CN105884816B - 制备含脲硅烷的方法 - Google Patents

制备含脲硅烷的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105884816B
CN105884816B CN201510242334.4A CN201510242334A CN105884816B CN 105884816 B CN105884816 B CN 105884816B CN 201510242334 A CN201510242334 A CN 201510242334A CN 105884816 B CN105884816 B CN 105884816B
Authority
CN
China
Prior art keywords
general formula
eto
containing urea
preparing
silane according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201510242334.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105884816A (zh
Inventor
S·罗森施廷格尔
R·莫泽
C·勒本
R·伯格
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Evonik Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Evonik Degussa GmbH filed Critical Evonik Degussa GmbH
Publication of CN105884816A publication Critical patent/CN105884816A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105884816B publication Critical patent/CN105884816B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/10Compounds having one or more C—Si linkages containing nitrogen having a Si-N linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/1892Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C275/00Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C275/04Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C275/06Derivatives of urea, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups having nitrogen atoms of urea groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic and saturated carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0834Compounds having one or more O-Si linkage
    • C07F7/0892Compounds with a Si-O-N linkage
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/081Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)

Abstract

本发明涉及一种制备通式I的含脲硅烷的方法其中通式II的二胺与通式III的异氰酸基硅烷在水中反应:H2N‑R‑S‑S‑R‑NH2 (II)(R1)3Si‑R‑NCO (III)。

Description

制备含脲硅烷的方法
技术领域
本发明涉及一种制备含脲硅烷的方法。
发明背景
CAS 1184961-62-3、442527-46-0和498553-03-0公开了下式的化合物:
另外,US 20030191270 A1公开了下式的硅烷:
JP 2002201312 A公开了下式的橡胶改性剂:
另外,J.Mat.Chem.2009,19,4746-4752公开由介孔二氧化硅形成的SH官能化的框架结构内的金纳米颗粒和含脲硅烷的制备。在已知方法中,使用的是有机溶剂。
已知制备方法的一个缺点在于,其是具有许多方法步骤和有机溶剂的复杂方法(在H2O中中和,萃取到CH2Cl2相中,用MgSO4干燥,去除溶剂,将溶剂交换为THF,在THF中反应,去除溶剂,在戊烷中沉淀/洗涤)。
发明内容
本发明的目的是提供一种方法,与源自现有技术的方法相比,其在不含有机溶剂的情况下有效,并且具有更少的方法步骤。
本发明提供一种制备通式I的含脲硅烷的方法,
其中R1相同或不同,并且是C1-C10烷氧基,优选地甲氧基或乙氧基、C2-C10环二烷氧基、苯氧基、C4-C10环烷氧基、C6-C20芳基,优选地苯基、C1-C10烷基,优选地甲基或乙基、C2-C20烯基、C7-C20芳烷基或卤素,优选地Cl;并且R相同或不同,并且是任选地经F-、Cl-、Br-、I-、-CN或HS-取代的支链或非支链、饱和或不饱和的脂肪族、芳香族或混合脂肪族/芳香族的二价C1-C30、优选地C1-C20、更优选地C1-C10、甚至更优选地C1-C7、尤其优选地C2和C3烃基,其特征在于,
使通式II的二胺与通式III的异氰酸基硅烷在水中反应:
H2N-R-S-S-R-NH2 (II)
(R1)3Si-R-NCO (III),
其中R和R1各自如上文所定义。
对于所述反应,任选地可以使用额外的有机溶剂。
反应可以在不含有机溶剂的情况下进行。
含脲硅烷可以是通式I的含脲硅烷的混合物。
过程产物可以包含通过使通式I的含脲硅烷的烷氧基硅烷官能团水解和缩合而形成的低聚物。
R可以优选地是-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-、-CH(CH3)-、-CH2CH(CH3)-、-CH(CH3)CH2-、-C(CH3)2-、-CH(C2H5)-、-CH2CH2CH(CH3)-、-CH(CH3)CH2CH2-、-CH2CH(CH3)CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2CH2-或或-CH2-CH2-C6H4-CH2-。
通式I的含脲硅烷可以优选地是:
((EtO)3Si-CH2-NH-CO-NH-CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2-NH-CO-NH-CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2-NH-CO-NH-CH2CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2CH2-S)2
((MeO)3Si-CH2-NH-CO-NH-CH2-S)2
((MeO)3Si-CH2CH2-NH-CO-NH-CH2-S)2
((MeO)3Si-CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
((MeO)3Si-CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
((MeO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2-S)2
((MeO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
((MeO)3Si-CH2-NH-CO-NH-CH2CH2CH2-S)2
((MeO)3Si-CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2CH2-S)2
((MeO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2CH2-S)2
尤其优选的化合物具有下式:
((EtO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
通式II的二胺可以优选地是:
H2N-CH2-S-S-CH2-NH2
H2N-CH2CH2-S-S-CH2-NH2
H2N-CH2CH2-S-S-CH2CH2-NH2
H2N-CH2-S-S-CH2CH2CH2-NH2
H2N-CH2CH2-S-S-CH2CH2CH2-NH2
H2N-CH2CH2CH2-S-S-CH2CH2CH2-NH2
通式III的异氰酸基硅烷可以优选地是:
(C2H5O)3Si-CH2-NCO、
(C2H5O)3Si-CH2CH2-NCO、
(C2H5O)3Si-CH2CH2CH2-NCO、
(CH3O)3Si-CH2-NCO、
(CH3O)3Si-CH2CH2-NCO或
(CH3O)3Si-CH2CH2CH2-NCO。
可通过根据本发明的方法获得的通式I的含脲硅烷可以以大于50%、优选地大于60%、更优选地大于70%、极优选地大于80%的收率获得。
通过根据本发明的方法获得的产物在DMSO-d6或CDCl3中的可溶分数通过在DMSO-d6或CDCl3中添加内标物,例如添加三苯基氧化膦(TPPO)和本领域技术人员已知的1H NMR方法测定。
相对于所用通式II的二胺,水的量可以大于1重量%、优选大于10重量%、更优选大于50重量%并且最优选大于100重量%。
反应可以在排除空气的情况下进行。
反应可以在惰性气体氛围下进行,例如在氩气或氮气下、优选地在氮气下进行。
本发明的方法可以在大气压力、升高的压力或减压下进行。优选地,根据本发明的方法可以在标准压力下进行。
升高的压力可以是1.1巴到100巴、优选地1.5巴到50巴、更优选地2巴到20巴并且极优选地2到10巴的压力。
减压可以是1毫巴到1000毫巴、优选地1毫巴到500毫巴、更优选地1毫巴到250毫巴、极优选地5毫巴到100毫巴的压力。
根据本发明的方法可以在0℃与+100℃之间、优选地在5℃与60℃之间、更优选地在5℃与30℃之间进行。
对于本发明的方法,可以将通式II的二胺计量加入通式III的异氰酸基硅烷中。
对于本发明的方法,可以优选地将通式III的异氰酸基硅烷计量加入通式II的二胺中。
通式II的二胺在与通式III的异氰酸基硅烷反应之前,由以下通式IV的二胺的氢卤化物盐通过添加碱、优选地添加NaOH或KOH而制备:
Hal-+H3N-R-S-S-R-NH3 +Hal- (IV)
其中Hal是F、Cl、Br或I,优选地Cl。可以添加碱直到确立7与14之间的pH。
在根据本发明的方法中,通式II的二胺可以相对于通式III的异氰酸基硅烷以1:1.70到1:2.20、优选地1:1.75到1:2.10的摩尔比率、更优选地以1:1.80到1:2.00的比率使用。
通过根据本发明的方法制备的产物可以具有少于25摩尔%、优选地少于10摩尔%、更优选地少于5摩尔%、极优选地少于3摩尔%的通式II的二胺残余物含量。
通过根据本发明的方法制备的产物中通式II的二胺的相对摩尔百分比可在13CNMR中通过相对于通式I的含脲硅烷的Si-CH2-基团中的碳原子对通式II的二胺的-CH2-NH2基团中的碳原子求积分而测定。
对于式II的物质H2N-CH2-CH2-S-S-CH2-CH2-NH2,举例来说,将-CH2-NH2基团的碳原子的积分用于测定相对含量。
通过根据本发明的方法制备的产物可以具有少于10摩尔%、优选地少于5摩尔%、更优选地少于1摩尔%、极优选地少于0.1摩尔%的通式III的异氰酸基硅烷残余物含量。
通过根据本发明的方法制备的产物中的通式III的异氰酸基硅烷在>1摩尔%范围内的相对摩尔百分比可在13C NMR中通过相对于通式I的含脲硅烷的Si-CH2-基团中的碳原子对通式III的异氰酸基硅烷的-NCO基团中的碳原子求积分而测定。
对于式III的物质(EtO)3Si-CH2-CH2-CH2-NCO,举例来说,将-NCO基团的碳原子(δ=122.22ppm)的积分用于测定在>1摩尔%范围内的相对含量。
通过根据本发明的方法制备的产物中的通式III的异氰酸基硅烷在<1摩尔%范围内的相对摩尔百分比可通过本领域技术人员已知的定量FT-IR光谱术测定。所述方法通过使用适合浓度的校准溶液(例如在C2Cl4中)校准。为了测量,将约1g样品称重到25ml辊颈瓶中,并且添加25g C2Cl4。将样品在搅拌器上搅拌1-2小时。之后,将下部液相小心计量加入20mm IR比色皿中,并且通过FT-IR光谱法(4000-1200cm-1,分辨率2cm-1)进行分析。在相同条件下,记录溶剂的光谱以用于扣除。
对于式III的物质(EtO)3Si-CH2-CH2-CH2-NCO,举例来说,将-NCO基团在2270cm-1下的价键振动的波长用于测定在<1摩尔%范围内的相对含量。
通过根据本发明的方法制备的产物可以具有少于25摩尔%、优选地少于10摩尔%、更优选地少于5摩尔%、极优选地少于3摩尔%的通式IV的二胺的氢卤化物盐残余物含量。
通过根据本发明的方法制备的产物中的通式IV的二胺的氢卤化物盐的相对摩尔百分比可在13C NMR中通过相对于通式I的含脲硅烷的Si-CH2-基团中的碳原子对通式IV的二胺的氢卤化物盐的-CH2-NH2·HCl基团中的碳原子求积分而测定。
对于式IV的物质HCl·H2N-CH2-CH2-S-S-CH2-CH2-NH2·HCl,举例来说,将S-CH2-CH2-NH2·HCl基团的碳原子(δ=37.82ppm)或S-CH2-CH2-NH2·HCl基团的碳原子(δ=33.79ppm)的积分用于测定相对含量。
随后可以将反应产物过滤,并且用水和/或有机溶剂、优选地烷烃、更优选地戊烷、己烷或庚烷洗涤。优选的是用水洗涤,然后用烷烃、更优选地用己烷洗涤。
可以将产物在过滤之后干燥。干燥可以在20℃-100℃、优选地25℃-50℃的温度下实施。干燥可以在1-500毫巴的减压下实施。
在优选的实施方案中,制备其中R和R1各自如上文所定义的通式I的含脲硅烷的方法
可以特征在于,将通式IV的二胺的氢卤化物盐溶解于水中并且与碱反应,
Hal-+H3N-R-S-S-R-NH3 +Hal- (IV)
然后添加通式III的异氰酸基硅烷:
(R1)3Si-R-NCO (III)
将沉淀产物滤出,用水和己烷洗涤,并且干燥。
通式I的含脲硅烷可以用作以下物质之间的促粘剂:无机材料,例如玻璃珠、玻璃碎片、玻璃表面、玻璃纤维或氧化性填料、优选地二氧化硅,如沉淀法二氧化硅和热解法二氧化硅;和有机聚合物,例如热固性材料、热塑性材料或弹性体;或用作用于氧化性表面的交联剂和表面改性剂。
通式I的含脲硅烷可以用作填充橡胶混合物中的偶联剂,实例是轮胎胎面、工业橡胶制品或鞋类鞋底。
根据本发明的方法的优点在于,通式I的含脲硅烷能够在不含有机溶剂情况下的一个合成步骤中进行制备。
根据本发明的方法的另一个优点在于,反应可在相对短的周期内实施。
根据本发明的方法的另一个优点在于,所得产物的复杂纯化处理可以省略。
具体实施方式
实施例:
实施例1:[(EtO)3Si-(CH2)3-NH-C(=O)-NH-(CH2)2-S-]2在水中的制备(用己烷洗涤)
开始时以溶解于软水(940ml)中的胱胺二盐酸盐(108.39克,0.47摩尔,1.00当量)加料至N2吹扫的2l带夹套的四口烧瓶,所述烧瓶具有精密玻璃搅拌器、回流冷凝器、内部温度计和滴加漏斗。借助于滴加漏斗,在17-20℃下计量加入50%KOH溶液(92.31克,0.82摩尔,1.75当量),并且将混合物搅拌15分钟。然后将3-异氰酸基丙基三乙氧基硅烷(221.05克,0.85摩尔,1.8当量)计量加入,加入速度应使内部温度不超过30℃。之后,将混合物在23℃下搅拌一小时。将白色悬浮体在压力下过滤,用200ml软水冲洗,并且用干燥的N2干燥2小时。将滤饼用三份己烷(每份150ml)洗涤,并再次用干燥的N2干燥1小时。[(EtO)3Si-(CH2)3-NH-C(=O)-NH-(CH2)2-S-]2产物是白色细粉(254.78克,理论值的92.8%);
1H NMR(δppm,500MHz,CDCl3):0.64(4H,t),1.22(18H,t),1.61(4H,m),2.78(4H,m),3.15(4H,m),3.52(4H,m),3.81(12H,q),5.2-6.5(4H,br);
13C NMR(δppm,125MHz,CDCl3):7.7(2C),18.3(6C),23.8(2C),38.8(2C),38.9(2C),42.8(2C),58.3(6C),159.0(2C)。
29Si NMR(δppm,100MHz,CDCl3):-45.7(97.4%硅烷),-53.5(2.6%M结构);
使用TPPO内标物时在CDCl3中的可溶分数:94.4%;
水含量(DIN 51777): 0.4%;
初始熔点: 106-110℃;
残余异氰酸酯含量: 0.04%
实施例2:[(EtO)3Si-(CH2)3-NH-C(=O)-NH-(CH2)2-S-]2在水中的制备(无己烷洗涤)
开始时以溶解于软水(382ml)中的胱胺二盐酸盐(108.39克,0.47摩尔,1.00当量)加料至N2吹扫的1l带夹套的四口烧瓶,所述烧瓶具有精密玻璃搅拌器、回流冷凝器、内部温度计和滴加漏斗。借助于滴加漏斗,在15-23℃下计量加入50%KOH溶液(92.31克,0.82摩尔,1.75当量),并且将混合物搅拌30分钟。然后将3-异氰酸基丙基三乙氧基硅烷(221.05克,0.85摩尔,1.8当量)以使得内部温度不超过30℃的速率计量加入。之后,将混合物在24℃下搅拌一小时。将白色悬浮体在压力下过滤,用三份软水(总计340ml)冲洗,并用干燥的N2干燥2小时。将滤饼在旋转蒸发器中在N2流中在35℃和166毫巴下干燥7小时,在35℃和150毫巴下干燥10小时,并在35℃和100毫巴下干燥9小时。[(EtO)3Si-(CH2)3-NH-C(=O)-NH-(CH2)2-S-]2产物是白色细粉(246.38克,理论值的90.7%);
1H NMR(δppm,500MHz,DMSO-d6):0.52(4H,t),1.14(18H,t),1.42(4H,m),2.74(4H,m),2.96(4H,m),3.29(4H,m),3.74(12H,q),6.05(4H,m);
13C NMR(δppm,125MHz,DMSO-d6):7.3(2C),18.2(6C),23.5(2C),38.5(2C),39.6(2C),42.0(2C),57.7(6C)157.9(2C)。
29Si NMR(δppm,100MHz,DMSO-d6):-45.3(100%硅烷);
使用TPPO内标物、在d6-DMSO中的可溶分数:86.0%;
水含量(DIN 51777): 0.7%;
初始熔点: 97℃;
残余异氰酸酯含量: 0.08%
实施例3:(比较例)
有机二氯甲烷和THF溶剂中的[(EtO)3Si-(CH2)3-NH-C(=O)-NH-(CH2)2-S-]2的制备
开始时以溶解于二氯甲烷(100ml)中的胱胺二盐酸盐(22.52克,0.10摩尔,1.00当量)加料至干燥的N2吹扫的三口烧瓶,所述烧瓶具有搅拌器、回流冷凝器、内部温度计和滴加漏斗。借助于滴加漏斗,计量加入50%KOH溶液(11.5ml,0.20摩尔,2.00当量)。将所得悬浮体引入具有50ml软水的溶液中,另外添加6.5ml的50%KOH溶液,并将混合物搅拌2小时。分离两相,水相用二氯甲烷(3×50ml)萃取。将经合并的有机相经MgSO4干燥,过滤,并且在旋转蒸发器上去除溶剂。将所得浅黄色粘稠油(胱胺,12.07g)吸收(take up)至THF(100ml)中,将滴加漏斗用以计量加入3-异氰酸基丙基三乙氧基硅烷(49.47克,0.20摩尔,2.00当量),并且将混合物在23℃下搅拌过夜。在反应已经结束之后,在旋转蒸发器上去除溶剂。将所得白色固体吸收于新鲜THF(84ml)中,并通过在8℃下添加正戊烷(521ml)而沉淀。将悬浮体在压力下过滤,将滤饼用正戊烷(3×100ml)洗涤,并且用干燥的N2干燥。[(EtO)3Si-(CH2)3-NH-C(=O)-NH-(CH2)2-S-]2产物为白色细粉(50.42克,理论值的77.9%);
29Si NMR(δppm,100MHz,DMSO-d6):-40.5(91.2%硅烷),-48.2(8.9%M结构)。

Claims (10)

1.一种制备通式I的含脲硅烷的方法,
其中R1相同或不同,并且是C1-C10烷氧基、苯氧基、C4-C10环烷氧基、C6-C20芳基、C1-C10烷基、C2-C20烯基、C7-C20芳烷基或卤素;R相同或不同,并且是支链或非支链、饱和或不饱和的脂肪族、芳香族或混合脂肪族/芳香族的二价C1-C30烃基,其特征在于,
使通式II的二胺与通式III的异氰酸基硅烷在水中反应:
H2N-R-S-S-R-NH2 (II)
(R1)3Si-R-NCO (III),
并且,其中所述反应在不含有机溶剂的情况下进行。
2.根据权利要求1所述的制备通式I的含脲硅烷的方法,其特征在于所述通式I的含脲硅烷是:
((EtO)3Si-CH2-NH-CO-NH-CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2-NH-CO-NH-CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2-NH-CO-NH-CH2CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2CH2-S)2
((EtO)3Si-CH2CH2CH2-NH-CO-NH-CH2CH2CH2-S)2
3.根据权利要求1所述的制备通式I的含脲硅烷的方法,其特征在于以所用通式II的二胺计,水的量大于1重量%。
4.根据权利要求1所述的制备通式I的含脲硅烷的方法,其特征在于温度在0℃与+100℃之间。
5.根据权利要求1所述的制备通式I的含脲硅烷的方法,其特征在于通式II的二胺在与通式III的异氰酸基硅烷反应之前由以下通式IV的二胺的氢卤化物盐通过添加碱而制备:
Hal-+H3N-R-S-S-R-NH3 +Hal- (IV)。
6.根据权利要求5所述的制备通式I的含脲硅烷的方法,其特征在于所用的碱是NaOH或KOH。
7.根据权利要求5或6所述的制备通式I的含脲硅烷的方法,其特征在于添加所述碱,直到pH值在7与14之间的范围内。
8.根据权利要求1所述的制备通式I的含脲硅烷的方法,其特征在于通式II的二胺相对于通式III的异氰酸基硅烷以1:1.80到1:2.25的摩尔比率使用。
9.根据权利要求1所述的制备通式I的含脲硅烷的方法,其特征在于随后将反应产物滤出,并且用水和/或有机溶剂洗涤。
10.根据权利要求9所述的制备通式I的含脲硅烷的方法,其特征在于将已经滤出的所述产物干燥。
CN201510242334.4A 2014-05-15 2015-05-13 制备含脲硅烷的方法 Active CN105884816B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014209215.9A DE102014209215A1 (de) 2014-05-15 2014-05-15 Verfahren zur Herstellung von harnstoffhaltigen Silanen
DE102014209215.9 2014-05-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105884816A CN105884816A (zh) 2016-08-24
CN105884816B true CN105884816B (zh) 2019-05-17

Family

ID=52780929

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510242334.4A Active CN105884816B (zh) 2014-05-15 2015-05-13 制备含脲硅烷的方法

Country Status (12)

Country Link
US (1) US9290523B2 (zh)
EP (1) EP2944642B1 (zh)
JP (1) JP6530232B2 (zh)
KR (1) KR20150131987A (zh)
CN (1) CN105884816B (zh)
BR (1) BR102015010658B1 (zh)
DE (1) DE102014209215A1 (zh)
ES (1) ES2628213T3 (zh)
HU (1) HUE035976T2 (zh)
PL (1) PL2944642T3 (zh)
RU (1) RU2679800C2 (zh)
UA (1) UA122115C2 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017207715A1 (de) 2017-05-08 2018-11-08 Evonik Degussa Gmbh Benzthiazolhaltige Silane, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
DE102017211110A1 (de) * 2017-06-30 2019-01-03 Continental Reifen Deutschland Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Silans, Verfahren zur Modifizierung einer Kieselsäure mit dem Silan und modifizierte Kieselsäure
DE102017221282A1 (de) * 2017-11-28 2019-05-29 Evonik Degussa Gmbh Silanmischungen und Verfahren zu deren Herstellung
KR102468899B1 (ko) * 2017-12-22 2022-11-22 꽁빠니 제네날 드 에따블리세망 미쉘린 적어도 2개의 트리알콕시실릴 그룹을 포함하는 화합물, 디엔 엘라스토머 작용화제로서의 이의 용도, 개질된 디엔 엘라스토머 및 개질된 디엔 엘라스토머를 함유하는 조성물
DE102018203652A1 (de) * 2018-03-12 2019-09-12 Continental Reifen Deutschland Gmbh Silan, Kautschukmischung enthaltend das Silan und Fahrzeugreifen, der die Kautschukmischung in wenigstens einem Bauteil aufweist

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002201312A (ja) * 2000-10-30 2002-07-19 Yokohama Rubber Co Ltd:The ゴム改質剤及びそれを含むゴム組成物
CN102068926A (zh) * 2009-11-20 2011-05-25 中国科学院化学研究所 具有识别碱金属离子的功能复合膜及其制备方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2509483A (en) 1946-08-20 1950-05-30 Phillips Petroleum Co Production of thiolesters
FR1527206A (fr) 1967-04-21 1968-05-31 Aquitaine Petrole Production de thioesters d'alcényles
DE2360471A1 (de) 1973-12-05 1975-06-12 Dynamit Nobel Ag Verfahren zur herstellung von polysulfidbruecken enthaltenden alkylalkoxisilanen
JPS5657792A (en) * 1979-10-15 1981-05-20 Shin Etsu Chem Co Ltd Preparation of ureido group-containing alkoxysilane
DE3424534A1 (de) 1984-07-04 1986-01-09 Degussa Ag, 6000 Frankfurt N,n'- und n,n',n'-substituierte silylharnstoffe und verfahren zu deren herstellung
US6534568B1 (en) 1998-04-24 2003-03-18 Crompton Corporation Powder coating or adhesives employing silanes or silane treated fillers
US6452034B2 (en) 2000-01-04 2002-09-17 Crompton Corporation Low-sulfur polysulfide silanes and process for preparation
US6441213B1 (en) 2000-05-18 2002-08-27 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Adhesion promoters containing silane, carbamate or urea, and donor or acceptor functionality
JP4432219B2 (ja) * 2000-06-20 2010-03-17 パナソニック電工株式会社 浄水器
JP2002311574A (ja) 2001-04-13 2002-10-23 Asahi Kasei Corp 感光性樹脂組成物
US6803406B2 (en) 2002-03-29 2004-10-12 National Starch And Chemical Investmnet Holding Corporation Electron donors, electron acceptors and adhesion promoters containing disulfide
DE10351735B3 (de) 2003-11-06 2004-12-09 Degussa Ag Verfahren zur Herstellung von (Mercaptoorganyl)-alkoxysilanen
RU2391291C2 (ru) * 2005-03-07 2010-06-10 Эвоник Дегусса Гмбх Способ получения органосиланов
JP2008279736A (ja) 2007-05-14 2008-11-20 Fujifilm Corp 親水性部材及びその製造方法
FR2984326B1 (fr) 2011-12-16 2014-01-10 Michelin Soc Tech Agent de couplage mercaptosilane bloque

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002201312A (ja) * 2000-10-30 2002-07-19 Yokohama Rubber Co Ltd:The ゴム改質剤及びそれを含むゴム組成物
CN102068926A (zh) * 2009-11-20 2011-05-25 中国科学院化学研究所 具有识别碱金属离子的功能复合膜及其制备方法

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"A new stratery to prepare glutathione responsive silica nanoparticles";Zhigang Xu等;《RSC Adv.》;20131231;第3卷(第39期);第17700-17702页
"An efficient and greener protocol towards synthesis of unsymmetrical N,N’-biphenyl urea";Madhav Mane等;《Arabian Journal of Chemistry》;20110203;第6卷(第4期);第423-427页
"Soft route for monodisperse gold nanoparticles confined within SH-functionalized walls of mesoporous silica";Eric Besson等;《J. Mater. Chem.》;20090528;第19卷(第27期);第4746-4752页

Also Published As

Publication number Publication date
US20150329574A1 (en) 2015-11-19
DE102014209215A1 (de) 2015-11-19
CN105884816A (zh) 2016-08-24
BR102015010658A8 (pt) 2020-03-31
HUE035976T2 (hu) 2018-06-28
EP2944642A1 (de) 2015-11-18
RU2679800C2 (ru) 2019-02-13
RU2015118036A3 (zh) 2018-10-04
UA122115C2 (uk) 2020-09-25
ES2628213T3 (es) 2017-08-02
BR102015010658B1 (pt) 2020-10-20
KR20150131987A (ko) 2015-11-25
US9290523B2 (en) 2016-03-22
JP2015218170A (ja) 2015-12-07
PL2944642T3 (pl) 2017-10-31
BR102015010658A2 (pt) 2015-12-15
EP2944642B1 (de) 2017-05-10
RU2015118036A (ru) 2016-12-10
JP6530232B2 (ja) 2019-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105884816B (zh) 制备含脲硅烷的方法
CN105884813B (zh) 含脲硅烷、其制备方法和其用途
CN105884815B (zh) 含脲硅烷、其制备方法及其用途
CN105884814B (zh) 制备含脲巯基硅烷的方法
US11396601B2 (en) Method for producing a silane, method for modifying a silica with the silane, and modified silica
CN105884812B (zh) 含脲巯基硅烷、其制备方法和其用途

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Essen, Germany

Patentee after: Evonik Operations Limited

Address before: Essen, Germany

Patentee before: EVONIK DEGUSSA GmbH

CP01 Change in the name or title of a patent holder