CN105597784A - MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜、制备方法及其在处理含酚废水中的应用 - Google Patents

MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜、制备方法及其在处理含酚废水中的应用 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将Fe2+的前驱体溶液电沉积在导电基底上,经煅烧处理得到Fe2O3薄膜;(2)在步骤(1)制得的Fe2O3薄膜上电沉积MoS2,在惰性气氛下煅烧得到Fe2O3-MoS2光催化薄膜。本发明还包括采用上述方法制得的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜及通过利用该膜在处理含酚废水中的应用。本发明的制备方法简单、成本低。采用电沉积的方法制得的光催化薄膜成膜均匀、稳定性好,活性成分不易剥落;薄膜面积易控制。所制得的Fe2O3-MoS2薄膜的光生电子和空穴分离效率高,具有良好的光电催化活性。通过测定,制备的复合光催化薄膜的光电流相对于Fe2O3薄膜提高了约25倍。

Description

MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜、制备方法及其在处理含酚废水中的应用
技术领域
本发明涉及光电催化技术领域,特别是涉及一种MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜、制备方法及其在处理含酚废水中的应用。
背景技术
自然界的可再生能源如太阳能和风能的供应并不是连续不断的,因此需要采取有效地存储方法来平衡能源生产和消费之间不匹配关系。作为一种理想的能源载体,氢气具有清洁、可再生、燃烧值高和便于运输等优点。光电催化技术在目前处理各种环境问题和能源危机中显示出巨大的潜力。其技术关键在于制备出高效、稳定的光催化薄膜。
Fe2O3作为一种可见光响应型半导体材料,其带隙能为2.1eV,在紫外和可见光照射下均有较好的光响应。但是,Fe2O3材料缺点是产生的光生电子和空穴容易复合且易腐蚀。近来,通过对Fe2O3催化剂进行掺杂或复合改性来抑制其产生的光生电子-空穴的复合的研究越来越多。目前对于Fe2O3进行掺杂或复合改性多为Pt、Ag、Si、Ti、Al、Mo等金属离子,但是其光解水产氢的效率还比较低。而且目前用来制备Fe2O3催化剂的方法多为水热法,其制备步骤繁琐、周期长。
公开号为CN104815668A的中国专利文献公开了一种Ta、Al共掺杂的氧化铁光催化剂的制备方法,包括如下步骤:(1)以Al3+和Fe2+的前驱体溶液作为电解液,导电基底作为工作电极,石墨电极为对电极,Ag/AgCl电极作为参比电极,进行电沉积;(2)将Ta5+的前驱体溶液多次滴涂到经步骤(1)处理的导电基底,然后进行煅烧即得到Ta/Al-Fe2O3光催化薄膜。该方法分别采用电沉积和滴涂法将Ta/Al掺杂至氧化铁光催化薄膜上,能一定程度提高光电流,提升光催化活性,但提升效果有限;且制得的光催化薄膜表面比较粗糙、活性成分易剥落;Ta/Al-Fe2O3光催化薄膜的有效面积较难控制。
发明内容
为进一步提高掺杂的氧化铁光催化薄膜的光生电子和空穴分离效率,提升光催化活性,本发明提供了一种MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法。
一种MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,包括如下步骤:
步骤(1):采用三电极体系,以Fe2+的前驱体溶液作为电解液,导电基底作为工作电极,石墨电极为对电极,Ag/AgCl电极作为参比电极,进行电沉积;再经煅烧处理制得Fe2O3薄膜;
步骤(2):以MoS2的前躯体溶液作为电解液,以步骤(1)制得的Fe2O3薄膜为工作电极,钛片作为对电极,Ag/AgCl电极作为参比电极,进行电沉积;然后在惰性气体氛围下煅烧制得Fe2O3-MoS2薄膜。
本发明方法通过两步电沉积将MoS2掺杂至Fe2O3薄膜中,制得的Fe2O3-MoS2薄膜表面均匀、薄膜面积易控制;活性物质稳定性好,不易剥落;MoS2带隙边缘位置好、导电性能强。
不仅如此,所制得的Fe2O3-MoS2薄膜(MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜)的光生电子和空穴分离效率高,具有良好的光电催化活性。
本发明中,步骤(1)的导电基底为FTO玻璃(如,规格可为10mm×50mm×2mm),在进行步骤(1)的电沉积前,需先对导电基底进行清洗、烘干处理。如依次用丙酮、无水乙醇和去离子水对FTO玻璃进行超声清洗,晾干后备用。
步骤(1)中,电沉积时采用的前驱体溶液为二价铁离子溶液,电沉积后,在FTO玻璃上沉积、形成二价铁离子的氧化物(如氢氧化亚铁)薄膜,通过煅烧后得到三价的氧化铁薄膜。
步骤(1)中,Fe2+的前驱体溶液由可溶性亚铁盐和溶剂A配制而成;可溶性亚铁盐优选水溶性亚铁盐;溶剂A优选醇和/或水,所述的醇优选与水无限比混溶的低分子量单元醇或多元醇。
所述Fe2+的前驱体溶液中,Fe2+的摩尔浓度为0.01-0.2M;Fe2+来源于硝酸亚铁、氯化亚铁、硫酸亚铁、醋酸亚铁和草酸亚铁的一种或多种,溶剂A为乙二醇、去离子水、甲醇和乙醇中的一种或多种。
作为优选,Fe2+的前驱体溶液中,所述Fe2+来源于FeCl2,溶剂A为乙二醇与去离子水的混合溶液,其中,乙二醇与去离子水的体积比为1:5~12;Fe2+的摩尔浓度为0.01~0.04M。
Fe2+的前驱体溶液中,所述乙二醇和水的混合溶剂有利于电沉积过程中氢氧化亚铁的形成,其中,乙二醇与去离子水的混合比例还可影响所制备薄膜的形貌,进而影响薄膜的光催化性能。
进一步优选,Fe2+的前驱体溶液中,FeCl2的摩尔浓度为0.02M,乙二醇与去离子水的体积比为1:6~10。乙二醇与去离子水的体积比最优选为1:8。
步骤(1)电沉积完成后,需对电沉积的涂层进行高温煅烧(进一步氧化),电沉积的温度、时间及工作电压均可影响掺杂膜的质量,煅烧温度影响生成的Fe2O3的晶相;上述参数都可影响掺杂膜的光催化性能。
本发明方法中,可通过调控各步电沉积参数来控制成膜有效面积。
作为优选,步骤(1)中,电沉积温度为50~90℃,电沉积电压为1~2V;煅烧温度为300-600℃,煅烧时间为0.5~3h。在该条件下,步骤(1)的电沉积时间优选为1-15min。
在所述煅烧温度下,Fe2O3薄膜的Fe2O3晶相为α-Fe2O3,结晶度良好,光催化活性高。
进一步优选,电沉积温度为70℃,电沉积电压为1.36V;煅烧温度为500℃,煅烧时间为2h。步骤(1)中,电沉积时间进一步优选为5min。
步骤(1)处理完成后,进行步骤(2),向生成的Fe2O3薄膜中掺杂钼。
作为优选,步骤(2)中,MoS2的前躯体溶液由MoS2的前躯体和溶剂B配制而成,其中MoS2的前躯体为钼盐、钾盐和铵盐;
其中,钼盐为四硫代钼酸铵和/或钼酸铵;钾盐为氯化钾、碳酸钾和硝酸钾的一种或多种;铵盐为氯化铵、硫酸铵、硝酸铵和碳酸氢铵的一种或多种;溶剂B为甲酰胺、乙二醇和甲醇中的一种或多种;其中,钼盐的浓度为0.001-0.02M。
进一步优选,MoS2的前躯体溶液中,钼盐的浓度为0.001-0.002M。
所述MoS2的前躯体溶液中,所述的钾盐摩尔浓度为0.01-0.1M;铵盐摩尔浓度为0.1-0.5M。
作为优选,所述MoS2的前躯体溶液为四硫代钼酸铵、氯化钾、氯化铵和甲酰胺的混合溶液,其中,四硫代钼酸铵摩尔浓度为0.002M;氯化钾摩尔浓度为0.04M;氯化铵摩尔浓度为0.2M。
作为优选,步骤(2)中,电沉积电压为-0.7~-0.1V;电沉积时间为1~45min。
进一步优选,步骤(2)中,电沉积电压为-0.6V;电沉积时间为15min。
步骤(2)电沉积完成后再进行煅烧处理。
在惰性气体氛围下进行煅烧处理,有利于二硫化钼的生成。惰性气体流速对二硫化钼的生产具有一定的影响。如,在煅烧过程中,因惰性气体流速过低而产生的氧化钼会降低掺杂膜(MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜)的光催化性能。
作为优选,步骤(2)中,所述惰性气体为N2和/或氩气;惰性气体的流速为50~150mL/min;煅烧温度为300~600℃;煅烧时间为0.5~3h。
所述煅烧温度适宜二硫化钼的生成,且有利于改善成膜状态,提高所制得的掺杂膜的光催化性能。若煅烧温度过低(如低于300℃),材料的结晶性较差,有可能限制所制备的掺杂膜的光催化活性。若煅烧温度过高(如高于600℃),温度超过导电基底的耐热温度,对膜具有破坏作用。
进一步优选,步骤(2)中,惰性气体的流速为100mL/min,煅烧温度为400℃;煅烧时间为1h。
光催化薄膜的光电催化活性与膜厚有关,薄膜太厚影响光生载流子的迁移。厚度适中的掺杂膜能激发载流子的产生,还能提高载流子的迁移速率,从而提高掺杂膜的光电催化活性。
本发明中,在上述参数下制得的掺杂膜的总厚度基本上等于两次电沉积形成的薄膜的厚度之和,制得的薄膜厚度适中,成膜均匀。
本发明还提供了一种采用上述制备方法制得的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜,作为优选,所述MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的厚度为200-600nm。
进一步优选,所制得的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的厚度为385nm。
本发明还包括一种利用所制得的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜处理含酚废水的应用。
本发明中,采用电沉积的方法制得的光催化薄膜成膜均匀、稳定性好,活性成分不易剥落;薄膜面积易控制。所制得的Fe2O3-MoS2薄膜的光生电子和空穴分离效率高,具有良好的光电催化活性。通过测定,在可见光照下,制备的复合光催化薄膜的光电流相对于Fe2O3薄膜提高了约25倍;在紫外-可见光照下,光电流相对于Fe2O3薄膜提高了约22倍。
附图说明
图1a为Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜在0.2MNaOH溶液中的可见光照交替下的线性扫描伏安曲线;
图1b为Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜在0.2MNaOH溶液中的紫外-可见光照交替下的线性扫描伏安曲线;
图2为Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜在0.2MNaOH溶液中在暗态下向负电压方向扫描的线性扫描伏安曲线;
图3a为Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜在0.2MNaOH溶液中的暗处条件下交流阻抗图;
图3b为Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜在0.2MNaOH溶液中的可见光条件下交流阻抗图;
图4为Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜在可见光下苯酚的降解率比较图;
图5为Fe2O3-MoS2薄膜光电催化、光催化以及电催化氧化苯酚的降解率的比较图;
图6为循环利用Fe2O3-MoS2薄膜光电催化降解苯酚过程中苯酚的降解率示意图。
具体实施方式
下面将结合附图及具体实例对本发明进行详细的说明。
实施例1
(1)以Fe2+的前驱体溶液(Fe2+来源于FeCl2)作为电解液,经过清洗、烘干处理之后的导电基底作为工作电极,石墨电极为对电极,Ag/AgCl电极作为参比电极,进行电沉积。
本实施例中的导电基底为FTO玻璃(规格为10mm×50mm×2mm),制备薄膜前依次用丙酮、无水乙醇和去离子水进行超声清洗10min,然后取出晾干。
通过电沉积工艺参数控制电沉积得到的薄膜的厚度,本实施例中电沉积工艺参数如下:电沉积温度为70℃,工作电压为1.36V,沉积时间为5min。
(2)然后将步骤(1)沉积好的导电基底放入马弗炉中,在500℃进行煅烧2h即得到Fe2O3光催化薄膜(Fe2O3薄膜)。
(3)配制含有一定量的四硫代钼酸铵、氯化钾和氯化铵的甲酰胺溶液作为MoS2的前躯体溶液。其中,四硫代钼酸铵摩尔浓度为0.002M;氯化钾摩尔浓度为0.04M;氯化铵摩尔浓度为0.2M。
(4)将沉积有Fe2O3薄膜的FTO(步骤(2)制得的Fe2O3薄膜)作为工作电极、钛片作对电极、Ag/AgCl电极作参比电极。通过电沉积工艺参数控制电沉积得到的薄膜的厚度,其中,电压为-0.6V,时间为15min。晾干,然后将沉积好的FTO放入管式炉中,通入N2,N2的流速为100mL/min,以2℃/min升温至400℃,煅烧1h。得到Fe2O3-MoS2薄膜,测度膜厚度为385nm。
对比例1
为便于进行性能对比,通过以下方法制备对比Fe2O3薄膜,具体制备方法如下:
采用三电极结构,以FTO作为工作电极,石墨作对电极,Ag/AgCl作参比电极,在70℃、1.36V条件下进行电沉积,沉积时间为5min,沉积液是配制好的FeCl2溶液(同实施例1)。
电沉积之后,待其自然晾干后,放入马弗炉中,在500℃下煅烧2h即得到Fe2O3薄膜。
图1a为实施例1制得的Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜(由对比例1制得)在可见光照射下的线性扫描伏安曲线。
图1b为实施例1制得的Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜(由对比例1制得)在紫外-可见光照射下的线性扫描伏安曲线。
由图1a可知,在可见光照下,相较于Fe2O3薄膜,MoS2的掺杂使得光电流(即电流密度)相应提高了25倍。即MoS2的掺入影响了薄膜的催化活性。由图1b可知,在紫外-可见光照下,相较于Fe2O3薄膜,MoS2的掺杂使得光电流(即电流密度)相应提高了22倍。可知,在没有牺牲剂存在的条件下,MoS2的掺杂在提升Fe2O3薄膜的光电催化活性方面非常显著。从图1a和图1b中可明显看出,对于单纯的Fe2O3薄膜,在可见光或紫外可见光被遮挡或显现的瞬间,光电流会迅速达到最大值,随后便衰减到一定值,这是由于Fe2O3薄膜本身的复合较大,光生电子和空穴一经产生便立即复合。而掺杂MoS2后则不会出现此种现象,这说明MoS2在Fe2O3薄膜表面可以抑制光生电子和空穴的复合。
图2为实施例1制备得到的Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜(由对比例1制得)在0.2MNaOH溶液从负方向开始扫描的线性扫描伏安曲线。扫速为5mV/s。从图2中可以看出,Fe2O3-MoS2薄膜产氢起始电位相对于Fe2O3薄膜正移0.1V,且Fe2O3-MoS2薄膜在-0.18Vvs.Ag/AgCl时光电流为0.052mA/cm2,而Fe2O3薄膜达此电流电压需-0.4Vvs.Ag/AgCl。MoS2的掺杂使得产氢位正移,说明Fe2O3-MoS2薄膜相较于Fe2O3薄膜更易光解水产氢,明显提高了光催化薄膜的光电催化活性。
图3a和图3b为实施例1制备得到的Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜(由对比例1制得)在0.2MNaOH溶液中,分别在暗处和可见光条件下的电化学阻抗图谱(EIS图谱)。电化学工作站设置的频率范围为106Hz-0.01Hz。由图3a、图3(b可知,无论是在黑暗还是在可见光照条件下,Fe2O3-MoS2薄膜的阻抗环半径都明显小于Fe2O3薄膜。可知,Fe2O3-MoS2薄膜的电荷转移电阻更小,光生电子-空穴能更有效的分离。
实施例2
本实施例中待处理废水为苯酚废水,其中苯酚的初始浓度为10mg/L。
本实施例的基于MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的废水处理方法,处理过程如下:
测定反应前溶液的pH,即未调节苯酚溶液的pH约为6,进行光电催化降解。光电催化处理时采用的光催化阳极包括导电基底和包覆于导电基底表面的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜(由实施例1制得),阴极为钛片。
本实施例中光电催化处理时,在光催化电极对施加工作电压前,还对处理废水进行暗吸附处理,暗吸附处理时间为30min。
光电催化处理时施加在光催化阳极和阴极之间的工作电压为3V,可见光照射的条件下进行。反应时间为4h。
为保证待处理废水在反应过程中浓度均匀,在光电催化处理过程中,对待处理废水进行磁力搅拌。
图4为Fe2O3-MoS2薄膜和Fe2O3薄膜(对比例1制得)在可见光条件下苯酚的降解率比较图。由图4可知,在可见光照射下,Fe2O3-MoS2薄膜的降解效果明显高于Fe2O3薄膜,分别为85.3%和41.6%。复合薄膜(掺杂膜)电极的降解效率提高了2倍多。这说明改性后的电极在可见光下光电催化活性有明显提高。
图5为Fe2O3-MoS2薄膜在光电催化、光催化以及电催化过程中氧化苯酚的降解率的比较图。反应4h后,光电催化作用下的苯酚的降解率明显高于单纯光和单纯电催化的作用,分别为85.3%、18.8%和19.2%。说明复合薄膜电极在光电协同的作用下降解效率最佳。
图6为Fe2O3-MoS2薄膜光电催化降解苯酚过程中的循环利用。由图可知,Fe2O3-MoS2薄膜循环降解4次后,苯酚的降解率基本保持不变,这表明其具有良好的光电降解稳定性及较高的重复利用性。
实施例3
重复实施例1和2的操作步骤,不同之处在于制备MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的过程中,步骤(1)中Fe2+的前驱体溶液中Fe2+的来源为醋酸亚铁。
在本实施例的条件下制备的Fe2O3-MoS2薄膜光电化学性能劣于按实施例1条件制得的Fe2O3-MoS2薄膜,在可见光照下,相较于Fe2O3薄膜(同对比例1),本实施例的Fe2O3-MoS2薄膜的光电流(即电流密度)相应提高了23倍;在紫外-可见光照下,光电流(即电流密度)相应提高了20倍。在可见光条件下对苯酚的降解率为83.2%。
实施例4
重复实施例1和2的操作步骤,不同之处在于制备MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的过程中,步骤(1)中电沉积温度为50℃。
在本实施例的条件下制备的Fe2O3-MoS2薄膜光电化学性能劣于按实施例1条件制得的Fe2O3-MoS2薄膜,在可见光照下,相较于Fe2O3薄膜(同对比例1),本实施例的Fe2O3-MoS2薄膜的光电流(即电流密度)相应提高了20倍;在紫外-可见光照下,光电流(即电流密度)相应提高了18倍。在可见光条件下对苯酚的降解率为80.2%。
实施例5
重复实施例1和2的操作步骤,不同之处在于制备MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的过程中,步骤(2)中煅烧温度分别为300℃和600℃。
在本实施例的条件下制备的Fe2O3-MoS2薄膜光电化学性能均劣于按实施例1条件制得的Fe2O3-MoS2薄膜,当煅烧温度为300℃时,结晶性较差,均匀性也较差,当煅烧温度为600℃时,导电基底受到破坏从而导致膜结构的损坏。在可见光照下,相较于Fe2O3薄膜,本实施例的Fe2O3-MoS2薄膜的光电流(即电流密度)分别提高了6倍(300℃)和10倍(600℃);在紫外-可见光照下,光电流(即电流密度)分别提高了5倍(300℃)和8倍(600℃)。在可见光条件下对苯酚的降解率为50.2%(300℃)和61.2%(600℃)。
实施例6
重复实施例1和2的操作步骤,不同之处在于制备MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的过程中,步骤(3)中调整钼盐的浓度,即调整钼盐为0.001M,钾盐(0.04M)和铵盐(0.2M)浓度不变。
在本实施例的条件下制备的Fe2O3-MoS2薄膜光电化学性能劣于按实施例1条件制得的Fe2O3-MoS2薄膜,在可见光照下,相较于Fe2O3薄膜,本实施例的Fe2O3-MoS2薄膜的光电流(即电流密度)相应提高了18倍;在紫外-可见光照下,光电流(即电流密度)相应提高了15倍。在可见光条件下对苯酚的降解率为78.2%。
实施例7
重复实施例1和2的操作步骤,不同之处在于制备MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的过程中,步骤(4)中电沉积时为10min和45min。
在本实施例的条件下制备的Fe2O3-MoS2薄膜光电化学性能劣于按实施例1条件制得的Fe2O3-MoS2薄膜,通过线性扫描曲线测试,在0.6V电压下,当沉积时间缩短为10min(或延长为45min)时,光电流密度约为原来的54.5%(或45.4%)。
实施例8
重复实施例1和2的操作步骤,不同之处在于制备MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的过程中,步骤(4)中惰性气体的流速分别设定为50和150mL/min。
在本实施例的条件下制备的Fe2O3-MoS2薄膜与按实施例1条件制得的Fe2O3-MoS2薄膜相比,当惰性气体流速为50mL/min,其光电化学性能明显降低,相应的对于苯酚的降解率也有所下降,当惰性气体流量为150mL/min,其光电化学性能及对苯酚的降解率基本没有发生变化,基于节约成本实施例1中的惰性气体的流速设定条件最优。
由以上实施例和对比例可见,本发明制备得到的Fe2O3-MoS2光催化薄膜具有优异的可见光催化活性、电催化性能和稳定性。
以上所述的具体实施方式对本发明的技术方案和有益效果进行了详细说明,应理解的是以上所述仅为本发明的最优选实施例,并不用于限制本发明,凡在本发明的原则范围内所做的任何修改、补充和等同替换等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤(1):采用三电极体系,以Fe2+的前驱体溶液作为电解液,导电基底作为工作电极,石墨电极为对电极,Ag/AgCl电极作为参比电极,进行电沉积;再经煅烧处理制得Fe2O3薄膜;
步骤(2):以MoS2的前躯体溶液作为电解液,以步骤(1)制得的Fe2O3薄膜为工作电极,钛片作为对电极,Ag/AgCl电极作为参比电极,进行电沉积;然后在惰性气体氛围下煅烧制得Fe2O3-MoS2薄膜。
2.如权利要求1所述的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,Fe2+的前驱体溶液由可溶性亚铁盐和溶剂A配制而成;所述Fe2+的前驱体溶液中,Fe2+的摩尔浓度为0.01-0.2M;Fe2+来源于硝酸亚铁、氯化亚铁、硫酸亚铁、醋酸亚铁和草酸亚铁的一种或多种,溶剂A为乙二醇、去离子水、甲醇和乙醇中的一种或多种。
3.如权利要求2所述的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,其特征在于,Fe2+的前驱体溶液中,所述Fe2+来源于FeCl2,溶剂A为乙二醇与去离子水的混合溶液,其中,乙二醇与去离子水的体积比为1:5~12;Fe2+的摩尔浓度为0.01~0.04M。
4.如权利要求1所述的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,电沉积温度为50~90℃,电沉积电压为1~2V;煅烧温度为300-600℃,煅烧时间为0.5~3h。
5.如权利要求1-4任一项所述的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,MoS2的前躯体溶液由MoS2的前躯体和溶剂B配制而成,其中MoS2的前躯体为钼盐、钾盐和铵盐;
其中,钼盐为四硫代钼酸铵和/或钼酸铵;钾盐为氯化钾、碳酸钾和硝酸钾的一种或多种;铵盐为氯化铵、硫酸铵、硝酸铵和碳酸氢铵的一种或多种;溶剂B为甲酰胺、乙二醇和甲醇中的一种或多种;其中,钼盐的浓度为0.001-0.02M。
6.如权利要求5所述的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,电沉积电压为-0.7~-0.1V;电沉积时间为1~45min。
7.如权利要求6所述的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述惰性气体为N2和/或氩气;惰性气体的流速为50~150mL/min;煅烧温度为300~600℃;煅烧时间为0.5~3h。
8.如权利要求7所述的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,惰性气体的流速为100mL/min,煅烧温度为400℃;煅烧时间为1h。
9.采用权利要求1-8任一项所述的制备方法制得的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜,其特征在于,所述MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜的厚度为200-600nm。
10.利用权利要求9所述的MoS2掺杂的氧化铁光催化薄膜在处理含酚废水中的应用。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106676565A (zh) * 2016-12-09 2017-05-17 吉林大学 一种Fe2‑xTixO3/FTO光阳极制备技术及提高其光电流密度的处理方法
CN106975501A (zh) * 2017-03-10 2017-07-25 浙江工商大学 一种可见光响应型光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107020103A (zh) * 2017-03-20 2017-08-08 浙江工商大学 一种氧化铁‑硫化钼‑氧化亚铜光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107020140A (zh) * 2017-03-16 2017-08-08 浙江工商大学 一种氧化铁‑硫化钼‑硫化镉可见光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107096546A (zh) * 2017-03-15 2017-08-29 浙江工商大学 一种氧化铁‑氧化铋‑硫化铋可见光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107185519A (zh) * 2017-05-25 2017-09-22 浙江工业职业技术学院 一种高性能氧化钨光催化剂的制备方法
CN107930665A (zh) * 2017-10-27 2018-04-20 浙江工商大学 一种二维MoS2调控的光催化剂及其制备方法和应用
CN108031477A (zh) * 2017-10-16 2018-05-15 浙江工商大学 一种电化学处理磷-硫化钼共掺杂氧化铁的光催化薄膜及其制备方法和应用
CN109467958A (zh) * 2017-09-07 2019-03-15 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种铁掺杂二硫化钼涂层材料及其制备方法和应用
CN110563095A (zh) * 2019-09-24 2019-12-13 上海师范大学 微波液相合成MoS2/Fe(1-x)S/不锈钢网复合电极的制备方法及应用
CN114457348A (zh) * 2022-01-28 2022-05-10 厦门稀土材料研究所 一种有序多孔钛基氧化铁薄膜光电催化材料及其制备方法和应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006110470A (ja) * 2004-10-14 2006-04-27 Ueda Shikimono Kojo:Kk 水質浄化剤
CN104815668A (zh) * 2015-04-27 2015-08-05 浙江工商大学 一种Ta、Al共掺杂的氧化铁光催化剂的制备方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006110470A (ja) * 2004-10-14 2006-04-27 Ueda Shikimono Kojo:Kk 水質浄化剤
CN104815668A (zh) * 2015-04-27 2015-08-05 浙江工商大学 一种Ta、Al共掺杂的氧化铁光催化剂的制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
HONGGUI WANG ET AL: ""Flower-like Fe2O3@MoS2 nanocomposite decorated glassy carbonelectrode for the determination of nitrite"", 《SENSORS AND ACTUATORS B: CHEMICAL》 *

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106676565A (zh) * 2016-12-09 2017-05-17 吉林大学 一种Fe2‑xTixO3/FTO光阳极制备技术及提高其光电流密度的处理方法
CN106975501A (zh) * 2017-03-10 2017-07-25 浙江工商大学 一种可见光响应型光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107096546A (zh) * 2017-03-15 2017-08-29 浙江工商大学 一种氧化铁‑氧化铋‑硫化铋可见光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107096546B (zh) * 2017-03-15 2019-06-25 浙江工商大学 一种氧化铁-氧化铋-硫化铋可见光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107020140A (zh) * 2017-03-16 2017-08-08 浙江工商大学 一种氧化铁‑硫化钼‑硫化镉可见光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107020140B (zh) * 2017-03-16 2019-05-31 浙江工商大学 一种氧化铁-硫化钼-硫化镉可见光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107020103B (zh) * 2017-03-20 2019-05-31 浙江工商大学 一种氧化铁-硫化钼-氧化亚铜光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107020103A (zh) * 2017-03-20 2017-08-08 浙江工商大学 一种氧化铁‑硫化钼‑氧化亚铜光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107185519A (zh) * 2017-05-25 2017-09-22 浙江工业职业技术学院 一种高性能氧化钨光催化剂的制备方法
CN109467958A (zh) * 2017-09-07 2019-03-15 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种铁掺杂二硫化钼涂层材料及其制备方法和应用
CN108031477A (zh) * 2017-10-16 2018-05-15 浙江工商大学 一种电化学处理磷-硫化钼共掺杂氧化铁的光催化薄膜及其制备方法和应用
CN108031477B (zh) * 2017-10-16 2019-08-27 浙江工商大学 一种电化学处理磷-硫化钼共掺杂氧化铁的光催化薄膜及其制备方法和应用
CN107930665A (zh) * 2017-10-27 2018-04-20 浙江工商大学 一种二维MoS2调控的光催化剂及其制备方法和应用
CN110563095A (zh) * 2019-09-24 2019-12-13 上海师范大学 微波液相合成MoS2/Fe(1-x)S/不锈钢网复合电极的制备方法及应用
CN114457348A (zh) * 2022-01-28 2022-05-10 厦门稀土材料研究所 一种有序多孔钛基氧化铁薄膜光电催化材料及其制备方法和应用
CN114457348B (zh) * 2022-01-28 2023-08-29 厦门稀土材料研究所 一种有序多孔钛基氧化铁薄膜光电催化材料及其制备方法和应用

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