CN105575854A - 基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种对基板进行液体处理的装置。基板处理装置包括用于支撑基板的基板支撑单元以及将处理液供给到上述基板处理单元的液体供给单元，上述液体供给单元包括：内部具有储存处理液的储存空间的供给罐；内部具有储存处理液的缓冲空间的多个缓冲罐；将上述缓冲罐提供的处理液供给到基板上的处理液喷嘴，以及将上述供给罐分别并列连接到上述多个缓冲罐的一次供给线。因而，将处理液填充到耗尽状态的缓冲罐时可以通过填充状态的缓冲罐继续执行对基板的液体处理工艺。

Description

基板处理装置
技术领域
本发明涉及一种对基板进行液体处理的装置。
背景技术
近来，液晶显示装置在电话、便携式电脑等电子设备的显示屏上被广泛使用。这种液晶显示装置是将液晶注入到由黑矩阵、彩色滤光片、公共电极以及配向膜形成的彩色滤光片基板和由薄膜晶体管(TFT)、像素电极以及配向膜形成的阵列基板之间的空间，从而利用根据液晶的各向异性的光的折射率的差异来得到影像效果。
作为在彩色滤光片基板和阵列基板上涂敷如配向液或液晶的处理液的装置，主要使用喷墨方式的涂敷装置。图1为示出在常规的涂敷装置中将处理液供给到液体供给单元的图。参照图1，液体供给单元包括更换罐2和缓冲罐4。更换罐2和缓冲罐4分别具有相同大小的瓶子(未示出)。更换罐2内储存的处理液可以供给到缓冲罐4，被提供到缓冲罐4的处理液被供给到喷射头6。当储存在更换罐2的处理液都被耗尽时，更换设在更换罐2内的瓶子。
然而，瓶子的储存空间大概为3至4升，且为了去除更换瓶子时发生的气泡，应排出至少0.6至0.7升的处理液。这样的瓶子更换作业，在几十至几百次工艺进行中将频繁发生，而且此过程中将有大量的处理液被排出。
发明内容
本发明要解决的技术问题
本发明的目的在于提供能够迅速进行基板的液体处理工艺的装置。
另外，本发明的目的在于提供能够减少对耗尽处理液的罐内的瓶子进行更换作业的频率。
另外，本发明的目的在于提供能够尽量减少在更换瓶子的作业时消耗的处理液的装置。
技术方案
本发明的实施例提供对基板进行液体处理的装置。基板处理装置包括用于支撑基板的基板支撑单元以及将处理液供给到上述基板处理单元的液体供给单元，上述液体供给单元包括：内部具有储存处理液的储存空间的供给罐；内部具有储存处理液的缓冲空间的多个缓冲罐；将上述缓冲罐提供的处理液供给到基板上的处理液喷嘴，以及将上述供给罐分别并列连接到上述多个缓冲罐的一次供给线。
上述液体供给单元可以包括将上述多个缓冲罐并联连接到上述处理液喷嘴的二次供给线。上述液体供给单元还可以包括调节被提供到上述一次供给线的处理液的供给的一次阀门部件及控制上述一次阀门部件的控制器，上述控制器可以开闭上述一次供给线，以便处理液能从上述供给罐被供给到上述多个缓冲罐各自的上述缓冲空间中消耗了处理液的缓冲空间内。还包括调节被提供到上述二次供给线的处理液的供给的二次阀门部件，上述控制器可以开闭上述二次供给线，以便处理液能从上述多个缓冲罐中填满处理液的缓冲罐被供给到上述处理液喷嘴。上述储存空间可以具有比上述缓冲空间大的空间。上述液体供给单元还可以包括：调节上述多个缓冲罐各自的上述缓冲空间的压力的压力调节部件，上述控制器可以调节上述压力调节部件，以便上述多个缓冲罐各自的上述缓冲空间中耗尽处理液的缓冲空间的压力比上述储存空间的压力小。上述供给罐的材质可以包括丙烯酸材质。上述液体供给单元还可以包括测定上述储存空间所储存的处理液的水位的液位传感器。
另外，基板处理装置包括支撑基板的基板支撑单元；将处理液供给到上述基板处理单元的液体供给单元，其中，上述液体供给单元包括：内部具有储存处理液的储存空间的供给罐；内部具有储存处理液的缓冲空间的缓冲罐；将上述缓冲罐提供的处理液供给到基板上的处理液喷嘴；调节上述缓冲空间的压力的压力调节部件；以及随着上述缓冲空间的状态调节上述压力调节部件的控制器，上述控制器调节上述压力调节部件，使得在上述缓冲空间上处理液被耗尽的耗尽状态下上述缓冲空间的压力比上述储存空间的压力小，而调节上述压力调节部件，使得在上述缓冲空间上处理液被填充的填充状态下上述缓冲空间的压力与上述储存空间的压力相同。
上述供给罐的材质可以包括丙烯酸材质。上述液体供给单元还可以包括测定上述储存空间所储存的处理液的水位的液位传感器，上述液位传感器可以位于上述供给罐的外侧。
有益效果
根据本发明的实施例，设置多个缓冲罐。因而，将处理液填充到耗尽状态的缓冲罐时也可以通过处于填充状态的缓冲罐继续执行对基板的液体处理工艺。
另外，根据本发明的实施例，供给罐的储存空间被设置为比缓冲罐的缓冲空间大。因而，即使缓冲空间上的处理液被耗尽，也可以在不更换供给罐的情况下向该缓冲空间供给处理液。
另外，根据本发明的实施例，缓冲罐的缓冲空间的压力小于储存空间的压力，从而可以从储存空间供给得到处理液。因而，供给罐的材质可以设置为比不锈钢材质(SUS)节省成本的丙烯酸材质
另外，根据本发明的实施例，供给罐的材质可以设为透明材质，因而可以从供给罐的外部准确得知储存在储存空间的处理液的容量。
附图说明
图1为示出在常规的涂敷装置中供给处理液的液体供给单元的图。
图2为显示根据本发明的实施例的喷墨方式的基板处理装置的结构的图。
图3为示出图2中液晶排出部的立体图。
图4为示出图3中构台移动单元的截面图。
图5为示出图3的头部移动单元的侧面的图。
图6为示出图3的液体供给单元的图。
图7为示出向图6的第一缓冲罐填充处理液，并通过第二缓冲罐向喷射头供给处理液的过程的图。
具体实施方式
在下文中，将参考所附的附图，对本发明的优选的实施例进行详细说明。如上所述的本发明所要解决的课题、技术解决手段及效果可通过所附的附图和相关的实施例而轻易理解。为了清楚地进行说明，各附图中的一部分被简略或夸张地表示。应注意在各附图的结构要素中附加附图标记时，对同样的结构要素即使在不同的附图上也尽可能地标识为相同的符号。另外，在本发明以下的说明中，如果认为对相关的已知结构或功能的具体说明会模糊本发明的要点，那么将省略对其的详细说明。
本实施例中，对通过排出液滴的喷墨方式将处理液涂敷于对象物的基板处理装置进行说明。例如，对象物可以为液晶显示面板的彩色滤光片(CF)基板或薄膜晶体管(TFT)基板；处理液可以为液晶(LiquidCrystal)、配向液、在溶剂中混入颜料颗粒的红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的油墨。其中，作为配向液可使用聚酰亚胺(polymide)。
配向液可涂敷于彩色滤光片(CF)基板和薄膜晶体管(TFT)基板的整个面上，液晶可涂敷于彩色滤光片(CF)基板或者薄膜晶体管(TFT)基板的整个面上。油墨可涂敷于彩色滤光片(CF)基板上以格子状排列的黑矩阵的内部区域。
本实施例的基板处理装置1是以排出液滴的喷墨方式在基板上涂敷液晶(LiquidCrystal)的设备。
基板可以为液晶显示面板的彩色滤光片(CF)基板或薄膜晶体管(TFT)基板，液晶可以涂敷于彩色滤光片(CF)基板或者薄膜晶体管(TFT)基板的整个面上。
图2为显示喷墨方式的基板处理装置的图。参照图2，基板处理装置1包括:液晶排出部10、基板移送部20、装载部30、卸载部40、液晶供给部50以及主控制部90。液晶排出部10与基板移送部20可以沿第一方向Ⅰ配置成一列，并且可以设置为彼此相邻。液晶供给部50和主控制部90配置在以液晶排出部10为中心且与基板移送部20相对的位置。液晶供给部50和主控制部90可以沿第二方向Ⅱ配置成一列。装载部30和卸载部40配置在以基板移送部20为中心且与液晶排出部10相对的位置。装载部30和卸载部40可以沿第二方向Ⅱ排成一列。
其中，第一方向Ⅰ为液晶排出部10与基板移送部20的排列方向，第二方向Ⅱ为在水平面上垂直于第一方向Ⅰ的方向，第三方向Ⅲ为垂直于第一方向Ⅰ和第二方向Ⅱ的方向。
待涂敷液晶的基板将被搬入至装载部30。基板移送部20将搬入到装载部30的基板移送到液晶排出部10。液晶排出部10从液晶供给部50得到液晶，以喷墨方式向基板上排出液晶。当完成液晶的排出后，基板移送部20从液晶排出部10移送基板至卸载部40。涂敷了液晶的基板从卸载部40搬出。主控制部90控制液晶排出部10、基板移送部20、装载部30、卸载部40及液晶供给部50的整体动作。
图3为示出图2中液晶排出部的立体图。参照图3，液晶排出部10包括基座B、基板支撑单元100、构台200、构台移动单元300、头部单元400、头部移动单元500、头部控制单元600、清洗单元700、检查单元800以及液体供给单元900。
基座B可以为具有一定厚度的长方体形状。基座B的上面配置基板支撑单元100。基板支撑单元100具有放置基板S的支撑板110。支撑板110可以为四边形形状的板。支撑板110的下面连接旋转驱动部件120。旋转驱动部件120可以为旋转马达(motor)。旋转驱动部件120以垂直于支撑板110的旋转中心轴为中心旋转支撑板110。
当支撑板110依靠旋转驱动部件120旋转时，基板S可随着支撑板110的旋转而旋转。当形成于待涂敷液晶的基板的单元的长边方向朝向第二方向Ⅱ时，旋转驱动部件120可以通过旋转基板使单元的长边方向朝向第一方向Ⅰ。
支撑板110和旋转驱动部件120可通过直线驱动部件130沿第一方向Ⅰ直线移动。直线驱动部件130包括滑动器132和导向部件134。旋转驱动部件120设置在滑动器132的上面。导向部件134在基座B的上表面中心部沿第一方向Ⅰ长长地延长。滑动器132可以内置线性马达(未示出)，滑动器132依靠线性马达(未示出)随着导向部件134沿第一方向Ⅰ进行直线移动。
构台200设在支撑板110移动的路径的上部。构台200从基座B的上表面向上间隔配置，且构台200配置为其长度方向朝向第二方向Ⅱ。
构台移动单元300可以使构台200沿第一方向Ⅰ直线移动，或使构台200旋转，以便使构台200的长度方向朝向倾斜于第一方向Ⅰ的方向。构台移动单元300包括第一驱动单元310和第二驱动单元320。第二驱动单元320设在作为旋转中心的构台200的一端，而第一驱动单元310设在构台200的另一端。
图4为示出图3中构台移动单元的截面图。参照图4，第一驱动单元310包括导轨315和滑动器317。导轨315的长度方向朝向第一方向Ⅰ，且以基板支撑单元100的导向部件134为中心配置在基座B上表面的两侧边缘处。滑动器317可移动地结合于导轨315。滑动器317结合于构台的底面。滑动器317可以内置线性马达(未示出)。滑动器317可依靠线性马达(未示出)的驱动力随着导轨315沿第一方向Ⅰ直线移动。
第二驱动单元320设置为以构台的中心轴为中心与第一驱动单元310对称。第二驱动单元320具有与第一驱动单元310相同的结构，因此省略对其的说明。
头部单元400向基板S排出处理液。头部单元400可以设置多个。本实施例中举例说明设置3个头部410、420、430的情况，但并不限定与此。头部单元400可沿第二方向Ⅱ排成一列，且结合于构台200。头部单元400可依靠头部移动单元500沿构台200的长度方向、即第二方向Ⅱ直线移动，并且依靠构台移动单元300沿第一方向Ⅰ直线移动。头部单元400可依靠头部移动单元500和构台移动单元300向工艺位置和备用位置移动。这里工艺位置为头部与基板相向的位置，备用位置为头部脱离工艺位置的位置。根据一个例子，备用位置可以为头部单元400与清洗点和检查单元800相向的位置。
头部单元400包括喷射头402。喷射头402设有向下端排出处理液的多个处理液喷嘴(未示出)。例如，喷射头402可以分别设有128个或256个处理液喷嘴(未示出)。处理液喷嘴(未示出)以一定的间距排成一列。多个处理液喷嘴(未示出)可以以微克(μg)的单位的量排出液晶。
各自喷射头400可设有与多个处理液喷嘴(未示出)对应的数量的压电元件，通过控制施加到压电元件的电压可分别独立地调节多个处理液喷嘴(未示出)的液滴排出量。
头部移动单元500包括第一移动单元520和第二移动单元540。图5为示出图3的头部移动单元的侧面的图。参照图5，第一移动单元520使个别头部单元400沿构台的长度方向，即第二方向Ⅱ直线移动，第二移动单元540使个别头部单元400沿第三方向Ⅲ直线移动。
第一移动单元520包括多个导轨522a、522b，多个滑动器524a、524b，以及移动板526。多个导轨522a、522b沿第二方向Ⅱ长长地延长，并在构台200的前面以沿第三方向Ⅲ相间隔的方式配置。多个滑动器524a、524b可移动地结合于多个导轨522a、522b，且多个滑动器524a、524b可以内置有直线驱动器。例如直线驱动器可以为线性马达(未示出)。移动板526结合于多个滑动器524a、524b。移动板526的上部区域结合于位于上部的滑动器524a，移动板526的下部区域结合于位于下部的滑动器524b。移动板526依靠线性马达(未示出)的驱动力随着多个导轨522a、522b沿第二方向Ⅱ直线移动。随着多个头部单元400沿着第二方向Ⅱ分别移动，能够调节其相互之间的间距。
第二移动单元540包括导向部件542和滑动器544。导向部件542结合于第一移动单元520的移动板526，并且用于引导滑动器544沿第三方向Ⅲ进行直线移动。滑动器544以可直线移动的方式结合于导向部件542，且滑动器544可内置直线驱动器。例如，直线驱动器可以为线性马达(未示出)。头部单元400结合于滑动器544，并且随着滑动器544沿第三方向Ⅲ的直线移动而沿第三方向Ⅲ移动。
头部控制单元600控制各自头部单元410、420、430的液晶排出。头部控制单元600可以配置在液晶排出部10内，相邻于头部单元410、420、430。例如，头部控制单元600可以配置在构台200的上端。在本实施例中，举例说明头部控制单元600配置在构台200的上端的情况，但头部控制单元600的位置并非限定于此。
虽然图中未示出，头部控制单元600电连接到各个头部单元410、420、430，对每个头部单元410、420、430施加控制信号。各个头部单元410、420、430上可以设有与处理液喷嘴(未示出)的数量相对应的数量的压电元件(未示出)，头部控制单元能够通过控制施加到压电元件的电压来调节处理液喷嘴(未示出)的液滴排出量。
再次参照图3，清洗单元700对头部进行清洗。清洗单元700可以设有预先排出单元，从而在头部单元400向基板S供给处理液之前预先排出处理液。清洗单元700排放从头部单元400排出的处理液，并对残留在头部单元400的排出端的处理液进行清洗处理。清洗单元700可以设有多个。例如，清洗单元700可以设有与头部单元400一比一对应的个数。清洗单元700可以为3个。清洗单元向头部单元400的排出端提供负压而吸入并去除其残留的处理液。
检查单元800通过光学检查确认提供于头部单元410、420、430的个别喷嘴有无异常。当检查单元800宏观上确认喷嘴有无异常后，判断出非特定的处理液喷嘴存在异常时，检查单元800可以对个别处理液喷嘴确认有无异常，从而可以对处理液喷嘴进行全面检查。
液体供给单元900用于向喷射头402的处理液喷嘴供给处理液。图6为示出图3的液体供给单元的图。参照图6，液体供给单元900包括供给罐910、第一缓冲罐930、第二缓冲罐940、一次供给线920、二次供给线950、一次阀门部件970、二次阀门部件980、压力调节部件960、液位传感器905以及控制器990。
供给罐910的内部具有储存处理液的储存空间910a。供给罐910设置为具有桶形状。供给罐910的一侧面材质可以设置为丙烯酸材质。选择性地，供给罐910可以设置为使包括一侧面的两侧面为透明材质。
第一缓冲罐930和第二缓冲罐940分别从供给罐910得到处理液。第一缓冲罐930和第二缓冲罐940各自内部设有缓冲空间930a、940a。缓冲空间930a、940a是用于将处理液供给到处理液喷嘴前临时储存处理液的空间。例如，第一缓冲罐930和第二缓冲罐940各自内部可设有具有缓冲空间930a、940a的瓶子。第一缓冲罐930和第二缓冲罐940可以设为互相相同的形状。根据一个实施例，第一缓冲罐930的第一缓冲空间930a和第二缓冲罐940的第二缓冲空间940a可分别设置为与储存空间910a相比相对小的空间。每个缓冲空间930a和940a可以为3.5升，储存空间910a可以为20升。选择性地，可以设3个以上缓冲罐。
一次供给线920将供给罐910分别连接至第一缓冲罐930和第二缓冲罐940。一次供给线920将供给罐910分别并列连接至第一缓冲罐930和第二缓冲罐940。因而，被提供至储存空间910a的处理液可以同时供给到第一缓冲罐930和第二缓冲罐940，或可以供给到其中任意一个。
二次供给线950分别将第一缓冲罐930和第二缓冲罐940连接至喷射头402。二次供给线950将第一缓冲罐930和第二缓冲罐940并列连接至喷射头402。因而，喷射头402可以从第一缓冲罐930和第二缓冲罐940中的任意一个得到处理液。选择性地，连接第一缓冲罐930和喷射头402的线路可以设置为独立于连接第二缓冲罐940和喷射头402的线路。
一次阀门部件970用于供给或中止从供给罐910提供到多个缓冲罐的处理液。一次阀门部件970以能够开闭一次供给线920的方式设置在一次供给线920。一次阀门部件970设有至少2个阀门972、974，其分别以一一对应于第一缓冲罐930和第二缓冲罐940的方式被设置在供给线920。例如，一次阀门部件970的阀门972、974中的一个可以供给或中止被提供至第一缓冲罐930的处理液，另一个则可以供给或中止被提供至第二缓冲罐940的处理液。
二次阀门部件980用于供给或中止从多个缓冲罐提供至喷射头402的处理液。二次阀门部件980以能够开闭二次供给线950的方式设置在二次供给线950。二次阀门部件980设有至少2个阀门982、984，分别以一一对应于第一缓冲罐930和第二缓冲罐940的方式被设置在二次供给线950。例如，二次阀门部件980的阀门982、984中的一个可以供给或中止从第一缓冲罐930提供的处理液，另一个则可以供给或中止从第二缓冲罐940提供的处理液。
压力调节部件960用于调节对于第一缓冲罐930和第二缓冲罐940各自的缓冲空间930a、940a的压力。压力调节部件960调节缓冲空间930a和940a的压力，使得储存在储存空间910a的处理液能够被供给到缓冲空间930a、940a。根据一个实施例，压力调节部件960调节缓冲空间930a、940a的压力，从而使得缓冲空间930a、940a具有比储存空间910a小的压力。因而，储存空间910a和缓冲空间930a、940a间产生压力差，处理液可以从储存空间910a被供给到缓冲空间。根据一个实施例，压力调节部件960可以使得缓冲空间930a、940a和储存空间910a的压力差为60KPa至120KPa。
液位传感器905测定储存在储存空间910a的处理液的容量。液位传感器905位于供给罐910的外侧。液位传感器905位于供给罐910的一侧面并与其相向。根据一个实施例，液位传感器905可以为照射光的光传感器。与此不同，储存在储存空间910a的处理液的容量也可通过作业者的肉眼进行测定。
控制器990控制一次阀门部件970、二次阀门部件980以及压力调节部件960。当缓冲空间930a、940a的处理液处于耗尽状态时，控制器990控制压力调节压力部件960，从而使缓冲空间930a、940a的压力小于储存空间910a的压力。另外，当缓冲空间930a、940a的处理液处于填充状态时，控制器990控制压力调节压力部件960，从而使缓冲空间930a、940a的压力与储存空间910a的压力相同。其中，耗尽状态是指提供至缓冲空间的处理液的容量无法执行基板的液体处理工艺的状态，而填充状态是指通过提供至缓冲空间930a、940a的处理液的容量能够执行基板的液体处理工艺的状态。
以下，将说明利用上述的液体供给单元900向缓冲罐930、940填充处理液并向喷射头402供给处理液的过程。在第一缓冲罐930和第二缓冲罐940各自填充了处理液的状态下，从第一缓冲罐930向喷射头402供给处理液。之后，当第一缓冲空间930a内处理液被耗尽时中断从第一缓冲罐930向喷射头402供给的处理液。之后，将从第二缓冲罐940向喷射头402供给处理液。图7为示出向图6中第一缓冲罐填充处理液，并通过第二缓冲罐向喷射头供给处理液的过程的图。参照图7，处理液被填充到第一缓冲空间930a，而填充到第二缓冲罐940的处理液被供给到喷射头402。压力调节部件960使第一缓冲空间930a的压力小于储存空间910a的压力，处理液因储存空间910a和第一缓冲空间930a间的压力差而从储存空间910a被供给到第一缓冲空间930a。
上述的实施例中通过多个缓冲罐930、940中的任意一个向喷射头402供给处理液。当使用的缓冲罐930、940内处理液被耗尽时，填充处理液的同时可通过另一个向喷射头402供给处理液。因而，可以持续向喷射头402供给处理液。
另外，供给罐910的储存空间910a具有比平常使用的缓冲空间930a、940a大的空间，因而供给罐910的更换频率将降低。因而，可以减少由更换供给罐910而带来的处理液的浪费。
另外，供给罐910和缓冲罐930、940间的处理液交换可通过调节缓冲空间930a、940a的压力来进行。因而，在执行处理液交换的过程中，不会将压力提供给供给罐910的储存空间910a上，供给罐910可以适用如丙烯酸的透明材质。因而，可以从供给罐910的外侧测定储存空间910a内储存的处理液的容量。
附图标记的说明
100：基板支撑单元900：液体供给单元
910：供给罐910a：储存空间
920：一次供给线930,940：缓冲罐
930a,940a：缓冲空间960：压力调节部件
990：控制器

Claims (11)

1.一种基板处理装置，其包括：
基板支撑单元，其用于支撑基板；以及
液体供给单元，其用于将处理液供给到所述基板处理单元，
其中，所述液体供给单元包括：
供给罐，其内部具有储存处理液的储存空间；
多个缓冲罐，其内部具有储存处理液的缓冲空间；
处理液喷嘴，其用于将所述缓冲罐所提供的处理液供给到基板上；以及
一次供给线，其用于将所述供给罐以并列的方式分别连接到所述多个缓冲罐。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述液体供给单元包括：
二次供给线，其用于将所述多个缓冲罐以并列的方式连接到所述处理液喷嘴。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
所述液体供给单元还包括：
一次阀门部件，其用于调节提供至所述一次供给线的处理液的供给；以及
控制器，其用于控制所述一次阀门部件，
其中，所述控制器用于开闭所述一次供给线，以便处理液能从所述供给罐被供给到所述多个缓冲罐各自的所述缓冲空间中的耗尽了处理液的缓冲空间。
4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，
所述液体供给单元还包括：
二次阀门部件，其用于调节提供至所述二次供给线的处理液的供给，
其中，所述控制器用于开闭所述二次供给线，以便处理液能从所述多个缓冲罐中的填满了处理液的缓冲罐供给到所述处理液喷嘴。
5.根据权利要求1至4的任意一项所述的基板处理装置，其中，
所述储存空间具有为比所述缓冲空间大的空间。
6.根据权利要求3或4所述的基板处理装置，其中，
所述液体供给单元还包括：
压力调节部件，其用于调节所述多个缓冲罐各自的所述缓冲空间的压力，
其中，所述控制器用于调节所述压力调节部件，以便使得所述多个缓冲罐各自的所述缓冲空间中的耗尽了处理液的缓冲空间的压力比所述储存空间的压力小。
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，
所述供给罐的材质包括丙烯酸材质。
8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中，
所述液体供给单元还包括：
液位传感器，其用于测定所述储存空间所储存的处理液的水位。
9.一种基板处理装置，其包括：
基板支撑单元，其用于支撑基板；以及
液体供给单元，其用于将处理液供给到所述基板处理单元，
其中，所述液体供给单元包括：
供给罐，其内部具有储存处理液的储存空间；
缓冲罐，其内部具有储存处理液的缓冲空间；
处理液喷嘴，其用于将所述缓冲罐所提供的处理液供给到基板上；
压力调节部件，其用于调节所述缓冲空间的压力；以及
控制器，其根据所述缓冲空间的状态来调节所述压力调节部件，
其中，在所述缓冲空间的处理液被耗尽的耗尽状态下，所述控制器调节所述压力调节部件，以便使所述缓冲空间的压力比所述储存空间的压力小；而在所述缓冲空间填充了处理液的填充状态下，所述控制器调节所述压力调节部件，以便使所述缓冲空间的压力与所述储存空间的压力相同。
10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，
所述供给罐的材质包括丙烯酸材质。
11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，
所述液体供给单元还包括：
液位传感器，其用于测定所述储存空间所储存的处理液的水位，
所述液位传感器位于所述供给罐的外侧。
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