转。
在用本发明所涉及的电铸部件的制造方法制造齿轮以及轴承时,将齿轮(齿轮轴)作为第1电铸部件,将轴承作为第2电铸部件。具体地,在本发明所涉及的电铸部件的制造方法进行的齿轮以及轴承的制造时,首先与上述的图1~图4以及图6所示的各工序同样地形成第1电铸部件即齿轮(齿轮轴)。然后在齿轮轴的端部进行倒角(倒圆)来形成倒角部。
接下来在齿轮轴的端部、在倒角部的倒角形状(R形状)的表面形成使轴承的脱离容易的脱离用的膜。然后与图17~图20所示的工序同样,覆盖齿轮轴的端部的倒角形状(R形状)来使形成轴承的第2电铸构件6沉积后,进行该第2电铸构件6的磨削,由此形成作为第2电铸部件的轴承。之后,与图21以及图22所示的工序同样地使齿轮以及轴承脱离,各个分别取出。
如此,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,能在一系列工序中一次性精度良好地制造齿轮以及轴承。由此能没有偏离或松动地由轴承保持齿轮轴。并且根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,通过在齿轮中的齿轮轴的端部形成倒角部,能防止应力在齿轮轴与轴承的接触部分局部集中,能减低齿轮轴与轴承之间的摩擦。由此能谋求电动机的消耗电力的减低。
(针以及套筒的制造例)
接下来说明装入到指针式钟表的针以及套筒的制造例。图55是表示装入到指针式钟表的针以及套筒的说明图。如图55所示那样,指针式钟表具备例如时针、分针、秒针等那样通过指示钟表盘的数字或刻度来呈现时刻的针(指示针)6a。以将该针6a稳定地固定在齿轮的轴等为目的,在该针6a设有筒形状的套筒6b。套筒6b是以与针6a的长度方向以及该针旋转的旋转面正交的方向为轴心方向的筒形状。针6a以及套筒6b一体形成。
在用本发明所涉及的电铸部件的制造方法制造针6a以及套筒6b时,由针6a以及套筒6b实现第2电铸部件。具体地,在本发明所涉及的电铸部件的制造方法下的针6a以及套筒6b的制造时,首先与上述的图1~图4以及图6~图8所示的各工序同样地形成第1电铸部件4A、4B,形成第2电铸模8。
接下来在第1电铸部件4A、4B的外表面设置脱离用的膜,以后进行与上述的实施方式1、实施方式2中说明的各工序同样的工序。具体地,如图9所示那样,进行将导电层2作为一方的电极的电铸,直到第2电铸构件6形成为从第2光阻挡层5的表面稍许突出而***的程度的厚度。接下来在如图10所示那样进行第2电铸构件6以及第2光阻挡层5的平坦化后,如图11所示那样进行硅基板1以及导电层2的除去。然后在如图12所示那样除去第2光阻挡层5后,如图13所示那样个别取出第1电铸部件4A、4B、和第2电铸部件的针6a以及套筒6b。
如此,根据本发明所涉及的电铸部件的制造方法,能在一系列工序中一次性精度良好地制造针6a以及套筒6b。
在针6a以及套筒6b的制造时,也可以在针6a与套筒6b的边界部分进行倒角(倒圆)来形成倒角部。在该情况下,在形成第1电铸部件4A、4B后进行第1电铸部件4A、4B的角部的倒角(倒圆),来在第1电铸部件4A、4B形成倒角部4a。该倒角部4a对成为针6a与套筒6b的边界的部分的角部进行。
接下来使第2电铸构件6沉积。第2电铸构件6在与第1电铸部件4A、4B中的倒角部4a对置的部分形成弯曲的R形状,以覆盖倒角部4a。与形成于第1电铸部件4A、4B的倒角部4a上重叠进行电铸而形成的第2电铸构件6的内侧的角部,相当于针6a与套筒6b的边界部分。针6a与套筒6b的边界部分,成为转印倒角部4a而对应的凹曲面。
由此能在一系列工序中形成在针6a与套筒6b的边界部分设有倒角形状(R形状)的、一体化的针6a以及套筒6b。如此,通过做出在针6a与套筒6b的边界部分设有倒角形状(R形状)的、一体化的针6a以及套筒6b,能防止应力在该边界部分局部集中,能防止在针6a与套筒6b之间出现偏离或松动。由此能谋求指针式钟表的耐久性的提升。
在上述的各实施方式、制造例中,说明了用本发明所涉及的实施方式的电铸部件的制造方法来制造机械式钟表或石英式的电子钟表等钟表的部件的示例,但本发明所涉及的实施方式的电铸部件的制造方法并不限于钟表的部件的制造。本发明所涉及的实施方式的电铸部件的制造方法除了适用于钟表的部件的制造以外,还能适用于摄像机、测量器、其他种种精密设备的部件的制造。
产业上的利用可能性
如以上那样,本发明所涉及的电铸部件的制造方法在装入钟表等并通过电铸形成的电铸部件的制造方法中有用,特别适于精密设备等中所用的电铸部件的制造方法。
标号的说明
1 硅基板
2 导电层
3 第1光阻挡层
3a 第1光阻挡层的开口
4 第1电铸构件
4a 倒角部
4A、4B、40 第1电铸部件
5 第2光阻挡层
5a 第2光阻挡层的开口
6、55 第2电铸构件
6A、6B、60 第2电铸部件
7、7’ 第1电铸模
8、8’ 第2电铸模
10 金属基板
15 电铸槽
16 电解液
17 对置电极
18 电源
20 摆轮(第2电铸部件)
20a 缺口部
20b 支柱(支承轴)
25 砝码(第1电铸部件)
25b 中心孔
25a 缺口部
30 齿轮(第1电铸部件)
30a 齿
30b 环状部
30c 圆形开口
30d 倒角部
35 轴承(第2电铸部件)
35a 固定孔
35b 小径部
35c 大径部
35d 角部
45 平板状的小部件(第1电铸部件)
45a 倒角部
50 擒纵轮(第2电铸部件)
51 齿部
51a 薄壁部
51c 释放拐角
51d 锁接拐角
51e 角部
6a 针
6b 套筒

Claims (12)

1.一种电铸部件的制造方法,其特征在于,包括如下工序:
对形成于导电层的表面侧的第1光阻挡层进行图案形成,来形成第1贯通孔,该第1贯通孔沿着所述导电层与所述第1光阻挡层的层叠方向贯通该第1光阻挡层;
通过将所述导电层作为一方的电极的电铸,来在所述导电层的表面侧、在所述第1贯通孔内使第1电铸构件沉积;
通过将所述第1电铸构件以及所述第1光阻挡层的表面侧平坦化来形成第1电铸部件;
从形成所述第1电铸部件的所述导电层除去所述第1光阻挡层;
在通过除去所述第1光阻挡层而露出的所述第1电铸部件的表面形成脱离用的膜;
在所述导电层的表面侧形成从表面侧覆盖所述第1电铸部件的第2光阻挡层,对该第2光阻挡层进行图案形成来形成第2贯通孔,该第2贯通孔以所述第1电铸部件的一部分向其内侧突出的状态沿着所述层叠方向贯通该第2光阻挡层;
通过将所述导电层作为一方的电极的电铸,来在所述导电层的表面侧、在所述第2贯通孔内使第2电铸构件沉积;
通过将所述第2电铸构件以及所述第2光阻挡层的表面侧平坦化来形成第2电铸部件;
从所述第1电铸部件、所述第2电铸部件以及所述第2光阻挡层除去所述导电层;
从除去所述导电层的所述第1电铸部件以及所述第2电铸部件除去所述第2光阻挡层;
将所述第1电铸部件和所述第2电铸部件个别取出。
2.根据权利要求1所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
所述电铸部件的制造方法包括如下工序:进行所述第1电铸部件中的至少位于所述第2贯通孔内的部分的角部的倒角,
形成所述脱离用的膜的工序在进行所述倒角的工序之后进行。
3.根据权利要求2所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
进行所述倒角的工序通过电解研磨或湿式蚀刻来进行所述角部的倒角。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
所述导电层形成在由绝缘材料或半导电材料构成的基板的表面。
5.根据权利要求1所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
形成所述脱离用的膜的工序将表面氧化膜形成为所述脱离用的膜。
6.根据权利要求1所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
所述第1电铸部件以及所述第2电铸部件是至少一部分相互密接或抵接的部件。
7.根据权利要求6所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
所述第1电铸部件以及所述第2电铸部件是至少一部分以相互密接或抵接的状态相对移动的部件。
8.根据权利要求1~3、5~7中任一项所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
形成所述第1电铸部件的工序通过从表面侧磨削所述第1电铸构件以及所述第1光阻挡层来进行平坦化。
9.根据权利要求4所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
形成所述第1电铸部件的工序通过从表面侧磨削所述第1电铸构件以及所述第1光阻挡层来进行平坦化。
10.根据权利要求1~3、5~7中任一项所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
形成所述第2电铸部件的工序通过从表面侧磨削所述第2电铸构件以及所述第2光阻挡层来进行平坦化。
11.根据权利要求4所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
形成所述第2电铸部件的工序通过从表面侧磨削所述第2电铸构件以及所述第2光阻挡层来进行平坦化。
12.根据权利要求8所述的电铸部件的制造方法,其特征在于,
形成所述第2电铸部件的工序通过从表面侧磨削所述第2电铸构件以及所述第2光阻挡层来进行平坦化。
CN201580066377.XA 2014-12-12 2015-12-11 电铸部件的制造方法 Active CN107002264B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-251860 2014-12-12
JP2014251860 2014-12-12
PCT/JP2015/084841 WO2016093355A1 (ja) 2014-12-12 2015-12-11 電鋳部品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107002264A CN107002264A (zh) 2017-08-01
CN107002264B true CN107002264B (zh) 2019-06-07

Family

ID=56107532

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201580066377.XA Active CN107002264B (zh) 2014-12-12 2015-12-11 电铸部件的制造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10370769B2 (zh)
EP (1) EP3231898B1 (zh)
JP (1) JP6529516B2 (zh)
CN (1) CN107002264B (zh)
WO (1) WO2016093355A1 (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3202708B1 (fr) * 2016-02-03 2023-05-03 Rolex Sa Procédé de fabrication d'un composant horloger hybride
CH712474A2 (fr) * 2016-05-19 2017-11-30 Swatch Group Res & Dev Ltd Procédé de fabrication d'une pièce pour l'horlogerie dotée d'un élément d'habillage en relief.
CN113322494B (zh) * 2020-02-28 2023-06-30 西铁城时计株式会社 电铸制品的制造方法和电铸制品
EP4249645A1 (fr) * 2022-03-25 2023-09-27 Mimotec S.A. Procédé pour fabriquer une pluralité de micropièces

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2405300A (en) * 1944-01-07 1946-08-06 Allied Chem & Dye Corp Recovery of xylenes
US4088544A (en) * 1976-04-19 1978-05-09 Hutkin Irving J Composite and method for making thin copper foil
US5255017A (en) * 1990-12-03 1993-10-19 Hewlett-Packard Company Three dimensional nozzle orifice plates
US5277783A (en) * 1991-05-15 1994-01-11 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Manufacturing method for orifice plate
JP3842318B2 (ja) * 1994-10-27 2006-11-08 Tdk株式会社 マイクロマシン部品の取り扱い方法
DE19641531A1 (de) * 1996-10-09 1998-04-16 Bosch Gmbh Robert Mikromechanisches Bauelement und ein Verfahren zu dessen Herstellung
JPH11323592A (ja) * 1998-05-14 1999-11-26 Athene Kk 電鋳金属体およびその製造方法
US20040146650A1 (en) * 2002-10-29 2004-07-29 Microfabrica Inc. EFAB methods and apparatus including spray metal or powder coating processes
JP2005180940A (ja) * 2003-12-16 2005-07-07 Seiko Epson Corp 貼設物、貼設物の貼設方法および時計
US7500312B2 (en) * 2006-01-24 2009-03-10 Harris Ii John Robert Scrubbing razor
EP1916567B1 (fr) * 2006-10-26 2010-04-07 Mimotec S.A. Méthode de fabrication mixte de pièces par photolithographie, ajouts d'inserts et électroformage
JP2008126375A (ja) 2006-11-22 2008-06-05 Sumitomo Electric Ind Ltd 3次元微細構造体の製造方法
EP2157476A1 (fr) 2008-08-20 2010-02-24 Nivarox-FAR S.A. Procédé de fabrication de pièces métalliques multi-niveaux par la technique LIGA-UV
JP5470791B2 (ja) * 2008-09-29 2014-04-16 オムロン株式会社 電気鋳造方法
EP2182096A1 (fr) * 2008-10-28 2010-05-05 Nivarox-FAR S.A. Procédé LIGA hétérogène
JP2010247500A (ja) * 2009-04-20 2010-11-04 Sonocom Co Ltd マスク及びマスクの製造方法
EP2263972A1 (fr) * 2009-06-12 2010-12-22 Nivarox-FAR S.A. Procédé de fabrication d'une microstructure métallique et microstructure obtenue selon ce procédé
JP5700924B2 (ja) 2009-10-22 2015-04-15 セイコーインスツル株式会社 電鋳体とその製造方法、および時計部品
EP2405300A1 (fr) * 2010-07-09 2012-01-11 Mimotec S.A. Méthode de fabrication de pièces métalliques multi niveaux par un procédé du type LIGA et pièces obtenues par la méthode
CH704086B1 (fr) 2010-11-11 2015-07-31 Mimotec S A Pièces métalliques multi-niveaux obtenues par un procédé du type LIGA et méthode de fabrication s'y référant.
JP5794613B2 (ja) * 2011-03-11 2015-10-14 セイコーインスツル株式会社 時計用デテント脱進機、及び機械式時計
EP2833204B1 (fr) * 2013-08-02 2017-06-14 Rolex Sa Procede de traitement d'une couche de resine photosensible et procede de fabrication d'un composant metallique

Also Published As

Publication number Publication date
US20170362728A1 (en) 2017-12-21
EP3231898A1 (en) 2017-10-18
WO2016093355A1 (ja) 2016-06-16
JP6529516B2 (ja) 2019-06-12
US10370769B2 (en) 2019-08-06
EP3231898A4 (en) 2018-08-22
JPWO2016093355A1 (ja) 2017-09-21
EP3231898B1 (en) 2019-10-09
CN107002264A (zh) 2017-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107002264B (zh) 电铸部件的制造方法
RU2481422C2 (ru) Способ изготовления биметаллической микроструктуры
CN107065501B (zh) 用于制造混合钟表组件的方法
JP2008240142A (ja) 電鋳型、電鋳型の製造方法、時計用部品、および時計
JP2010121693A (ja) 機械部品、機械部品の製造方法および時計
JP2014152400A (ja) 少なくとも2つの高さ方向に異なる機能をもつ単一ピース微小機械構成部品を製造する方法
KR100857613B1 (ko) 극미세패턴을 원하는 형상과 크기로 형성할 수 있는전주마스터 및 그의 제조 방법과 이를 이용한 전자파차폐메쉬 및 스트라이프 전극이 부가된 필름 및 그의 제조 방법
TW202136026A (zh) 製造鐘錶組件之方法及依據此方法所獲得之組件
JP6943559B2 (ja) 少なくとも1つの目の錯視模様を有する金属系部品の製造方法
CN102758226B (zh) 一种机床用长光栅辊压印模具精密电铸加工方法
JP4868443B2 (ja) 時計用のアンクル、これを備えた機械式時計及びその製造方法
CN105402363B (zh) 机械部件、机芯、钟表以及机械部件的制造方法
JP2016113653A (ja) 電鋳部品の製造方法とその電鋳部品
JP6475088B2 (ja) 機械部品、ムーブメント、時計および機械部品の製造方法
JP2021181628A (ja) 電気めっき用金型およびその製造プロセス
JP6495058B2 (ja) 電鋳部品及び電鋳部品の製造方法
CN105467811A (zh) 机械零件、机械零件的制造方法、机芯以及钟表
JP5700924B2 (ja) 電鋳体とその製造方法、および時計部品
JP6211754B2 (ja) 機械部品の製造方法、及び機械部品
JP4530263B2 (ja) アールを含む電鋳部品の製造方法
JP2016057158A (ja) 時計部品、ムーブメント、時計、および時計部品の製造方法
US20200384669A1 (en) Manufacture of a horology component
JP2011089168A (ja) 電鋳体、その製造方法、及び時計部品
JP2015025711A (ja) 時計用部品の製造方法、時計用部品、ムーブメント及び時計
JP2010261064A (ja) 機械部品及び機械部品の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: DE

Ref document number: 1234792

Country of ref document: HK

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant