CN106609358A - 一种化学气相沉积装置及其清洁方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种化学气相沉积装置及其清洁方法,通过在气体抽取部件内设置多个清洁部件,使得多个清洁部件与气体抽取部件的多个抽气孔位置分别对应;并且将每个清洁部件与限流环连接。当限流环上下移动时能够带动多个清洁部件移动,从而带动清洁部件中的刮片旋转从而清除沉积在抽气孔上的沉淀物,并将沉淀物带入气体抽取部件底部,保持抽气孔的清洁通畅。本发明提高了化学气相沉积装置的工作效率,延长了每次化学气相沉积装置的拆卸清理时间,降低了化学气相沉积装置的使用成本。
Description
技术领域
本发明涉及半导体加工领域,具体涉及一种化学气相沉积装置及其清洁方法。
背景技术
目前工业上广泛使用的化学气相沉积设备,具有大旋转臂的晶圆载体和晶圆载体下方的加热元件,参加反应的气体流过晶圆因为下方加热而反应沉积,剩余气体借助排气装置自反应腔排出。排气装置具有控制反应腔的气体流与稳定反应所需气体压力,必须尽可能的保持排气口的通畅,才能保持反应腔内的条件均一进而维持晶圆工艺的一致性。所以可以经常性维持排气口清洁并移除沉积的寄生反应物,进而减少拆卸清理反应腔的时间与次数,便是化学气相沉积(Chemical
Vapor Deposition,简称CVD)业内大家一直在努力的优化方向。
发明内容
本发明的目的在于提供一种化学气相沉积装置及其清洁方法,通过在气体抽取部件内设置多个清洁部件,使得多个清洁部件与气体抽取部件的多个抽气孔位置分别对应;并且将每个清洁部件与限流环连接。当限流环上下移动时能够带动多个清洁部件移动,从而带动清洁部件中的刮片旋转从而清除沉积在抽气孔上的沉淀物,并将沉淀物带入气体抽取部件底部,保持抽气孔的清洁通畅。本发明提高了化学气相沉积装置的工作效率,延长了每次化学气相沉积装置的拆卸清理时间,降低了化学气相沉积装置的使用成本。
为了达到上述目的,本发明通过以下技术方案实现:
一种化学气相沉积装置,该装置包含:
反应腔;
进气部件,设置在所述反应腔顶部,并与该反应腔内部相通;
旋转轴,设置在所述反应腔内底部;
托盘,设置在所述旋转轴顶部,并与所述进气部件相对设置;
加热部件,环绕设置在所述旋转轴、所述托盘下方;
限流环,设置在所述托盘周边;
气体抽取部件,设置在所述反应腔内底部,并环绕设置在所述加热装置周边;所述气体抽取部件与外部相通,所述气体抽取环顶盖设有多个抽气孔;
多个清洁部件,每个所述清洁部件包含:一个传动单元和刮片;所述传动单元还包含第一旋转轴、第二旋转轴,所述刮片设置在所述第一旋转轴、所述第二旋转轴上;
所述传动单元还包括曲轴结构,所述曲轴结构包含一对旋转臂、一个第一连杆;
所述清洁部件还包括与所述限流环上向下延伸的连动杆,所述第一连杆与所述连动杆相连接,所述第一连杆通过一对所述旋转臂分别与所述第一旋转轴、第二旋转轴连接;
所述刮片的位置与相应所述抽气孔位置对应,所述限流环上下运动时,所述连动杆驱动所述传动单元上的刮片沿旋转轴转动,所述刮片扫过所述抽气孔。
所述气体抽取部件包含:
气体抽取环,呈环形,设置在所述反应腔内底部,并环绕设置在所述加热装置周边;
气体抽取环顶盖,呈环形,对应设置在所述气体抽取环顶部。
所述气体抽取环截面呈U形;该气体抽取环设有一对汇总孔,所述一对汇总孔对称设置在该气体抽取环底部;
所述气体抽取部件通过该对汇总孔于外部相通。
所述传动杆单元中:
所述第一旋转轴的一端与所述气体抽取环的一内侧壁连接,该第一旋转轴的另一端与所述曲轴结构连接; 所述刮片设置在该第一旋转轴上;
所述第二旋转轴的一端与所述气体抽取环的另一内侧壁连接,该第二旋转轴的另一端与所述曲轴结构连接;
所述第一旋转轴与所述第二旋转轴处于一条直线上。
所述曲轴结构中:
所述第一旋转轴的一端与所述反应腔的一内侧壁连接,该第一旋转轴的另一端与所述曲轴结构连接; 所述刮片设置在该第一旋转轴上;
所述第二旋转轴的一端与该反应腔的同侧内侧壁连接,该第二旋转轴的另一端与所述曲轴结构连接;
所述第一旋转轴与所述第二旋转轴处于一条直线上。
所述曲轴结构中:
一对对称设置的旋转臂,一个所述旋转臂的外侧壁底部与所述第一旋转轴连接;另一个所述旋转臂的外侧壁底部所述第二旋转轴连接;
第一连杆,设置在所述一对旋转臂顶部之间。
所述连动杆包含:
连动环,套置在所述第一连杆上;
第二连杆,所述第二连杆的一端与所述连动环连接,该第二连杆的另一端与所述限流环连接。
所述旋转臂的直径大于所述第二连杆的长度。
所述第二连杆的初始位置与铅垂面呈一个锐角。
一种用于化学气相沉积装置的清洁部件,所述化学气相沉积装置包含:反应腔,设于反应腔的顶部进气部件,设于反应腔内部的旋转轴、托盘、加热部件、限流环,以及设于反应腔内底部的气体抽取部件;
该清洁部件设置于所述反应腔内,并与限流环连接;所述清洁部件包含:
一个传动单元和刮片;所述传动单元还包含第一旋转轴、第二旋转轴,所述刮片设置在所述第一旋转轴、所述第二旋转轴上;
所述传动单元还包括曲轴结构,所述曲轴结构包含一对旋转臂、一个第一连杆;
所述清洁部件还包括与所述限流环上向下延伸的连动杆,所述第一连杆与所述连动杆相连接,所述第一连杆通过一对所述旋转臂分别与所述第一旋转轴、第二旋转轴连接;
所述刮片的位置与相应所述抽气孔位置对应,所述限流环上下运动时,所述连动杆驱动所述传动单元上的刮片沿旋转轴转动,所述刮片扫过所述抽气孔。
所述气体抽取部件包含:
气体抽取环,呈环形,设置在所述反应腔内底部,并环绕设置在所述加热装置周边;
气体抽取环顶盖,呈环形,对应设置在所述气体抽取环顶部,所述气体抽取环顶盖设有抽气孔。
所述气体抽取环截面呈U形;该气体抽取环设有一对汇总孔,所述一对汇总孔对称设置在该气体抽取环底部;
所述气体抽取部件通过该对汇总孔于外部相通。
所述传动杆单元中:
第一旋转轴,所述第一旋转轴的一端与所述气体抽取环的一内侧壁连接,该第一旋转轴的另一端与所述曲轴结构连接;所述刮片设置在该第一旋转轴上;
第二旋转轴,所述第二旋转轴的一端与所述气体抽取环的另一内侧壁连接,该第二旋转轴的另一端与所述曲轴结构连接;
所述第一旋转轴与所述第二旋转轴处于一条直线上。
所述曲轴结构中:
所述第一旋转轴的一端与所述反应腔的一内侧壁连接,该第一旋转轴的另一端与所述曲轴结构连接; 所述刮片设置在该第一旋转轴上;
所述第二旋转轴的一端与该反应腔的同侧内侧壁连接,该第二旋转轴的另一端与所述曲轴结构连接;
所述第一旋转轴与所述第二旋转轴处于一条直线上。
所述曲轴结构中:
一个所述旋转臂的外侧壁底部与所述第一旋转轴连接;另一个所述旋转臂的外侧壁底部所述第二旋转轴连接;
第一连杆,设置在所述一对旋转臂顶部之间。
所述连动杆包含:
连动环,设置在所述第一连杆上;
第二连杆,所述第二连杆的一端与所述连动环连接,该第二连杆的另一端与所述限流环连接。
所述旋转臂的直径大于所述第二连杆的长度。
所述第二连杆的初始位置与铅垂面呈一个锐角。
一种化学气相沉积装置的清洁方法,该方法包含如下步骤:
在所述气体抽取部件内设定多个所述清洁部件,或在反应腔内设定多个所述清洁部件;
当所述限流环移动时,带动多个所述清洁部件转动;
每个所述清洁部件与对应的所述抽气孔相接触,以清洁该抽气孔。
根据所述气体抽取部件中抽气孔的数量,设定所述清洁部件的数量;
将每个所述清洁部件的刮片位置与相应的所述抽气孔位置一一对应;
将所有的清洁部件设定在所述气体抽取环内或设定在所述反应腔内;同时确保初始状态时,所述第二连杆的初始位置与铅垂面之间呈一个锐角。
当所述限流环进行上下移动时,带动所有的连动杆进行上下移动;
每个所述连动杆带动与其连接的曲轴结构转动,从而带动刮片转动。
当每个所述刮片在所述气体抽取部件内转动时,该刮片与对应的所述抽气孔充分接触,将沉积在该抽气孔上的沉淀物去除,并将沉淀物带入截面呈U形的所述气体抽取环内,实现所有抽气孔的清洁。
本发明与现有技术相比具有以下优点:
本发明公开的一种化学气相沉积装置及其清洁方法,通过在气体抽取部件内设置多个清洁部件,使得多个清洁部件与气体抽取部件的多个抽气孔位置分别对应;并且将每个清洁部件与限流环连接。当限流环上下移动时能够带动多个清洁部件移动,从而带动清洁部件中的刮片旋转从而清除沉积在抽气孔上的沉淀物,并将沉淀物带入气体抽取部件底部,保持抽气孔的清洁通畅。延长了每次化学气相沉积装置的拆卸清理时间,降低了化学气相沉积装置的使用成本。
附图说明
图1为本发明一种化学气相沉积装置的整体结构示意图。
图2为本发明一种化学气相沉积装置的局部结构示意图之一。
图3为本发明一种化学气相沉积装置的局部结构示意图之二。
图4为本发明一种化学气相沉积装置的局部结构示意图之三。
图5为本发明一种化学气相沉积装置清洁方法的整体流程图。
具体实施方式
以下结合附图,通过详细说明一个较佳的具体实施例,对本发明做进一步阐述。
实施例1
如图1-图3所示,一种化学气相沉积装置,该装置包含:反应腔1、进气部件2、旋转轴3、托盘5、加热部件4、限流环6、气体抽取部件7及多个清洁部件8。
其中,进气部件2设置在反应腔1顶部,并与该反应腔1内部相通。旋转轴3设置在反应腔1内底部。托盘5设置在旋转轴3顶部,并与进气部件2相对设置。加热部件4环绕设置在旋转轴3、托盘5周边。限流环6设置在托盘5、加热装置4周边。气体抽取部件7设置在反应腔1内底部,并环绕设置在加热装置4周边;气体抽取部件7与外部相通。多个清洁部件8分别与限流环6连接。
如图1所示,加热装置4包含:加热器41、加热器隔热屏42。其中,加热器41设置在托盘5底部,加热器隔热屏42环绕设置在托盘5及旋转轴3周边。
在化学气相沉积装置使用中,工艺气体通过进气部件2进入反应腔1内,与放置于旋转轴3顶部旋转的托盘5承载的晶圆发生化学反应。此时,托盘5被加热器41进行加热。
工艺气体在托盘5表面的均匀分布对MOCVD工艺是至关重要的。为了确保这个关键的工艺要求,除了进气部件2的作用之外,气体抽取部件7的作用也非常大。气体抽取部件7能够均匀抽取由托盘5流下的气体,如果气体抽取部件7的气流抽取不均匀,则会直接影响托盘5上的气流分布,进而影响工艺结果。
因此,确保气体抽取部件7的抽取气流的均匀性,成为本发明要解决的一个重要问题。
如图2所示,气体抽取部件7包含:气体抽取环71、气体抽取环顶盖72。气体抽取环71呈环形,设置在反应腔1内底部,并环绕设置在加热装置4周边。气体抽取环顶盖72呈环形,对应设置在气体抽取环71顶部。
本发明中,气体抽取环顶盖72设有多个抽气孔721;多个抽气孔721的个数与多个清洁部件8的个数相同。气体抽取环71截面呈U形;该气体抽取环71设有一对汇总孔711,一对汇总孔711对称设置在该气体抽取环71底部;气体抽取部件7通过该对汇总孔711于外部相通。
本发明中,多个抽气孔721用于均匀分布由托盘5流下来的气体;由气体抽取环顶盖72的多个抽气孔721流入的气体在气体抽取环71中流动至一对汇总孔711,气体经由汇总口流出。
在金属有机化学气相沉积(或称“MOCVD”)工艺中,会产生大量颗粒状或片状副产物。这些副产物在托盘5上的气流中产生,并跟随气流落在气体抽取部件7的气体抽取环顶盖72上,并大量沉积,一段时间后,沉积物会将部分或全部的抽气孔721堵塞,造成工艺气体分布不均匀,进而造成MOCVD工艺不稳定。
同时,MOCVD工艺中,也经常发生晶圆从托盘5上飞落的事故,因此,晶圆碎片也会落在气体抽取环顶盖72上,将抽气孔721堵塞,造成工艺气体分布不均匀,进而造成MOCVD工艺不稳定。
一旦发生上述事故时,需要停止化学气相沉积装置,进行维护。因此,在本发明中,通过增加多个清洁部件8,确保气体抽取部件7的全部抽气孔721不会发生堵塞现象,避免由于气体抽取部件7堵塞造成的化学气相沉积装置维护。
如图3所示,每个清洁部件8包含:传动单元81、刮片82及连动杆83。其中,传动单元81可设置在气体抽取环71两侧壁之间。刮片82设置在传动单元81上,并与气体抽取环顶盖72上相应抽气孔721位置对应。连动杆83一端与传动杆单元81连接,该连动杆83另一端与限流环6连接。
本发明中,只要能够实现清除对应抽气孔721内的沉积物,刮片82可以呈任意形状,同时可以为实心片(块)或空心框架。同时,刮片82轴线位置可以与对应抽气孔721处于同一平面位置,或是在对应抽气孔721的上、下、前、后位置。
本发明中,传动单元81还可设置在反应腔1一侧的内壁上。
如图3、图4所示,传动杆单元81包含:曲轴结构811、第一旋转轴812及第二旋转轴813。
当传动单元81设置在气体抽取环71两侧壁之间时,第一旋转轴812的一端与气体抽取环71的一内侧壁连接,该第一旋转轴812的另一端与曲轴结构811连接; 刮片82设置在该第一旋转轴812上。第二旋转轴813的一端与气体抽取环71的另一内侧壁连接,该第二旋转轴813的另一端与曲轴结构811连接。第一旋转轴812与第二旋转轴813处于一条直线上。
当传动单元81设置在反应腔1一侧的内壁上时,第一旋转轴812的一端与反应腔1的一内侧壁连接,该第一旋转轴812的另一端与曲轴结构811连接; 刮片82设置在该第一旋转轴812上。第二旋转轴813的一端与反应腔1同一内侧壁连接,该第二旋转轴813的另一端与曲轴结构811连接。第一旋转轴812与第二旋转轴813处于一条直线上。
如图3、图4所示,曲轴结构811包含:一对对称设置的旋转臂8111、第一连杆8112。一个旋转臂8111的外侧壁底部与第一旋转轴812连接;另一个旋转臂8111的外侧壁底部第二旋转轴813连接。第一连杆8112设置在一对旋转臂8111顶部之间。
如图4所示,连动杆83包含:连动环831、第二连杆832。其中,连动环831套置在第一连杆8112上。第二连杆832的一端与连动环831连接,该第二连杆832的另一端与限流环6连接。
其中,旋转臂8111的直径大于第二连杆832的长度。第二连杆832的初始位置与铅垂面呈一个锐角。
本发明的上述设计,是为了确保限流环6上下移动时,能够方便、连贯的带动第二连杆832运动,从而带动刮片82转动,清除对应抽气孔721中的沉淀物。
如图5所示,本发明公开的化学气相沉积装置清洁方法具体操作如下步骤:
S1,在气体抽取部件7内或反应腔1内设定多个清洁部件8。
根据气体抽取部件7中抽气孔721的数量,设定清洁部件8的数量。将所有的清洁部件8设定在气体抽取环71内或反应腔1内;确保每个清洁部件8的刮片82与气体抽取环顶盖72上相应的抽气孔721位置一一对应。
同时,要求曲轴结构811的一对旋转臂8111的直径均大于第二连杆832的长度。同时确保初始状态时,设置第二连杆832的初始位置与铅垂面呈一个锐角。
S2,当限流环6移动时,带动多个清洁部件8转动。
当限流环6进行上下移动时,带动所有的连动杆83进行上下移动;每个连动杆83带动与其连接的曲轴结构811转动,从而带动刮片82转动。
S3,每个清洁部件8与对应的抽气孔721相接触,以清洁该抽气孔721。
当每个刮片82在气体抽取部件7内或在反应腔1内转动时,该刮片82与对应的抽气孔721充分接触,将沉积在该抽气孔721上的沉淀物去除,并将沉淀物带入截面呈U形的气体抽取环71内,实现所有抽气孔721的清洁通畅。
实施例2
在化学气相沉积装置使用中,工艺气体通过进气部件2进入反应腔1内,与放置于旋转轴3顶部旋转的托盘5承载的晶圆发生化学反应。此时,托盘5被加热器41进行加热。
工艺气体在托盘5表面的均匀分布对MOCVD工艺是至关重要的。为了确保这个关键的工艺要求,除了进气部件2的作用之外,气体抽取部件7的作用也非常大。气体抽取部件7能够均匀抽取由托盘5流下的气体,如果气体抽取部件7的气流抽取不均匀,则会直接影响托盘5上的气流分布,进而影响工艺结果。
在金属有机化学气相沉积(或称“MOCVD”)工艺中,会产生大量颗粒状或片状副产物。这些副产物在托盘5上的气流中产生,并跟随气流落在气体抽取部件7上,并大量沉积,一段时间后,沉积物会将气体抽取部件7堵塞,造成工艺气体分布不均匀,进而造成MOCVD工艺不稳定。
同时,MOCVD工艺中,也经常发生晶圆从托盘5上飞落的事故,因此,晶圆碎片也会落在气体抽取部件7上,将气体抽取部件7堵塞,造成工艺气体分布不均匀,进而造成MOCVD工艺不稳定。
因此,确保气体抽取部件7的抽取气流的均匀性,成为本发明要解决的一个重要问题。为了解决上述问题,本发明提供了一种用于化学气相沉积装置的清洁部件,该清洁部件的结构、工作原理具体如下。
如图1-图4所示,一种用于化学气相沉积装置的清洁部件8,设置在化学气相沉积装置内。该化学气相沉积装置包含:反应腔1,设于反应腔1的顶部进气部件2,设于反应腔1内部的旋转轴3、托盘5、加热部件4、限流环6,以及设于反应腔1内底部的气体抽取部件7。
如图1-图4所示,用于化学气相沉积装置的清洁部件8可设置于气体抽取部件7内,并与限流环6连接;清洁部件8也可设置于反应腔1内,并与限流环6连接。
清洁部件8包含:传动单元81、刮片82及连动杆83。其中,传动单元81可设置在气体抽取部件7内或反应腔1内。刮片82设置在传动单元81上;连动杆83一端与传动杆单元81连接,该连动杆83另一端与限流环6连接。
本发明中,只要能够实现清除对应抽气孔721内的沉积物,刮片82可以呈任意形状,同时可以为实心片(块)或空心框架。同时,刮片82轴线位置可以与对应抽气孔721处于同一平面位置,或是在对应抽气孔721的上、下、前、后位置。
如图2所示,气体抽取部件7包含:气体抽取环71、气体抽取环顶盖72。其中,气体抽取环71呈环形,设置在反应腔1内底部,并环绕设置在加热装置4周边。气体抽取环顶盖72呈环形,对应设置在气体抽取环71顶部。
其中,气体抽取环顶盖72设有抽气孔721。气体抽取环71截面呈U形;该气体抽取环71设有一对汇总孔711,一对汇总孔711对称设置在该气体抽取环71底部。气体抽取部件7通过该对汇总孔711于外部相通。
传动单元81设置在气体抽取环71两侧壁之间,刮片82与抽气孔721位置对应。
如图3、图4所示,传动杆单元81包含:曲轴结构811、第一旋转轴812及第二旋转轴813。
其中,当传动杆单元81设置在气体抽取部件7内时,第一旋转轴812的一端与气体抽取环71的一内侧壁连接,该第一旋转轴812的另一端与曲轴结构811连接;刮片82设置在该第一旋转轴812上。第二旋转轴813的一端与气体抽取环71的另一内侧壁连接,该第二旋转轴813的另一端与曲轴结构811连接。第一旋转轴812与第二旋转轴813处于一条直线上。
其中,当传动杆单元81设置在反应腔1内时,第一旋转轴812的一端与反应腔1的一内侧壁连接,该第一旋转轴812的另一端与曲轴结构811连接;刮片82设置在该第一旋转轴812上。第二旋转轴813的一端与反应腔1的同一内侧壁连接,该第二旋转轴813的另一端与曲轴结构811连接。第一旋转轴812与第二旋转轴813处于一条直线上。
如图3、图4所示,曲轴结构811包含:一对对称设置的旋转臂8111、第一连杆8112。其中,一个旋转臂8111的外侧壁底部与第一旋转轴812连接;另一个旋转臂8111的外侧壁底部第二旋转轴813连接。第一连杆8112设置在一对旋转臂8111顶部之间。
如图3、图4所示,连动杆83包含:连动环831及第二连杆832。其中,连动环831设置在第一连杆8112上。第二连杆832的一端与连动环831连接,该第二连杆832的另一端与限流环6连接。
本发明中,旋转臂8111的直径大于第二连杆832的长度。第二连杆832的初始位置与铅垂面呈一个锐角。
本发明中,为了实现工艺气体分布均匀的要求,在气体抽取部件7的气体抽取环顶盖72上设置一个或多个抽气孔721,则需要在气体抽取环71的内设置与抽气孔721数量相同的清洁部件8,并且使得多个清洁部件8的刮片82与多个抽气孔721位置一一对应。
如图5所示,一种用于化学气相沉积装置的清洁部件的使用方法具体如下:
S1,在气体抽取部件7内或反应腔1内设定多个清洁部件8。
根据气体抽取部件7中抽气孔721的数量,设定清洁部件8的数量。将所有的清洁部件8设定在气体抽取环71内或反应腔1内;确保每个清洁部件8的刮片82与气体抽取环顶盖72上相应的抽气孔721位置一一对应。
同时,要求曲轴结构811的一对旋转臂8111的直径均大于第二连杆832的长度。同时确保初始状态时,设置第二连杆832的初始位置与铅垂面呈一个锐角。
S2,当限流环6移动时,带动多个清洁部件8转动。
当限流环6进行上下移动时,带动所有的连动杆83进行上下移动;每个连动杆83带动与其连接的曲轴结构811转动,从而带动刮片82在气体抽取部件7内转动。
S3,每个清洁部件8与对应的抽气孔721相接触,以清洁该抽气孔721。
当每个刮片82在气体抽取部件7内或反应腔1内转动时,该刮片82与对应的抽气孔721充分接触,将沉积在该抽气孔721上的沉淀物去除,并将沉淀物带入截面呈U形的气体抽取环71内,实现所有抽气孔721的清洁通畅。
本发明能够有效地延长每次化学气相沉积装置的拆卸清理时间,并且提高了化学气相沉积装置的工作效率,降低了化学气相沉积装置的使用成本。
尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍,但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后,对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此,本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。
Claims (22)
1.一种化学气相沉积装置,其特征在于,该装置包含:
反应腔(1);
进气部件(2),设置在所述反应腔(1)顶部,并与该反应腔(1)内部相通;
旋转轴(3),设置在所述反应腔(1)内底部;
托盘(5),设置在所述旋转轴(3)顶部,并与所述进气部件(2)相对设置;
加热部件(4),环绕设置在所述旋转轴(3)、所述托盘(5)下方;
限流环(6),设置在所述托盘(5)周边;
气体抽取部件(7),设置在所述反应腔(1)内底部,并环绕设置在所述加热装置(4)周边;所述气体抽取部件(7)与外部相通,所述气体抽取环顶盖(72)设有多个抽气孔(721);
多个清洁部件(8),每个所述清洁部件(8)包含:一个传动单元(81)和刮片(82);所述传动单元(81)还包含第一旋转轴(812)、第二旋转轴(813),所述刮片(82)设置在所述第一旋转轴(812)、所述第二旋转轴(813)上;
所述传动单元(81)还包括曲轴结构(811),所述曲轴结构(811)包含一对旋转臂(8111)、一个第一连杆(8112);
所述清洁部件(8)还包括与所述限流环(6)上向下延伸的连动杆(83),所述第一连杆(8112)与所述连动杆(83)相连接,所述第一连杆(8112)通过一对所述旋转臂(8111)分别与所述第一旋转轴(812)、第二旋转轴(813)连接;
所述刮片(82)的位置与相应所述抽气孔(721)位置对应,所述限流环上下运动时,所述连动杆(83)驱动所述传动单元(81)上的刮片(82)沿旋转轴转动,所述刮片扫过所述抽气孔(721)。
2.如权利要求1所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述气体抽取部件(7)包含:
气体抽取环(71),呈环形,设置在所述反应腔(1)内底部,并环绕设置在所述加热装置(4)周边;
气体抽取环顶盖(72),呈环形,对应设置在所述气体抽取环(71)顶部。
3.如权利要求2所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述气体抽取环(71)截面呈U形;该气体抽取环(71)设有一对汇总孔(711),所述一对汇总孔(711)对称设置在该气体抽取环(71)底部;
所述气体抽取部件(7)通过该对汇总孔(711)于外部相通。
4.如权利要求2所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述传动杆单元(81)中:
所述第一旋转轴(812)的一端与所述气体抽取环(71)的一内侧壁连接,该第一旋转轴(812)的另一端与所述曲轴结构(811)连接; 所述刮片(82)设置在该第一旋转轴(812)上;
所述第二旋转轴(813)的一端与所述气体抽取环(71)的另一内侧壁连接,该第二旋转轴(813)的另一端与所述曲轴结构(811)连接;
所述第一旋转轴(812)与所述第二旋转轴(813)处于一条直线上。
5.如权利要求2所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述曲轴结构(811)中:
所述第一旋转轴(812)的一端与所述反应腔(1)的一内侧壁连接,该第一旋转轴(812)的另一端与所述曲轴结构(811)连接; 所述刮片(82)设置在该第一旋转轴(812)上;
所述第二旋转轴(813)的一端与该反应腔(1)的同侧内侧壁连接,该第二旋转轴(813)的另一端与所述曲轴结构(811)连接;
所述第一旋转轴(812)与所述第二旋转轴(813)处于一条直线上。
6.权利要求4或5所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述曲轴结构(811)中:
一对对称设置的旋转臂(8111),一个所述旋转臂(8111)的外侧壁底部与所述第一旋转轴(812)连接;另一个所述旋转臂(8111)的外侧壁底部所述第二旋转轴(813)连接;
第一连杆(8112),设置在所述一对旋转臂(8111)顶部之间。
7.如权利要求6所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述连动杆(83)包含:
连动环(831),套置在所述第一连杆(8112)上;
第二连杆(832),所述第二连杆(832)的一端与所述连动环(831)连接,该第二连杆(832)的另一端与所述限流环(6)连接。
8.如权利要求7所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述旋转臂(8111)的直径大于所述第二连杆(832)的长度。
9.如权利要求7所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述第二连杆(832)的初始位置与铅垂面呈一个锐角。
10.一种用于化学气相沉积装置的清洁部件,所述化学气相沉积装置包含:反应腔(1),设于反应腔(1)的顶部进气部件(2),设于反应腔(1)内部的旋转轴(3)、托盘(5)、加热部件(4)、限流环(6),以及设于反应腔(1)内底部的气体抽取部件(7);
其特征在于,该清洁部件(8)设置于所述反应腔(1)内,并与限流环(6)连接;所述清洁部件(8)包含:
一个传动单元(81)和刮片(82);所述传动单元(81)还包含第一旋转轴(812)、第二旋转轴(813),所述刮片(82)设置在所述第一旋转轴(812)、所述第二旋转轴(813)上;
所述传动单元(81)还包括曲轴结构(811),所述曲轴结构(811)包含一对旋转臂(8111)、一个第一连杆(8112);
所述清洁部件(8)还包括与所述限流环(6)上向下延伸的连动杆(83),所述第一连杆(8112)与所述连动杆(83)相连接,所述第一连杆(8112)通过一对所述旋转臂(8111)分别与所述第一旋转轴(812)、第二旋转轴(813)连接;
所述刮片(82)的位置与相应所述抽气孔(721)位置对应,所述限流环上下运动时,所述连动杆(83)驱动所述传动单元(81)上的刮片(82)沿旋转轴转动,所述刮片扫过所述抽气孔(721)。
11.如权利要求10所述的用于化学气相沉积装置的清洁部件,其特征在于,所述气体抽取部件(7)包含:
气体抽取环(71),呈环形,设置在所述反应腔(1)内底部,并环绕设置在所述加热装置(4)周边;
气体抽取环顶盖(72),呈环形,对应设置在所述气体抽取环(71)顶部,所述气体抽取环顶盖(72)设有抽气孔(721)。
12.如权利要求10所述的用于化学气相沉积装置的清洁部件,其特征在于,所述气体抽取环(71)截面呈U形;该气体抽取环(71)设有一对汇总孔(711),所述一对汇总孔(711)对称设置在该气体抽取环(71)底部;
所述气体抽取部件(7)通过该对汇总孔(711)于外部相通。
13.如权利要求11所述的用于化学气相沉积装置的清洁部件,其特征在于,所述传动杆单元(81)中:
第一旋转轴(812),所述第一旋转轴(812)的一端与所述气体抽取环(71)的一内侧壁连接,该第一旋转轴(812)的另一端与所述曲轴结构(811)连接;所述刮片(82)设置在该第一旋转轴(812)上;
第二旋转轴(813),所述第二旋转轴(813)的一端与所述气体抽取环(71)的另一内侧壁连接,该第二旋转轴(813)的另一端与所述曲轴结构(811)连接;
所述第一旋转轴(812)与所述第二旋转轴(813)处于一条直线上。
14.如权利要求11所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述曲轴结构(811)中:
所述第一旋转轴(812)的一端与所述反应腔(1)的一内侧壁连接,该第一旋转轴(812)的另一端与所述曲轴结构(811)连接; 所述刮片(82)设置在该第一旋转轴(812)上;
所述第二旋转轴(813)的一端与该反应腔(1)的同侧内侧壁连接,该第二旋转轴(813)的另一端与所述曲轴结构(811)连接;
所述第一旋转轴(812)与所述第二旋转轴(813)处于一条直线上。
15.如权利要求13或14所述的化学气相沉积装置,其特征在于,所述曲轴结构(811)中:
一个所述旋转臂(8111)的外侧壁底部与所述第一旋转轴(812)连接;另一个所述旋转臂(8111)的外侧壁底部所述第二旋转轴(813)连接;
第一连杆(8112),设置在所述一对旋转臂(8111)顶部之间。
16.如权利要求15所述的用于化学气相沉积装置的清洁部件,其特征在于,所述连动杆(83)包含:
连动环(831),设置在所述第一连杆(8112)上;
第二连杆(832),所述第二连杆(832)的一端与所述连动环(831)连接,该第二连杆(832)的另一端与所述限流环(6)连接。
17.如权利要求16所述的用于化学气相沉积装置的清洁部件,其特征在于,所述旋转臂(8111)的直径大于所述第二连杆(832)的长度。
18.如权利要求16所述的用于化学气相沉积装置的清洁部件,其特征在于,所述第二连杆(832)的初始位置与铅垂面呈一个锐角。
19.一种化学气相沉积装置的清洁方法,其特征在于,该方法包含如下步骤:
在所述气体抽取部件(7)内设定多个所述清洁部件(8),或在反应腔(1)内设定多个所述清洁部件(8);
当所述限流环(6)移动时,带动多个所述清洁部件(8)转动;
每个所述清洁部件(8)与对应的所述抽气孔(721)相接触,以清洁该抽气孔(721)。
20.如权利要求19所述的化学气相沉积装置的清洁方法,其特征在于,根据所述气体抽取部件(7)中抽气孔(721)的数量,设定所述清洁部件(8)的数量;
将每个所述清洁部件(8)的刮片(82)位置与相应的所述抽气孔(721)位置一一对应;
将所有的清洁部件(8)设定在所述气体抽取环(71)内或设定在所述反应腔(1)内;同时确保初始状态时,所述第二连杆(832)的初始位置与铅垂面之间呈一个锐角。
21.如权利要求19所述的化学气相沉积装置的清洁方法,其特征在于,当所述限流环(6)进行上下移动时,带动所有的连动杆(83)进行上下移动;
每个所述连动杆(83)带动与其连接的曲轴结构(811)转动,从而带动刮片(82)转动。
22.如权利要求19所述的化学气相沉积装置的清洁方法,其特征在于,当每个所述刮片(82)在转动时,该刮片(82)与对应的所述抽气孔(721)充分接触,将沉积在该抽气孔(721)上的沉淀物去除,并将沉淀物带入截面呈U形的所述气体抽取环(71)内,实现所有抽气孔(721)的清洁。
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