CN105830004B - 触控屏幕面板及图像显示设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种触控屏幕面板，尤其涉及一种因感测电极的电阻显著较低而具有绝佳的触控灵敏度的触控屏幕面板，其包含：触控感测电极；以及像素部，其设于该触控感测电极的底部，其中，该触控感测电极包含：感测图案，其包含沿第一方向形成的第一图案与沿第二方向形成的第二图案；桥接电极，其电气连接该第二图案的分离的单元图案；及至少一个辅助图案，其设于该第一图案与该第二图案中的至少一个的顶部或底部，该像素部包含复数个单元像素，该触控屏幕面板满足数学式1。

Description

触控屏幕面板及图像显示设备
技术领域
本发明涉及一种触控屏幕面板。
背景技术
通常，触控屏幕面板是一种配备有特殊输入设备的屏幕面板，以接收因用户的手指触碰屏幕而产生的位置输入。这类触控屏幕面板具有多层层积的结构，其配置成能够直接从屏幕接收所输入的数据，使得当不使用键盘的情况下用户的手指或物体触碰到屏幕上显示的字符或特定位置时，触控屏幕能够识别出该位置并通过其中所储存的软件执行特定处理。
为了不降低屏幕上显示的图像的可视性的同时辨识出触碰位置，需要使用透明的触控感测电极，且通常使用具有预定图案的感测图案。
这类感测电极通常由第一图案与第二图案所形成。第一图案与第二图案分别沿彼此不同的方向布置，以提供触碰点的X坐标与Y坐标的信息。具体而言，当用户的手指或物体触碰到前盖窗口基板时，与接触位置对应的电容变化经由第一图案及第二图案以及位置侦测线路被传送到驱动电路。然后，电容变化由X与Y输入处理电路转换为电信号，以识别出该接触位置。
目前，在电容式触控面板中，使用铟锡氧化物(ITO)、传导性聚合物等作为透明触控感测电极。然而，在以ITO、传导性聚合物等制成的电极中，会发生面电阻较高的问题。
此外，当使用桥接电极时，会存在触控屏幕面板的透过率降低的问题。
举例而言，韩国专利公开号第2013-0078065号揭露了一种触控面板。
[现有技术文献]
[专利文献]
(专利文献1)韩国专利公开号第2013-0078065号
发明内容
技术问题
本发明的目的在于提供一种触控屏幕面板，其因显著降低的感测电极的电阻而具有增进的触控灵敏度。
此外，本发明的目的在于提供一种使透过率的降低较少的触控屏幕面板。
技术方案
(1)一种触控屏幕面板，包含：触控感测电极；以及像素部，其设于该触控感测电极的底部，其中，该触控感测电极包含：
感测图案，其包含沿第一方向形成的第一图案与沿第二方向形成的第二图案；
桥接电极，其电气连接该第二图案的分离的单元图案；及
至少一个辅助图案，其设于该第一图案与该第二图案中的至少一个的顶部或底部，
该像素部包含复数个单元像素，
该辅助图案分别满足下列数学式1：
[数学式1]
0.06≤(P2/P1)*(P3/A)≤0.135
(其中，P1表示该辅助图案的线宽，其介于0.01至40μm的范围内，P2表示该辅助图案的厚度，其介于0.005至20μm的范围内，P3表示该辅助图案在该单元像素的上方区域中的长度，其介于5至500μm的范围内，且A表示该单元像素的长度)。
(2)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中P1为1至30μm。
(3)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中P2为0.05至1.5μm。
(4)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中P3为5至400μm。
(5)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中A为20至500μm。
(6)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中P1为1至10μm。
(7)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中P2为0.1至1.5μm。
(8)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中P3为10至300μm。
(9)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中A为20至400μm。
(10)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中P1为1至10μm，P2为0.1至1.5μm，P3为10至300μm，且A为20至400μm。
(11)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中P3具有与A相同的数值、或比A大的数值。
(12)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中，该第一图案设有沿该第一方向形成的第一辅助图案，且该第二图案设有沿该第二方向形成的第二辅助图案。
(13)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中该辅助图案是由与该桥接电极相同的材料所形成。
(14)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中该第一图案与该第二图案的单元图案具有介于50至500Ω/□的面电阻。
(15)如上述(12)所述的触控屏幕面板，其中该第二辅助图案连接至该桥接电极。
(16)如上述(12)所述的触控屏幕面板，其中该第二辅助图案与该桥接电极是分隔开的。
(17)如上述(12)所述的触控屏幕面板，其中该第一辅助图案与第二辅助图案分别还包含一个以上的分隔开的附加辅助图案。
(18)如上述(12)所述的触控屏幕面板，其中该第一辅助图案在该第一图案的单元图案的顶部或底部分隔开为两个以上的单元图案，且其中两个被设置以偏向该桥接电极。
(19)如上述(12)所述的触控屏幕面板，其中该第二辅助图案在该第二图案的单元图案的顶部或底部分隔开为两个以上的单元图案，且其中两个设置以偏向该桥接电极。
(20)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中桥接电极具有的线宽为1至30μm。
(21)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中该桥接电极具有的厚度为0.05至1.5μm。
(22)如上述(1)所述的触控屏幕面板，其中该桥接电极是以选自由钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、锡及钛、及其合金构成的组中的至少一种所制成。
(23)一种图像显示设备，其包含如上述(1)至(22)中任一项所述的触控屏幕面板。
有益效果
本发明的触控屏幕面板因其显著降低的感测电极的电阻而具有绝佳的触控灵敏度以及增进的透过率。
附图说明
图1为根据本发明一具体实施例的触控感测电极的平面图；
图2为根据本发明一具体实施例的触控感测电极的垂直截面图；
图3为根据本发明一具体实施例的触控感测电极的垂直截面图；
图4为根据本发明一具体实施例的触控感测电极的平面图；
图5为根据本发明一具体实施例的触控感测电极的垂直截面图；
图6为根据本发明一具体实施例的触控感测电极的垂直截面图；
图7为根据本发明一具体实施例的触控感测电极的平面图；
图8为示出根据本发明一具体实施例的触控感测电极中的第一图案的单元图案的平面图；
图9为示出根据本发明一具体实施例的触控感测电极中的第一图案的单元图案的平面图；
图10为示出根据本发明一具体实施例的触控屏幕面板中的第一图案、第一辅助图案、附加辅助图案以及单元像素的平面示意图；
图11为示出根据本发明一具体实施例的触控屏幕面板中的辅助图案的线宽与单元像素的长度的平面图；
图12与图13为示出与每一个制备组的Y值对应的电阻与透过率的图表。
具体实施方式
本发明揭示了一种触控屏幕面板，其包含：一触控感测电极；以及一像素部，设于该触控感测电极的底部，其中该触控感测电极包含：感测图案，其包含沿第一方向形成的第一图案与沿第二方向形成的第二图案；桥接电极，其电气连接该第二图案的分离的单元图案；及至少一个辅助图案，其设于该第一图案与该第二图案中的至少一个的顶部或底部，该像素部包含复数个单元像素，以及该辅助图案分别满足数学式1，因此感测电极的电阻显著较低，从而具有绝佳触控灵敏度，以及增进的透过率。
在下文中，将参照附图来详细说明本发明。
<像素部>
本发明的触控屏幕面板包含在相关领域中常使用的像素部90。
像素部90是可呈现红、绿与蓝色的部分，且像素部90的配置与位置并不受特别限制，其可包含相关领域中常用的配置，且可形成在相关领域中常形成的位置处。具体而言，以观看者侧为基准，像素部90可位于触控感测电极的底部(亦即以触控感测电极为基准，与观看者侧相对的一侧)。
如图10所述，像素部90包括复数个单元像素80。在本文中，单元像素80可包含R、G与B色的子像素。
如图11所示，单元像素80的长度A是指单元像素80在横向于R、G与B色的子像素的方向中的长度。
单元像素80的长度并不受特别限制，只要其满足下述数学式1的范围即可，且可为例如20至500μm。优选地，单元像素80可具有介于20至400μm的间的长度，但不受限于此，且可根据所使用的图像形成装置而加以变化。
<触控感测电极>
感测图案
感测图案包含沿第一方向形成的第一图案10以及沿第二方向形成的第二图案20。
在本文中，第一图案10与第二图案20沿彼此不同的方向设置。举例而言，第一方向可以为X轴方向，且第二方向可以为与之交叉的Y轴方向，但不限于此。
第一图案10及第二图案20提供了一触碰点的X坐标与Y坐标的信息。具体而言，当使用者的手指或物品触碰覆盖窗基板时，与一接触位置对应的电容变化经由第一图案10及第二图案20以及位置侦测线路传送至驱动电路。然后，由X与Y输入处理电路(未图示)将电容变化转换为电信号，以识别出接触位置。
在此方面，第一图案10及第二图案20形成在同一层中，而各自的图案必须电气连接以侦测出触碰位置。然而，第一图案10的单元图案经由连接部分而连接于彼此，而第二图案20的单元图案则以岛状彼此分隔开，因此需要额外的桥接电极30来使第二图案20电气连接。桥接电极30将于下文中说明。
感测图案的厚度并不受特定限制，但可分别介于例如10至200nm的范围。若感测图案的厚度小于10nm，则电阻会增加而使触控灵敏度衰减，而若该值超过200nm，则会提高反射率而使可视性变差。
相关领域中所使用的透明电极材料都可适用于感测图案，其不具有特定限制。举例而言，可有铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、氧化锌(ZnO)、铟锌锡氧化物(IZTO)、镉锡氧化物(CTO)、聚(3,4-乙烯二氧基噻吩)(PEDOT)、碳纳米管(CNT)、石墨烯、金属细线等，其皆可单独使用，或是以其中两个以上的组合使用，且可优选使用铟锡氧化物(ITO)。用于金属细线中的金属并不特别受限制，可例如为银(Ag)、金、铝、铜、铁、镍、钛、碲、铬等，其皆可单独使用、或以其中两个以上的组合使用。
感测图案的单元图案可具有50至500Ω/□的面电阻。当面电阻低于50Ω/□时，分辨率会因低透过率而降低，而当该数值超过500Ω/□时，触控灵敏度会降低。
控制面电阻的方法系使用相关领域中已知的任何方法，其无特殊限制。举例而言，可采用更换材料、与另一材料混合、增加图案的厚度等方法来控制面电阻。
桥接电极
桥接电极30电气连接第二图案20的分隔开的单元图案。
在本文中，桥接电极30必须与感测图案的第一图案10电气隔离。为此，需要形成额外的绝缘体，其将于下文中说明。
桥接电极30可形成于第二图案20的顶部或底部。
根据本发明的桥接电极30由金属材料所形成，且优选使用与金属走线及位置侦测线路相同的材料。在这种情况下，由于桥接电极30可在形成金属走线与位置侦测线路期间同时形成，因此可进一步简化工艺。
金属材料并不特别受限，只要它具有绝佳的导电性、低电阻即可，可例如为钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、锡或钛等，其皆可单独使用、或以其中两个以上的组合使用。
桥接电极30的线宽并不特别受限制，其可为例如1至30μm，且优选为1至20μm，但不受限于此。若桥的线宽小于1μm，则电阻会过度增加，且若该数值超过30μm，则感测图案则可见。
桥接电极30的厚度并不特别受限，其可为例如0.05至1.5μm，且优选为0.1至1μm，但不受限于此。若桥接电极30的厚度小于0.05μm，则会因电阻未充分降低而导致触控灵敏度降低；而若该数值超过1.5μm，则在后续工艺中会发生厚度不均匀的问题。
此外，桥接电极30可具有以两种以上金属层积而成的形状。桥接电极30可由上述金属材料中的两种以上金属形成为一种两层、三层等的多层结构。举例而言，桥接电极30可形成为一种钼/铝/钼的三层结构，但并不受限于此。
辅助图案
根据本发明的触控感测电极包括至少一个辅助图案，其设于所述第一图案与第二图案中的至少一个的顶部或底部。
在本发明的一个具体实施例中，设于所述第一图案的顶部或底部的辅助图案系称为第一辅助图案40，而设于第二图案的顶部或底部的辅助图案则称为第二辅助图案50。
如上所述，存在因触控感测电极的电阻较高而导致触控屏幕面板的触控灵敏性降低的问题。为了解决这个问题，通过形成辅助图案来降低电阻，但当辅助图案具有过大的尺寸时，透过率就会降低。
在本发明中，第一辅助图案40及第二辅助图案50满足下列数学式1，因此显著降低感测图案的电阻的同时透过率不会大幅降低，从而解决上述问题。
[数学式1]
0.06≤(P2/P1)*(P3/A)≤0.135
(其中，P1表示辅助图案的线宽，其介于0.01至40μm的范围内，P2表示辅助图案的厚度，其介于0.005至20μm的范围内，P3表示辅助图案在单元像素的上方区域中的长度，其介于5至500μm的范围内，而A表示单元像素的长度)。
图10示出了触控感测图案(第一图案10)、第一辅助图案40、以及单元像素80的间的示意性配置关系，且图11示出了单位像素的线宽P1与长度A的定义。
在本发明中，有两个以上的辅助图案形成在一个单位像素80的区域上。在这种情况下，P3是由将每一个辅助图案的长度相加而得。
若上述数学式1中(P2/P1)*(P3/A)的数值Y值(在以下说明书中，(P2/P1)*(P3/A)即称为Y值)小于0.06，则感测图案的电阻显著增加，而若该数值超过0.135，则透过率会降低。如上文所述，当辅助图案满足数学式1时，可显著提升触控灵敏度，且透过率不会大幅降低。
第一辅助图案40及第二辅助图案50的线宽P1可以为1至30μm，且优选为1至10μm。若辅助图案的线宽小于1μm，电阻会过度增加，而若该数值超过30μm，感测图案会可见。
第一辅助图案40及第二辅助图案50的厚度P2可以为0.05至1.50μm，且优选为0.1至1.5μm。若辅助图案的厚度小于0.05μm，因电阻未充分降低而会导致触控灵敏度降低，而若该数值超过1.5μm，则在后续工艺中会发生厚度不均匀的问题。
第一辅助图案40及第二辅助图案50的长度P3可以为5至400μm，且优选为10至300μm。若辅助图案的长度小于5μm，则电阻降低的效果会不显著，而若该数值超过400μm，则会降低透过率。
在本发明的一个具体实施例中，当有两个以上的辅助图案形成在单元像素80的上方区域中且设有复数个单元像素80时，在每一个单元像素80的辅助图案之间的间隔可以相同，且当有三个以上辅助图案形成于单元像素80的上方区域中时，辅助图案之间的间隔可彼此相同。
在本发明的一个具体实施例中，第一辅助图案40及第二辅助图案50的线宽P1为1至10μm，第一辅助图案40及第二辅助图案50的厚度P2为0.1至1.5μm，第一辅助图案40及第二辅助图案50的长度P3为10至300μm，而单元像素80的长度A为20至400μm，且在上述范围内，辅助图案具有绝佳的透过率与显著降低的电阻。
在本发明的另一具体实施例中，第一辅助图案40及第二辅助图案50的长度P3可与单元像素80的A相同或大于单元像素80的A。在这种情况下，辅助图案会具有绝佳的透过率与显著降低的电阻。
第一辅助图案40及第二辅助图案50的方向不受特别限制，举例而言，第一辅助图案40可沿第一方向形成，第二辅助图案50可沿第二方向形成。第一图案10沿第一方向彼此连接以传送一感测信号，而第二图案20由桥接电极30沿第二方向彼此连接以传送感测信号。因此，当第一辅助图案40及第二辅助图案50分别沿上述方向形成时，可使降低电阻及提升触控灵敏度的效果最大化。
另外，优选地，在降低电阻与提升触控灵敏度方面，第一辅助图案40可形成为穿过第一图案10的单元图案的质量中心，且第二辅助图案50可形成为使得其延长线穿过桥接电极的质量中心。
图1是根据本发明一具体实施例的触控感测电极的平面图，其中第一辅助图案40及第二辅助图案50形成在感测图案的顶部，且图2与图3为分别根据本发明的一具体实施例的触控感测电极的垂直截面图。如图1至图3所示，第一辅助图案40及第二辅助图案50可形成于感测图案的顶部。如图2所示，桥接电极30与第二辅助图案50可彼此分隔开，或如图3所示，其也可彼此连接。
当第一辅助图案40及第二辅助图案50形成在感测图案上时，第一辅助图案40形成为与桥接电极30彼此分隔开，且可选择性地形成在与桥接电极30交叉的第一图案10的单元图案之间的连接部分上。
此外，图4是根据本发明一具体实施例的触控感测电极的平面图，其中第一辅助图案40及第二辅助图案50形成在感测图案的底部，且图5与图6为分别根据本发明的一具体实施例的触控感测电极的垂直截面图。如图4至图6所示，第一辅助图案40及第二辅助图案50形成在感测图案的底部。如图5所示，桥接电极30与第二辅助图案50可彼此分隔开，或如图6所示，也可连接于彼此。
此外，第一辅助图案40在第一图案10的单元图案的顶部或底部分为两个以上的单元图案，且分隔开的单元图案中的两个可设置成偏向桥接电极30。
同样地，第二辅助图案50在第二图案20的单元图案的顶部或底部分为两个以上的单元图案，且分隔开的单元图案中的两个可设置成偏向桥接电极30。
第一图案10与第二图案20通过桥接电极30彼此交叉，其中桥接电极30使第二图案20沿第二方向电气连接，且在第一图案10与第二图案20之间设有绝缘体。由于在此交叉处感测图案的电阻会增加，因此当以上述结构来形成感测图案时，可使降低电阻的效果最大化。
图7为根据本发明一具体实施例的触控感测电极的平面图，其中第一辅助图案40及第二辅助图案50形成在第一图案10与第二图案20的底部。图7示出了一种示意性结构，其中第一图案10的单元图案的底部的第一辅助图案40分为两个单元图案，而分隔开的单元图案设为偏向桥接电极30。
此外，第一辅助图案40及第二辅助图案50可分别进一步包含彼此分隔开的至少一个附加辅助图案70。
附加辅助图案70是指第一辅助图案40中的除了沿第一方向所形成的图案之外的图案，以及第二辅助图案50中的除了沿第二方向所形成的图案之外的图案。
图8与图9示出了第一辅助图案40还包括除了沿第一方向形成的图案以外的、沿第二方向形成的附加辅助图案70的例子。如上所述，辅助图案可进一步包含至少一个附加辅助图案70，虽然图8与图9仅示出了进一步包含沿第二方向形成的附加辅助图案70的例子，但这仅为示意性的，且其方向不受特别限定。
附加辅助图案70可形成为具有各种形状与方向。
关于形状，例如可具有圆形、椭圆形、三角形、多边形(正方形、五边形等)等多种形状，其无特别限制。
此外，除了形成有桥接电极30的部分以外，第一辅助图案40可沿第一方向形成，以不接触于桥接电极30，而第二辅助图案50可形成为与桥接电极30连接。
第一辅助图案40及第二辅助图案50可由例示为桥接电极30的材料的金属所形成，且可优选由与桥接电极30相同的材料所形成。在这种情况下，由于第一辅助图案40及第二辅助图案50可在形成桥接电极30期间同时形成，因此可显著提升工艺效率。
绝缘体
绝缘体60形成在第一图案10与桥接电极30之间，以避免第一图案10与桥接电极30之间的电气连接。
绝缘体60可形成于第一图案10与桥接电极30之间局部，且特别是，以图案形状仅形成在第一图案10的单元图案的连接部分上。
相关领域中公知的透明绝缘材料都可用作根据本发明的绝缘体60，其无特殊限制。举例而言，绝缘体60可利用金属氧化物(如硅氧化物)、或含有丙烯酸类树脂的透明感光性树脂组成物、或热固性树脂组成物而形成为所需图案。
基板
本发明的触控感测电极形成于基板1上。
基板1可由相关领域中公知的任何材料制备而成，其无任何特定限制。举例而言，可使用玻璃、聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸(PEN)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纤维素(TAC)、乙酸丙酸纤维素(CAP)等。
上述基板可以为形成触控屏幕面板的最外面的覆盖窗基板或显示面板。
<触控感测电极的制作方法>
本发明还提供了一种触控感测电极的制作方法。
在下文中，将说明根据本发明一具体实施例的触控感测电极的制作方法。
首先，形成感测图案，其包含第一图案及第二图案，其中，第一图案通过沿第一方向由连接部分连接其单元图案而形成，第二图案通过以连接部分为基准分隔开其单元图案而沿第二方向形成。
第一图案10与第二图案20沿彼此不同的方向而配置。举例而言，第一方向可以是X轴方向，且第二方向可以是与之交叉的Y轴方向，但不限于此。
第一图案10与第二图案20形成于同一层中，且第一图案10的单元图案经由连接部分彼此连接的形状，而第二图案20的单元图案以岛状彼此分隔开。
感测图案可通过各种薄膜沉积技术而形成，例如物理气相沉积(PVD)方法、化学气相沉积(CVD)方法等。举例而言，感测图案可通过作为物理气相沉积方法的反应性溅镀方法而形成。
此外，感测图案可通过印刷工艺形成。在这种印刷工艺中使用各种印刷方法，例如凹版转印(gravure off set)、反向平版印刷(reverse off set)、喷墨印刷、网版(screen)印刷、凹版(gravure)印刷等。特别是，当感测图案是由印刷工艺所形成时，其可由可印刷的糊体材料所制成。作为一个实例，感测图案可由碳纳米管(CNT)、传导性聚合物、以及银纳米线路油墨制成。
除了上述方法以外，感测图案也可由微影技术形成。
感测图案可通过在上述材料与厚度范围内适当地选择而形成。
接着，在第一图案10的单元图案的连接部分上形成绝缘体60。
绝缘体60作用是使第一图案10与后述的桥接电极30电气隔离。
绝缘体60可由上述范围内的材料所形成。
其次，在所述绝缘体60上形成电气连接第二图案20的单元图案的桥接电极30。
桥接电极30可在上述线宽、厚度与材料范围内所形成。
接着，在所述第一图案10上形成第一辅助图案40，并在第二图案20上形成第二辅助图案50。
第一辅助图案40及第二辅助图案50的方向并不受特别限制，且举例而言，第一辅助图案40可沿第一方向形成，且第二辅助图案50可沿第二方向形成。
第一图案10沿第一方向彼此连接，以传送感测信号，且第二图案20的单元图案由桥接电极30沿第二方向彼此连接，以传送该感测信号。因此，就降低电阻及提升触控灵敏度的方面而言，优选地，第一辅助图案40沿第一方向形成，而第二辅助图案50沿第二方向形成，且更优选地，第一辅助图案40可形成为穿过第一图案10的单元图案的质量中心，而第二辅助图案50可形成为使得其延长线穿过桥接电极的质量中心。
第一辅助图案40及第二辅助图案50可在上述线宽、厚度、长度及材料范围内所形成，且可优选由与桥接电极30相同的材料所制成。在这种情况下，可在一个工艺内使用相同设备来形成桥接电极30与辅助图案40，而不需要分别使用额外的设备与工艺，因此可显著提升工艺效率。
此外，第一辅助图案40可在第一图案10的单元图案的顶部或底部分隔开为两个以上的单元图案，且其中两个可设置为偏向桥接电极30。
同样地，第二辅助图案50可在第二图案20的单元图案的顶部或底部分隔开为两个以上的单元图案，且其中两个可设置为偏向桥接电极30。
第一图案10与第二图案20通过桥接电极30彼此交叉，其中桥接电极30使第二图案20沿第二方向电气连接，且在第一图案10与第二图案20之间设有绝缘体。由于感测图案的电阻在此交叉处会增加，因此若以上述方式形成感测图案，可使降低电阻的效果最大化。
第二辅助图案50可形成为与桥接电极30分隔开，也可形成为在相同线路上与桥接电极30连接。
形成桥接电极30、第一辅助图案40、第二辅助图案50、及绝缘体60的方法并不特别受限制，且举例而言，可通过上述制作感测图案的方法所例示范围内的方法来形成。
此外，以下将详细说明本发明的触控感测电极的制作方法的另一具体实施例。
首先，形成桥接电极30。
桥接电极30作用是使下文将说明的第二图案20的单元图案电气连接。下文将说明的第二图案20的单元图案通过在桥接电极的两侧与其部分重叠而彼此电气连接。因此，上述指定间隔等于第二图案20的单元图案的宽度和在其两侧与桥接电极重叠的长度之间的差值。
桥接电极30可在上述线宽、厚度与材料范围内形成。
然后，沿第一方向形成第一辅助图案40，并沿与桥接电极30相同的方向的第二方向形成第二辅助图案50。
第一图案10与第二图案20沿彼此不同的方向设置。举例而言，第一方向可以为X轴方向，而第二方向可以为Y轴方向，但并不限于此。
下述的第一图案10形成于第一辅助图案40上，而第二图案20形成于第二辅助图案50上。由于第一图案10沿第一方向连接以传送感测信号，而第二图案20通过桥接电极30沿第二方向连接以传送感测信号，故当第一辅助图案40及第二辅助图案50沿上述各方向形成时，可使降低电阻与增进触控灵敏度的效果最大化。
第一辅助图案40及第二辅助图案50可在上述线宽、厚度、长度与材料的范围内形成，且可优选以与桥接电极30相同的材料所形成。在这种情况下，可在一个工艺中使用相同的设备来形成桥接电极30与辅助图案40，而不需要分别使用额外的设备与工艺，因此可显著提升工艺效率。
除此之外，第一辅助图案40可在相邻的两个桥接电极30之间分隔开为两个以上的单元图案，且其中两个设置为偏向桥接电极30。图7是根据本发明另一具体实施例而制成的触控感测电极的平面图。
同样地，第二辅助图案50可在相邻的两个桥接电极30之间分隔开为两个以上的单元图案，且其中两个设置为偏向桥接电极30。
第一图案10与第二图案20通过桥接电极30彼此交叉，其中桥接电极30使第二图案20沿第二方向电气连接，且在第一图案10与第二图案20之间设有绝缘体。由于感测图案的电阻在此交叉处会增加，因此当以上述结构形成感测图案时，可使降低电阻的效果最大化。
接着，在桥接电极30上形成绝缘体60。
绝缘体60的作用是使待后述的第一图案10与桥接电极30电气隔离。
其次，沿第一方向形成第一图案以覆盖第一辅助图案，并沿第二方向形成第二图案以覆盖第二辅助图案。
由于第一图案10应与桥接电极30绝缘，因此其形成为使单元图案的连接部分跨国绝缘体60的顶部。
形成桥接电极30、第一辅助图案40、第二辅助图案50、以及绝缘体60的方法并不特别受限制，且举例而言，可通过上述制作感测图案的方法所例示范围内的方法来形成。
<触控屏幕面板与图像显示设备>
除此之外，本发明提供一种包含上述触控感测电极和像素部的触控屏幕面板。
除了触控感测电极与像素部以外，本发明的触控屏幕面板进一步包含相关领域中通常使用的配置。
此外，本发明提供一种包含该触控屏幕面板的图像显示设备。
在下文中，提出了优选实施例，以有助于理解本发明。然而，这些具体实施例仅用于例示本发明，并不用于限定所附的权利要求范围，且可在本发明的范畴及技术精神范围内对实施例进行各种修改和变更，这对于本领域普通技术人员而言是显而易见的，而且这种修改和变更也应当属于所附的权利要求范围内。
制备组1至7
在一玻璃基板(折射率：1.51，消光系数：0)上使用ITO(折射率：1.8，消光系数：0)形成厚度为20nm的第一图案及第二图案。
然后，利用丙烯酸类绝缘材料(折射率：1.51，消光系数：0)，在第一图案的单元图案的连接部分上形成绝缘体，且利用钼，在绝缘体上形成具有线宽为8μm、厚度为0.2μm的单元桥接电极的桥接电极。
接着，在第一图案及第二图案上形成具有如下表1所示的线宽、厚度与长度的辅助图案。
该桥接电极与辅助图案是在相同工艺中同时形成。
触控感测电极形成为，使得辅助图案由钼所制成，且使得第一图案上的第一辅助图案穿过第一图案的单元图案的质量中心，而第二图案上的第二辅助图案的延长线穿过桥接电极的质量中心。
所记载的折射率与消光系数是以波长为550nm的光为基准。
通过将上述制备的触控感测电极接合于像素部(其具有如下表1所示的单元像素长度)上而制得触控屏幕面板。
[表1]
实验例
(1)与Y值对应的单元电阻与透过率的测量
图12与图13示出了通过将P1、P2、P3与A值代入数学式1中而计算出制备组的Y值并测量与Y值对应的单元电阻与透过率所得到的图表。
1)单元电阻的测量
利用电仿真器(Q3D,Ansys公司)计算位于制备组的单元像素中的感测电极的一端与另一端之间的线性电阻。
与Y值对应的单元电阻被示出在图12与图13中。
2)透过率的测量
利用雾度计(HM-150,Murakami公司)对制备组的触控感测电极的全光线透过率进行测量，而透过率是相对于玻璃基板而加以计算。
与Y值对应的透过率系说明于图12与图13中。
参阅图12与图13，在所制得的制备组的触控屏幕面板中，可确认到Y值从0.06以下快速减少。当Y值为0.06以上时，单元电阻系显著降低，因此可预测触控灵敏度会显著提升，且可确认到，当Y值在0.06至0.135的范围内时，呈现出绝佳的透过率(90％以上)。当透过率为90％以上时，显示器亮度会是绝佳的，这一点是优选的。
具体而言，参照图12，可确认到，当Y值在0.06至0.135的范围内时，单元电阻按制备组1、2、3的顺序降低，因此制备组3具有最小的单元电阻，同时，透过率按制备组1、2、3的顺序降低，因此制备组1具有最大的透过率。
具体而言，参照图13，可确认到，当Y值是在0.06至0.135的范围内时，单元电阻按制备组4、5、6、7的顺序降低，因此制备组7具有最小的单元电阻，同时，透过率按制备组4、6、7、5的顺序降低，因此制备组4具有最大的透过率。
然而，可确认到，在本发明的范围以外的制备组中，单元电阻较大，且透过率并不优秀。
[符号说明]
1：基板 10：第一图案
20：第二图案 30：桥接电极
40：第一辅助图案 50：第二辅助图案
60：绝缘体 70：附加辅助图案
80：单元像素 90：像素部

Claims (23)

1.一种触控屏幕面板，包含：
触控感测电极；及
像素部，其设于所述触控感测电极的底部，
其中，所述触控感测电极包含：
感测图案，其包含沿第一方向形成的第一图案与沿第二方向形成的第二图案；
桥接电极，其电气连接所述第二图案的分离的单元图案；及
至少一个辅助图案，其设于所述第一图案和所述第二图案中的至少一个的顶部或底部，
其中，所述像素部包含复数个单元像素，且所述辅助图案分别满足下列数学式1：
[数学式1]
0.06≤(P2/P1)*(P3/A)≤0.135，
其中，P1表示所述辅助图案的线宽，其介于0.01至40μm的范围内，P2表示所述辅助图案的厚度，其介于0.005至20μm的范围内，P3表示所述辅助图案在所述单元像素的上方区域中的长度，其介于5至500μm的范围内，且A表示所述单元像素的长度。
2.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述P1为1至30μm。
3.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述P2为0.05至1.5μm。
4.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述P3为5至400μm。
5.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述A为20至500μm。
6.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述P1为1至10μm。
7.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述P2为0.1至1.5μm。
8.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述P3为10至300μm。
9.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述A为20至400μm。
10.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述P1为1至10μm，所述P2为0.1至1.5μm，所述P3为10至300μm，且所述A为20至400μm。
11.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述P3具有与所述A相同的数值、或大于所述A的数值。
12.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述第一图案设有沿所述第一方向形成的第一辅助图案，且所述第二图案设有沿所述第二方向形成的第二辅助图案。
13.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述辅助图案由与所述桥接电极相同的材料所形成。
14.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述第一图案和所述第二图案的单元图案具有介于50至500Ω/□的面电阻。
15.如权利要求12所述的触控屏幕面板，其中，所述第二辅助图案与所述桥接电极连接。
16.如权利要求12所述的触控屏幕面板，其中，所述第二辅助图案与所述桥接电极是分隔开的。
17.如权利要求12所述的触控屏幕面板，其中，所述第一辅助图案及所述第二辅助图案分别包含一个以上的分隔开的附加辅助图案。
18.如权利要求12所述的触控屏幕面板，其中，所述第一辅助图案在所述第一图案的单元图案的顶部或底部分隔开为两个以上的单元图案，且分隔开的所述两个以上的单元图案中的两个设置成偏向所述桥接电极。
19.如权利要求12所述的触控屏幕面板，其中，所述第二辅助图案在所述第二图案的单元图案的顶部或底部分隔开为两个以上的单元图案，且分隔开的所述两个以上的单元图案中的两个设置成偏向所述桥接电极。
20.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，桥接电极的线宽为1至30μm。
21.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述桥接电极的厚度为0.05至1.5μm。
22.如权利要求1所述的触控屏幕面板，其中，所述桥接电极使用选自由钼、银、铝、铜、钯、金、铂、锌、锡、钛及它们的合金构成的组中的至少一种所制成。
23.一种图像显示设备，其包含如权利要求1至权利要求22中的任一项所述的触控屏幕面板。
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