CN106601776A - 柔性amoled显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种柔性AMOLED显示面板，该柔性AMOLED显示面板在TFT结构以外的区域从所述层间绝缘层开始往下形成有至少贯穿所述层间绝缘层的镂空结构并在镂空结构内填充有平坦化层，利用平坦化层的有机材料代替层间绝缘层、栅极绝缘层、以及缓冲层的无机材料，能够改善柔性AMOLED显示面板的应力性能，防止屏幕弯曲时出现断裂和脱落的不良现象，且镂空结构设置于TFT结构以外的区域，不影响TFT结构中栅极与源极和漏极之间的绝缘效果。

Description

柔性AMOLED显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性AMOLED显示面板。
背景技术
平面显示器件具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有的平面显示器件主要包括液晶显示器件(Liquid Crystal Display，LCD)及有机发光二极管显示器件(Organic Light Emitting Display，OLED)。
有机发光二极管显示器件由于同时具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异特性，被认为是下一代平面显示器的新兴应用技术。OLED显示装置按照驱动方式可以分为无源矩阵型OLED(Passive Matrix OLED，PMOLED)和有源矩阵型OLED(Active Matrix OLED，AMOLED)两大类，即直接寻址和薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)矩阵寻址两类。其中，AMOLED具有呈阵列式排布的像素，属于主动显示类型，发光效能高，性能优异。
OLED显示装置通常包括：基板、设于基板上的阳极、设于阳极上的有机发光层、以及设于有机发光层上的阴极。工作时向有机发光层发射来自阳极的空穴和来自阴极的电子，将这些电子和空穴组合产生激发性电子-空穴对，并将激发性电子-空穴对从受激态转换为基态实现发光。
柔性显示是OLED显示装置的一大特色，可变型可弯曲的柔性显示装置能够给用户带来颠覆性的使用体验。但目前的柔性显示技术还不够成熟，现有的柔性显示面板为了防止第一金属层中的栅极与第二金属层中的源极和漏极之间产生漏电，通常会设置第一金属层与第二金属层之间的绝缘层厚度比其他的绝缘层的厚度更大，这样就导致该绝缘层的应力性能也更差，在屏幕弯曲时，更容易出现断裂和脱落等不良现象，进而造成产品的不良。
发明内容
本发明的目的在于提供了一种柔性AMOLED显示面板，能够改善柔性AMOLED显示面板的应力性能，防止屏幕弯曲时出现断裂和脱落的不良现象。
为实现上述目的，本发明提供了一种柔性AMOLED显示面板，包括：柔性衬底、覆盖所述柔性衬底的缓冲层、设于所述缓冲层上的TFT层、设于所述TFT层上的平坦化层、设于所述平坦化层上的阳极、设于所述阳极上的像素定义层、设于所述阳极上且被所述像素定义层包围的有机发光层、以及设于所述有机发光层以及像素定义层上的阴极；
所述TFT层包括：设于所述缓冲层上的半导体层、覆盖所述半导体层以及缓冲层的栅极绝缘层、设于所述半导体层上的栅极绝缘层上的栅极、设于所述栅极以及栅极绝缘层上的层间绝缘层、设于所述层间绝缘层上间隔分布的源极和漏极；
所述半导体层、栅极、源极和漏极共同形成TFT结构；
在TFT结构以外的区域，从所述层间绝缘层开始往下形成有至少贯穿所述层间绝缘层的镂空结构，所述镂空结构内填充有平坦化层。
所述镂空结构贯穿所述层间绝缘层以及栅极绝缘层。
所述镂空结构贯穿所述层间绝缘层、栅极绝缘层、以及缓冲层。
所述柔性衬底包括：第一有机聚合物层、覆盖所述第一有机聚合物层的无机绝缘层、覆盖所述无机绝缘层的第二有机聚合物层。
所述平坦化层的材料为透明的有机材料。
所述层间绝缘层和栅极绝缘层的材料为SiOx和SiNx中的一种或二者的组合。
所述半导体层的材料为低温多晶硅。
所述源极和漏极分别通过贯穿所述层间绝缘层以及栅极绝缘层上的两过孔与所述半导体层的两端接触。
所述阳极通过贯穿所述平坦化层的过孔与所述漏极接触。
所述栅极、源极和漏极的材料为铜、钼和铝中一种或多种的组合。
本发明的有益效果：本发明提供了一种柔性AMOLED显示面板，该柔性AMOLED显示面板在TFT结构以外的区域从所述层间绝缘层开始往下形成有至少贯穿所述层间绝缘层的镂空结构并在镂空结构内填充有平坦化层，利用平坦化层的有机材料代替层间绝缘层、栅极绝缘层、以及缓冲层的无机材料，能够改善柔性AMOLED显示面板的应力性能，防止屏幕弯曲时出现断裂和脱落的不良现象，且镂空结构设置于TFT结构以外的区域，不影响TFT结构中栅极与源极和漏极之间的绝缘效果。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为本发明的柔性AMOLED显示面板的第一实施例的结构图；
图2为本发明的柔性AMOLED显示面板的第二实施例的结构图；
图3为本发明的柔性AMOLED显示面板的第三实施例的结构图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1，图1为本发明的柔性AMOLED显示面板的第一实施例的示意图，具体包括：柔性衬底1、覆盖所述柔性衬底1的缓冲层2、设于所述缓冲层2上的TFT层3、设于所述TFT层3上的平坦化层4、设于所述平坦化层4上的阳极5、设于所述阳极5上的像素定义层6、设于所述阳极5上且被所述像素定义层6包围的有机发光层7、以及设于所述有机发光层7以及像素定义层6上的阴极8。
具体地，所述TFT层3包括：设于所述缓冲层2上的半导体层31、覆盖所述半导体层31以及缓冲层2的栅极绝缘层32、设于所述半导体层31上的栅极绝缘层32上的栅极33、设于所述栅极33以及栅极绝缘层32上的层间绝缘层34、设于所述层间绝缘层34上间隔分布的源极35和漏极36。
进一步地，所述半导体层31、栅极33、源极35和漏极36共同形成TFT结构。
重点的是，在TFT结构以外的区域，所述层间绝缘层34具有镂空结构37，所述镂空结构37内填充有平坦化层4。
具体地，所述源极35和漏极36分别通过贯穿所述层间绝缘层34以及栅极绝缘层32上的两过孔与所述半导体层31的两端接触。所述阳极5通过贯穿所述平坦化层4的过孔与所述漏极36接触。
需要说明的是，所述层间绝缘层34的材料为无机材料，例如氧化硅(SiOx)和氮化硅(SiNx)中的一种或二者的组合，现有技术中层间绝缘层为一个整块无机薄膜，其应力性能较差，在屏幕弯曲时，很容易出现断裂或脱落，导致显示面板出现不良，本发明通过对TFT结构以外的区域的层间绝缘层34进行镂空处理，形成镂空结构，然后将平坦化层4填充到镂空结构中，平坦化层4的材料为透明的有机材料，具有较好的弹性和柔韧性，可以比较好释放应力，通过形成镂空结构37并在其中填充平坦化层4能够改善层间绝缘层34的应力性能，防止其在屏幕弯曲时出现断裂或脱落的不良，进而提升柔性AMOLED显示面板的质量，充分发挥OLED显示面板的柔性显示的优势。
具体地，所述柔性衬底1采用有机聚合物薄膜与无机薄膜相互交叠形成，其中，无机薄膜具有有高介电常数，高绝缘性，对外界环境隔绝起到很好的阻挡作用，但存在较大的机械应力问题，对于有机聚合物膜，有较好的弹性和柔韧性，可以比较好释放应力，但其阻隔外界环境的能力较差，而利用有机聚合物薄膜与无机薄膜相互交叠，既可以达到阻隔保护，又可消除各防护层材料间应力的相互影响。优选地，所述柔性衬底1包括：第一有机聚合物层11、覆盖所述第一有机聚合物层11的无机绝缘层12、覆盖所述无机绝缘层12的第二有机聚合物层13。其中，所述第一有机聚合物层11以及第二有机聚合物层13的材料均为聚酰亚胺(Polyimide，PI)，所述无机绝缘层12的材料为SiNx。同时，覆盖于所述第二有机聚合物层13上的缓冲层2的材料为SiOx和SiNx中的一种或二者的组合，进一步消除各防护层材料间应力的相互影响，还可防止杂质从柔性衬底1向上扩散，影响TFT层3的性能。
优选地，所述栅极绝缘层32的材料为SiOx和SiNx中的一种或二者的组合，所述半导体层31的材料为低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon，LTPS)，所述栅极33、源极35和漏极36的材料为铜、钼和铝中一种或多种的组合。
可以理解的是，如图2以及图3所示，在本发明的第二与第三实施例中，所述镂空结构37还继续往下延伸，例如在图2所示的第二实施例中所述镂空结构不仅贯穿所述层间绝缘层34还同时贯穿所述层间绝缘层34下方的栅极绝缘层32，在图3所示的第三实施例中所述镂空结构则同时贯穿了层间绝缘层34、栅极绝缘层32、以及缓冲层2，这种改变均不会影响本发明的实现。
综上所述，本发明提供了一种柔性AMOLED显示面板，该柔性AMOLED显示面板在TFT结构以外的区域从所述层间绝缘层开始往下形成有至少贯穿所述层间绝缘层的镂空结构并在镂空结构内填充有平坦化层，利用平坦化层的有机材料代替层间绝缘层、栅极绝缘层、以及缓冲层的无机材料，能够改善柔性AMOLED显示面板的应力性能，防止屏幕弯曲时出现断裂和脱落的不良现象，且镂空结构设置于TFT结构以外的区域，不影响TFT结构中栅极与源极和漏极之间的绝缘效果。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种柔性AMOLED显示面板，其特征在于，包括：柔性衬底(1)、覆盖所述柔性衬底(1)的缓冲层(2)、设于所述缓冲层(2)上的TFT层(3)、设于所述TFT层(3)上的平坦化层(4)、设于所述平坦化层(4)上的阳极(5)、设于所述阳极(5)上的像素定义层(6)、设于所述阳极(5)上且被所述像素定义层(6)包围的有机发光层(7)、以及设于所述有机发光层(7)以及像素定义层(6)上的阴极(8)；
所述TFT层(3)包括：设于所述缓冲层(2)上的半导体层(31)、覆盖所述半导体层(31)以及缓冲层(2)的栅极绝缘层(32)、设于所述半导体层(31)上的栅极绝缘层(32)上的栅极(33)、设于所述栅极(33)以及栅极绝缘层(32)上的层间绝缘层(34)、设于所述层间绝缘层(34)上间隔分布的源极(35)和漏极(36)；
所述半导体层(31)、栅极(33)、源极(35)和漏极(36)共同形成TFT结构；
在TFT结构以外的区域，从所述层间绝缘层(34)开始往下形成有至少贯穿所述层间绝缘层(34)的镂空结构(37)，所述镂空结构(37)内填充有平坦化层(4)。
2.如权利要求1所述的柔性AMOLED显示面板，其特征在于，所述镂空结构(37)贯穿所述层间绝缘层(34)以及栅极绝缘层(32)。
3.如权利要求1所述的柔性AMOLED显示面板，其特征在于，所述镂空结构(37)贯穿所述层间绝缘层(34)、栅极绝缘层(32)、以及缓冲层(2)。
4.如权利要求1所述的柔性AMOLED显示面板，其特征在于，所述柔性衬底(1)包括：第一有机聚合物层(11)、覆盖所述第一有机聚合物层(11)的无机绝缘层(12)、覆盖所述无机绝缘层(12)的第二有机聚合物层(13)。
5.如权利要求1所述的柔性AMOLED显示面板，其特征在于，所述平坦化层(4)的材料为透明的有机材料。
6.如权利要求1所述的柔性AMOLED显示面板，其特征在于，所述层间绝缘层(34)和所述栅极绝缘层(32)的材料为SiOx和SiNx中的一种或二者的组合。
7.如权利要求1所述的柔性AMOLED显示面板，其特征在于，所述半导体层(31)的材料为低温多晶硅。
8.如权利要求1所述的柔性AMOLED显示面板，其特征在于，所述源极(35)和漏极(36)分别通过贯穿所述层间绝缘层(34)以及栅极绝缘层(32)上的两过孔与所述半导体层(31)的两端接触。
9.如权利要求1所述的柔性AMOLED显示面板，其特征在于，所述阳极(5)通过贯穿所述平坦化层(4)的过孔与所述漏极(36)接触。
10.如权利要求1所述的柔性AMOLED显示面板，其特征在于，所述栅极(33)、源极(35)和漏极(36)的材料为铜、钼和铝中一种或多种的组合。
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