CN106896960A - 触摸显示屏及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种触摸显示屏及其制备方法，触摸显示屏包括显示屏与触摸屏，显示屏包括阵列基板、位于阵列基板上的有机发光层以及位于有机发光层上的薄膜封装层，触摸屏设置于所述薄膜封装层之上，所述触摸屏与所述显示屏在同一侧均设置有绑定区，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区之内，从而在进行触摸屏的FPC绑定时，绑定压力施加在显示屏的绑定区内，避免绑定压力对显示屏内的膜层或走线造成影响，提高屏体显示效果，提高屏体的可靠性。

Description

触摸显示屏及其制备方法
技术领域
本发明涉及平板显示领域，具体涉及一种触摸显示屏及其制备方法。
背景技术
触摸显示屏作为一种特殊的计算机外设，能够提供电子***与使用者之间人机交互界面，并已经广泛应用在许多领域中，例如，在移动电话、个人数字助理(PersonalDigital Assistant，PDA)、游戏机、液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)、等离子显示器(Plasma Display Panel，PDP)、有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示器等。
触摸显示屏是由触摸屏(TP，touch panel)和显示屏组合而成的，为了满足产品薄型化要求，触摸显示屏常用的集成方式有两种：触摸屏位于显示屏内部(in cell)、触摸屏位于显示屏之上(on cell)。
触摸显示屏中的触摸屏需要设置绑定区，用于绑定触摸屏柔性显示板(TP FPC)，以检测外部的触控动作。触摸显示屏中的显示屏也需要设置绑定区，用于绑定驱动柔性显示板(Driver FPC)和IC(芯片)，以向显示屏提供显示信号。但是对于on cell触摸显示屏，由于触摸屏位于显示屏之上，触摸屏的绑定区域一般都设计在触摸显示屏的表面，在TPFPC绑定时所需的压力会对TP下方的膜层造成影响，尤其对柔性显示屏而言，这会影响绑定区域下方显示屏的走线或者膜层质量，导致屏体显示效果降低，造成可靠性及机械性能不佳。
因此，如何避免TP FPC绑定压力对绑定区域下方膜层或走线造成不良影响是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种触摸显示屏及其制备方法，避免绑定压力对显示屏内的膜层或走线造成影响，提高屏体显示效果。
为实现上述目的，本发明提供一种触摸显示屏，包括显示屏以及触摸屏，其特征在于，所述显示屏包括阵列基板、位于所述阵列基板上的有机发光层以及位于所述有机发光层上的薄膜封装层；所述触摸屏位于所述薄膜封装层上；所述触摸屏与所述显示屏在同一侧均设置有绑定区，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区之内。
可选的，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影与所述显示屏的绑定区内的具体绑定位置互不重合。
可选的，所述薄膜封装层包围所述有机发光层的侧面，所述薄膜封装层与所述阵列基板形成密封空间，所述有机发光层位于所述密封空间内。
可选的，所述显示屏还包括阳极层与阴极层，所述有机发光层位于所述阳极层与所述阴极层之间。
可选的，所述阵列基板包括基底以及位于所述基底上的电路层，所述电路层延伸至所述显示屏的绑定区。
可选的，所述基底为刚性基底或柔性基底。
可选的，所述薄膜封装层的材质为Si3N4或Al2O3。
相应的，本发明还提供一种触摸显示屏的制备方法，包括：
提供一阵列基板，所述阵列基板上形成有机发光层；
在所述有机发光层及阵列基板上形成薄膜封装层，构成显示屏；
在薄膜封装层上形成触摸屏；
其中，所述触摸屏与所述显示屏在同一侧均设置有绑定区，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区之内。
可选的，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影与所述显示屏的绑定区内的具体绑定位置互不重合。
可选的，形成薄膜封装层的方法具体包括：
在所述有机发光层及阵列基板上沉积薄膜材料；
通过曝光与刻蚀暴露出所述显示屏的绑定区边缘的阵列基板；
对剩余的薄膜材料进行平坦化。
与现有技术相比，本发明提供的触摸显示屏及其制备方法中，显示屏包括阵列基板、位于阵列基板上的有机发光层以及位于有机发光层上的薄膜封装层，触摸屏设置于所述薄膜封装层上，所述触摸屏与所述显示屏在同一侧均设置有绑定区，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区之内，从而在进行触摸屏的FPC绑定时，绑定压力施加在显示屏的绑定区内，避免绑定压力对显示屏内的膜层或走线造成影响，提高屏体显示效果，提高屏体的可靠性。
附图说明
图1为本发明一实施例所提供的触摸显示屏的截面图；
图2为本发明一实施例所提供的触摸显示屏的俯视图。
具体实施方式
为使本发明的内容更加清楚易懂，以下结合说明书附图，对本发明的内容做进一步说明。当然本发明并不局限于该具体实施例，本领域的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本发明的保护范围内。
其次，本发明利用示意图进行了详细的表述，在详述本发明实施例时，为了便于说明，示意图不依照一般比例局部放大，不应对此作为本发明的限定。
请参考图1，其为本发明一实施例所提供的触摸显示屏的截面图。如图1所示，所述触摸显示屏包括显示屏10以及位于所述显示屏10之上的触摸屏20。所述显示屏10包括阵列基板12、位于所述阵列基板12上的有机发光层14以及位于所述有机发光层14上的薄膜封装层16。所述触摸屏20位于所述薄膜封装层16上。所述触摸屏20与所述显示屏10在同一侧均设置有绑定区，即，所述触摸屏20设置有绑定区21，所述显示屏10设置有绑定区11。所述触摸屏的绑定区21在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区11之内。
所述触摸屏20上的绑定区21用于绑定TP FPC，用于检测外部用户的触控动作。所述显示屏10上的绑定区11用于绑定IC以及Driver FPC，用于向显示屏10提供显示信号。所述绑定区11位于所述显示屏10的一侧边缘，所述绑定区21位于所述触摸屏20的一侧边缘，所述绑定区11与所述绑定区21位于所述触摸屏20与显示屏10的同一侧边缘。
较佳的，所述触摸屏的绑定区21在所述显示屏平面上的投影与所述显示屏的绑定区11内的具体绑定位置(例如IC绑定位置，Driver FPC绑定位置)互不重合，这样有利于避免绑定时相互影响。
如图1所示，所述薄膜封装层16呈半环状，即，所述薄膜封装层16不仅覆盖有机发光层14的上表面，还包围所述有机发光层14的侧面。所述薄膜封装层16与所述阵列基板12形成密封空间，所述有机发光层14位于所述密封空间内。所述薄膜封装层16能够代替现有技术显示屏中的盖板与玻璃料，并且能够起到更好的密封效果。
所述显示屏10还包括阳极层与阴极层(图1中未示出)，所述阳极层与所述阴极层分别位于所述密封空间内的有机发光层14的上下两侧，例如所述阳极层位于所述有机发光层14的下侧，所述阴极层位于所述有机发光层14的上侧，在所述阳极层与所述有机发光层14之间还设置有空穴注入层(HIL)与空穴传输层(HTL)，在所述有机发光层14与所述阴极层之间还设置有电子传输层(ETL)与电子注入层(EIL)。当阳极层和阴极层之间施加有外界电压时，在外界电压的驱动下，由阳极层注入的空穴通过空穴注入层和空穴传输层进入有机发光层中，由阴极层注入的电子通过电子注入层和电子传输层进入有机发光层中，进入到有机发光层中的空穴和电子在复合区复合形成激子，激子辐射跃迁发光而产生发光现象，即形成电致发光。
所述阵列基板12包括基底122以及位于所述基底122上的电路层124，所述电路层124延伸至所述显示屏的绑定区11(构成了台阶124a)，在所述显示屏的绑定区11的电路层124为电路引线。本实施例中，所述薄膜封装层16包围所述有机发光层14侧面的同时，还包围所述电路层124远离绑定区的侧面的全部或部分区域以及包围台阶124a之上的电路层124的侧面。
所述基底122可以为刚性基底或柔性基底，所述显示屏为普通的显示屏或柔性显示屏。所述基底122为刚性基底时，优选是一玻璃基板。所述基底122为柔性基底时，优选是一聚酰亚胺(PI)基板，所述柔性基底的形状可为平面、曲面或其他不规则形状。
所述薄膜封装层16的材质可以为氮化硅(Si3N4)或氧化铝(Al2O3)，或本领域技术人员已知的其他封装材料。
请参考图2，其为本发明一实施例所提供的触摸显示屏的俯视图。结合图2可以更加详细的了解本发明的内容。如图2所示，所述触摸屏20位于所述显示屏10上，所述显示屏10具有绑定区11，所述触摸屏20具有绑定区21，在远离所述绑定区11的一侧，所述触摸屏20与所述显示屏10相对齐，所述触摸屏的绑定区21在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区11之内。
并且，所述触摸屏的绑定区21在所述显示屏平面上的投影与所述显示屏的绑定区11内的具体绑定位置(例如IC绑定位置，Driver FPC绑定位置)互不重合，这样有利于避免绑定时相互影响。如图2所述，IC绑定位置18远离所述触摸屏的绑定区21，Driver FPC绑定位置(图2中未示出)比所述IC绑定位置18更靠近绑定区11的边缘。
所述显示屏10包括阵列基板(图2中未示出)、位于所述阵列基板上的有机发光层(图2中未示出)、以及位于所述有机发光层上的薄膜封装层16，所述薄膜封装层16不仅覆盖有机发光层的上表面，还包围所述有机发光层的侧面，与所述阵列基板形成密封空间，所述有机发光层位于所述密封空间内。所述阵列基板包括基底(图2中未示出)以及位于所述基底上的电路层124，所述电路层124延伸至所述显示屏的绑定区11，因此在图2中仅可以在绑定区11看到一部分薄膜封装层16以及一部分电路层124。
本发明提供的触摸显示屏中，所述触摸屏的绑定区21在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区11之内，从而在进行触摸屏的FPC绑定时，绑定压力施加在显示屏的绑定区11内，避免绑定压力对显示屏内的膜层或走线造成影响，提高屏体显示效果，提高屏体的可靠性；同时由于所述触摸屏的绑定区21的下方设置有薄膜封装层16，在进行触摸屏的FPC绑定时，所述薄膜封装层16能够对绑定压力起到一定的缓冲作用。
相应的，本发明还提供一种触摸显示屏的制备方法，用于制备如上所述触摸显示屏。请参考图1所示，所述触摸显示屏的制备方法包括：
提供一阵列基板12，所述阵列基板12上形成有机发光层14；
在所述有机发光层14及阵列基板12上形成薄膜封装层16，构成显示屏10；
在薄膜封装层16上形成触摸屏20；
其中，所述触摸屏20与所述显示屏10在同一侧边缘分别设置有绑定区21与11，所述触摸屏的绑定区21在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区11之内。
具体的，首先，提供一基底122，所述基底122为刚性基底或柔性基底。所述基底122为刚性基底时，优选是一玻璃基板。所述基底122为柔性基底时，优选是一聚酰亚胺(PI)基板，所述柔性基底的形状可为平面、曲面或其他不规则形状。
在所述基底122上形成电路层124，所述电路层124延伸至所述显示屏的绑定区11(构成了台阶124a)，用于将IC或Driver FPC的信号传输至显示屏内，所述基底122与所述电路层124组成阵列基板12。然后在所述阵列基板12上形成阳极层(图中未示出)，在所述阳极层上形成有机发光层14，最后在所述有机发光层14上形成阴极层(图中未示出)。如图1所示，所述电路层124与所述基底122的尺寸一致，并且在所述绑定区的电路层124的高度小于其余区域的电路层124的高度，在所述绑定区与显示区连接的地方形成台阶，如图1中虚线所示。所述有机发光显示层14只位于显示区内。
其次，在所述阴极层以及暴露出的所述阵列基板12上形成薄膜封装层16，构成显示屏10。详细的，在所述阴极层以及所述阵列基板12上沉积薄膜材料，由于所述阴极层以及暴露出的所述阵列基板12的高度不一致，因此在初始沉积薄膜材料时厚度需适当增大，以保证所述阵列基板12上沉积薄膜材料之后的高度高于所述阴极层的高度，以便于后续薄膜材料的平坦化，保证所述阴极层上的薄膜材料的厚度。接着，通过曝光与刻蚀暴露出所述显示屏的绑定区11边缘的阵列基板，如图1所示，暴露出显示屏边缘一部分绑定区域11内的阵列基板12，用于绑定IC与Driver FPC。接着，对剩余的薄膜材料进行平坦化，例如采用化学机械研磨的方法对剩余的薄膜材料进行平坦化，使得所述薄膜材料的上表面保持平滑，形成薄膜封装层16。所述薄膜封装层16与所述阵列基板12形成密封空间，用于保护其内的各层。
最后，在薄膜封装层16上形成触摸屏20。所述触摸屏20与所述显示屏10设置有绑定区的同一侧设置有绑定区21，用于检测外部用户的触控动作，所述触摸屏的绑定区21在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区11之内。在进行触摸屏的FPC绑定时，绑定压力施加在显示屏的绑定区11内，避免绑定压力对显示屏10内的膜层或走线造成影响，提高屏体显示效果，提高屏体的可靠性。
综上所述，本发明提供的触摸显示屏及其制备方法中，显示屏包括阵列基板、位于阵列基板上的有机发光层以及位于有机发光层上的薄膜封装层，触摸屏设置于所述薄膜封装层上，所述触摸屏与所述显示屏在同一侧均设置有绑定区，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区之内，从而在进行触摸屏的FPC绑定时，绑定压力施加在显示屏的绑定区内，避免绑定压力对显示屏内的膜层或走线造成影响，提高屏体显示效果，提高屏体的可靠性。
上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (10)

1.一种触摸显示屏，包括显示屏以及触摸屏，其特征在于，所述显示屏包括阵列基板、位于所述阵列基板上的有机发光层以及位于所述有机发光层上的薄膜封装层；所述触摸屏位于所述薄膜封装层上；所述触摸屏与所述显示屏在同一侧均设置有绑定区，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区之内。
2.如权利要求1所述的触摸显示屏，其特征在于，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影与所述显示屏的绑定区内的具体绑定位置互不重合。
3.如权利要求2所述的触摸显示屏，其特征在于，所述薄膜封装层包围所述有机发光层的侧面，所述薄膜封装层与所述阵列基板形成密封空间，所述有机发光层位于所述密封空间内。
4.如权利要求3所述的触摸显示屏，其特征在于，所述显示屏还包括阳极层与阴极层，所述有机发光层位于所述阳极层与所述阴极层之间。
5.如权利要求4所述的触摸显示屏，其特征在于，所述阵列基板包括基底以及位于所述基底上的电路层，所述电路层延伸至所述显示屏的绑定区。
6.如权利要求5所述的触摸显示屏，其特征在于，所述基底为刚性基底或柔性基底。
7.如权利要求1～6任一项所述的触摸显示屏，其特征在于，所述薄膜封装层的材质为Si3N4或Al2O3。
8.一种触摸显示屏的制备方法，其特征在于，包括：
提供一阵列基板，所述阵列基板上形成有机发光层；
在所述有机发光层及阵列基板上形成薄膜封装层，构成显示屏；
在薄膜封装层上形成触摸屏；
其中，所述触摸屏与所述显示屏在同一侧均设置有绑定区，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影位于所述显示屏的绑定区之内。
9.如权利要求8所述的触摸显示屏的制备方法，其特征在于，所述触摸屏的绑定区在所述显示屏平面上的投影与所述显示屏的绑定区内的具体绑定位置互不重合。
10.如权利要求8所述的触摸显示屏的制备方法，其特征在于，形成薄膜封装层的方法具体包括：
在所述有机发光层及阵列基板上沉积薄膜材料；
通过曝光与刻蚀暴露出所述显示屏的绑定区边缘的阵列基板；
对剩余的薄膜材料进行平坦化。
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