CN106168689A - 一种高雾高亮光学膜制造方法 - Google Patents

一种高雾高亮光学膜制造方法 Download PDF

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Abstract

一种高雾高亮光学膜制造方法,具体步骤为:(1)将光扩散涂料均匀涂布于基材正面形成上扩散膜层,烘干、老化、冷却后得半成品;(2)将紫外光固化丙烯酸树脂均匀涂布于半成品的背面形成增光膜层,固化后即得成品。本发明步骤简单,可操作性强,通过对光扩散涂料配方的优化改进,各组分相互协同配合,制得的光学膜厚度与密度均匀,具有扩散面柔软并不易被划伤等特点,且光扩散功能优良、光学辉度高、雾度和透光率佳,光学性能优异,能满足各种尺寸液晶屏对高辉度的要求。

Description

一种高雾高亮光学膜制造方法
技术领域
本发明涉及光学膜制造技术领域,尤其是涉及一种高雾高亮光学膜制造方法。
背景技术
平板显示(FPD,例如LCD、PDP 等)产业作为信息产业的重要组成部分,近年来更是得到了迅速发展。平板显示器广泛应用于电视、电脑显示器、笔记本电脑、手机、数码相机、MP3、MP4、MP5、车载DSC/DV、GPS 导航仪等产品上。但这些平板显示器本身并不发光,所产生的画面光源是由其中的背光模组所提供,其光源要求均匀、高亮度。 不论是现在应用较多的LED 背光源还是传统的CCFL 背光源,其所发出的光为点光源或者线光源,而不是面光源。但经过背光模组用扩散膜,能够将其分布成一个均匀的面光源。光线经过扩散层时,通过在两种折射率不同的介质中不断发生的折射、反射等光学现象,从而得到光学扩散的结果。现有的光学扩散膜存在光学辉度低、材料偏厚、扩散面易划伤等缺陷,无法满足光电行业高端需求。
例如,申请公布号CN1570675A 的中国专利公开了一种光电扩散膜的制造方法,其工艺步骤为:a. 将透明或半透明基材架于涂布机台上;b. 将扩散膜配料装入该涂布机台中;c. 将该扩散膜配料涂布于该基材正面以形成该扩散膜出光面;d. 将该扩散膜置于恒温恒湿架进行干燥;e. 对该基材反面重复步骤a 至d 以形成该扩散膜的入光面。采用该发明方法制得的光电扩散膜存在光学辉度低,雾度和透光率不佳,光电扩散膜整体的品质不高等缺陷,同时在生产过程中,扩散膜涂料稳定性差,扩散膜涂料中的光扩散粒子极易沉降从而影响涂料的涂布均匀性,影响产品品质。
发明内容
本发明是为了解决现有技术的光学膜所存在的上述技术问题,提供了一种工艺步骤简单,成本低,可操作性强的高雾高亮光学膜制造方法,制得光学膜具有光扩散功能优良、光学辉度高、雾度和透光率佳等特点。
为了实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
本发明的一种高雾高亮光学膜制造方法,具体步骤为:
(1)将光扩散涂料均匀涂布于基材正面形成上扩散膜层,烘干、老化、冷却后得半成品,所述光扩散涂料由以下重量份的组分制成:甲基乙基酮18~20份,季戊四醇丙烯酸酯 15~17份,丙烯酸丁酯3~5份,聚二乙醇1~3份,聚甲基丙烯酸正丁酯5~10份,二丁基锡二月桂酸酯1~2份,纳米二氧化硅1~2份,乙酸丁酯15~17份,脂肪族聚异氰酸酯3~4份,聚醚改性聚二甲基硅氧烷0.2~0.5份,聚甲基丙烯10~15份,聚苯乙烯14~15份,光扩散粒子3~5份。本发明针对现有技术的光学膜所存在的问题,对光扩散涂料配方进行了改进优化,主要在于:增加了季戊四醇丙烯酸酯、丙烯酸丁酯、聚二乙醇、二丁基锡二月桂酸酯及纳米二氧化硅,季戊四醇丙烯酸酯为无色或浅黄色液体,能与其他组分完美兼容,具有高交联密度、快速固化的特性,能改善成膜性能,同时能使上扩散光学膜具有优异的柔韧性和耐划痕性,但是季戊四醇丙烯酸酯的加入会提高整个体系的流动性,影响涂覆性能,因此本发明中加入了二丁基锡二月桂酸酯,二丁基锡二月桂酸酯可抑制本发明整个体系的流动性,可解决加入季戊四醇丙烯酸酯所带来的问题,同时二丁基锡二月桂酸酯还可改善上扩散光学膜的光稳定性和透明性,但是二丁基锡二月桂酸酯的加入会使光扩散涂料产生大量的气泡,本发明通过加入纳米二氧化硅以解决该问题,二氧化硅的透光率和折光率好,不会影响上扩散光学膜的性能,且纳米二氧化硅具有抑泡作用,可减少光扩散涂料中的气泡,有利于提高扩散光学膜的品质,另外纳米二氧化硅能提高上扩散膜层的硬度,提高耐刮性能;丙烯酸丁酯具有增光作用,能提高上扩散膜层表面光泽,提高光的透光率,减少光损耗;聚二乙醇能提高光扩散涂料的稳定性和均一性,有效避免涂料发生沉降,有利于改善涂布性能。
(2)将紫外光固化丙烯酸树脂均匀涂布于半成品的背面形成增光膜层,固化后即得成品。制得的增光膜层之上可复合保护膜以起到保护作用。
作为优选,步骤(1)中,光扩散涂料涂布厚度为5~10μm。
作为优选,步骤(1)中,所述光扩散粒子为聚甲基丙烯酸酯颗粒、聚苯乙烯颗粒、聚硅氧烷颗粒、聚丙烯酸颗粒中的一种或多种。
作为优选,所述光扩散粒子的粒径为0.1~1μm。
作为优选,步骤(1)中,所述基材为PET薄膜。
作为优选,步骤(1)中,所述烘干具体步骤为:升温至100~120℃,烘40~60s。
作为优选,步骤(1)中,所述老化具体步骤为:在50~60℃下老化50~60 h。
作为优选,步骤(2)中,紫外光固化丙烯酸树脂涂布厚度为15~20μm。
因此,本发明具有如下有益效果:本发明步骤简单,可操作性强,通过对光扩散涂料配方的优化改进,各组分相互协同配合,制得的光学膜厚度与密度均匀,具有扩散面柔软并不易被划伤等特点,且光扩散功能优良、光学辉度高、雾度和透光率佳,光学性能优异,能满足各种尺寸液晶屏对高辉度的要求。
具体实施方式
下面通过具体实施方式对本发明做进一步的描述。
实施例1
一种高雾高亮光学膜制造方法,具体步骤为:
(1)将光扩散涂料均匀涂布于基材(PET薄膜)正面形成厚度为7μm的上扩散膜层,升温至110℃烘50s、55℃下老化55h、冷却后得半成品,光扩散涂料由以下重量的组分制成:甲基乙基酮19 kg,季戊四醇丙烯酸酯 16 kg,丙烯酸丁酯4kg,聚二乙醇2kg,聚甲基丙烯酸正丁酯7kg,二丁基锡二月桂酸酯1.5 kg,纳米二氧化硅1.2 kg,乙酸丁酯16 kg,脂肪族聚异氰酸酯3.5 kg,聚醚改性聚二甲基硅氧烷0.4 kg,聚甲基丙烯12 kg,聚苯乙烯14.5kg,粒径为0.2μm的光扩散粒子(聚甲基丙烯酸酯颗粒)4 kg;
(2)将紫外光固化丙烯酸树脂(型号ZHU-1668)均匀涂布于半成品的背面形成厚度为17μm的增光膜层,固化后即得成品。
实施例2
一种高雾高亮光学膜制造方法,具体步骤为:
(1)将光扩散涂料均匀涂布于基材(PET薄膜)正面形成厚度为10μm的上扩散膜层,升温至120℃烘60s、60℃下老化60h、冷却后得半成品,光扩散涂料由以下重量的组分制成:甲基乙基酮20 kg,季戊四醇丙烯酸酯17 kg,丙烯酸丁酯5kg,聚二乙醇3 kg,聚甲基丙烯酸正丁酯10 kg,二丁基锡二月桂酸酯2 kg,纳米二氧化硅2 kg,乙酸丁酯17 kg,脂肪族聚异氰酸酯4 kg,聚醚改性聚二甲基硅氧烷0.5 kg,聚甲基丙烯15 kg,聚苯乙烯15 kg,粒径为1μm的光扩散粒子(聚硅氧烷颗粒)5 kg;
(2)将紫外光固化丙烯酸树脂(型号ZHU-1668)均匀涂布于半成品的背面形成厚度为20μm的增光膜层,固化后即得成品。
实施例3
一种高雾高亮光学膜制造方法,具体步骤为:
(1)将光扩散涂料均匀涂布于基材(PET薄膜)正面形成厚度为5μm的上扩散膜层,升温至100℃烘40s、50℃下老化50h、冷却后得半成品,光扩散涂料由以下重量的组分制成:甲基乙基酮18kg,季戊四醇丙烯酸酯 15kg,丙烯酸丁酯3kg,聚二乙醇1 kg,聚甲基丙烯酸正丁酯5kg,二丁基锡二月桂酸酯1kg,纳米二氧化硅1kg,乙酸丁酯15kg,脂肪族聚异氰酸酯3kg,聚醚改性聚二甲基硅氧烷0.2kg,聚甲基丙烯10kg,聚苯乙烯14kg,粒径为0.1μm的光扩散粒子(聚苯乙烯颗粒与聚丙烯酸颗粒质量比2:3)3kg;
(2)将紫外光固化丙烯酸树脂(型号ZHU-1668)均匀涂布于半成品的背面形成厚度为15μm的增光膜层,固化后即得成品。
本发明步骤简单,可操作性强,制得的光学膜厚度与密度均匀,具有扩散面柔软并不易被划伤等特点,且光扩散功能优良、光学辉度高、雾度和透光率佳,成品的雾度在90%以上,透光率在80%以上,光学性能优异,能满足各种尺寸液晶屏对高辉度的要求。
以上所述的实施例只是本发明的一种较佳的方案,并非对本发明作任何形式上的限制,在不超出权利要求所记载的技术方案的前提下还有其它的变体及改型。

Claims (8)

1.一种高雾高亮光学膜制造方法,其特征在于,具体步骤为:
(1)将光扩散涂料均匀涂布于基材正面形成上扩散膜层,烘干、老化、冷却后得半成品,所述光扩散涂料由以下重量份的组分制成:甲基乙基酮18~20份,季戊四醇丙烯酸酯 15~17份,丙烯酸丁酯3~5份,聚二乙醇1~3份,聚甲基丙烯酸正丁酯5~10份,二丁基锡二月桂酸酯1~2份,纳米二氧化硅1~2份,乙酸丁酯15~17份,脂肪族聚异氰酸酯3~4份,聚醚改性聚二甲基硅氧烷0.2~0.5份,聚甲基丙烯10~15份,聚苯乙烯14~15份,光扩散粒子3~5份;
(2)背面涂布:将紫外光固化丙烯酸树脂均匀涂布于半成品的背面形成增光膜层,固化后即得成品。
2.根据权利要求1所述的一种高雾高亮光学膜制造方法,其特征在于,步骤(1)中,光扩散涂料涂布厚度为5~10μm。
3.根据权利要求1所述的一种高雾高亮光学膜制造方法,其特征在于,步骤(1)中,所述光扩散粒子为聚甲基丙烯酸酯颗粒、聚苯乙烯颗粒、聚硅氧烷颗粒、聚丙烯酸颗粒中的一种或多种。
4.根据权利要求3所述的一种高雾高亮光学膜制造方法,其特征在于,所述光扩散粒子的粒径为0.1~1μm。
5.根据权利要求1所述的一种高雾高亮光学膜制造方法,其特征在于,步骤(1)中,所述基材为PET薄膜。
6.根据权利要求1所述的一种高雾高亮光学膜制造方法,其特征在于,步骤(1)中,所述烘干具体步骤为:升温至100~120℃,烘40~60s。
7.根据权利要求1所述的一种高雾高亮光学膜制造方法,其特征在于,步骤(1)中,所述老化具体步骤为:在50~60℃下老化50~60h。
8.根据权利要求1所述的一种高雾高亮光学膜制造方法,其特征在于,步骤(2)中,紫外光固化丙烯酸树脂涂布厚度为15~20μm。
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