CN106604783A - 纳米薄雾产生装置的旋转体构造 - Google Patents

纳米薄雾产生装置的旋转体构造 Download PDF

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Abstract

本发明的纳米薄雾产生装置的旋转体构造的目的在于使纳米薄雾和负离子的产生量最大化。使呈研钵状的旋转体(2)旋转来产生纳米薄雾，旋转体(2)中，下部浸泡在蓄水槽的水中，在上部设置有薄雾飞散口(22)，在将薄雾飞散口(22)的上端高度处的内壁半径设为上部半径(R1)，将从被蓄水槽的水浸泡的吃水线(L)的高度到薄雾飞散口(22)的上端高度为止的高度设为汲取高度(H)，将在汲取高度(H)的范围内，内壁与水平线所成的平均角度设为侧面平均角度(θ1)，相对于满足‑R1sin3θ+2Hcosθsin2θ+Hcos3θ＝0即基本构造方程式的θ，将侧面平均角度(θ1)设定为在θ±5％以内。

Description

纳米薄雾产生装置的旋转体构造
技术领域
本发明涉及纳米薄雾产生装置的旋转体构造，尤其涉及纳米薄雾产生装置的旋转体构造中的侧面平均角度的设定。
背景技术
以往，已知有利用旋转体的离心力来汲取蓄水槽的水，使纳米薄雾(细微水滴)和负离子产生的纳米薄雾产生装置(例如，专利文献1、2)。
在专利文献1和专利文献2中记载的纳米薄雾产生装置通过使研钵状的旋转体的下部以在蓄水部中淹没的状态旋转，来汲取蓄水部的水并使水从多个细孔飞散，从而产生将水的粒子细微化后的纳米薄雾。
另外，专利文献2中记载的纳米薄雾产生装置能够对在蓄水部中蓄积的水的水位进行检测，并在低水位到高水位之间进行控制。
(现有技术文献)
(专利文献)
专利文献1：日本特开2010-12167号公报(参照权利要求1、段落0011～0018、图2及图3)
专利文献2：日本特开2011-252692号公报(参照权利要求1、段落0009～0014及图1)
发明内容
(发明要解决的问题)
然而，以往，由于没有关于蓄水槽的水的汲取量判断旋转体的内壁的倾斜角度是否被最优化的基准，因此为了使纳米薄雾和负离子的产生量为最大而重复试制和试验来进行设计。因此，存在以下问题：必须对纳米薄雾产生装置的不同用途或规格的每个产品重复进行用于使旋转体的内壁的倾斜角度最优化的试制和试验。
另一方面，近来，由于搭载纳米薄雾产生装置的产品多样化，且为了表现个性也重视设计性，因此，也不得不考虑旋转体的大小和空间，因而，期望在设计的自由度被限制的情况下，有效地使旋转体的内壁的倾斜角度最优化。
本发明是鉴于这样的情况而完成的，其课题在于，提供能够适宜地设定旋转体的侧面平均角度，从而使纳米薄雾和负离子的产生量最大化的纳米薄雾产生装置的旋转体构造
(解决问题的方案)
为了解决上述课题，本发明第一方面的发明是使上部比下部直径大的呈研钵状的旋转体旋转来产生纳米薄雾的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，所述旋转体中，所述下部浸泡在蓄水槽的水中，在所述上部设置有薄雾飞散口，所述纳米薄雾产生装置通过使所述旋转体旋转沿该旋转体的内壁汲取所述水并使所述水从所述薄雾飞散口飞散来产生纳米薄雾，将所述薄雾飞散口的上端高度处的内壁半径设为上部半径R1，将从被所述蓄水槽的水浸泡的吃水线的高度到所述薄雾飞散口的上端高度为止的高度设为汲取高度H，将在该汲取高度H的范围内，所述内壁与水平线所成的平均角度设为侧面平均角度θ1，相对于满足-R1sin3θ+2Hcosθsin2θ+Hcos3θ＝0即基本构造方程式的θ，将所述侧面平均角度θ1设定为在θ±5％以内。
<基本构造方程式的推导>
如图5所示，本发明的纳米薄雾产生装置将基于旋转体的旋转产生的离心力加速度α引起的水的壁面上升加速度α1(在旋转体的内壁面上升的水的加速度)作为判断基准设定侧面平均角度θ1。本发明的纳米薄雾产生装置利用旋转体的离心力加速度α来汲取水，因此，通过使壁面上升加速度α1为极大，能够使水的汲取量为极大并使纳米薄雾及负离子的产生量为极大。能够根据旋转体的内壁半径R、壁面角度θ及角速度ω求得壁面上升加速度α1。
壁面上升加速度α1＝Rω2cosθ
在该公式中，旋转体的形状产生的因素是旋转体的内壁半径R和壁面角度θ，因此，着眼于Rcosθ(称为“壁面上升加速度单位”。)的值。也就是，为了使水的汲取量为极大(最大)，使壁面上升加速度为极大即可，因此，使壁面上升加速度单位为极大即可。
本发明中，若将所述薄雾飞散口的上端高度处的所述内壁半径设为上部半径R1，将从被所述蓄水槽的水浸泡的吃水线的高度到所述薄雾飞散口的上端高度为止的高度设为汲取高度H，将所述内壁与水平线所成的平均角度设为侧面平均角度θ1，则能够将吃水线的高度处的所述内壁半径即下部半径R2表示为：下部半径R2＝R1-H/tanθ。
能够以下面的方式表示吃水线的高度处的壁面上升加速度单位。
R2cosθ＝R1cosθ-Hcos2θ/sinθ
设为f(θ)＝R1cosθ-Hcos2θ/sinθ。
若根据设计性或设计规格等其他考虑方式已知了上部半径R1和汲取高度H，则能够将该式视为关于θ的一个变量的函数。
此外，为了使概念简明方便，使用吃水线的高度处的下部半径R2来推导壁面上升加速度单位，但是，即使使用不是吃水线的高度而是规定的高度处的内壁半径也同样能够推导壁面上升加速度单位。
为了求出关于θ的极大值，当设f′(θ)＝0，
则由f′(θ)＝-R1sinθ-H(-2cosθsin2θ-cos3θ)/sin2θ，
得出-R1sin3θ+2Hcosθsin2θ+Hcos3θ＝0
将该式称为关于侧面角度的基本构造方程式。
这样，本发明所涉及的纳米薄雾产生装置的旋转体构造通过求出对侧面平均角度θ的基准值进行设定的基本构造方程式，能够适宜地设定使水的汲取量为最大的侧面平均角度，可靠地使纳米薄雾和负离子的产生量最大化。
本发明第二方面的发明是根据本发明第一方面的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，在将所述吃水线与所述内壁的交点设为下部内壁点，将所述上端高度处的内壁点设为上部内壁点时，将所述侧面平均角度θ1设为将所述下部内壁点和所述上部内壁点连结的直线与水平线所成的角度。
本发明中，能够将侧面平均角度θ1设为将所述下部内壁点和所述上部内壁点连结的直线与水平线所成的角度。
本发明第三方面的发明是根据本发明第一方面或本发明第二方面所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，将所述侧面平均角度θ1设定在50度≦θ＜80度的范围。
本发明中，关于所述上部半径R1(例如，33mm)及所述汲取高度H(例如，61mm)，若由基本构造方程式求最合适的侧面平均角度θ1，则为75.7度，由于与实验结果一致，因此，设定了侧面平均角度θ1的适宜范围的基准。
本发明第四方面的发明是根据本发明第一方面所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，所述内壁由在正面剖面观察时呈直线状地延伸的锥形形状构成。
本发明中，通过将旋转体设为在正面剖面观察时呈直线状地延伸的锥形形状，从而能够在汲取高度的范围内将壁面上升加速度保持在极大值附近，因此，能够将水的汲取量稳定地保持在极大值附近。
本发明第五方面的发明是根据本发明第一方面所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，所述内壁在正面剖面观察时呈向外侧膨胀的曲面形状。
本发明中，通过将旋转体设为在正面剖面观察时呈向外侧膨胀的曲面形状，从而在汲取高度的范围内在下部使内壁的侧面角度变小，随着靠近上部而逐渐变大。本发明根据实验结果，能够确认通过将旋转体设为在正面剖面观察时呈向外侧膨胀的曲面形状，从而比设为锥形形状的情况更增大负离子的产生量。
本发明第六方面的发明是根据本发明第一方面所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，在将所述吃水线的高度控制为在预先设定的下限值与上限值之间变动的情况下，将所述下限值以上且所述上限值以下的数值作为所述吃水线的高度。
本发明也能够适用于吃水线的高度变动的类型的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，并且在这样的情况下，能够将所述下限值以上且所述上限值以下的数值作为所述吃水线的高度。
(发明效果)
本发明所涉及的纳米薄雾产生装置的旋转体构造能够适宜地设定旋转体的侧面平均角度，从而使纳米薄雾和负离子的产生量最大化。
附图说明
图1是表示本发明的第1实施方式所涉及的旋转体的外观的立体图。
图2是表示本发明的第1实施方式所涉及的纳米薄雾产生装置的旋转体构造的正面剖视图。
图3是用于对本发明的旋转体构造中的侧面平均角度及吃水线进行说明的示意性的主视图。
图4是表示本发明的第2实施方式所涉及的纳米薄雾产生装置的旋转体构造的正面剖视图。
图5表示导出本发明的旋转体构造的基本构造方程式的过程。
图6是表示本发明的实施方式所涉及的旋转体构造的加湿量与侧面平均角度之间的关系的曲线图，(a)是呈锥形形状的情况，(b)是呈曲面形状的情况。
图7是表示本发明的实施方式所涉及的旋转体构造的负离子量与侧面平均角度之间的关系的曲线图，(a)是使薄雾飞散口(孔)的总面积为90mm2的情况，(b)是使曲薄雾飞散口的总面积为130mm2的情况。
图8是表示本发明的旋转体构造的吃水线的概念的示意性主视图，(a)表示水位固定类型的吃水线的概念，(b)表示水位变动类型的吃水线的概念。
具体实施方式
适当地参照图1和图2对本发明的第1实施方式所涉及的纳米薄雾产生装置10A的旋转体构造1A详细地进行说明。
如图1所示，纳米薄雾产生装置10A具备：旋转体2A，其成为上部比下部直径大的研钵状；电动机3，其使旋转体2A旋转；以及蓄水槽4，其对由旋转体2A汲取的水W进行蓄积(参照图2)，该纳米薄雾产生装置10A使旋转体2A旋转来产生纳米薄雾和负离子。纳米薄雾产生装置10A通过生成极微小的薄雾从而在保持清爽的同时保湿，并且由于负离子而具有除菌效果和放松效果，因此，由于增进健康而受欢迎。
如图2所示，旋转体2A成为上部比下部直径大的研钵状，内壁21A为在正面剖面观察时呈直线状地延伸的锥形形状。旋转体2A中，下部浸泡在蓄水槽4的水W中，上部设有薄雾飞散口22。在薄雾飞散口22的周围，设置有将从薄雾飞散口22飞散的薄雾进一步细微化来产生负离子的由狭缝或金属网等构成的多孔体23。
利用这样的构成，纳米薄雾产生装置10A中，通过使旋转体2A旋转，将在蓄水槽4中蓄积的水W沿旋转体2A的内壁21A汲取来使其从薄雾飞散口22飞散，并且通过使其与多孔体23冲撞进行破碎，从而有效地产生纳米薄雾和负离子。
对于本发明的实施方式所涉及的纳米薄雾产生装置10A的旋转体构造1A，将薄雾飞散口22的上端高度处的内壁半径R设为上部半径R1，将从被蓄水槽4的水W浸泡的吃水线L的高度到薄雾飞散口22的上端高度为止的高度设为汲取高度H，将在该汲取高度H的范围内内壁21与水平线所成的角度设为侧面平均角度θ1，
若相对于满足-R1sin3θ+2Hcosθsin2θ+Hcos3θ＝0即基本构造方程式的θ，将侧面平均角度θ1设定为在θ±5％以内，则能够适宜地设定使水的汲取量为极大的侧面平均角度θ1，因此能够使纳米薄雾和负离子的产生量最大化。
例如，根据由设计规格即纳米薄雾产生装置10的大小和已知的旋转体2的形状等而设定的旋转体2的形状，规定上部半径R1，规定将从旋转体2的下端到薄雾飞散口22的上端为止的高度减去为了汲取蓄水槽4的水所需要的旋转体2下端的淹没部分的规定高度的设计汲取高度H′，在以使该设计汲取高度H′的位置与吃水线L一致的方式将旋转体2配置于蓄水槽4内的情况下，能够如下设定侧面平均角度θ1。此外，由于设计汲取高度H′与从吃水线L到薄雾飞散口22为止的高度即汲取高度H一致，因此，下面统一为汲取高度H来进行说明。
即，在根据纳米薄雾产生装置10的大小和已知的旋转体2的形状等，作为涉及纳米薄雾产生装置10中的旋转体2的形状的数值，将上部半径R1设定为33mm，将汲取高度H设定为61mm的情况下，满足基本构造方程式的侧面平均角度θ是75.7度。
因此，θ＝75.7度是使侧面上升加速度为极大值，且使水的汲取量为极大的侧面平均角度，所以，作为侧面平均角度θ1的基准值能够在约71.9度～约79.5度的范围内设定θ。
<侧面平均角度>
在此，如图3所示，侧面平均角度是指，在将吃水线L与内壁21(一并参照图2)的交点设为下部内壁点51，将汲取高度H处的与内壁21的交点设为上部内壁点52时，将下部内壁点51和上部内壁点52连结的直线5与水平线(例如，吃水线L)所成的角度。
因此，对于由在正面剖面观察时呈直线状地延伸的锥形形状构成的内壁21的情况，将下部内壁点51和上部内壁点52连结的直线5与水平线(吃水线L)所成的角度θ是侧面平均角度θ＝θ1。
同样地，即使对于在正面剖面观察时呈向外侧膨胀的曲面形状的内壁21A的情况，将下部内壁点51和上部内壁点52连结的直线5与水平线(吃水线L)所成的角度θ也是侧面平均角度θ＝θ1。若下部内壁点51和上部内壁点52不变，则不管是由锥形形状构成的内壁21还是由曲面形状构成的内壁21A，侧面平均角度θ相同。
<吃水线>
在基本构造方程式中，吃水线L的高度是指在蓄水槽4中蓄积的水W的高度。对于吃水线L的高度，若利用旋转体2水W被汲取则水位也变化，但是，根据纳米薄雾产生装置10的用途和规格分类为：控制为大致一定的高度的水位固定类型(参照图8(a))；以及水位在上限水位和下限水位之间变动的同时被控制的水位变动类型(参照图8(b))。
如图8(a)所示，对于水位固定类型，若利用旋转体2水W被汲取而使水位L(吃水线的高度L)下降，则从箱盖42的供给孔42a供给水箱41内的水W，若水位L上升到达箱盖42的端面而堵住供给孔42a则水的供给停止，将水位(吃水线的高度L)控制为大致一定。
水位固定类型中，以使根据纳米薄雾产生装置10的大小和已知的旋转体2的形状等设定的汲取高度H和吃水线L的高度一致的方式，将旋转体2配置在蓄水槽4内。
如图8(b)所示，对于水位变动类型，若利用旋转体2水W被汲取而使水位L下降，则由浮动传感器42b检测出下限水位L1而开始从未图示的供水管向蓄水槽4内供水，若判断为供水到上限水位L2则由上限水位设定单元42c使供水停止，从而在下限水位L1与上限水位L2之间的范围L1～L2控制水位(吃水线的高度L)。
水位变动类型中，相对于所述设计汲取高度H′处的旋转体2的最适合的侧面平均角度θ，以与变动的吃水线L的高度对应的侧面平均角度θ收敛于θ±5％以内的方式设定下限水位L1和上限水位L2，以使作为下限水位L1和上限水位L2之间的中间位置的吃水线L和设计汲取高度H′一致的方式将旋转体2配置在蓄水槽4内。
在此，优选较小地设定下限水位L1与上限水位L2之差。
接着，主要参照图4对本发明的第2实施方式所涉及的纳米薄雾产生装置10B中的旋转体构造1B进行说明。
第2实施方式所涉及的旋转体2B中，在内壁21B在正面剖面观察时呈向外侧膨胀的曲面形状的点，与内壁21A由直线状地延伸的锥形形状构成的第1实施方式所涉及的旋转体2A不同，但是，其他构成与第1实施方式所涉及的纳米薄雾供给装置10A相同，因此，对相同的构成赋予相同的符号而省略详细的说明。
第2实施方式所涉及的旋转体2B构成为，使上部半径R1、汲取高度H、侧面平均角度θ1与第1实施方式所涉及的旋转体2A相同。
第2实施方式所涉及的旋转体2B中，在吃水线L处的下部内壁点51，内壁21B的侧面角度是θ11，在上端高度处的上部内壁点52，内壁21B的侧面角度是θ12，随着从下部内壁点51靠近上部内壁点52，侧面角度逐渐变大(θ11＜θ12)。
主要参照图6和图7的实验结果对如上构成的本发明的实施方式所涉及的纳米薄雾产生装置10A、10B的旋转体构造1A、1B(上部半径R1＝33mm、汲取高度H＝61mm)中的动作进行说明。
参照的图6是进行实验来确认旋转体的形状(锥形形状的旋转体2A、曲面形状的旋转体2B)和侧面平均角度θ1(68度、75度)对与纳米薄雾的产生量存在正相关关系的加湿量(ml/h)产生怎样的影响的图，(a)是设为锥形形状的旋转体2A的情况，(b)是设为曲面形状的旋转体2B的情况。
另外，在该情况下，为了确认整个薄雾飞散口22的总开口面积(孔总面积mm2)的影响，对孔总面积为90mm2的情况和为130mm2的情况的两种情况进行了对比。
此外，虽然对侧面平均角度θ1为80度的情况也进行了实验，但由于水W的汲取力不足而未能测量出纳米薄雾的产生，因此，仅表示侧面平均角度θ1为68度和75度的数据。
如图6所示，对于加湿量(ml/h)，与侧面平均角度θ1为68度相比侧面平均角度θ1为75度时与旋转体2的形状无关，产生量较多。
另外，在侧面平均角度θ1为75度时，如图6(a)所示，为锥形形状的旋转体2A(参照图2)时是66～70ml/h，与此相对，如图6(b)所示，为曲面形状的旋转体2B(参照图4)时是61ml/h，因此，锥形形状的旋转体2A(参照图2)比曲面形状的旋转体2B(参照图4)优异。
另一方面，在侧面平均角度θ1为68度时，如图6(a)所示，为锥形形状的旋转体2A(参照图2)时是50～54ml/h，与此相对，如图6(b)所示，为曲面形状的旋转体2B(参照图4)时是54ml/h，因此，可知锥形形状的旋转体2A(参照图2)比曲面形状的旋转体2B(参照图4)较大地受到侧面平均角度和孔总面积的影响。
此外，在侧面平均角度θ1为80度的情况下，水W的汲取力不足而未能测量出纳米薄雾的产生，但是，可以推定，若使旋转体2(2A、2B)的旋转速度或旋转半径增大，则与侧面平均角度θ1为68度、80度相比，75度附近(表示极值的75.7度)为加湿量(ml/h)的极大值。这证明了根据上述基本构造方程式预测的侧面平均角度为最佳值。
另外，若侧面平均角度θ1变小，则旋转体2自身的大小增大而使整个纳米薄雾产生装置10的大小增大，因此，装置的制造变得困难。由此，根据上述实验结果，以使侧面平均角度θ1的范围为50度≦θ＜80度，更优选为68度≦θ＜80度的方式决定旋转体2的形状。
图7是进行实验来确认旋转体2的形状(锥形形状的旋转体2A、曲面形状的旋转体2B)和侧面平均角度θ1(68度、75度、80度)对负离子产生量(个/cc)产生怎样的影响的图，(a)是孔总面积为90mm2的情况，(b)是孔总面积为130mm2的情况。
如图7所示，对于负离子产生量(个/cc)，与侧面平均角度θ1为68度相比侧面平均角度θ1为75度时与孔总面积无关，产生量较多。另外，在侧面平均角度θ1为68～75度时，曲面形状的旋转体2B(参照图4)比锥形形状的旋转体2A(参照图2)优异。可以推定，这是因为通过使旋转体2为曲面形状，从而垂直地按压旋转体2的内壁面的压缩加速度很好地发挥作用，从薄雾飞散口22飞出的薄雾的速度增大，通过向在薄雾飞散口22的外周设置的多孔体23的冲撞，进一步地向在多孔体23的外周侧设置的装置体壁(未图示)的冲撞，使水细微力增大。
另外，对于锥形形状的旋转体2A(参照图2)，如图7(a)所示，在侧面平均角度θ1为75度时，当孔总面积为90mm2的情况下，为9500(个/cc)，与此相对，如图7(b)所示，当孔总面积为130mm2的情况下，为大约8300(个/cc)，因此，锥形形状的旋转体2A(参照图2)比曲面形状的旋转体2B(参照图4)更大地受孔总面积的影响。
此外，与图6所示的加湿量(ml/h)一样，可以推定，若使旋转体2(2A、2B)的旋转速度或旋转半径增大，则与侧面平均角度θ1为68度、80度相比，75度附近(表示极值的75.7度)为负离子产生量(个/cc)的极大值。
这证明了根据上述基本构造方程式预测的侧面平均角度为最佳值。另外，若侧面平均角度θ1变小，则旋转体2自身的大小增大而使整个纳米薄雾产生装置10的大小增大，因此，装置的制造变得困难。由此，根据上述实验结果，以使侧面平均角度θ1的范围为50度≦θ＜80度，更优选为68度≦θ＜80度的方式决定旋转体2的形状。
根据上述，本发明的实施方式所涉及的纳米薄雾产生装置10(10A、10B)中的旋转体构造1(1A、1B)，在根据设计上的要求等而设定了上部半径R1和汲取高度H的情况下，通过求出满足基本构造方程式的侧面平均角度θ，从而能够推导出侧面上升加速度为极值的侧面平均角度θ，使水的汲取量为极大。
因此，若将侧面平均角度θ1设定为在θ的±5％以内，则能够适宜地设定使水W的汲取量为极大的侧面平均角度θ1，因此，能够使与纳米薄雾的产生量存在正相关关系的加湿量和负离子的产生量最大化。
上面，对本发明的实施方式进行了说明，但是，本发明不限于上述的实施方式，可以适当变形进行实施。例如，本实施方式中，相对于使侧面上升加速度为极值的侧面平均角度θ(75.7度)，将侧面平均角度θ1设定为在75.7度的±5％以内(约71.9度～约79.5度)，但是，也可以更适宜地设定为在±3％以内，或考虑内壁面的摩擦阻力、旋转半径、汲取高度等的影响，而适宜地设定为在从-5％到+3％的范围内。
(附图标记的说明)
1、1A、1B：旋转体构造；2、2A、2B：旋转体；3：电动机；4：蓄水槽；10、10A、10B：纳米薄雾产生装置；21、21A、21B：内壁；22：薄雾飞散口；23：多孔体；41：水箱；42：箱盖；42a：供给孔；42b：浮动传感器；42c：上限水位设定单元；51：下部内壁点；52：上部内壁点；L：吃水线；L1：下限水位；L2：上限水位；R：内壁半径；R1：上部半径；R2：下部半径；W：水。

Claims (6)

1.一种纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其使上部比下部直径大的呈研钵状的旋转体旋转来产生纳米薄雾，其特征在于，
所述旋转体中，所述下部浸泡在蓄水槽的水中，在所述上部设置有薄雾飞散口，
所述纳米薄雾产生装置通过使所述旋转体旋转沿该旋转体的内壁汲取所述水并使所述水从所述薄雾飞散口飞散来产生纳米薄雾，
将所述薄雾飞散口的上端高度处的内壁半径设为上部半径R1，
将从被所述蓄水槽的水浸泡的吃水线的高度到所述薄雾飞散口的上端高度为止的高度设为汲取高度H，
将在该汲取高度H的范围内，所述内壁与水平线所成的平均角度设为侧面平均角度θ1，
相对于满足-R1sin3θ+2Hcosθsin2θ+Hcos3θ＝0即基本构造方程式的θ，
将所述侧面平均角度θ1设定为在θ±5％以内。
2.如权利要求1所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，
在将所述吃水线与所述内壁的交点设为下部内壁点，将所述上端高度处的内壁点设为上部内壁点时，
将所述侧面平均角度θ1设为将所述下部内壁点和所述上部内壁点连结的直线与水平线所成的角度。
3.如权利要求1或2所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，
将所述侧面平均角度θ1设定在50度≦θ＜80度的范围。
4.如权利要求1所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，
所述内壁由在正面剖面观察时呈直线状地延伸的锥形形状构成。
5.如权利要求1所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，
所述内壁在正面剖面观察时呈向外侧膨胀的曲面形状。
6.如权利要求1所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，
在将所述吃水线的高度控制为在预先设定的下限值与上限值之间变动的情况下，将所述下限值以上且所述上限值以下的数值作为所述吃水线的高度。
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