CN106909243B - 保护盖板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种保护盖板及其制作方法。保护盖板包含基板、光学膜以及遮光层。基板包含平坦部以及设置于平坦部之至少一侧的弯折部。光学膜设置于平坦部上，且露出至少部分弯折部。遮光层设置在基板相对光学膜的一侧，遮光层具有开口以露出至少部分光学膜。

Description

保护盖板及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种保护盖板及其制造方法。

背景技术

在显示设备与触控装置的产业中，为了美观、与其他器材组装、让用户方便接触或观察等因素，触控装置与显示设备的表面可以具有各种形状，举例而言，触控装置与显示设备的保护透明盖板可具有侧边弯曲的形状，而使触控装置与显示设备的表面并非平面。

在这些变形的触控装置与显示设备中，由于其表面为曲面，一些光学层体(例如抗反射层、抗炫光层、抗指纹层以及防雾层)与其制作方法可能无法发挥其功效。一方面，在曲面上以沉积方式形成的镀膜可能会有厚度不均匀的问题，从而导致曲面区域的遮光层异色。另一方面，以抗反射层为例，部分利用干涉原理达到抗反射作用的薄膜，因为曲面的存在以及入射夹角较大的缘故，可能使反射光无法顺利干涉，进而无法正常运作，容易导致曲面区域的遮光层产生异色等问题。

发明内容

基于此，本发明提供一种保护盖板，设置光学膜位于保护盖板的平坦部，避免光学膜设计于保护盖板过于弯曲的部分，以免因制程因素导致光学膜不均匀或者因光学膜本身设计不适用于曲面而产生上述的异色问题。

本发明的一实施方式提供一种保护盖板，包含基板、光学膜以及遮光层。基板包含平坦部以及设置于平坦部之至少一侧的弯折部。光学膜设置于平坦部上，且露出至少部份弯折部。遮光层设置在基板相对光学膜的一侧，遮光层具有开口以露出至少部分光学膜。

在本发明的一个或多个实施方式中，露出的该弯折部具有曲面以及与曲面的相切的切面，切面与平坦部设置有该光学膜的夹角大于15度。

在本发明的一个或多个实施方式中，开口于光学膜上的正投影形状与光学膜的形状大致相同。

在本发明的一个或多个实施方式中，光学膜不设置于弯折部上。

在本发明的一个或多个实施方式中，遮光层仅设置于弯折部，光学膜覆盖部分或全部的该平坦部。

在本发明的一个或多个实施方式中，遮光层设置于弯折部，且遮光层部分设置于平坦部。

在本发明的一个或多个实施方式中，该遮光层与该光学膜在垂直于该基板的方向上不重叠。

本发明的另一实施方式提供一种制造保护盖板的方法，包含提供基板，基板包含平坦部以及设置于平坦部之至少一侧的弯折部；形成遮光层至少于弯折部上，遮光层包含开口以露出部分之平坦部；形成覆膜至少于弯折部上，且位于基板相对遮光层一侧，覆膜包含开口以露出部分之于平坦部；形成光学膜于基板上，且光学膜覆盖覆膜并填入覆膜之镂空部；以及移除覆膜以及位于覆膜上的光学膜，使剩余的光学膜位于基板之平坦部上。

在本发明的一个或多个实施方式中，遮光层之开口与覆膜之镂空部在基板上的正投影相同。

在本发明的一个或多个实施方式中，形成覆膜至少于基板之弯折部上的步骤包含形成光阻层于基板相对遮光层的一侧，光阻层覆盖弯折部和至少部分平坦部；经由光线通过遮光层之开口对光阻层进行曝光，使该光阻层对应该开口的部分形成一曝光部；以及移除光阻层之曝光部分，其中光阻层之剩余部分形成该覆膜。

在本发明的一个或多个实施方式中，光阻层的材料为正型光阻。

在本发明的一个或多个实施方式中，遮光层之开口于基板上的正投影形状与光学膜之剩余部分的形状相同。

在本发明的一个或多个实施方式中，形成覆膜至少于弯折部上的步骤包含形成部分覆膜于该平坦部上。

在本发明的一个或多个实施方式中，形成覆膜至少于弯折部上的步骤包含将覆膜黏贴至弯折部上，其中覆膜具有黏着层，黏着层与基板直接接触，且移除覆膜的步骤还包含将黏着层一并移除。

在本发明的一个或多个实施方式中，形成覆膜至少于弯折部上的步骤包含涂布胶体于弯折部上，该胶体形成为该覆膜。

在本发明的一个或多个实施方式中，该覆膜覆盖的弯折部具有曲面以及与曲面的相切的切面，切面与平坦部设置有该光学膜的表面夹角大于15度。

附图说明

图1为根据本发明的一实施方式的保护盖板的剖面图。

图2为根据本发明的另一实施方式的保护盖板的剖面图。

图3为根据本发明的又一实施方式的保护盖板的剖面图。

图4A至图4F为根据本发明的一实施方式的保护盖板于多个制造阶段的剖面图。

附图标记说明：

100：保护盖板

110：基板

112：平坦部

112a：上表面

114：弯折部

114a：曲面

114b：切面

114c：子部

120：光学膜

122：上表面

130、130a、130b：遮光层

132：开口

200：光阻层

200a：曝光部

200’：覆膜

202’：镂空部

A：夹角

具体实施方式

以下将以附图揭露本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化附图起见，一些公知惯用的结构与组件在附图中将以简单示意的示出。

图1为根据本发明的一实施方式的保护盖板100的剖面图。保护盖板100包含基板110、光学膜120以及遮光层130。基板110包含平坦部112以及设置于平坦部112之至少一侧的弯折部114。光学膜120设置于平坦部112上，且露出至少部分弯折部114，在本实施例中，光学膜120仅设置于平坦部112上，而不设置于弯折部114上以完全露出弯折部114。遮光层130设置在基板110相对光学膜120的一侧，遮光层130具有开口132以露出光学膜120。

在本发明的一个或多个实施方式中，弯折部114具有曲面114a以及与曲面114a的相切的多个切面114b。虽然在此并未一一详细标示，弯折部114于曲面114a的上的多个位置分别具有切面114b。切面114b分别与平坦部112之上表面112a形成一夹角A，其中平坦部112之上表面112a为平坦部112设置有光学膜120一侧的表面。换句话说，弯折部114可以分割成多个子部114c，每一子部114c的切面114b相对于平坦部112的上表面112a具有特定范围的夹角A。于此，子部分114c仅用以方便说明保护盖板100的多个组件的配置，不应以子部分114c的数量而限制本发明之范围。

于本实施方式中，藉由局部配置光学膜120，使光学膜120不会设置于过于弯曲的子部114c，以避免位于弯折部114的遮光层130产生异色问题。

详细而言，于本发明之一或多个实施方式中，设计光学膜120不覆盖夹角A大于一预定夹角的子部114c，此预定夹角的数值取决于光学膜120于曲面上的适应性，即光学膜120仍能够正常运作的范围。藉此方式可以避免光学膜120覆盖于大于其能正常运作的夹角。

以光学膜120为抗反射膜为例，光学膜120不覆盖夹角A大于15度的子部114c，即光学膜120至少露出切面114b与平坦部112之上表面112a夹角大于15度的弯折部120。如图所示，于本实施方式中，如图1所示，光学膜120不设置于弯折部114上，而仅设置于平坦部112上。当然，于其他实施方式中，光学膜120可以设置于弯折部114上，此时其所覆盖的子部114c对应的夹角A等于或小于15度。

于本实施方式中，遮光层130与光学膜120在垂直于基板110的方向上不重叠，或者遮光层130于光学膜120上的投影可以配置与光学膜120相接。进一步的，遮光层130的开口132与光学膜120完全重叠，举例而言，遮光层130的开口132于光学膜120上的正投影形状与光学膜120的形状相同或大致相同，以确保光线受到光学膜120的调整。举例而言，本发明的保护盖板100可作为电子装置如显示装置或触控显示装置的保护外盖，遮光层130的开口132对应于电子装置的可视区，以供电子装置显示影像，光学膜120覆盖该可视区以实现影像光学效果调整，遮光层130所覆盖的区域则形成为电子装置的边框，用于遮挡导电线路等不透明元件。当光线由电子装置的显示元件向外部投射时，或外部光线入射至电子装置时，通过遮光层130的开口132的光线势必受到光学膜120的调整，而可以带来较好的影像质量。例如，当光学膜120为抗反射膜时，被光学膜120覆盖的区域则具有抗反射的光学效果。

在此讨论靠近弯折部114的遮光层130(即图1中右侧的遮光层130a)。于本实施方式中，遮光层130a除了设置于弯折部114上，还部分设置于平坦部112上，此时光学膜120之上表面122的面积可配置小于基板110之平坦部112之上表面112a的面积，使得光学膜120未完全覆盖上表面112a，其中光学膜120的上表面122为光学膜120远离基板110的表面。较佳的，遮光层130a与光学膜120在垂直于基板110的方向上不重叠，以避免遮光层130在不同区域从外观上来看颜色不一致，例如与光学膜120重叠的区域的遮光层130由于受到光学膜120的调整，颜色会不同于遮光层130其它区域的颜色。实际应用上不应以此限制本发明之范围，遮光层130a可以仅设置于弯折部114上，光学膜120可完全覆盖部分或全部平坦部112的上表面112a。

另外，关于位于平坦部112上但未靠近或设置于弯折部114上的遮光层130(图1中左侧的遮光层130b)，其材料与制造方式可以与遮光层130a相同。且，为了让使用者在左、右侧遮光层130a、130b所观察到的颜色一致，如同遮光层130a的设置，遮光层130b与光学膜120在垂直于基板110的方向上不重叠，即左侧遮光层130b对应的平坦部112上表面不设置光学膜120。

于本实施方式中，基板110的材料可以是玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(Poly(methylmethacrylate)；PMMA)、聚碳酸酯(Polycarbonate；PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚氯乙烯(Polyvinyl chloride；PVC)或上述之组合。基板110具有侧边弯曲的特性。于部分实施方式中，为了体现基板110的侧边弯曲的特性以及侧边弯曲造成光学膜120无法正常运作的问题，基板110未被光学膜120覆盖的弯折部114的至少一子部分114c具有大于15度的夹角A。于部份实施方式中，弯折部114与平坦部112可由一体形成、热压、无胶键合等方式制作。

此外，虽然于本发明之多个实施方式中，仅绘示基板110具有单侧弯曲，但实际应用上不应以此限制本发明之范围，基板110可以是双侧弯曲、三侧弯曲或四侧弯曲的，且在各个弯曲部分可以采用本发明之多个实施方式中光学膜120与遮光层130的配置。

于本实施方式中，光学膜120可以是抗反射层、抗眩光层、抗指纹层以及防雾层。以抗反射层为例，其可以由高低折射率交错的多个层体所形成，其材料可以是氮化硅、氮氧化硅、氧化硅、氟化镁等，或者，抗反射层亦可以由多个折射率渐变的层体所组成。以抗眩光层为例，材料可以是树脂，例如聚氨酯树脂、丙烯酸环氧树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、醇酸树脂或聚酯树脂。光学膜120可以是该领域各种常见的材料，在此不一一赘述。

于本实施方式中，遮光层130的材料可为油墨、光阻或油墨和光阻组成的叠层结构，例如白色油墨、光阻或黑色油墨、光阻。遮光层130具有较低的穿透率，以遮蔽与保护盖板100搭配的其他组件的周边电路，可避免周边线路的反光影响视觉效果。遮光层130的制造过程可以包含涂布油墨(例如网印)以及烘烤步骤。

图2为根据本发明的另一实施方式的保护盖板100的剖面图。本实施方式的保护盖板100与图1的保护盖板100相似，差别在于：本实施方式之光学膜120部分设置于弯折部114上，且光学膜120所覆盖的子部114c的夹角A等于或小于前述的预定夹角，例如15度，但光学膜120仍会露出弯曲度较大的部分弯折部114，例如光学膜120露出夹角A大于15度子部114c。

相似地，本实施方式中，遮光层130的开口132于平坦部112的上表面112a之延伸平面上的正投影形状与光学膜120于平坦部112的上表面112a之延伸平面上的正投影形状大致相同。同样地，光线通过遮光层130的开口132势必受到光学膜120的调整，而可以带来较好的影像质量。本实施方式的其他细节大致上如图1的实施方式所述，在此不再赘述。

图3为根据本发明的另一实施方式的保护盖板100的剖面图。本实施方式的保护盖板100与图1的保护盖板100相似，差别在于：本实施方式之保护盖板100之开口132于光学膜120上的正投影形状与光学膜120的形状不同。换句话说，遮光层130a于光学膜120上的正投影不必配置与光学膜120刚好相接，而是有部分重叠的，但光学膜120仍会露出弯曲度较大的部分弯折部114。同样地，通过遮光层130的开口132的光线势必受到光学膜120的调整，而可以带来较好的影响质量。本实施方式的其他细节大致上如图1的实施方式所述，在此不再赘述。

图4A至图4F根据本发明的一实施方式的保护盖板100于多个制造阶段的剖面图。下面以对应图1的保护盖板100的制造方法来说明。

首先，参照图4A，形成遮光层130至少于基板110之弯折部114上。遮光层130包含开口132，开口132对应于基板110之平坦部112，以露出部分之平坦部112。于本实施方式中，如图所示，靠近弯折部114的遮光层130(即遮光层130a)同时形成于平坦部112与弯折部114上，远离弯折部114的遮光层130(即遮光层130b)仅形成于平坦部112上，且遮光层130之开口132仅对应于平坦部112而不对应于弯折部114。于其他实施方式中，虽然在此并未以图式说明，遮光层130a可以仅形成于弯折部114上，而开口132正好地对应于基板110之平坦部112。更甚者，于部份实施方式中，开口132还可对应于部份弯折部114(参考图2)，其设置规则大致上如前所述，在此不再赘述。

参照图4B，形成光阻层200于基板110相对遮光层130的一侧，光阻层200覆盖弯折部114和至少部分平坦部112，本实施例中光阻层200全面覆盖基板110相对设置有遮蔽层130的表面。光阻层200的材料为正型光阻。于此，光阻层可以透过沉积、涂布以及烘烤等步骤而形成。

参照图4C，经由光线通过遮光层130之开口132对光阻层200进行曝光。应了解到，于步骤中，光线是从遮光层130往基板110的方向前进，而对基板另一侧的光阻层200曝光，使光阻层200对应遮光层130之开口132的部分形成一曝光部200a。遮光层130可以作为此曝光过程的光罩，而使得光阻层200的曝光图案与遮光层130之开口132相似。

参照图4D，移除光阻层200(参照图4C)之曝光部200a，其中光阻层200(参照图4C)之剩余部分形成覆膜200’，覆膜200’包含因移除曝光部200a而形成的镂空部202’，镂空部202’对应于平坦部112而露出部分之平坦部112。如前所述，于部份实施方式中，由于遮光层130作为光阻层200(参照图4C)曝光过程的光罩，镂空部202’与遮光层130之开口132具有大致相同的图案，即遮光层130之开口132与覆膜200’之镂空部202’在基板110上的正投影相同。如同前述的遮光层130的配置，于本实施方式中，部分覆膜200’可形成于该平坦部112上，覆膜200’之镂空部202’可仅对应于平坦部112而不对应于弯折部114。于其他实施方式中，虽然在此并未以图式说明，镂空部202’可对应于部份弯折部114。

接着，参照图4E，形成光学膜120于基板110上，且光学膜120覆盖覆膜200’并填入覆膜200’之镂空部202’。

参照图4F，移除覆膜200’(参照图4E)以及位于覆膜200’(参照图4E)上的光学膜120，使光学膜120之剩余部分可位于基板110之平坦部112上。此移除步骤可以透过手动剥除或者机械剥除进行。

如前所述，由于本实施方式藉由光刻的方式制作光学膜120，遮光层130之开口132于剩余的光学膜120上的正投影形状与剩余的光学膜120的形状大致相同。如此一来，通过遮光层130之开口132的光线势必受到光学膜120的调整，而可以带来较好的影像质量。且，光学膜120不会因为设置于弯曲较大的曲面上而产生异色的问题。

以上图4B至图4D介绍藉由遮光层130以光刻方式形成覆膜200’的过程，但实际应用上，可以透过多种方式形成覆膜200’，并不需以此为限。举例而言，覆膜200’可以是具有黏着层的软性薄膜基板，软性薄膜基板可以提供后续剥除覆膜200’时一定的支撑力，可以透过将覆膜200’之黏着层与基板110直接接触，而将覆膜200’黏贴至弯折部114上，后续再移除覆膜的步骤中还包含将黏着层一并移除。在制作光学膜120时，光学膜120即可设置于覆膜200’的软性薄膜基板上。

或者，于其他实施方式中，可以透过涂布液态胶体于弯折部114上，再透过固化或烘烤等方式而使胶体形成覆膜200’。覆膜200’的材料可以是固化后能提供移除(剥除)步骤一定支撑力的材料，举例而言，覆膜200’可以是树脂。

于这些其他的覆膜200’形成方法中，并不一定要配置覆膜200’之镂空部202’与遮光层130之开口132具有大致相同的图案。换句话说，遮光层130之开口132于剩余的光学膜120上的正投影形状与剩余的光学膜120的形状不一定相同，可以存在其他多种变型。

综上所述，本发明提供一种保护盖板，设置光学膜位于保护盖板的平坦部，避免光学膜设计于保护盖板过于弯曲的部份，以免因制程因素导致光学膜不均匀或者因光学膜本身设计不适用于曲面而产生上述的异色问题。

虽然本发明已以多种实施方式揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，应可作各种的变动与修改，因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。

Claims (14)

1.一种保护盖板，其特征在于，包含：

一基板，包含一平坦部以及设置于该平坦部之至少一侧的一弯折部；

一光学膜，设置于该平坦部上，且露出至少部分该弯折部；以及

一遮光层，设置在该基板相对该光学膜的一侧，该遮光层具有一开口以露出至少部分该光学膜；

该遮光层与该光学膜在垂直于该基板的方向上不重叠；

该开口于该光学膜上的正投影形状与该光学膜的形状相同。

2.如权利要求1所述的保护盖板，其特征在于，露出的该弯折部具有一曲面以及与该曲面的相切的一切面，该切面与该平坦部之上表面夹角大于15度。

3.如权利要求1至2任意一项所述的保护盖板，其特征在于，该光学膜不设置于该弯折部上。

4.如权利要求1至2任意一项所述的保护盖板，其特征在于，该遮光层仅设置于该弯折部，该光学膜覆盖部分或全部的该平坦部。

5.如权利要求1至2任意一项所述的保护盖板，其特征在于，该遮光层设置于该弯折部，且该遮光层部分设置于该平坦部。

6.一种保护盖板的制造方法，其特征在于，包含：

提供一基板，该基板包含一平坦部以及设置于该平坦部之至少一侧的一弯折部；

形成一遮光层至少于该弯折部上，该遮光层包含一开口以露出部分之该平坦部；

形成一覆膜至少于该弯折部上，且位于该基板相对该遮光层一侧，该覆膜包含一镂空部以露出部分之该平坦部；

形成一光学膜于该基板上，且该光学膜覆盖该覆膜并填入该覆膜之镂空部；以及

移除该覆膜以及位于该覆膜上的光学膜，使剩余的光学膜位于该基板之该平坦部上。

7.如权利要求6所述的保护盖板的制造方法，其特征在于，

该遮光层之该开口与该覆膜之该镂空部在基板上的正投影相同。

8.如权利要求6或7所述的保护盖板的制造方法，其特征在于，该形成该覆膜至少于该弯折部上的步骤包含：

形成一光阻层于该基板相对该遮光层的一侧，该光阻层覆盖该弯折部和至少部分该平坦部；

经由光线通过该遮光层之该开口对该光阻层进行曝光，使该光阻层对应该开口的部分形成一曝光部；以及

移除该光阻层之该曝光部，其中该光阻层之一剩余部分形成该覆膜。

9.如权利要求8所述的保护盖板的制造方法，其特征在于，该光阻层的材料为正型光阻。

10.如权利要求8所述的保护盖板的制造方法，其特征在于，该遮光层之该开口于基板上的正投影形状与该光学膜之该剩余部分的形状相同。

11.如权利要求6所述的保护盖板的制造方法，其特征在于，该形成该覆膜至少于该弯折部上的步骤包含：

形成部分该覆膜于该平坦部上。

12.如权利要求6所述的保护盖板的制造方法，其特征在于，该形成该覆膜至少于该弯折部上的步骤包含：

将该覆膜黏贴至该弯折部上，其中该覆膜具有一黏着层，该黏着层与该基板直接接触，且移除该覆膜的步骤还包含将该黏着层一并移除。

13.如权利要求6所述的保护盖板的制造方法，其特征在于，该形成该覆膜至少于该弯折部上的步骤包含：

涂布一胶体于该弯折部上，该胶体形成为该覆膜。

14.如权利要求6所述的保护盖板的制造方法，其特征在于，该覆膜覆盖的该弯折部具有一曲面以及与该曲面的相切的一切面，该切面与该平坦部之上表面夹角大于15度。