CN105355707A - 一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法 - Google Patents

一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105355707A
CN105355707A CN201510662815.0A CN201510662815A CN105355707A CN 105355707 A CN105355707 A CN 105355707A CN 201510662815 A CN201510662815 A CN 201510662815A CN 105355707 A CN105355707 A CN 105355707A
Authority
CN
China
Prior art keywords
silicon
preparation
silicon wafer
front side
solar batteries
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510662815.0A
Other languages
English (en)
Inventor
方结彬
秦崇德
石强
黄玉平
何达能
陈刚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Aiko Solar Energy Technology Co Ltd
Original Assignee
Guangdong Aiko Solar Energy Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Aiko Solar Energy Technology Co Ltd filed Critical Guangdong Aiko Solar Energy Technology Co Ltd
Priority to CN201510662815.0A priority Critical patent/CN105355707A/zh
Publication of CN105355707A publication Critical patent/CN105355707A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/1804Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02167Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • H01L31/068Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN homojunction type, e.g. bulk silicon PN homojunction solar cells or thin film polycrystalline silicon PN homojunction solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/186Particular post-treatment for the devices, e.g. annealing, impurity gettering, short-circuit elimination, recrystallisation
    • H01L31/1868Passivation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/547Monocrystalline silicon PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,包括以下步骤,步骤一:对硅片进行双面抛光;步骤二:在硅片正面进行高方阻磷扩散;步骤三:去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结;步骤四:在硅片正面生长氧化层;步骤五:在硅片正面的氧化层上进行RIE制绒;步骤六:去除RIE制绒后的损伤层;步骤七:在所述硅片正面进行PECVD镀膜,形成氮化硅减反膜;步骤八:在硅片背面印刷背电极和铝背场;步骤九:在硅片正面印刷正电极浆料形成正电极;步骤十:对硅片进行烧结形成太阳能电池。与现有技术相比,本发明克服了直接在硅表面制绒引起的硅表面复合速率增加和扩散不均匀的问题,具有有效地提高电池的光电转换效率的优点。

Description

一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法
技术领域
本发明涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法。
背景技术
晶硅太阳能电池是一种有效地吸收太阳辐射能,利用光生伏打效应把光能转换成电能的器件,当太阳光照在半导体P-N结(P-NJunction)上,形成新的空穴-电子对(V-Epair),在P-N结电场的作用下,空穴由N区流向P区,电子由P区流向N区,接通电路后就形成电流。
晶硅太阳能电池的制备工艺分为制绒、扩散、刻蚀、正面镀膜、丝网印刷、烧结六大工序。其中,制绒的目的是在硅片正面形成凹凸不平的织构化绒面结构,增加太阳光的吸收面积,降低太阳光的反射率。行业内都是采用整面酸法制绒的方式对多晶硅表面制绒,在降低反射率的同时,硅片表面的少子复合也大大增加,制约了电池开路电压和短路电流的提升。由于现有晶硅电池的制造工艺是直接在硅表面制绒,凹凸不平的硅表面带来严重的少子复合,制约了电池开路电压和短路电流的提高;在绒面上进行扩散,也导致很差的方阻均匀性,从而影响电池的光电转换效率。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于,提供一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法,能避免直接在硅表面制绒引起的硅表面复合速率增加和扩散不均匀的问题,提升晶硅太阳能电池的光电效率。
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:
步骤一:对硅片进行双面抛光;
步骤二:在硅片正面进行高方阻磷扩散;
步骤三:去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结;
步骤四:在硅片正面生长氧化层;
步骤五:在硅片正面的氧化层上进行RIE制绒;
步骤六:去除RIE制绒后的损伤层;
步骤七:在所述硅片正面进行PECVD镀膜,形成氮化硅减反膜;
步骤八:在硅片背面印刷背电极和铝背场;
步骤九:在硅片正面印刷正电极浆料形成正电极;
步骤十:对硅片进行烧结形成太阳能电池。
优选地,所述步骤一采用NaOH溶液对硅片双面抛光,NaOH溶液的浓度为10%-30%。
优选地,所述步骤二中的高方阻磷扩散采用管式三氯氧磷扩散方法对硅片表面掺杂高方阻磷。
优选地,所述步骤三采用HF、H2SO4和HNO3的混合酸去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结。
优选地,所述步骤四中的硅片正面氧化是采用炉管氧化方式,将硅片放置于扩散炉中通入氮气和氧气,升温至800-900℃后,硅片与氧气反应生成二氧化硅。
优选地,所述氧气和氮气的流量分别为500-1000sccm和5-10slm,氧气和氮气的混合气体的通气时间为5-30min。
优选地,所述步骤五中的RIE制绒,采用CF4、H2和CHF3的混合气体作为刻蚀气体,在硅片表面形成针状绒面。
优选地,所述步骤六采用HF和HNO3的混合酸对硅片正面进行腐蚀,去除RIE制绒后的损伤层。
优选地,所述步骤七采用PECVD的方法沉积氮化硅膜,氮化硅膜的折射率为2.0-2.5,厚度为50nm-200nm。
相应地,本发明还提供一种高效晶硅太阳能电池,其由上述的制备方法制得。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:本发明在硅片抛光面上进行磷扩散,得到均匀性好的PN结,然后采用二氧化硅钝化扩散面,使得硅片正面具有较低的表面复合速率,再在二氧化硅上做RIE制绒,达到降低反射率的目的。本发明克服了直接在硅表面制绒引起的硅表面复合速率增加和扩散不均匀的问题,提升晶硅太阳能电池的光电转换效率。
附图说明
图1是一种高效晶硅太阳能电池制备方法流程图;
图2是本发明高效晶硅太阳能电池的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。
本发明所述的高效晶硅太阳能电池的制备步骤具体如下:
步骤S100:对硅片进行双面抛光;
本步骤采用NaOH溶液对硅片双面抛光,NaOH溶液的浓度为10%-30%。
步骤S101:在硅片正面进行高方阻磷扩散;
本步骤的高方阻磷扩散采用管式三氯氧磷扩散方法对硅片表面掺杂高方阻磷。
步骤S102:去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结;
本步骤采用HF、H2SO4和HNO3的混合酸去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结。
步骤S103:在硅片正面生长氧化层;
本步骤的硅片正面氧化是采用炉管氧化方式,将硅片放置于扩散炉中通入氮气和氧气,升温至800-900℃后,硅片与氧气反应生成二氧化硅;氧气、和氮气的流量分别为500-1000sccm,sccm和5-10slm,sccm指标准毫升/分钟,slm指标准升/分钟,氧气和氮气的混合气体的通气时间为5-30min。
步骤S104:在硅片正面的氧化层上进行RIE制绒;
本步骤中的RIE制绒采用CF4、H2和CHF3的混合气体作为刻蚀气体,在硅片表面形成针状绒面。
步骤S105:去除RIE制绒后的损伤层;
本步骤采用HF和HNO3的混合酸对硅片正面进行腐蚀,去除RIE制绒后的损伤层。
步骤S106:在所述硅片正面进行PECVD镀膜,形成氮化硅减反膜;
本步骤采用PECVD的方法沉积氮化硅膜,氮化硅膜的折射率为2.0-2.5,厚度为50nm-200nm。
步骤S107:在硅片背面印刷背电极和铝背场;
步骤S108:在硅片正面印刷正电极浆料形成正电极;
步骤S109:对硅片进行烧结形成太阳能电池。
如图2所示,本发明所述的制备方法制得的一种高效晶硅太阳能电池从上至下依次包括正电极1、氮化硅膜2、二氧化硅3、N型硅4、P型硅衬底5、铝背场6和背电极7。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:本发明在硅片抛光面上进行磷扩散,得到均匀性好的PN结,然后采用二氧化硅钝化扩散面,使得硅片正面具有较低的表面复合速率,再在二氧化硅上做RIE制绒,达到降低反射率的目的。本发明克服了直接在硅表面制绒引起的硅表面复合速率增加和扩散不均匀的问题,提升晶硅太阳能电池的光电转换效率。
下面以具体实施例进一步描述本发明:
实施例1
一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:
A:采用NaOH溶液对硅片双面抛光,NaOH溶液的浓度为10%。
B:在硅片正面采用管式三氯氧磷扩散方法进行高方阻磷扩散;
C:采用HF、H2SO4和HNO3的混合酸去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结;
D:采用炉管氧化方式在硅片正面生长氧化层,将硅片放置于扩散炉中通入氮气和氧气,升温至800℃后,硅片与氧气反应生成二氧化硅;氧气和氮气的流量分别为500sccm和5slm,氧气和氮气的混合气体的通气时间为5min;
E:采用CF4、H2和CHF3的混合气体作为刻蚀气体在硅片正面的氧化层上进行RIE制绒;
F:采用HF和HNO3的混合酸对硅片正面进行腐蚀,去除RIE制绒后的损伤层;
G:在所述硅片正面采用PECVD的方法沉积氮化硅膜,形成氮化硅减反膜,氮化硅膜的折射率为2.0,厚度为50nm。
F:在硅片背面印刷背电极和铝背场;
G:在硅片正面印刷正电极浆料形成正电极;
H:对硅片进行烧结形成太阳能电池。
实施例2
一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:
A:采用NaOH溶液对硅片双面抛光,NaOH溶液的浓度为20%。
B:在硅片正面采用管式三氯氧磷扩散方法进行高方阻磷扩散;
C:采用HF、H2SO4和HNO3的混合酸去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结;
D:采用炉管氧化方式在硅片正面生长氧化层,将硅片放置于扩散炉中通入氮气和氧气,升温至850℃后,硅片与氧气反应生成二氧化硅;氧气和氮气的流量分别为750sccm和8slm,氧气和氮气的混合气体的通气时间为18min;
E:采用CF4、H2和CHF3的混合气体作为刻蚀气体在硅片正面的氧化层上进行RIE制绒;
F:采用HF和HNO3的混合酸对硅片正面进行腐蚀,去除RIE制绒后的损伤层;
G:在所述硅片正面采用PECVD的方法沉积氮化硅膜,形成氮化硅减反膜,氮化硅膜的折射率为2.3,厚度为125nm。
F:在硅片背面印刷背电极和铝背场;
G:在硅片正面印刷正电极浆料形成正电极;
H:对硅片进行烧结形成太阳能电池。
实施例3
一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:
A:采用NaOH溶液对硅片双面抛光,NaOH溶液的浓度为30%。
B:在硅片正面采用管式三氯氧磷扩散方法进行高方阻磷扩散;
C:采用HF、H2SO4和HNO3的混合酸去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结;
D:采用炉管氧化方式在硅片正面生长氧化层,将硅片放置于扩散炉中通入氮气和氧气,升温至900℃后,硅片与氧气反应生成二氧化硅;氧气和氮气的流量分别为1000sccm和10slm,氧气和氮气的混合气体的通气时间为30min;
E:采用CF4、H2和CHF3的混合气体作为刻蚀气体在硅片正面的氧化层上进行RIE制绒;
F:采用HF和HNO3的混合酸对硅片正面进行腐蚀,去除RIE制绒后的损伤层;
G:在所述硅片正面采用PECVD的方法沉积氮化硅膜,形成氮化硅减反膜,氮化硅膜的折射率为2.5,厚度为200nm。
F:在硅片背面印刷背电极和铝背场;
G:在硅片正面印刷正电极浆料形成正电极;
H:对硅片进行烧结形成太阳能电池。
最后所应当说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本发明作了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (10)

1.一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一:对硅片进行双面抛光;
步骤二:在硅片正面进行高方阻磷扩散;
步骤三:去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结;
步骤四:在硅片正面生长氧化层;
步骤五:在硅片正面的氧化层上进行RIE制绒;
步骤六:去除RIE制绒后的损伤层;
步骤七:在所述硅片正面进行PECVD镀膜,形成氮化硅减反膜;
步骤八:在硅片背面印刷背电极和铝背场;
步骤九:在硅片正面印刷正电极浆料形成正电极;
步骤十:对硅片进行烧结形成太阳能电池。
2.如权利要求1所述一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤一采用NaOH溶液对硅片双面抛光,NaOH溶液的浓度为10%-30%。
3.如权利要求1所述一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤二中的高方阻磷扩散采用管式三氯氧磷扩散方法对硅片表面掺杂高方阻磷。
4.如权利要求1所述一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤三采用HF、H2SO4和HNO3的混合酸去除磷扩散形成的正面磷硅玻璃和周边PN结。
5.如权利要求1所述一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤四中的硅片正面氧化是采用炉管氧化方式,将硅片放置于扩散炉中通入氮气和氧气,升温至800-900℃后,硅片与氧气反应生成二氧化硅。
6.如权利要求5所述一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述氧气和氮气的流量分别为500-1000sccm和5-10slm,氧气和氮气的混合气体的通气时间为5-30min。
7.如权利要求1所述一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤五中的RIE制绒,采用CF4、H2和CHF3的混合气体作为刻蚀气体,在硅片表面形成针状绒面。
8.如权利要求1所述一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤六采用HF和HNO3的混合酸对硅片正面进行腐蚀,去除RIE制绒后的损伤层。
9.如权利要求1所述一种高效晶硅太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述步骤七采用PECVD的方法沉积氮化硅膜,氮化硅膜的折射率为2.0-2.5,厚度为50nm-200nm。
10.一种高效晶硅太阳能电池,其特征在于,其由权利要求1-9任一项所述的制备方法制得。
CN201510662815.0A 2015-10-14 2015-10-14 一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法 Pending CN105355707A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510662815.0A CN105355707A (zh) 2015-10-14 2015-10-14 一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510662815.0A CN105355707A (zh) 2015-10-14 2015-10-14 一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN105355707A true CN105355707A (zh) 2016-02-24

Family

ID=55331636

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510662815.0A Pending CN105355707A (zh) 2015-10-14 2015-10-14 一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105355707A (zh)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107393976A (zh) * 2017-08-02 2017-11-24 浙江晶科能源有限公司 一种n型双面太阳能电池片及其制作方法
CN108666243A (zh) * 2018-05-09 2018-10-16 永嘉利为新能源有限公司 一种单晶电池片的制绒方法
CN109390435A (zh) * 2018-12-03 2019-02-26 乐山新天源太阳能科技有限公司 用于太阳能电池抗pid设备的氮气和氧气单向混合装置
CN110148635A (zh) * 2019-04-28 2019-08-20 北京点域科技有限公司 一种降低表面复合减反膜电池的工艺流程
CN111554771A (zh) * 2019-01-24 2020-08-18 比亚迪股份有限公司 一种太阳能电池片的制备方法及一种太阳能电池片、一种太阳能电池
CN112582484A (zh) * 2020-12-15 2021-03-30 泰州隆基乐叶光伏科技有限公司 一种太阳能电池及其制作方法
CN113223953A (zh) * 2021-03-31 2021-08-06 青岛惠科微电子有限公司 一种快恢复芯片的制造方法、制造设备和快恢复芯片
CN114038920A (zh) * 2021-09-17 2022-02-11 普乐新能源科技(徐州)有限公司 一种超高效的交叉指式背接触异质结太阳电池
CN114277356A (zh) * 2021-12-23 2022-04-05 晋能清洁能源科技股份公司 多晶硅太阳能电池沉积氮化硅膜的方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090266415A1 (en) * 2006-06-27 2009-10-29 Liquidia Technologies , Inc. Nanostructures and materials for photovoltaic devices
CN101976703A (zh) * 2010-07-28 2011-02-16 常州天合光能有限公司 降低表面复合减反膜电池的工艺
CN103367542A (zh) * 2013-07-02 2013-10-23 浙江正泰太阳能科技有限公司 一种晶体硅太阳能电池及其制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090266415A1 (en) * 2006-06-27 2009-10-29 Liquidia Technologies , Inc. Nanostructures and materials for photovoltaic devices
CN101976703A (zh) * 2010-07-28 2011-02-16 常州天合光能有限公司 降低表面复合减反膜电池的工艺
CN103367542A (zh) * 2013-07-02 2013-10-23 浙江正泰太阳能科技有限公司 一种晶体硅太阳能电池及其制备方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107393976A (zh) * 2017-08-02 2017-11-24 浙江晶科能源有限公司 一种n型双面太阳能电池片及其制作方法
CN107393976B (zh) * 2017-08-02 2019-05-10 浙江晶科能源有限公司 一种n型双面太阳能电池片及其制作方法
CN108666243A (zh) * 2018-05-09 2018-10-16 永嘉利为新能源有限公司 一种单晶电池片的制绒方法
CN109390435A (zh) * 2018-12-03 2019-02-26 乐山新天源太阳能科技有限公司 用于太阳能电池抗pid设备的氮气和氧气单向混合装置
CN109390435B (zh) * 2018-12-03 2024-01-26 乐山新天源太阳能科技有限公司 用于太阳能电池抗pid设备的氮气和氧气单向混合装置
CN111554771A (zh) * 2019-01-24 2020-08-18 比亚迪股份有限公司 一种太阳能电池片的制备方法及一种太阳能电池片、一种太阳能电池
CN110148635A (zh) * 2019-04-28 2019-08-20 北京点域科技有限公司 一种降低表面复合减反膜电池的工艺流程
CN112582484A (zh) * 2020-12-15 2021-03-30 泰州隆基乐叶光伏科技有限公司 一种太阳能电池及其制作方法
CN113223953A (zh) * 2021-03-31 2021-08-06 青岛惠科微电子有限公司 一种快恢复芯片的制造方法、制造设备和快恢复芯片
CN114038920A (zh) * 2021-09-17 2022-02-11 普乐新能源科技(徐州)有限公司 一种超高效的交叉指式背接触异质结太阳电池
CN114038920B (zh) * 2021-09-17 2024-01-26 普乐新能源科技(泰兴)有限公司 一种超高效的交叉指式背接触异质结太阳电池
CN114277356A (zh) * 2021-12-23 2022-04-05 晋能清洁能源科技股份公司 多晶硅太阳能电池沉积氮化硅膜的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105355707A (zh) 一种高效晶硅太阳能电池及其制备方法
US20240097056A1 (en) Efficient Back Passivation Crystalline Silicon Solar Cell and Manufacturing Method Therefor
KR102195596B1 (ko) 관상의 perc 양면 태양전지 및 그 제조방법과 전용장치
CN108963005B (zh) 一种新型复合结构全背面异质结太阳电池及制备方法
CN106992229A (zh) 一种perc电池背面钝化工艺
WO2020238199A1 (zh) 一种双面钝化接触的p型高效电池及其制备方法
CN103887347B (zh) 一种双面p型晶体硅电池结构及其制备方法
CN110581198A (zh) 一种局域接触钝化太阳电池及其制备方法
CN110265497B (zh) 一种选择性发射极的n型晶体硅太阳电池及其制备方法
CN106711239A (zh) Perc太阳能电池的制备方法及其perc太阳能电池
CN105810779B (zh) 一种perc太阳能电池的制备方法
CN109616528B (zh) 一种太阳能电池选择性发射极的制备方法
CN101548395A (zh) 具有改进的表面钝化的晶体硅太阳能电池的制造方法
CN110854240A (zh) Perc电池及其制备方法
CN109802008B (zh) 一种高效低成本n型背结pert双面电池的制造方法
KR20160090287A (ko) 나노구조의 실리콘계 태양 전지 및 나노구조의 실리콘계 태양 전지의 제조 방법
CN209592050U (zh) 一种具有钝化层结构的太阳电池
CN102403369A (zh) 一种用于太阳能电池的钝化介质膜
CN105097963A (zh) 一种选择性制绒晶硅太阳能电池及其制备方法
CN102751371A (zh) 一种太阳能薄膜电池及其制造方法
WO2020220394A1 (zh) 一种双面发电太阳能电池及其制备方法
CN102983214B (zh) 一种选择性发射极晶体硅太阳电池的制备方法
CN116741871A (zh) 一种扩硼SE结构的N型TOPCon电池制作方法
CN103094417A (zh) 低高低掺杂浓度的发射极结构的太阳能电池制作方法
CN205104495U (zh) 一种高效晶硅太阳能电池

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20160224