CN105319781A - 液体供给单元及具有其的基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的实施例提供一种供给液体的液体供给单元及基板处理装置。所述液体供给单元是用于将处理液供给到喷嘴的单元,其包括:瓶子,其内部具有储存处理液的储存空间,且其上表面开放;阀门组件,其开闭所述上表面。所述阀门组件包括:本体,其内部形成主通道及连接到所述主通道的供给通道;驱动轴,其设置在所述主通道;驱动器,其用于使所述驱动轴向第1位置和第2位置移动,其中所述第1位置为所述驱动轴切断所述供给通道的位置,所述第2位置为开放所述供给通道的位置。开闭瓶子的阀门组件具有阀门功能,可以调节瓶子内处理液的流入和流出。

Description

液体供给单元及具有其的基板处理装置
技术领域
本发明涉及一种将液体供给到基板上的装置。
背景技术
近来,液晶显示装置在电话、便携式电脑等电子设备的显示屏上被广泛使用。这种液晶显示装置是将液晶注入到由黑矩阵、彩色滤光片、公共电极以及配向膜形成的彩色滤光片基板和由薄膜晶体管(TFT)、像素电极以及配向膜形成的阵列基板之间的空间,从而利用根据液晶的各向异性的光的折射率的差异来得到影像效果。
作为在如上所述的彩色滤光片基板和阵列基板上涂布如配向液或液滴的处理液的装置,主要使用喷墨方式的涂布装置。这种涂布装置包括排出头和液体供给部件。液体供给部件将处理液供给到排出头,而排出头将微米尺寸或纳米尺寸的液滴供给到基板上。图1为示出了一般的液体供给部件的图。参照图1,液体供给部件包括瓶子2、液体填充线4及液体供给线6。瓶子2中储存第1处理液,上述储存的第1处理液通过液体供给线6供给到排出头。当瓶子2内的处理液被耗尽时,液体填充线4将第1处理液填充到瓶子2内。液体供给线6和液体填充线4分别设有阀门8a、8b,因此通过开闭这些线路来供给及填充第1处理液。
图2为示出了一般的阀门的截面图。参照图2,阀门8包括主体7和密封部件9。主体7的内部形成流入通道和流出通道,密封部件9通过开闭流入通道和流出通道的交汇点,从而供给和切断处理液。然而,在供给第1处理液的过程中,第1处理液会残留在主体的内部或密封部件中。尤其是,当主体内的流入通道和流出通道的交汇点形成为孔口(Orifices)结构时,会形成剩余空间7a,第1处理液可能会残留在该剩余空间7a中。
之后,供给与第1处理液不同的第2处理液时,用存有第2处理液的瓶子替换存有第1处理液的瓶子,从而供给和填充第2处理液。在这种情况下,阀门8内残留的第1处理液和第2处理液会发生混合,从而造成不良工艺。
为了解决上述问题,分别向液体填充线4和液体供给线6供给清洗液清洗阀门8内残留的处理液,但不能完全清洗处理掉残留的处理液。不仅如此,阀门8的结构复杂,因此不易拆卸,并且即使通过拆卸阀门来清洗处理其内部,之后也很难重装使用。
另外,如图3所示,在填充瓶子2内的处理液的过程中,填充的处理液与储存着的处理液以超过一定冲击量以上的冲击量互相碰撞时,会产生气泡,这会对处理液的喷射压力造成负面影响。
发明内容
本发明要解决的技术问题
本发明的目的在于,提供一种新型结构的液体供给单元。
此外,本发明的目的在于,提供一种易于拆卸和组装的阀门组件。
此外,本发明的目的在于,提供一种使在处理液内产生的气泡降至最小化的装置。
技术方案
本发明的实施例提供供给液体的液体供给单元和基板处理装置。液体供给单元是用于将处理液供给到喷嘴的单元,包括:瓶子,其内部具有储存处理液的储存空间,且其上表面开放;阀门组件,其开闭所述上表面,上述阀门组件包括:本体,其内部形成主通道及连接到上述主通道的供给通道;驱动轴,其设置在上述主通道;驱动器,其用于使上述驱动轴向第1位置和第2位置移动,上述第1位置为上述驱动轴切断上述供给通道的位置,上述第2位置为开放上述供给通道的位置。
上述本体还形成与上述主通道相通的第1填充通道,所述液体供给单元还包括用于将处理液填充到上述第1填充通道的连接到上述本体的液体填充线。其中,上述驱动器向第3位置移动上述驱动轴,上述第3位置可以为上述驱动轴开放上述第1填充通道的位置。上述阀门组件还包括安装到上述上表面、且形成与上述供给通路相通的供给孔的盖子;上述盖子包括板件和液体补充管,其中,上述板件分别结合于上述本体和上述瓶子,并且形成与上述供给通道相通的供给孔,而上述液体补充管从上述板件延长从而使其位于上述储存空间,并且形成喷射处理液的填充孔及连接上述主通道和上述填充孔的第2填充通道,其中上述填充孔可设为朝向上述瓶子的内侧面。上述第1填充通道可设为越靠近主通道,越朝向向下倾斜的方向。第1填充通道与上述主通道相通的地点可设置为比上述供给通道和上述主通道相通的地点低。上述主通道以贯通所述本体的两面的中空的方式提供,上述驱动轴可以包括具有与上述主通道相应的直径、且其外侧面形成环形的圆形状连接槽的轴部。上述第2位置可以为上述连接槽和上述供给通道相通的位置。上述第2位置可以为上述轴部切断第1填充通道的位置。形成上述主通道的上述本体的内侧面形成环形的圆形状剩余槽,上述剩余槽可以形成为比上述供给通道和上述第1填充通道高。上述轴部具有与上述主通道对应的或更长的长度,上述驱动轴还包括从上述轴部的上端延长的导向部,上述导向部可以具有比上述轴部更大的直径。第1位置可以为上述导向部置于上述本体、且上述轴部切断上述第1填充通道和上述供给通道的位置。
基板处理装置包括支撑基板的基板支撑单元、向支撑在上述基板支撑单元的基板供给处理液的排出头,以及将处理液供给到上述排出头的液体供给单元。上述液体供给单元包括在其内部储存处理液的储存空间、开放上表面的瓶子、开闭上述上表面的阀门组件,以及连接上述阀门组件和上述排出头的液体供给线。上述阀门组件包括本体、驱动轴以及驱动器,其中,上述本体的内部形成主通道和连接到上述主通道的供给通道,上述驱动轴设置在上述主通道,上述驱动器用于向第1位置和第2位置移动上述驱动轴。其中,上述第1位置为上述驱动轴切断上述供给通道的位置,上述第2位置为开放上述供给通道的位置。
上述本体还形成与上述主通道相通的第1填充通道,所述液体供给单元还包括连接到上述本体的液体填充线,使处理液填充到上述第1填充通道;上述驱动器向第3位置移动上述驱动轴,上述第3位置可以为上述驱动轴开放上述第1填充通道的位置。上述阀门组件安装到上述上表面、并且还包括形成与上述供给通道相通的供给孔的盖子。上述盖子包括板件和液体补充管,其中,上述板件分别结合于上述本体和上述瓶子,并且形成与上述供给通道相通的供给孔,上述液体补充管从上述板件延长从而使其位于上述储存空间,并且形成喷射处理液的填充孔及连接上述主通道和上述填充孔的第2填充通道,上述填充孔可以设为朝向上述瓶子的内侧面。上述主通道以贯通所述本体的两面的中空的方式提供,上述驱动轴包括轴部,该轴部具有与上述主通道对应的直径,其外侧面包括环形的圆形状连接槽。上述第2位置可以为上述连接槽与上述供给通道相通的位置。形成上述主通道的上述本体的内侧面形成环形的圆形状剩余槽,上述剩余槽可以形成为比上述供给通道和上述第1填充通道高。
有益效果
根据本发明的实施例,开闭瓶子的阀门组件具有阀门功能,并可以调节瓶子内的处理液的流入和流出。
其次,根据本发明的实施例,利用单一驱动部件,可以对用于处理液流入瓶子内的填充通道和用于处理液流出的供给通道进行选择性地开闭。
再次,根据本发明的实施例,阀门组件包括本体和驱动轴,且驱动轴设置为***到本体,因此可轻易地实现驱动轴和本体间的组装与拆卸。
另外,根据本发明的实施例,在将处理液填充到瓶子内的情况下,将处理液喷射到瓶子的内侧壁,使其沿着瓶子的内侧壁流动,因此可以最小化处理液内气泡的产生。
附图说明
图1为示出一般的液体供给部件的图。
图2为示出一般的阀门的截面图。
图3为示出将处理液填充到瓶子内的过程的截面图。
图4为显示根据本发明实施例的喷墨方式的基板处理装置的结构的图。
图5为示出图4中液晶排出部的立体图。
图6为示出图5中构台移动单元的正面图。
图7为示出图5中头部组件及头部移动单元的立体图。
图8为示出图7中支撑主体的截面图。
图9为示出图7中头部组件及液体供给单元的截面图。
图10为示出图9中阀门组件的截面图。
图11为示出图10中本体的立体图。
图12为示出图11中本体的供给通道的本体的截面图。
图13为示出图11中本体的第1填充通道的本体的截面立体图。
图14为示出图10中盖子的立体图。
图15为示出位于第1位置的图9的驱动轴的截面图。
图16为示出位于第2位置的图9的驱动轴的截面图。
图17为示出位于第3位置的图9的驱动轴的截面图。
具体实施方式
在下文中,将参考所附的附图,对本发明的优选的实施例进行详细说明。如上所述的本发明所要解决的课题、技术方案及技术效果可通过所附的附图和相关的实施例而轻易理解。为了清楚地进行说明,各附图中的一部分被简略或夸张地表示。应注意在各附图的结构要素中附加标号时,对同样的结构要素即使在不同的附图上也尽可能地标识为了相同的符号。另外,在本发明以下的说明中,如果认为对相关的已知结构或功能的具体说明会模糊本发明的要点,那么将省略对其的详细说明。
本实施例中,对通过排出液滴的喷墨方式将处理液涂布于对象物的基板处理装置进行说明。例如,对象物可以为液晶显示面板的彩色滤光片(CF)基板或薄膜晶体管(TFT)基板;而处理液可以为液晶(LiquidCrystal)、配向液、在溶剂中混合颜料颗粒的红色(R)、绿色(G)、蓝色(B)的油墨。其中,作为配向液可使用聚酰亚胺(polymide)。
配向液可涂布于彩色滤光片(CF)基板和薄膜晶体管(TFT)基板的整个面上,液晶可涂布于彩色滤光片(CF)基板或者薄膜晶体管(TFT)基板的整个面上。油墨可涂布于基板上以格子状排列的黑矩阵的内部区域。
本实施例的基板处理装置1是以排出液滴的喷墨方式在基板上涂布液晶(LiquidCrystal)的设备。
基板可以为液晶显示面板的彩色滤光片(CF)基板或薄膜晶体管(TFT)基板,液晶可以涂布于彩色滤光片(CF)基板或者薄膜晶体管(TFT)基板的整个面上。
图4为示出喷墨方式的基板处理装置的图。参照图4,基板处理装置1包括液晶排出部10、基板移送部20、装载部30、卸载部40、液晶供给部50以及主控制部90。液晶排出部10与基板移送部20可以沿第1方向Ⅰ配置成一列,并且可以设置为彼此相邻。液晶供给部50和主控制部90配置在以液晶排出部10为中心且与基板移送部20相对的位置。液晶供给部50和主控制部90可以沿第2方向Ⅱ配置成一列。装载部30和卸载部40配置在以基板移送部20为中心且与液晶排出部10相对的位置。装载部30和卸载部40可以沿第2方向Ⅱ排成一列。
这里,第1方向Ⅰ为液晶排出部10与基板移送部20的排列方向,第2方向Ⅱ为在水平面上垂直于第1方向Ⅰ的方向,第3方向Ⅲ为垂直于第1方向Ⅰ和第2方向Ⅱ的方向。
待涂布液晶的基板将被搬入至装载部30。基板移送部20将搬入到装载部30的基板移送到液晶排出部10。液晶排出部10从液晶供给部50得到液晶,以喷墨方式向基板上排出液晶。当完成液晶的排出后,基板移送部20从液晶排出部10移送基板至卸载部40。涂布了液晶的基板从卸载部40搬出。主控制部90控制液晶排出部10、基板移送部20、装载部30、卸载部40及液晶供给部50的整体动作。
图5为示出图4中液晶排出部的立体图。参照图5,液晶排出部10包括基底B、基板支撑单元100、构台220、构台移动单元300、头部移动单元500、头部组件600、头部控制单元450、清洗单元700、测量单元800、检查单元900以及液体供给单元1000。
基底B可以为具有一定厚度的长方体形状。基底B的上面配置基板支撑单元100。基板支撑单元100具有放置基板S的支撑板110。支撑板110可以为四边形形状的板。支撑板110的下面连接旋转驱动部件120。旋转驱动部件120可以为旋转马达(motor)。旋转驱动部件120以垂直于支撑板110的旋转中心轴为中心旋转支撑板110。
当支撑板110依靠旋转驱动部件120旋转时,基板S随着支撑板110的旋转而旋转。当形成于待涂布液晶的基板的单元的长边方向朝向第2方向Ⅱ时,旋转驱动部件120可以通过旋转基板使单元的长边方向朝向第1方向Ⅰ。
支撑板110和旋转驱动部件120可通过直线驱动部件130沿第1方向Ⅰ直线移动。直线驱动部件130包括滑动器132和导向部件134。旋转驱动部件120设置在滑动器132的上面。导向部件134在基底B的上面中心部沿第1方向Ⅰ长长地延长。滑动器132可以内置线性马达(未图示),滑动器132依靠线性马达(未示出)随着导向部件134沿第1方向Ⅰ进行直线移动。
构台220设在支撑板110移动的路径的上部。构台220从基底B的上表面向上间隔配置,且构台220配置为其长度方向朝向第2方向Ⅱ。
构台移动单元300可以使构台220沿第1方向Ⅰ直线移动,或使构台220旋转,以便使构台220的长度方向朝向倾斜于第1方向Ⅰ的方向。构台移动单元300包括第1驱动单元310和第2驱动单元320。第2驱动单元320设在作为旋转中心的构台220的一端,而第1驱动单元310设在构台220的另一端。
图6为示出图5中构台移动单元的截面图。参照图6,第1驱动单元310包括导轨315和滑动器317。导轨315的长度方向朝向第1方向Ⅰ,且以基板支撑单元100的导向部件134为中心配置在基底B上表面的两侧边缘处。滑动器317可移动地结合于导轨315。滑动器317结合于构台的底面。滑动器317可以内置线性马达(未图示)。滑动器317可依靠线性马达(未图示)的驱动力在导轨315上沿第1方向Ⅰ直线移动。
第2驱动单元320设置为以构台的中心轴为中心与第1驱动单元310对称。第2驱动单元320具有与第1驱动单元310相同的结构,因此省略对其的说明。
头部移动单元500包括第1移动单元520、第2移动单元540以及支撑主体560。第1移动单元520使头部组件600沿构台的长度方向,即第2方向Ⅱ直线移动,第2移动单元540使液体供给部件600沿第3方向Ⅲ直线移动。
图7为示出图5中头部组件及头部移动单元的立体图,图8为示出图7中支撑主体的截面图。参照图7和图8,第1移动单元520包括多个导轨522、多个滑动器524以及移动板526。多个导轨522沿第2方向Ⅱ长长地延长,并在构台220的前面以沿第3方向相间隔的方式配置。多个滑动器524可移动地结合于多个导轨522,且多个滑动器524可以内置有直线驱动器,例如线性马达(未图示)。移动板526结合于滑动器524。移动板526的上部区域结合于位于上部的滑动器524,移动板526的下部区域结合于位于下部的滑动器524。移动板526依靠线性马达(未图示)的驱动力随着导轨522沿第2方向Ⅱ直线移动。如上所述,随着多个液体供给部件600沿着第2方向Ⅱ分别移动,能够调节多个液体供给部件600之间的间距。
第2移动单元540包括导向部件542和滑动器544。导向部件542结合于第1移动单元520的移动板526,并且用于引导滑动器544沿第3方向Ⅲ进行直线移动。滑动器544以可直线移动的方式结合于导向部件542,且滑动器544可内置直线驱动器,例如线性马达(未图示)。支撑主体560结合于滑动器544,并且随着滑动器544沿第3方向Ⅲ的直线移动而沿第3方向Ⅲ移动。
支撑主体560可以依靠第1移动单元520和第2移动单元540而沿着第2方向Ⅱ及第3方向Ⅲ进行直线移动。支撑主体560用于支撑头部组件600,并且可以与头部组件600一起移动。支撑主体560可以设有多个。在本实施例中,以三个支撑主体560分别用于支撑三个头部组件410、420、430为例进行说明,但并不仅限于此。每个支撑主体560沿第2方向并排成一列,并且结合于构台220。支撑主体560包括支撑框架570、上部板580以及下部板590。支撑框架570为其长度方向朝向第3方向的板形状。支撑框架570固定结合于第2移动单元540的滑动器544。
上部板580沿垂直于支撑框架570的方向延长。上部板580以支撑框架570为基准,设置在滑动器544的对面。上部板580的上面形成注入孔584和安装槽582。气体供给部件586连接于注入孔584。气体供给部件586向注入孔584供给气体。例如,气体可以为非活性气体。非活性气体可以为氮气N2。安装槽582为可***头部组件的一部分的槽。
下部板590为放置头部组件的储水器(Reservoir)630的区域。下部板590向垂直于支撑框架570的方向延长。下部板590位于上部板580的下方。下部板590与上部板580相向地放置。
头部组件600用于向基板排出处理液。头部组件600可以设置为多个。图9为示出图7中头部组件及液体供给单元的截面图。参照图9,头部组件600可装卸地结合于支撑主体560。头部组件600包括支承部610、液位传感器620、气体供给线618、储水器630、排出头640、减压部件650以及加热部件660。支承部610包括支撑架612和支撑块614。支撑架612具有与支撑框架570对应的板形状。支撑架612设为其长度方向朝向第3方向Ⅲ。支撑块614设为从支撑架612的一面延长。且支撑块614设为从支撑架612朝向支撑主体560。支撑块614的上表面形成有放置槽616。放置槽616为放置瓶子600的空间。放置槽616的内径可设置为与瓶子620相对应或略大。支撑块614内形成气体供给线618。气体供给线618的作用是,其作为提供从注入孔584供给的气体的通道。气体供给线618设为从支撑块614的底面延长至上表面。支撑块614的底面形成突起619。突起619设为从支撑块614的底面向下凸起。根据一实施例,头部组件600可以设置为使突起619***到安装槽582,并使支撑架612与上部板580互相接触。另外,形成于支撑块614的气体供给线618可设置为与注入孔584相向。由此,头部组件600通过突起619及支撑架612而固定了其位置,且从注入孔584供给的气体可通过气体供给线618供给。
液位传感器620用于感知瓶子620内填充的处理液的水位。液位传感器620设置在支撑框架570的另一面。液位传感器620位于比上部板580更高的位置上。液位传感器620设为与安装在支撑主体的瓶子620相对。
储水器630设置为长方体形状。储水器630固定结合于支撑架612的一面。储水器630位于支撑块614的下方。储水器630设为与支撑块614相向。储水器630和支撑块614之间的间隔设置为与上部板580和下部板590之间的间隔相对应。由此,当头部组件600安装到支撑主体时,支撑块614安装到上部板580,储水器630安装到下部板590。储水器630的内部形成有提供处理液的缓冲空间632。缓冲空间632是为了将处理液供给至喷嘴而临时储存处理液的空间。缓冲空间632与瓶子620的内部空间通过液体供给线而连接。由此,当瓶子620的内部因气体而产生压力时,处理液通过该压力沿着液体供给线1300供给到缓冲空间632。
排出头640结合于储水器630的底面。排出头640设置为相邻于支撑架612。由此,当头部组件600安装到支撑主体560时,排出头640与下部板590的侧部相向。排出头640包括多个喷嘴(未图示)。每个喷嘴设为与缓冲空间632连通。提供至缓冲空间632的处理液可以供给到各个喷嘴。根据一实施例,喷嘴可以设为128个或是256个。每个喷嘴以一定的间距排成一列。每个喷嘴可以排出以微克(μg)为单位量的液晶。排出头640可设有与多个喷嘴(未图示)数量相对应数量的压电元件。通过控制施加到压电元件的电压可分别独立地调节多个喷嘴(未图示)的液滴排出量。
减压部件650防止缓冲空间632中所填充的处理液因重力而供给到喷嘴,并从喷嘴滴落。即减压部件650能够减少缓冲空间632的压力。
加热部件660将提供到缓冲空间632的处理液加热至工艺温度。加热部件660设置于下部板590。加热部件660对安装于下部板590的储水器630进行加热处理,从而加热填充于缓冲空间632的处理液。例如,加热部件660可以为加热器。
再次参照图5,清洗单元700对液体供给单元的头部组件600进行清洗处理。清洗单元700向头部组件的排出端提供声压而去除排出端中残留的处理液。例如,清洗单元700可以为抽吸喷嘴(Suctionnozzle)。
测量单元800用于测量各个头部组件610、620、630的处理液排出量。具体而言,测量单元800对于各个头部组件610、620、630,测量从全部的喷嘴(未图示)排出的流量。通过对各个头部组件610、620、630的处理液排出量进行测量,可以宏观上确认头部组件610、620、630的喷嘴(未图示)有无异常。即如果个别头部组件610、620、630的处理液排出量超过基本值,那么就可以知道喷嘴(未图示)中的至少一个出现了异常。测量单元800可以配置在基底B上的基板支撑单元100的一侧。测量单元800可以具有第1测量单元至第3测量单元800a、800b、800c。
检查单元900通过光学检查确认提供于头部组件610、620、630的个别喷嘴有无异常。当测量单元800宏观上确认喷嘴有无异常后,判断出非特定的喷嘴存在异常时,检查单元900可以对个别喷嘴确认有无异常,从而可以对喷嘴进行全面检查。
头部控制单元450控制每个头部组件610、620、630的液晶排出。头部控制单元450可以配置在液晶排出部10内,相邻于头部组件610、620、630。例如,头部控制单元450可以配置在构台220的上端。在本实施例中,举例说明头部控制单元450配置在构台的上端的情况,但头部控制单元450的位置并非限定于此。
头部控制单元450电连接到各个头部组件610、620、630,对每个头部组件610、620、630施加控制信号。各个头部组件610、620、630上可以设有与喷嘴(未图示)的数量相对应的数量的压电元件(未图示),头部控制单元450能够通过控制施加于压电元件的电压,调节喷嘴(未图示)的液滴排出量。
液体供给单元1000用于向头部组件供给处理液。液体供给单元1000包括瓶子1100、阀门组件1200、液体供给线1300、液体填充线1400以及气体供给线1500。
瓶子1100为上表面开放的桶形状。瓶子1100的长度方向朝向第3方向。瓶子1100的内部形成储存处理液的储存空间1110。瓶子1100***到支撑块614的放置槽616,使其位置被固定。
阀门组件1200用于开闭瓶子1100的开放的上表面。阀门组件1200包括本体1210、盖子1220、驱动部件1240以及控制器1260。图10为示出图9中阀门组件的截面图,图11为示出图10中本体的立体图。参照图10和图11,本体1210为具有与瓶子1100平行的长度方向的圆筒形状。本体1210设为具有与瓶子1100的开放的上表面对应的直径或更大的直径。本体1210形成主通道1212、供给通道1214、第1填充通道1216以及气体通道1218。主通道1212设为从本体1210的上表面贯通底面。主通道1212为朝向第3方向Ⅲ的中空形状。形成主通道1212的本体1210的内侧面形成剩余槽1213。剩余槽1213具有环形的圆形状。
供给通道1214设为从本体1210的一面开始贯通底面。其中,一面可以是除了底面以外的本体1210的外侧面或是上表面。根据一实施例,一面可以是本体1210的外侧面。图12为示出图11中本体的供给通道的本体的截面图。参照图12,供给通道1214设为通过主通道1212以实现连通。供给通道1214的功能是,其作为将储存到储存空间1110的处理液供给到液体供给线1300的通道。供给通道1214可以形成为比剩余槽1213低。供给通道1214可以设为从本体1210的外侧面通过主通道1212,并贯通本体1210的底面。
第1填充通道1216设为从主通道1212分支而成的分支通道。第1填充通道1216设为从主通道1212分支,并延长到本体1210的一面。图13为示出图11中本体的第1填充通道的本体1210的截面图。参照图13,第1填充通道1216的作用是,其作为将从液体填充线1400填充的处理液提供到主通道1212的通道。根据一实施例,第1填充通道1216可以形成为比从本体1210的一面通过主通道1212的供给通道1214低。第1填充通道1216可以设为越靠近主通道1212,越朝向向下倾斜的方向。因此,配置为从液体填充线1400填充的处理液会通过第1填充通道1216和主通道1212。
气体通道1218为独立于主通道1212、供给通道1214以及第1填充通道1216的通道。气体通道1218的作用是,其作为将从气体供给线1500供给的气体提供到储存空间1110的通道。
盖子1220用于开闭瓶子1100的开放的上表面。盖子1220分别结合于瓶子1100的上表面和本体1210。通过将盖子1220结合于瓶子1100,从而使储存空间1110成为封闭于外部的空间。图14为示出图10中的盖子的立体图。盖子1220包括板件1230和液体补充管1240。板件1230为圆盘形状。板件1230具有对应于本体1210的直径或更大的直径。板件1230结合于本体1210的底面。板件1230形成有多个孔。多个孔被提供为具有与形成于本体1210的底面的通道一对一对应的数量。根据一实施例,板件1230可形成供给孔1232、主孔1234以及气体孔1236。供给孔1232设置为与本体1210的供给通道1214相向。主孔1234设置为与本体1210的主通道1212相向。气体孔1236设置为与气体通道1218相向。液体补充管1240从板件1230的底面延长。液体补充管1240从形成主孔1234的区域向下延长。因而,液体补充管1240位于瓶子1100的储存空间1110。液体补充管1240形成有填充孔1242。填充孔1242形成为朝向瓶子1100的内侧壁。液体补充管1240的内部形成有将填充孔1242和主孔1234相连接的第2填充通道1244。因而,通过液体填充线1400填充的处理液依次通过第1填充通道1216、主通道1212、主孔1234以及第2填充通道1244而填充至储存空间1110。从填充孔1242喷射的处理液沿着瓶子1100的内侧壁流动并储存至瓶子1100的储存空间1110。因此,可将被填充的处理液与已储存的处理液之间的碰撞的力降至最小化,从而使在处理液内产生的气泡最少化。
再次参照图10,驱动部件1240可切断主通道1212或开放主通道1212的一部分。驱动部件1240包括驱动轴1250和驱动器1260。驱动轴1250具有轴部1252和导向部1254。轴部1252具有其长度方向朝向第3方向的圆筒形状。轴部1252被设置在主通道1212。轴部1252的直径对应于主通道1212。轴部1252具有对应于主通道1212的长度或更长的长度。轴部1252的外侧面形成连接槽1253。连接槽1253形成在比轴部1252的中间区域更高的位置。连接槽1253为包围轴部1252的周长的环形的圆形状。导向部1254从轴部1252的上端延长。导向部1254具有比轴部1252更长的直径。因此,导向部1254可挂接在本体1210的上表面,从而防止轴部1252下降到一定的高度以下。
驱动器1260使驱动轴1250沿上、下方向移动。驱动器1260可使驱动轴1250移动至第1位置、第2位置以及第3位置。此处,第1位置为轴部1252切断主通道1212的位置。位于第1位置的轴部1252切断供给通道1214和第1填充通道1216。第2位置为轴部1252切断第1填充通道1216,并开放供给通道1214的位置。位于第2位置的轴部1252设置为使连接槽1253相向于供给通道1214。位于第2位置的轴部1252设置为其下端比第1填充通道1216低。轴部1252设置为连接槽1253对应于供给通道1214通过主通道1212的地点。因此,流动于供给通道1214的处理液通过由连接槽125所形成的空间穿过主通道1212。第3位置为轴部1252切断供给通道1214,开放第1填充通道1216的位置。位于第3位置的轴部1252的下端设置在供给通道1214和第1填充通道1216之间。
控制器1260控制驱动器1260,以便根据处理工艺使驱动轴1250的位置不同。控制器1260根据处理工艺控制驱动器1260,并使轴部1252位于第1位置、第2位置及第3位置中的任意一个。在待实施工艺时,控制器1260移动驱动轴1250至第1位置,从而切断主通道1212的全部区域。将处理液供给到排出头640时,控制器1260移动驱动轴1250至第2位置,从而开放供给通道1214。供给通道1214被开放后,储存空间1110通过气体而压力增加。由所施加的力,处理液通过供给通道1214供给到排出头640。并且,将处理液填充到储存空间1110时,控制器1260移动驱动轴1250至第3位置,从而开放第1填充通道1216。如果处理液填充部件连接到第1填充通道1216,那么第1填充通道1216将被开放。之后,处理液填充部件将处理液填充到第1填充通道1216,而处理液依次通过第1填充通道1216、主通道1212、第2填充通道1244以及填充孔1242而填充到储存空间1110。
附图标记
600:头部组件1200:阀门组件
1210:本体1212:主通道
1214:供给通道1216:第1填充通道
1240:驱动部件1250:驱动轴
1252:轴部1254:导向部
1260:驱动器1400:液体填充线
1300:液体供给线

Claims (17)

1.一种液体供给单元,其用于将处理液供给到喷嘴,其中,所述液体供给单元包括:
瓶子,其内部具有储存处理液的储存空间,且所述瓶子的上表面开放;以及
阀门组件,其用于开闭所述上表面,
所述阀门组件包括:
本体,其内部形成主通道及与所述主通道连接的供给通道;
驱动轴,其位于所述主通道;以及
驱动器,其用于使所述驱动轴移动至第1位置和第2位置,
其中,所述第1位置为所述驱动轴切断所述供给通道的位置,所述第2位置为所述驱动轴开放所述供给通道的位置。
2.根据权利要求1所述的液体供给单元,其中,
所述本体还形成与所述主通道相通的第1填充通道,
还包括连接于所述本体的液体填充线,以便使处理液填充到所述第1填充通道,
所述驱动器使所述驱动轴移动至第3位置,
所述第3位置为所述驱动轴开放所述第1填充通道的位置。
3.根据权利要求2所述的液体供给单元,其中,
所述阀门组件包括:
盖子,其安装于所述上表面,并且形成与所述供给通道相通的供给孔,
所述盖子包括:
板件,其分别结合于所述本体和所述瓶子,并且所述板件还形成与所述供给通道相通的供给孔;以及
液体补充管,其从所述板件延长,以便能够位于所述储存空间,并且所述液体补充管包括用于喷射处理液的填充孔和连接所述主通道和所述填充孔的第2填充通道,
其中,所述填充孔朝向所述瓶子的内侧面。
4.根据权利要求2所述的液体供给单元,其中,
所述第1填充通道越靠近所述主通道,越朝向向下倾斜的方向。
5.根据权利要求3所述的液体供给单元,其中,
第1填充通道和所述主通道相通的地点设置为比所述供给通道和所述主通道相通的地点低。
6.根据权利要求2至5中的任一项所述的液体供给单元,其中,
所述主通道以贯通所述本体的两面的中空的方式提供,
所述驱动轴包括:
轴部,其具有与所述主通道相对应的直径,且所述轴部的外侧面形成环形的圆形状的连接槽。
7.根据权利要求6所述的液体供给单元,其中,
所述第2位置为所述连接槽和所述供给通道相通的位置。
8.根据权利要求7所述的液体供给单元,其中,
所述第2位置为所述轴部切断第1填充通道的位置。
9.根据权利要求6所述的液体供给单元,其中,
形成所述主通道的所述本体的内侧面形成环形的圆形状的剩余槽,
所述剩余槽形成为比所述供给通道和所述第1填充通道高。
10.根据权利要求6所述的液体供给单元,其中,
所述轴部具有与所述主通道相对应的长度或更长的长度,
所述驱动轴包括:
导向部,其从所述轴部的上端延长,
所述导向部具有比所述轴部大的直径。
11.根据权利要求10所述的液体供给单元,其中,
第1位置为所述导向部置于所述本体,且所述轴部切断所述第1填充通道和所述供给通道的位置。
12.一种基板处理装置,其包括:
基板支撑单元,其用于支撑基板;
排出头,其用于向支撑在所述基板支撑单元的基板供给处理液;以及
液体供给单元,其用于将处理液供给到所述排出头,
其中,所述液体供给单元包括:
瓶子,其内部具有储存处理液的储存空间,且所述瓶子的上表面开放;
阀门组件,其用于开闭所述上表面;以及
液体供给线,其用于连接所述阀门组件和所述排出头,
其中,所述阀门组件包括:
本体,其内部形成主通道及与所述主通道连接的供给通道;
驱动轴,其位于在所述主通道;以及
驱动器,其用于使所述驱动轴移动至第1位置和第2位置,
其中,所述第1位置为所述驱动轴切断所述供给通道的位置,所述第2位置为所述驱动轴开放所述供给通道的位置。
13.根据权利要求12所述的基板处理装置,其中,
所述本体还形成与所述主通道相通的第1填充通道,
还包括连接于所述本体的液体填充线,以便使处理液填充到所述第1填充通道,
所述驱动器使所述驱动轴移动至第3位置,
所述第3位置为所述驱动轴开放所述第1填充通道的位置。
14.根据权利要求13所述的基板处理装置,其中,
所述阀门组件包括:
盖子,其安装于所述上表面,并且形成与所述供给通道相通的供给孔,
所述盖子包括:
板件,其分别结合于所述本体和所述瓶子,并且所述板件还形成与所述供给通道相通的供给孔;以及
液体补充管,其从所述板件延长,以便能够位于所述储存空间,并且所述液体补充管包括用于喷射处理液的填充孔和连接所述主通道和所述填充孔的第2填充通道,
其中,所述填充孔朝向所述瓶子的内侧面。
15.根据权利要求12至14中的任一项所述的基板处理装置,其中,
所述主通道以贯通所述本体的两面的中空的方式提供,
所述驱动轴包括:
轴部,其具有与所述主通道相对应的直径,且所述轴部的外侧面形成环形的圆形状的连接槽。
16.根据权利要求15所述的基板处理装置,其中,
所述第2位置设置为所述连接槽和所述供给通道相通的位置。
17.根据权利要求15所述的基板处理装置,其中,
形成所述主通道的所述本体的内侧面形成环形的圆形状的剩余槽,
所述剩余槽形成为比所述供给通道和所述第1填充通道高。
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