CN105283422B - 超纯水制造***、超纯水制造供给***及其洗涤方法 - Google Patents
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Abstract
在进行杀菌洗涤时,不会将超纯水制造***内的污染物质供给至通往水使用点的供给配管,并且在进行杀菌洗涤后会防止由微粒子去除膜所捕捉到的污染物质所造成的***污染,而在短时间内将水质良好的超纯水供给至水使用点(Usepoint)。在至少具备:储槽(11)、泵(12)、热交换器(13)、紫外线装置(14)、离子交换装置(15)、及第1微粒子去除膜装置(16)的超纯水制造***中,将第2微粒子去除膜装置(17)设置成与该第1微粒子去除膜装置(16)呈并列,并且将杀菌水及冲洗水的一部分供给至第1微粒子去除膜装置(16),而不穿透薄膜来从给水侧朝浓缩水侧排出,剩余部分则会通过第2微粒子去除膜装置(17)。
Description
技术领域
本发明涉及一种超纯水制造***、超纯水制造供给***及其洗涤方法。更详细地说,本发明涉及一种在进行杀菌洗涤工程后,能够在短时间将水质良好的超纯水供给至水使用点(Usepoint)的超纯水制造***及其洗涤方法、与超纯水制造供给***及其洗涤方法。
背景技术
在电子产业领域中,使用超纯水作为部件的洗涤水。适用于半导体制造工厂、及晶片制造工厂的超纯水水质十分严格,例如电阻率(比电阻值)为:18.2MΩ·cm以上,微粒子为:粒径在50nm以上的微粒子为100个以下、以及粒径在20nm以上的微粒子为1000个以下,生菌为:1个/L以下,TOC(Total Organic Carbon,总有机碳)为:0.5μg/L以下,全硅为:0.05μg/L以下,金属类为:0.1ng/L以下,离子类为:5ng/L以下。
在进行超纯水制造***的工程(新建、增建、改建)或进行维护时,混入至***内的空气中的尘粒、硅石、铝等的微粒子,或细菌的尸体、铁锈等的水中所含的粒子,甚至在制造步骤中所产生的薄膜或配管等切屑等所形成的微粒子会残留在***内。将该微粒子朝***外排除后,再通过碱性溶液进行洗涤来使得超纯水中的粒径在50nm以上的微粒子为1000个/L以下(专利文献1)。
专利文献2、3中,记载了一种用于抑制超纯水中的生菌的超纯水制造***的杀菌方法。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本特开2000-317413号公报
[专利文献2]日本特开2002-166283号公报
[专利文献3]日本特开2004-275881号公报
发明内容
[发明要解决的课题]
通过上述现有技术所进行的杀菌洗涤法会有以下问题。
i)在进行杀菌洗涤时,利用超纯水制造***内的微粒子去除膜来捕捉超纯水制造***内的废弃物(污染物质)。捕捉到的污染物质从膜面剥落而混入至水中所造成的二次污染会长时间地持续产生。因此,在进行杀菌洗涤后,无法在短时间内将水质良好的超纯水供给至水使用点。
ii)当为了避免上述问题而不设置微粒子去除膜来进行杀菌洗涤时,超纯水制造***内的污染物质会被供给至用以将超纯水运送至水使用点的供给配管。因此,在进行杀菌洗涤后,仍然无法获得在短时间内将水质良好的超纯水供给至水使用点的功效。
本发明为了解决上述现有技术的问题点,其目的为提供一种超纯水制造***及其制造方法、与超纯水制造供给***及其洗涤方法,在进行杀菌洗涤时,不会将超纯水制造***内的污染物质供给至通往水使用点的供给配管,并且在进行杀菌洗涤后,能够防止***被微粒子去除膜所捕捉到的污染物质污染,而能够在短时间内供给水质良好的超纯水至水使用点(Usepoint)。
[解决课题的手段]
本发明者们,为了解决上述课题而反复勤勉不懈地进行研讨后,结果发现通过下述方法能够解决上述课题:除设置在超纯水制造***内的第1微粒子去除膜装置之外,另行设置第2微粒子去除膜装置,在进行杀菌洗涤时及杀菌洗涤后的冲洗洗涤时,使杀菌水及冲洗水通过第2微粒子去除膜装置,而关于第1微粒子去除膜装置则是不使洗涤水穿透薄膜而仅在给水侧进行洗涤,或不使洗涤水通过第1微粒子去除膜装置而是与已事先完成杀菌处理的微粒子去除膜进行交换。
本发明是依据上述认识而开发完成的,以下为其主旨。
[1]一种超纯水制造***的洗涤方法,是使杀菌水及冲洗水分别通过至少具备:储槽、泵、热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置的超纯水制造***,来进行该超纯水制造***的杀菌洗涤、及杀菌洗涤后的冲洗洗涤的超纯水制造***的洗涤方法,其特征为:将第2微粒子去除膜装置设置成与该第1微粒子去除膜装置呈并列,并且进行下述(I-1)~(I-3)的任一洗涤工序,而在进行该洗涤工序后,不使水通过该第2微粒子去除膜装置,而是使水通过前述热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置来进行超纯水的制造。
(I-1)将杀菌水及冲洗水的一部分供给至前述第1微粒子去除膜装置后,不使其穿透该第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜,而是使其从该第1微粒子去除膜装置的给水侧朝浓缩水侧排出,剩余部分则会通过前述第2微粒子去除膜装置。
(I-2)使杀菌水及冲洗水全部通过前述第2微粒子去除膜装置,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与前述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜进行交换。
(I-3)将前述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜与配管进行交换,在使杀菌水及冲洗水的一部分通过该第1微粒子去除膜装置,并且使剩余部分通过前述第2微粒子去除膜装置后,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与该第1微粒子去除膜装置的配管进行交换。
[2]一种超纯水制造***的洗涤方法,是使杀菌水及冲洗水分别通过至少具备:储槽、泵、热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置的超纯水制造***,来进行该超纯水制造***的杀菌洗涤、及杀菌洗涤后的冲洗洗涤的超纯水制造***的洗涤方法,其特征为:在该超纯水制造***的最终泵与该第1微粒子去除膜装置之间将第2微粒子去除膜装置设置成可绕过该第2微粒子去除膜装置来进行流水处理,并且进行下述(II-1)~(II-3)的任一洗涤工序,在进行该洗涤工序后,使水绕过该第2微粒子去除膜装置而通过前述热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置来进行超纯水的制造。
(II-1)设置用以绕过前述第1微粒子去除膜装置的旁通配管,使杀菌水及冲洗水通过前述第2微粒子去除膜装置,再将穿透该第2微粒子去除膜装置的水的一部分供给至该第1微粒子去除膜装置,并且不使其穿透该第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜,而是使其从该第1微粒子去除膜装置的给水侧朝浓缩水侧排出,剩余部分则会通过前述旁通配管。
(II-2)设置用以绕过前述第1微粒子去除膜装置的旁通配管,使杀菌水及冲洗水通过前述第2微粒子去除膜装置与该旁通配管,并且利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与该第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜进行交换。
(II-3)将前述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜与配管进行交换后,再使杀菌水及冲洗水通过前述第2微粒子去除膜装置与该第1微粒子去除膜装置,其后,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与该第1微粒子去除膜装置的配管进行交换。
[3]一种超纯水制造***的洗涤方法,是使杀菌水及冲洗水分别通过至少具备:储槽、泵、热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置的超纯水制造***,来进行该超纯水制造***的杀菌洗涤、及杀菌洗涤后的冲洗洗涤的超纯水制造***的洗涤方法,其特征为:在该第1微粒子去除膜装置的后段将第2微粒子去除膜装置设置成可绕过该第2微粒子去除膜装置来进行流水处理,并且进行下述(III-1)~(III-3)的任一洗涤工序,在进行该洗涤工序后,使水绕过该第2微粒子去除膜装置而通过前述热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置来进行超纯水的制造。
(III-1)设置用以绕过前述第1微粒子去除膜装置的旁通配管,将杀菌水及冲洗水的一部分供给至该第1微粒子去除膜装置后,不使其穿透该第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜,而是使其从该第1微粒子去除膜装置的给水侧朝浓缩水侧排出,剩余部分则会在通过前述旁通配管后通过前述第2微粒子去除膜装置。
(III-2)设置用以绕过前述第1微粒子去除膜装置的旁通配管,使杀菌水及冲洗水通过该旁通配管与前述第2微粒子去除膜装置,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与前述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜进行交换。
(III-3)将前述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜与配管进行交换后,使杀菌水及冲洗水通过该第1微粒子去除膜装置与前述第2微粒子去除膜装置,其后,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与该第1微粒子去除膜装置的配管进行交换。
[4]在第[1]至[3]项中任一项所述的超纯水制造***的洗涤方法中,前述事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜,为在通过氧化剂含有水、有机系溶液、及热水中的任1种以上的杀菌水进行杀菌洗涤后,且在设置到前述超纯水制造***前,将该微粒子去除膜内的该杀菌水置换成超纯水的微粒子去除膜。
[5]在第[4]项所述的超纯水制造***的洗涤方法中,在利用超纯水与前述微粒子去除膜内的杀菌水进行置换后,在6个月以内设置在前述超纯水制造***中。
[6]在第[1]至[5]项中任一项所述的超纯水制造***的洗涤方法中,前述杀菌洗涤及冲洗洗涤通过组合碱性洗涤和/或酸性洗涤来进行。
[7]一种超纯水制造供给***的洗涤方法,是使杀菌水及冲洗水分别通过具备下述构造所组成的超纯水制造供给***:超纯水制造***,至少具备储槽、泵、热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置;供给配管,将利用该超纯水制造***制造而成的超纯水供给至水使用点;以及返送配管,将该水使用点的剩余水返送至超纯水制造***,来进行该超纯水制造供给***的杀菌洗涤、及杀菌洗涤后的冲洗洗涤的超纯水制造供给***的洗涤方法,其特征为:通过权利要求1至6中任一项所记载的超纯水制造***的洗涤方法来洗涤该超纯水制造***,并且使前述洗涤工序中穿透前述第2微粒子去除膜装置的杀菌水及冲洗水在通过该供给配管与返送配管后朝***外部排出。
[发明效果]
依据本发明,在进行杀菌洗涤时及杀菌洗菌后的冲洗洗涤时,在原本设置于超纯水制造***内的第1微粒子去除膜装置中不使洗涤水穿透薄膜,而是在仅对给水侧进行洗涤后朝***外部排出,或不使洗涤水通过第1微粒子去除膜装置而是与事先完成杀菌处理的微粒子去除膜进行交换。藉此,可解决污染物质从第1微粒子去除膜装置剥离而对***内造成污染的前述i)的问题。
在进行杀菌洗涤时及杀菌洗涤后的冲洗洗涤时,使杀菌水及冲洗水通过第2微粒子去除膜装置,并且将穿透该第2微粒子去除膜装置的水输送至通往水使用点的供给配管。因此,不会将污染物质供给至该供给配管,也可解决前述ii)的问题。
依据本发明的洗涤方法,在进行杀菌洗涤后,能够在短时间内将水质良好的超纯水供给至水使用点。
附图说明
图1是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图2是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图3是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图4是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图5a是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图5b是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图5c是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图5d是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图5e是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图5f是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图6是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图7是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图8是第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图9是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图10是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图11是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图12a是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图12b是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图12c是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图12d是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图12e是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图12f是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图13是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图14是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图15是第2实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图16是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图17是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图18是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图19是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图20a是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图20b是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图20c是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图20d是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图20e是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图20f是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图21是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图22是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
图23是第3实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的***图。
具体实施方式
以下,参照图式来更加具体地说明本发明。
再者,本发明的纯水、及超纯水具有以下水质。
1次纯水:电阻率10MΩ·cm以上
TOC 100μg/L以下
超纯水:电阻率15MΩ·cm以上
TOC 1μg/L以下
金属类1ng/L以下
[第1实施方式]
图1是超纯水制造***及超纯水制造供给配管***的***图,用以说明本发明的第1实施方式所示的超纯水制造***及超纯水制造供给***的洗涤方法。
超纯水制造***1具有:储槽11、泵12、热交换器13、紫外线装置(紫外线氧化装置)14、离子交换装置15、第1微粒子去除膜装置16。上述装置利用配管或管件来连接。在不同情况下,亦可在泵12与第1微粒子去除膜装置16之间组装含有逆渗透(RO)膜的膜分离装置、脱气装置、氧化剂去除装置、与泵12相异的泵、以及与离子交换装置15相异或相同的离子交换装置。紫外线装置14,是依据对超纯水的水质要求而由低压紫外线氧化装置,或紫外线杀菌装置中的任一个所组成。微粒子去除膜装置,是依据对超纯水的水质要求与杀菌条件而由超过滤膜装置(UF)、精密过滤膜装置(MF)、以及逆渗透膜装置(RO)中的任一个所组成。
本实施方式中,设置有使得紫外线装置14的流出配管14b与离子交换装置15的流出配管15b产生短路的旁通配管15a,用以绕开离子交换装置15。虽然省略图式,但亦可在热交换器13、及紫外线装置14组装旁通配管。
设置有旁通配管16a、第2微粒子去除膜装置17、及旁通配管16b,来绕开第1微粒子去除膜装置16。旁通配管16b的最下游侧连接有第1排出配管16c。
超纯水供给配管***2,由超纯水的使用点(Usepoint)3、及超纯水的流路(配管或管件)21、22所组成。流路22的最尾端部,设置有第2排出配管22a(图4、图5d~5f、图7、图8)。
在配管21、22之间设置有旁通配管2a,用以绕开水使用点3。虽然省略图式,但在各配管或管件的分歧部或合流部设置有用以切换流路的阀。
在稳定运转的状态下,如图1所示,将从1次纯水4及超纯水供给配管22送回的超纯水接收至储槽11。利用泵12对储槽11内的水(超纯水的原水)进行输送,再通过依序利用热交换器13、紫外线装置14、离子交换装置15、及第1微粒子去除膜装置16进行处理来制造超纯水。
1次纯水例如在利用逆渗透(RO)膜装置对完成前处理的原水进行处理后,再利用离子交换装置进行处理,且进一步地再利用逆渗透膜进行处理而能够获得。1次纯水为利用多床式离子交换装置对完成前处理的原水进行处理后,再利用逆渗透(RO)膜装置、紫外线装置、离子交换装置、脱气装置进行处理亦可获得。
利用超纯水制造***1所制造而成的超纯水会经由流路21被输送至水使用点3并且其一部分会被使用,而未使用的超纯水则会经由流路22送回超纯水制造***1。
[洗涤步骤的一例]
在进行超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的洗涤杀菌或杀菌时,以图2→图3→图4→图5a~图5c→图5d~图5f→图3→图4→图6→图5a~图5c→图4→图7→图8的顺序进行流水处理。在各图中,以粗的实线所表示的配管或管件显示有水流动于内,而以细的实线所表示的配管或管件则显示未有水流动于内。
<图2:第2微粒子去除膜装置的洗涤>
首先,如图2所示,将从第1微粒子去除膜装置16所获得的超纯水与图1相同地供给至使用点3,再一边将剩余的水送回至储槽11,一边从旁通配管16a将离子交换装置15的流出水的一部分供给至未安装有薄膜的微粒子去除膜装置17,并且从排出配管16c朝***外将其排出来进行定时排出。在电阻率形成为18MΩ·cm以上之后,再将微粒子去除膜安装至第2微粒子去除膜装置17。
<图3:碱性洗涤>
测定来自排出配管16c的排出水中的微粒子,且确认其微粒子数在规定数以下(例如50nm以上的微粒子为500个/L以下)后,再对超纯水制造***1与超纯水供给配管***2进行碱性洗涤。如图3所示,对阀进行选择(切换流路)来使水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15、及第1微粒子去除膜装置16而流动。储槽11的水位是“低位准”并且是利用泵未停止的最低高度来进行调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开阀使得液体也流动在上述配管。另外,会些微打开阀使得液体也会流动在超纯水供给配管***2的旁通配管2a。排出配管16c设定为关闭。
其后,将碱性溶液注入储槽11并且使用泵12使其如图3所示般地在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环,使得来自超纯水制造***的流出水形成为pH9以上的碱性溶液。该碱性洗涤时间为0.5Hr以上,特别是1~2Hr左右为佳。
<图4:冲洗>
其次,如图4所示,将1次纯水4供给至储槽11并且开启从配管22的最末端(比起与旁通管2a的合流部更靠下游侧)分歧的第2排出配管22a,将流回的水排出至***外并且利用1次纯水4将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内的碱性溶液朝***外压出来进行冲洗。
<图5a~5c:杀菌洗涤>
在确认该冲洗排水(来自排出配管22a的排出水)的pH值在8以下和/或电阻率在10MΩ·cm以上之后,移转至如图5a、图5b或图5c所示的通过杀菌水对超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内所进行的杀菌洗涤。
<图5a:杀菌洗涤方法1>
如图5a所示,选择阀使得水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15而通过第1微粒子去除膜装置16与第2微粒子去除膜装置17双方,并且使得流入薄膜的给水侧(一次侧)的杀菌水在第1微粒子去除膜装置16不穿透薄膜,而是从浓缩水配管16d朝***外排出,藉此进行储槽11的水位调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开该管线。
些微打开阀使得杀菌水也会流动在超纯水制造供给***2的旁通管2a。排出配管16c设定为关闭。之后,依据所需利用热交换器13将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的超纯水加热至所需温度使其形成为杀菌水,再将过氧化氢注入储槽11并且使用泵12使其在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环。
在该杀菌洗涤中,虽然不会使杀菌水穿透第1微粒子去除膜装置16而是仅对薄膜的给水侧进行杀菌洗涤,但通过供给至薄膜的给水侧的杀菌水,其一部分会浸出薄膜的二次侧(穿透侧)也能对薄膜的二次侧进行杀菌。
<图5b:杀菌洗涤方法2>
如图5b所示,选择阀使得水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15、及第1微粒子去除膜装置16而通过第2微粒子去除膜装置17,来进行储槽11的水位调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开该管线。些微打开阀使得杀菌水也会流动在超纯水制造供给***2的旁通配管2a。排出配管16c设定为关闭。之后,依据所需利用热交换器13将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的超纯水加热至所需温度使其形成为杀菌水,再将过氧化氢注入储槽11并且使用泵12使其在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环。
<图5c:杀菌洗涤方法3>
在将第1微粒子去除膜装置16的微粒子去除膜与配管交换后,如图5c所示,选择阀使得水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15而通过第1微粒子去除膜装置16、及第2微粒子去除膜装置17双方,来进行储槽11的水位调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开该管线。些微打开阀使得杀菌水也会流动在超纯水制造供给***2的旁通管2a。排出配管16c设定为关闭。之后,依据所需利用热交换器13将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的超纯水加热至所需温度使其形成为杀菌水,再将过氧化氢注入储槽11并且使用泵12使其在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环。
通过上述杀菌洗涤方法1~3所进行的杀菌洗涤优选进行0.5Hr以上,特别是1~2Hr。
<图5d~图5f:冲洗>
其次,在图5a所示的杀菌洗涤方法1的情况如图5d所示,在图5b所示的杀菌洗涤方法2的情况如图5e所示,在图5c所示的杀菌洗涤方法3的情况如图5f所示,各自将1次纯水4供给至储槽11并且开启从配管22的最末端(比起与旁通管2a的合流部更靠下游侧)分歧的第2排出配管22a,再利用1次纯水4将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内的杀菌水朝***外压出。持续进行该冲洗直至从排出配管22a排出的冲洗水的过氧化氢浓度形成为1mg/L以下为止。
进行上述冲洗洗涤后,在采用图5b的杀菌洗涤方法2的情况下,将第1微粒子去除膜装置16的微粒子去除膜与事先完成杀菌处理的微粒子去除膜进行交换。再者,上述膜交换也可以在进行杀菌及冲洗洗涤前进行。并且,进行上述冲洗洗涤后,在采用图5c的杀菌洗涤方法3的情况下,将第1微粒子去除膜装置16的配管与事先完成杀菌处理的微粒子去除膜进行交换。
<图3:第2次碱性洗涤>
在结束冲洗后,再次如图3所示进行碱性洗涤(第2次碱性洗涤)。该洗涤方法与第1次的碱性洗涤相同。
<图4:冲洗>
在第2次碱性洗涤后,如图4所示进行冲洗。该冲洗方法与前述冲洗方法相同。
<图6及图5a~图5c:第2次杀菌洗涤>
上述冲洗结束后,进行通过过氧化氢所进行的第2次杀菌洗涤。在进行该第2次杀菌洗涤时的前半段的流水处理方法依据图6来进行。
虽然上述图6的流水处理方法,基本上与图5a~图5c相同,但与图5a~图5c相异处为:来自旁通配管15a的过氧化氢含有水不仅通过第2微粒子去除膜装置17,也通过第1微粒子去除膜装置16。其他的流水处理条件则是与图5a~图5c相同。该图6的杀菌洗涤优选进行0.5Hr以上,特别是0.5~1Hr左右。
在进行该图6的杀菌洗涤之后,转移至前述图5a~图5c的杀菌洗涤,优选进行1~24Hr特别是2~12Hr左右的杀菌洗涤。
<图4:冲洗>
接着,通过图4所示的方法进行冲洗。该冲洗的流水处理条件与前述冲洗的情况相同。
<图7:第1次完工>
其次,进行如图7所示的第1次完工流水处理。虽然该第1次完工流水处理大致与图4所示的冲洗流水处理相同,但与冲洗步骤相异处为:来自紫外线装置14的流出水不仅通过旁通配管15a,也会通过离子交换装置15,其他则与图4所示的冲洗的情况相同。
<第2次完工>
其次,进行如图8所示的第2次完工流水处理。该第2次完工流水处理,其下述1)~3)点与图7的第1次完工流水处理相异,其他则与第1次完工流水处理相同。
1)不使紫外线氧化装置14的流出水通过旁通配管15a,而是仅通过离子交换装置15。
2)使离子交换装置15的流出水通过第1微粒子去除膜装置16及第2微粒子去除膜装置17双方。
3)不使来自微粒子去除膜装置16、17的水通过水使用点2而是使其全部流通至旁通配管2a。
该第2次完工流水处理持续进行至使来自排出配管22a的流出水的水质达到作为目标的超纯水水质为止。在结束该第2次完工流水处理后,返回图1的稳定运转。
[第2实施方式]
图9~图15表示本发明的第2实施方式。
图9~图15所示的第2实施方式,其超纯水制造***1及超纯水供给配管***2除了将第2微粒子去除膜装置17设置在离子交换装置15的旁通配管15c、15d、及将排出配管16c设置在旁通配管15d之外,其他与图1的构造相同。
图9~图15中,赋予离子交换装置15的旁通配管中比第2微粒子去除膜装置17更靠上游侧的配管组件符号15c,并且赋予比第2微粒子去除膜装置17更靠下游侧的配管组件符号15d。图9~图15的其他组件符号则表示与图1~图8相同的部分。
在稳定运转状态时,与图1相同地利用泵12对储槽11内的水(超纯水的原水)进行输送,再通过依序利用热交换器13、紫外线装置14、离子交换装置15、及第1微粒子去除膜装置16进行处理来制造超纯水。利用超纯水制造***1所制造的超纯水会经由流路21被输送至水使用点3并且其一部分被使用,而未使用的超纯水则经由流路22流回超纯水制造***1。
[洗涤步骤的一例]
在进行超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的洗涤杀菌或杀菌时,以图9→图10→图11→图12a~图12c→图12d~图12f→图10→图11→图13→图12a~图12c→图11→图14→图15的顺序进行流水处理。在各图中,以粗的实线所表示的配管或管件显示有水流动于内,而以细的实线所表示的配管或管件则显示未有水流动于内。
<图9:第2微粒子去除膜装置的洗涤>
如图9所示,将从第1微粒子去除膜装置16所获得的超纯水与图2相同地供给至使用点3,再一边将剩余的水送回至储槽11,一边从旁通配管15c将紫外线装置14的流出水的一部分供给至未安装有薄膜的微粒子去除膜装置17,并且从排出配管16c朝***外将其排出来进行定时排出。在电阻率形成为18MΩ·cm以上之后,再将微粒子去除膜安装至第2微粒子去除膜装置17。
<图10:碱性洗涤>
测定来自排出配管16c的排出水中的微粒子,且确认其微粒子数在规定数以下(例如50nm以上的微粒子为500个/L以下)后,再对超纯水制造***1与超纯水供给配管***2进行碱性洗涤。如图10所示,对阀进行选择(切换流路)来使水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15、及第1微粒子去除膜装置16而流动。储槽11的水位是“低位准”并且是利用泵未停止的最低高度来进行调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开阀使得液体也流动在上述配管。会些微打开阀使得液体也会流动在超纯水供给配管***2的旁通管2a。排出配管16c设定为关闭。
其后,将碱性溶液注入储槽11并且使用泵12使其如图10所示般地在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环,使得来自超纯水制造***1的流出水形成为pH9以上的碱性溶液。该碱性洗涤时间为0.5Hr以上,特别是1~2Hr左右为佳。
<图11:冲洗>
其次,如图11所示,将1次纯水4供给至储槽11并且开启从配管22的最末端(比起与旁通管2a的合流部更靠下游侧)分歧的第2排出配管22a,将流回的水排出至***外并且利用1次纯水4将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内的碱性溶液朝***外压出来进行冲洗。
<图12a~图12c:杀菌洗涤>
在确认该冲洗排水(来自排出配管22a的排出水)的pH值在8以下和/或电阻率在10MΩ·cm以上后,移转至如图12a、图12b或图12c所示的通过杀菌水对超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内进行的杀菌洗涤。
<图12a:杀菌洗涤方法1>
如图12a所示,选择阀使得水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15而通过第2微粒子去除膜装置17,再将水供给至旁通配管16a、16b与第1微粒子去除膜装置16双方,并且使得流入薄膜的给水侧(一次侧)的杀菌水在第1微粒子去除膜装置16不会穿透薄膜,而会从浓缩水配管16d朝***外排出,藉此进行储槽11的水位调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开该管线。
些微打开阀使得杀菌水也会流动在超纯水制造供给***2的旁通配管2a。排出配管16c设定为关闭。之后,依据所需利用热交换器13将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的超纯水加热至所需温度使其形成为杀菌水,再将过氧化氢注入储槽11并且使用泵12使其在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环。
在该杀菌洗涤中,虽然不会使杀菌水穿透第1微粒子去除膜装置16而是仅对薄膜的给水侧进行杀菌洗涤,但通过供给至薄膜的给水侧的杀菌水,其一部分会浸出薄膜的二次侧(穿透侧)也能对薄膜的二次侧进行杀菌。
<图12b:杀菌洗涤方法2>
如图12b所示,选择阀使得水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15而通过第2微粒子去除膜装置17,并且使水绕过第1微粒子去除膜装置16而通过旁通配管16a、16b,来进行储槽11的水位调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开该管线。些微打开阀使得杀菌水也会流动在超纯水制造供给***2的旁通配管2a。排出配管16c设定为关闭。之后,依据所需利用热交换器13将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的超纯水加热至所需温度使其形成为杀菌水,再将过氧化氢注入储槽11并且使用泵12使其在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环。
<图12c:杀菌洗涤方法3>
在将第1微粒子去除膜装置16的微粒子去除膜与配管交换后,如图12c所示,选择阀使得水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15而通过第2微粒子去除膜装置17,再通过第1微粒子去除膜装置16与旁通配管16a、16b双方,来进行储槽11的水位调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开该管线。些微打开阀使得杀菌水也会流动在超纯水制造供给***2的旁通配管2a。排出配管16c设定为关闭。之后,依据所需利用热交换器13将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的超纯水加热至所需温度使其形成为杀菌水,再将过氧化氢注入储槽11并且使用泵12使其在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环。
通过上述杀菌洗涤方法1~3所进行的杀菌洗涤优选进行0.5Hr以上,特别是1~2Hr。
<图12d~图12f:冲洗>
其次,在图12a所示的杀菌洗涤方法1的情况如图12d所示,在图12b所示的杀菌洗涤方法2的情况如图12e所示,在图12c所示的杀菌洗涤方法3的情况如图12f所示,各自将1次纯水4供给至储槽11并且开启从配管22的最末端(比起与旁通管2a的合流部更靠下游侧)分歧的第2排出配管22a,再利用1次纯水4将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内的杀菌水朝***外压出。持续进行该冲洗直至由排出配管22a排出的冲洗水的过氧化氢浓度形成为1mg/L以下为止。
进行上述冲洗洗涤后,在采用图12b的杀菌洗涤方法2的情况下,将第1微粒子去除膜装置16的微粒子去除膜与事先完成杀菌处理的微粒子去除膜进行交换。上述膜交换也可以在进行杀菌及冲洗洗涤前进行。进行上述冲洗洗涤后,在采用图12c的杀菌洗涤方法3的情况下,将第1微粒子去除膜装置16的配管与事先完成杀菌处理的微粒子去除膜进行交换。
<图10:第2次碱性洗涤>
在结束冲洗后,再次进行如图10所示进行的碱性洗涤(第2次碱性洗涤)。该洗涤方法与第1次的碱性洗涤相同。
<图11:冲洗>
在第2次碱性洗涤后,如图11所示进行冲洗。该冲洗方法与前述冲洗方法相同。
<图13及图12a~图12c:第2次杀菌洗涤>
上述冲洗结束后,进行通过过氧化氢所进行的第2次杀菌洗涤。在进行该第2次杀菌洗涤时的前半段的流水处理方法依据图13来进行。
虽然上述图13的流水处理方法,基本上与图12a~图12c相同,但与图12a~图12c相异处为:来自旁通配管15d的过氧化氢含有水不仅通过旁通配管16a、16b,也通过第1微粒子去除膜装置16。其他的流水处理条件则与图12a~图12c相同。该图13的杀菌洗涤优选进行0.5Hr以上,特别是0.5~1Hr左右。
在进行该图13的杀菌洗涤之后,转移至前述图12a~图12c的杀菌洗涤,优选进行1~24Hr特别是2~12Hr左右的杀菌洗涤。
<图11:冲洗>
接着,通过图11所示的方法进行冲洗。该冲洗的流水处理条件与前述冲洗的情况相同。
<图14:第1次完工>
其次,进行如图14所示的第1次完工流水处理。虽然该第1次完工流水处理大致与图11所示的冲洗流水处理相同,但与冲洗步骤相异处为:来自紫外线装置14的流出水不仅通过微粒子去除膜装置17,也会通过离子交换装置15,其他则与图11所示的冲洗的情况相同。
<第2次完工>
其次,进行如图15所示的第2次完工流水处理。上述第2次完工流水处理,其下述1)~3)点与图14的第1次完工流水处理相异,其他则与第1次完工流水处理相同。
1)不使紫外线氧化装置14的流出水通过微粒子去除膜装置17,而是仅通过离子交换装置15。
2)使离子交换装置15的流出水通过第1微粒子去除膜装置16及旁通配管16a、16b双方。
3)不使来自微粒子去除膜装置16的水通过使用点3而是使其全部流通至旁通配管2a。
该第2次完工流水处理持续进行至使来自排出配管22a的流出水的水质达到作为目标的超纯水水质为止。在结束该第2次完工流水处理后,返回稳定运转。
[第3实施方式]
图16~图23表示本发明的第3实施方式。
图16~图23所示的第3实施方式,其超纯水制造***1及超纯水供给配管***2除了经由旁通配管16a、16b将第2微粒子去除膜装置17设置在第1微粒子去除膜装置16的后段的配管20、及设置用以绕开第1微粒子去除膜装置16的旁通配管16e之外,其他与图1的构造相同。下述的杀菌洗涤中,在采用第3杀菌洗涤方法的情况时,不需要上述旁通配管16e。图16~图23的其他组件符号表示与图1~图8相同的部分。
在稳定运转的状态下,如图16所示,将从1次纯水4及超纯水供给配管22送回的超纯水接收至储槽11。利用泵12对储槽11内的水(超纯水的原水)进行输送,再通过依序利用热交换器13、紫外线装置14、离子交换装置15、及第1微粒子去除膜装置16进行处理来制造超纯水。
[洗涤步骤的一例]
在进行超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的洗涤杀菌或杀菌时,以图17→图18→图19→图20a~图20c→图20d~图20f→图18→图19→图21→图20a~图20c→图19→图22→图23的顺序进行流水处理。在各图中,以粗的实线所表示的配管或管件显示有水流动于内,而以细的实线所表示的配管或管件则显示未有水流动于内。
<图17:第2微粒子去除膜装置的洗涤>
首先,如图17所示,将从第1微粒子去除膜装置16所获得的超纯水与图2相同地供给至使用点3,再一边将剩余的水送回至储槽11,一边从旁通配管16a将紫外线装置14的流出水的一部分供给至未安装有薄膜的微粒子去除膜装置17,并且从排出配管16c朝***外将其排出来进行定时排出。在电阻率形成为18MΩ·cm以上之后,再将微粒子去除膜安装至第2微粒子去除膜装置17。
<图18:碱性洗涤>
测定来自排出配管16c的排出水中的微粒子,且确认其微粒子数在规定数以下(例如50nm以上的微粒子在500个/L以下)后,再对超纯水制造***1与超纯水供给配管***2进行碱性洗涤。如图18所示,对阀进行选择(切换流路)来使液体绕过超纯水制造***1的离子交换装置15、及第1微粒子去除膜装置16而流动,并且使液体流动在配管20、及第2微粒子去除膜装置17双方。储槽11的水位是“低位准”并且是利用泵未停止的最低高度来进行调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开阀使得碱性溶液也流动在上述配管。会些微打开阀使得液体也会流动在超纯水供给配管***2的旁通管2a。排出配管16c设定为关闭。
其后,将碱性溶液注入储槽11并且使用泵12使其如图18所示般地在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环,使得来自超纯水制造***1的流出水形成为pH9以上的碱性溶液。该碱性洗涤时间为0.5Hr以上,特别是1~2Hr左右为佳。
<图19:冲洗>
其次,如图19所示,将1次纯水4供给至储槽11并且开启从配管22的最末端(比起与旁通管2a的合流部更靠下游侧)分歧的第2排出配管22a,将流回的水排出至***外并且利用1次纯水4将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内的碱性溶液朝***外压出来进行冲洗。
<图20a~图20c:杀菌洗涤>
在确认该冲洗排水(来自排出配管22a的排出水)的pH值在8以下和/或电阻率在10MΩ·cm以上之后,移转至如图20a、图20b或图20c所示的通过杀菌水对超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内所进行的杀菌洗涤。
<图20a:杀菌洗涤方法1>
如图20a所示,选择阀使得水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15而供给至第1微粒子去除膜装置16与旁通配管16e双方,并且使得流入薄膜的给水侧(一次侧)的杀菌水在第1微粒子去除膜装置16不会穿透薄膜,而会从浓缩水配管16d朝***外排出,另外也会通过配管20与第2微粒子去除膜装置17双方,藉此进行储槽11的水位调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开该管线。
些微打开阀使得杀菌水也会流动在超纯水制造供给***2的旁通配管2a。排出配管16c设定为关闭。之后,依据所需利用热交换器13将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的超纯水加热至所需温度使其形成为杀菌水,再将过氧化氢注入储槽11并且使用泵12使其在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环。
在该杀菌洗涤中,虽然不会使杀菌水穿透第1微粒子去除膜装置16而是仅薄膜的给水侧进行杀菌洗涤,但通过供给至薄膜的给水侧的杀菌水,其一部分会浸出薄膜的二次侧(穿透侧)也对薄膜的二次侧进行杀菌。
<图20b:杀菌洗涤方法2>
如图20b所示,选择阀使得水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15、及第1微粒子去除膜装置16而通过配管20与第2微粒子去除膜装置17,来进行储槽11的水位调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开该管线。些微打开阀使得杀菌水也会流动在超纯水制造供给***2的旁通管2a。排出配管16c设定为关闭。之后,依据所需利用热交换器13将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的超纯水加热至所需温度使其形成为杀菌水,再将过氧化氢注入储槽11并且使用泵12使其在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环。
<图20c:杀菌洗涤方法3>
在将第1微粒子去除膜装置16的微粒子去除膜与配管交换后,如图20c所示,选择阀使得水绕过超纯水制造***1的离子交换装置15而通过第1微粒子去除膜装置16,另外也会通过配管20与第2微粒子去除膜装置17双方,来进行储槽11的水位调整。在热交换器13、紫外线装置14也组装有旁通配管的情况下,会些微打开该管线。些微打开阀使得杀菌水也会流动在超纯水制造供给***2的旁通管2a。排出配管16c设定为关闭。之后,依据所需利用热交换器13将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的超纯水加热至所需温度使其形成为杀菌水,再将过氧化氢注入储槽11并且使用泵12使其在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内循环。
通过上述杀菌洗涤方法1~3所进行的杀菌洗涤优选进行0.5Hr以上,特别是1~2Hr。
<图20d~图20f:冲洗>
其次,在图20a所示的杀菌洗涤方法1的情况如图20d所示,在图20b所示的杀菌洗涤方法2的情况如图20e所示,在图20c所示的杀菌洗涤方法3的情况如图20f所示,各自将1次纯水4供给至储槽11并且开启从配管22的最末端(比起与旁通管2a的合流部更靠下游侧)分歧的第2排出配管22a,再利用1次纯水4将超纯水制造***1与超纯水供给配管***2内的杀菌水朝***外压出。持续进行该冲洗直至从排出配管22a排出的冲洗水的过氧化氢浓度形成在1mg/L以下为止。
进行上述冲洗洗涤后,在采用图20b的杀菌洗涤方法2的情况下,将第1微粒子去除膜装置16的微粒子去除膜与事先完成杀菌处理的微粒子去除膜进行交换。上述膜交换也可以在进行杀菌及冲洗洗涤前进行。进行上述冲洗洗涤后,在采用图20c的杀菌洗涤方法3的情况下,将第1微粒子去除膜装置16的配管与事先完成杀菌处理的微粒子去除膜进行交换。
<图18:第2次碱性洗涤>
在结束冲洗后,再次进行如图18所示进行的碱性洗涤(第2次碱性洗涤)。该洗涤方法与第1次的碱性洗涤相同。
<图19:冲洗>
在第2次碱性洗涤后,如图19所示进行冲洗。该冲洗方法与前述冲洗方法相同。
<图21及图20a~图20c:第2次杀菌洗涤>
上述冲洗结束后,进行通过过氧化氢所进行的第2次杀菌洗涤。在进行该第2次杀菌洗涤时的前半段的流水处理方法依据图21来进行。
虽然上述图21的流水处理方法,基本上与图20a~图20c相同,但与图20a~图20c相异处为:来自旁通配管15a的过氧化氢含有水不仅通过旁通配管16e,也通过第1微粒子去除膜装置16。其他的流水处理条件则与图20a~图20c相同。该图21的杀菌洗涤优选进行0.5Hr以上,特别是0.5~1Hr左右。
在进行该图21的杀菌洗涤之后,转移至前述图20a~图20c的杀菌洗涤,优选进行1~24Hr特别是2~12Hr左右的杀菌洗涤。
<图19:冲洗>
接着,通过图19所示的方法进行冲洗。该冲洗的流水处理条件与前述冲洗的情况相同。
<图22:第1次完工>
其次,进行如图22所示的第1次完工流水处理。虽然该第1次完工流水处理大致与图19所示的冲洗流水处理相同,但与冲洗步骤相异处为:来自紫外线装置14的流出水不仅通过旁通配管15a,也会通过离子交换装置15,其他则与图19所示的冲洗流水处理的情况相同。
<第2次完工>
其次,进行如图23所示的第2次完工流水处理。上述第2次完工流水处理,其下述1)~3)点与图22的第1次完工流水处理相异,其他则与第1次流水处理相同。
1)不使紫外线氧化装置14的流出水通过旁通配管15a,而是仅通过离子交换装置15。
2)使离子交换装置15的流出水只通过第1微粒子去除膜装置16,而不通过第2微粒子去除膜装置17。
3)不使来自微粒子去除膜装置16的水通过使用点3而是使其全部流通至旁通配管2a。
该第2次完工流水处理持续进行至使来自排出配管22a的流出水的水质达到作为目标的超纯水水质为止。在结束该第2次完工流水处理后,返回稳定运转。
上述说明是本发明的一例,亦可采用上述内容之外的洗涤步骤。
例如,碱性洗涤亦可只进行1次或进行3次以上。在冲洗步骤中进行复数次碱性洗涤后,再转移至杀菌洗涤步骤亦可。
在碱性洗涤中,也能够使用酸性药品取代碱性药品并且利用相同的步骤进行酸性洗涤。亦可交互地进行碱性洗涤与酸性洗涤。
上述洗涤步骤在适用于新设置超纯水制造***及超纯水制造供给***的洗涤方法的情况时,在对使用中的超纯水制造***及超纯水制造供给***进行定期洗涤时,不一定需要进行上述一连串的洗涤步骤。例如,省略碱性洗涤及其后的冲洗、与第1次的杀菌洗涤及其后的冲洗、与第2次的碱性洗涤及其后的冲洗,在预备洗涤后,仅进行第2次的杀菌洗涤及其后的冲洗、与第1次完工洗涤及第2次完工洗涤亦可。
本发明中,不论在第1微粒子去除膜装置中,还是第2微粒子去除膜装置中,都可以使用并列设置复数片微粒子去除膜而得到的微粒子去除膜装置。在洗涤步骤中被使用而在超纯水的制造步骤中未被使用的第2微粒子去除膜装置中,能够使其微粒子去除膜的片数比第1微粒子去除膜装置的少。
虽然各微粒子去除膜装置的微粒子去除膜的片数会因为该超纯水制造***的超纯水的制造量而不同,但相对于第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜的片数,将第2微粒子去除膜装置的微粒子去除膜的片数设定在1/2以下左右为佳。
本发明中,作为碱性洗涤所使用的碱性溶液,优选将由氨、铵类化合物、碱金属的氢氧化物、及碱金属的氧化物所组成的群组中选出的1种或2种以上的碱性化合物溶解至超纯水所得到的溶液,特别是将四烷基铵化合物溶解至超纯水所得到的溶液为佳。
另外,优选洗涤溶液或冲洗所使用的水是脱盐后的水,更优选为一次纯水或超纯水。
本发明中,作为杀菌洗涤所使用的杀菌水,使用金属杂质少且不会产生腐蚀的液体,例如能够使用过氧化氢水、称之为臭氧水的氧化剂含有水、异丙基醇、乙醇等的有机性溶液、及40~85℃左右的热水,或组合上述2种以上进行使用。特别优选具有除菌作用的pH4~7的水溶液,尤其是下述任一种:过氧化氢浓度为0.01~10重量%且温度在10~50℃的过氧化氢水、臭氧浓度为1~50mg/L且温度在10~40℃的臭氧水、及温度为60℃以上的一次纯水或超纯水所组成的温纯水。杀菌水所使用的水优选是脱盐后的水,更优选为一次纯水或超纯水。
作为在前述杀菌洗涤中的杀菌洗涤方法2及杀菌洗涤方法3中所使用的事先完成杀菌处理的微粒子去除膜,能够使用在通过上述杀菌水进行杀菌洗涤后,会将膜内的杀菌水置换成超纯水的微粒子去除膜。即使是如上所述事先完成杀菌处理的微粒子去除膜,在进行置换成超纯水后经过长时间也会因为杀菌效果受损而有下述情况:在将其设置于超纯水制造***时会成为使细菌溶出的原因。因此,在将杀菌水置换成超纯水后,6个月以内,优选为3个月以内进行超纯水制造***的微粒子去除膜装置的膜交换。
前述杀菌洗涤方法1及其后的冲洗洗涤中,作为通过第2微粒子去除膜装置17或第1微粒子去除膜装置16的旁通配管的杀菌水及冲洗水的水量、及供给至第1微粒子去除膜装置16的给水侧的水量,优选在充分地对第1微粒子去除膜装置16进行杀菌后,再使足够量的杀菌水与冲洗水通过后段的配管的水量。因此,来自前段侧的杀菌水及冲洗水量中,优选1/2以下通过第2微粒子去除膜装置17或第1微粒子去除膜装置16的旁通配管,而剩余部分则供给至第1微粒子去除膜装置16的给水侧。
前述杀菌洗涤方法3及其后的冲洗洗涤中,通过将微粒子去除膜交换成配管的第1微粒子去除膜装置16、与第2微粒子去除膜装置17或第1微粒子去除膜装置16的旁通配管的水量之比值为:与上述理由相同,来自前段侧的杀菌水与冲洗水量中,优选1/2以上通过第2微粒子去除膜装置17或第1微粒子去除膜装置16的旁通配管,而剩余部分则通过将薄膜交换成配管的第1微粒子去除膜装置16。
[实施例]
以下,例举实施例、及比较例进一步地具体说明本发明。
以下的实施例1、2及比较例1适用于新设置的超纯水制造***,其进行洗涤后,在起动***后的水使用点(Usepoint)的超纯水的水质是通过以下方法进行评价。
微粒子数:通过微粒子计(PMS公司制“UDI150”测定时间10分钟)测得粒径50nm以上的微粒子数。
金属类(铁)浓度:通过ICP/MS法以1天1次的频率分析关于样品的浓缩液的Fe浓度。
生菌数:从起动3天后,通过培养法以1天1次的频率进行分析。
[实施例1]
关于图1所示的超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,依据上述图2→图3→图4→图5a→图5d→图3→图4→图6→图5a→图4→图7→图8的步骤进行洗涤。
在稳定运转状态下,超纯水是以流速0.75m/sec(15m3/Hr)流动在配管21。
<预备洗涤>
在图2的流程中,是以13m3/Hr通过配管21,并且是以2m3/Hr通过排出配管16c。
在来自排出配管16c的流出水的电阻率形成为18MΩ·cm以上后,会停止通过第2微粒子去除膜装置17并且将微粒子去除膜安装至第2微粒子去除膜装置17。
<第1次碱性洗涤>
将紫外线装置14的紫外线灯熄灭。如图3所示,注入浓度25mg/L的氢氧化四甲铵水溶液至储槽11使其pH值形成在pH10.5以上。使氢氧化四甲铵水溶液在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2之间循环1小时对上述***进行洗涤。不会通过离子交换装置15、微粒子去除膜装置16,而是经由旁通配管15a、16a、16b、2a与微粒子去除膜装置17使洗涤溶液绕开。
<冲洗>
之后,依据图4的流程进行冲洗,使洗涤排水从排出配管22a排出,再将1次纯水4作为冲洗水供给至储槽11,并且使其以流速0.75m/sec通过超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,而将残留在上述***的内部的洗涤溶液压出。如图4所示,不会通过离子交换装置15、微粒子去除膜装置16,而是经由旁通配管15a、16a、16b、2a与微粒子去除膜装置17使冲洗水绕过。
进行该冲洗1小时,在从排出配管22a排出的冲洗水的pH值形成为pH8的时间点结束冲洗。
<第1次杀菌洗涤>
其次,依据图5a的流程进行超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的杀菌。
在确认将紫外线装置14的灯熄灭时,利用热交换器13使以流速为0.75m/sec进行循环的超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的水温形成为40℃,之后将其注入储槽11使过氧化氢的浓度形成为0.1重量%。使过氧化氢溶液的杀菌水在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2之间循环1小时。在此,也不通过离子交换装置15,而是经由旁通配管15a、16a、16b、2a与微粒子去除膜装置17使杀菌水循环。
朝第1微粒子去除膜装置16将杀菌水的一部分(来自旁通配管15a的杀菌水的1/2以下)供给至薄膜的给水侧,再从浓缩水侧朝***外将其排出。
<冲洗>
之后,依据图5d的流程进行冲洗。进行使杀菌溶液从排出配管22a排出,再将1次纯水4作为冲洗水供给至储槽11,使其以流速0.75m/sec通过超纯水制造***1和超纯水供给配管***2,来将残留在上述***的内部的杀菌水压出的冲洗。即使在该冲洗中,也与上述第1次杀菌洗涤相同,将冲洗水的一部分供给至第1微粒子去除膜装置16的给水侧。
进行该冲洗2小时,在利用过氧化氢试纸检测不出从排出配管22a排出的冲洗水的过氧化氢时,结束冲洗。
<第2次碱性洗涤>
依据图3的流程再次进行超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的碱性洗涤。
在确认紫外线装置14的灯熄灭时,注入浓度为25mg/L的氢氧化四甲铵水溶液至以流速为0.75m/sce进行循环的超纯水制造***1的储槽11使其pH值形成在pH10.5以上。使氢氧化四甲铵水溶液在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2之间循环2小时来对上述***进行洗涤。不通过离子交换装置15、微粒子去除膜装置16,而是经由旁通配管15a、16a、16b、2a与微粒子去除膜装置17使洗涤溶液绕开。
<冲洗>
之后,依据图4的流程进行冲洗,使洗涤溶液从排出配管22a排出,再将1次纯水4作为冲洗水供给至储槽11,并且使其以流速0.75m/sec通过超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,而将残留在上述***的内部的洗涤溶液压出。
进行该冲洗1小时,在从排出配管排出的冲洗水的pH值形成为pH8的时间点结束冲洗。
<第2次杀菌洗涤>
首先依据图6的流程进行、接着再依据图5a的流程进行超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的第2次杀菌洗涤。
在确认紫外线装置14的灯熄灭时,利用热交换器13使以流速为0.75m/sec进行循环的超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的水温形成为40℃,之后如图6所示,将其注入储槽11使过氧化氢的浓度形成为0.1重量%。使过氧化氢溶液的杀菌水在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2之间循环2小时。在此,不会通过离子交换装置15,而是仅在初期的30分钟会通过微粒子去除膜装置16、17双方。
其次,如图5a所示,使杀菌水流通。
<冲洗>
之后,依据图4的流程进行冲洗,使洗涤水从排出配管22a排出,再将1次纯水作为冲洗水供给至储槽11,并且使其流速以0.75m/sec通过超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,而将残留在上述***的内部的洗涤水压出。
进行该冲洗2小时,在利用过氧化氢试纸检测不出从排出配管22a流出的冲洗水的过氧化氢时,结束冲洗。
<第1次完工>
其次,如图7所示,在不使冲洗水通过微粒子去除膜装置16而经由旁通配管15a、16a、16b与微粒子去除膜装置17流通的状态下,会通过离子交换装置15及旁通配管15a双方并且从排出配管22a将排水排出。
<第2次完工洗涤>
在开始进行第1次完工洗涤1小时后,如图8所示,停止通过旁通配管15a,而是经由旁通配管16a、16b与微粒子去除膜装置16、17使离子交换装置15的处理水通过,来从排出配管22a将排水排出。
在开始进行第2次完工洗涤1小时后,结束超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的洗涤与杀菌。接着,返回图1所示的稳定运转。
对水使用点(Usepoint)3中的超纯水的水质进行评价。调查在起动***后,超纯水中的微粒子数形成在100个/L以下为止所需的时间、金属类(Fe)浓度形成在0.1ng/L以下为止所需的时间、以及生菌数形成在1个/L以下为止所需的时间,并且将结果表示于表1。
[实施例2]
除了进行图5c、f所示的杀菌洗涤及冲洗来取代实施例1中,图5a、d所示的杀菌洗涤及冲洗之外,与实施例1同样地对超纯水制造***及超纯水制造供给***进行洗涤。
在进行杀菌洗涤时,将第1微粒子去除膜装置16的微粒子去除膜与配管交换,并且使来自旁通配管15a的杀菌水及冲洗水的1/5通过不具有薄膜的第1微粒子去除膜装置16,再使剩余部分通过第2微粒子去除膜装置17来进行洗涤。作为事先完成杀菌处理的微粒子去除膜,使用浸渍在浓度为1重量%的过氧化氢水2小时予以杀菌后,再将杀菌水置换成超纯水后经过3个月的微粒子去除膜。
与实施例1相同地对起动***后的超纯水的水质进行评价,并且将结果表示于表1。
[比较例1]
除了在实施例1中,进行预备洗涤、碱性洗涤、第1次完工、第2次完工、杀菌洗涤、及冲洗时,不会通过第2微粒子去除膜装置而只会通过第1微粒子去除膜装置来进行之外,与实施例1同样地对超纯水制造***及超纯水制造供给***进行洗涤。同样地对起动***后的超纯水的水质进行评价,并且将结果表示于表1。
[比较例2]
除了在实施例1中,设置用以绕过第1微粒子去除膜装置的配管使得在进行预备洗涤、碱性洗涤、第1次完工、第2次完工、杀菌洗涤、及冲洗时,取代通过第2微粒子去除膜装置,而是会通过旁通配管且使来自旁通配管15a的杀菌水及冲洗水等会通过另行设置的旁通配管之外,与实施例1同样地对超纯水制造***及超纯水制造供给***进行洗涤。同样地对起动***后的超纯水的水质进行评价,并且将结果表示于表1。
[表1]
依据表1,可得知通过本发明在进行杀菌洗涤后,能够在短时间内于水使用点获得水质良好的超纯水。
[实施例3]
关于图1所示的超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,依据上述图2→图3→图4→图5b→图5e→图3→图4→图6→图5b→图4→图7→图8的步骤进行洗涤。
在稳定运转状态下,超纯水是以流速0.75m/sec(15m3/Hr)流动在配管21。
<预备洗涤>
在图2的流程中,是以13m3/Hr通过配管21,并且是以2m3/Hr通过排出配管16c。在来自排出配管16c的流出水的电阻率形成为18MΩ·cm以上后,会停止通过第2微粒子去除膜装置17并且将微粒子去除膜安装至第2微粒子去除膜装置17。
<第1次碱性洗涤>
将紫外线装置14的紫外线灯熄灭,如图3所示,注入浓度为25mg/L的氢氧化四甲铵水溶液至储槽11使其pH值形成在pH10.5以上,再使氢氧化四甲铵水溶液在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2之间循环1小时对上述***进行洗涤。不会通过离子交换装置15、微粒子去除膜装置16,而是经由旁通配管15a、16a、16b、2a与微粒子去除膜装置17使洗涤溶液绕开。
<冲洗>
之后,依据图4的流程进行冲洗,使洗涤排水从排出配管22a排出,再将1次纯水4作为冲洗水供给至储槽11,使其以流速0.75m/sec通过超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,而将残留在上述***的内部的洗涤溶液压出。如图4所示,不会通过离子交换装置15、微粒子去除膜装置16,而是经由旁通配管15a、16a、16b、2a与微粒子去除膜装置17使冲洗水绕过。
进行该冲洗1小时,在从排出配管22a排出的冲洗水的pH值形成为pH8的时间点结束冲洗。
<第1次杀菌洗涤>
其次,依据图5b的流程进行超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的杀菌。
在确认紫外线装置14的灯熄灭时,利用热交换器13使以流速为0.75m/sec进行循环的超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的水温形成为40℃,之后将其注入储槽11使过氧化氢的浓度形成为0.1重量%。使过氧化氢溶液在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2之间循环1小时。在此也不通过离子交换装置15、微粒子去除膜装置16,而是经由旁通配管15a、16a、16b、2a与微粒子去除膜装置17使杀菌水循环。
<冲洗>
之后,依据图5e的流程进行冲洗。进行使杀菌溶液从排出配管22a排出,再将1次纯水4作为冲洗水供给至储槽11,使其以流速0.75m/sec通过超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,来将残留在上述***的内部的洗涤水压出的冲洗。
进行该冲洗2小时,在利用过氧化氢试纸检测不出从排出配管22a排出的冲洗水的过氧化氢时,结束冲洗。
<第2次碱性洗涤>
依据图3的流程再次进行超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的碱性洗涤。
在确认紫外线装置14的灯熄灭时,注入浓度为25mg/L的氢氧化四甲铵水溶液至以流速为0.75m/sce进行循环的超纯水制造***1的储槽11,使其pH值形成在pH10.5以上。使氢氧化四甲铵水溶液在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2之间循环2小时来对上述***进行洗涤。不通过离子交换装置15、微粒子去除膜装置16,而是经由旁通配管15a、16a、16b、2a与微粒子去除膜装置17使洗涤溶液绕开。
<冲洗>
之后,依据图4的流程进行冲洗,使洗涤溶液从排出配管22a排出,再将1次纯水4作为冲洗水供给至储槽11,并且使其以流速0.75m/sec通过超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,而将残留在上述***的内部的洗涤溶液压出。
进行该冲洗1小时,在从排出配管排出的冲洗水的pH值形成为pH8的时间点结束冲洗。
<第2次杀菌洗涤>
首先,依据图6的流程进行、接着再依据图5b的流程进行超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的第2次杀菌洗涤。
在确认紫外线装置14的灯熄灭后,利用热交换器13使以流速为0.75m/sec进行循环的超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的水温形成为40℃,之后如图6所示,将其注入储槽11使过氧化氢的浓度形成为0.1重量%。使过氧化氢溶液的杀菌水在超纯水制造***1与超纯水供给配管***2之间循环2小时。在此,不会通过离子交换装置15,而是仅在初期的30分钟会通过微粒子去除膜装置16、17双方。
接着,如图5b所示,停止通过微粒子去除膜装置16,并且使杀菌溶液流通至旁通配管15a、16a、16b与微粒子去除膜装置17。
<冲洗>
之后,依据图4的流程进行冲洗,使洗涤溶液从排出配管22a排出,再将1次纯水作为冲洗水供给至储槽11,使其以流速0.75m/sec通过超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,而将残留在上述***的内部的洗涤溶液压出。
进行该冲洗2小时,在利用过氧化氢试纸检测不出从排出配管22a流出的冲洗水的过氧化氢时,结束冲洗。
<第1次完工>
其次,如图7所示,在不使冲洗水通过微粒子去除膜装置16而经由旁通配管15a、16a、16b与微粒子去除膜装置17而流通的状态下,会通过离子交换装置15及旁通配管15a双方并且从排出配管22a将排水排出。
<第2次完工洗涤>
在开始进行第1次完工洗涤1小时后,如图8所示,停止通过旁通配管15a,而是经由旁通配管16a、16b与微粒子去除膜装置16、17使离子交换装置15的处理水通过,再从排出配管22a将排水排出。
在开始进行第2次完工洗涤1小时后,结束超纯水制造***1与超纯水供给配管***2的洗涤与杀菌。接着,返回图1所示的稳定运转。
其后,通过光散射方式的微粒子监视器在水使用点(Usepoint)3检测超纯水中的φ50nm以上的微粒子数,并且调查经过时间与超纯水中的微粒子数的关系。结果表示于表2。
[比较例3]
除了在实施例3中,设置用以旁通第1微粒子去除膜装置的配管,使得在进行预备洗涤、碱性洗涤、第1次完工、第2次完工、杀菌洗涤、及冲洗时,取代通过第2微粒子去除膜装置,而是会通过旁通配管且使来自旁通配管15a的杀菌水及冲洗水等会通过另行设置的旁通配管之外,与实施例3同样地对超纯水制造***及超纯水制造供给***进行洗涤,并且同样地对起动***后的超纯水的水质进行评价,再将结果表示于表2。
[实施例4]
关于图9~图15所示的超纯水制造***1与超纯水供给配管***2,依据图9→图10→图11→图12b→图12e→图10→图11→图13→图12b→图11→图14→图15的步骤进行杀菌洗涤。
依据图9的流程进行预备洗涤。配管21的流量为13m3/Hr,而排出配管16c的流量为2m3/Hr。其他的条件则与图2的情况相同。
图10表示与图3大致相同的碱性洗涤步骤。在图10中,使来自紫外线装置14的水的全部流通至旁通配管15c、第2微粒子去除膜装置17、旁通配管15d、16a、16b,并且不使其流通至第1微粒子去除膜装置16。图10的其他条件与实施例3中的图3的碱性洗涤相同。
图11是与图4相同的冲洗步骤。在图11中,使来自紫外线装置14的水的全部流通至旁通配管15c、微粒子去除膜装置17、旁通配管15d、16a、16b,并且不使其流通至微粒子去除膜装置16。其他条件与实施例3中的图4的冲洗相同。
图12b表示与图5b相同的第1次杀菌洗涤与第2次杀菌洗涤(后半)。在图12b中,使来自紫外线装置14的水的全部流通至旁通配管15c、微粒子去除膜装置17、旁通配管15d、16a、16b,并且不使其流通至微粒子去除膜装置16。其他条件则与实施例3的图5b相同。
图12e是与图5e相同的冲洗步骤。在图12e中,使来自紫外线装置14的水的全部流通至旁通配管15c、微粒子去除膜装置17、旁通配管15d、16a、16b,并且不使其流通至微粒子去除膜装置16。其他条件则与实施例3中的图5e的冲洗相同。
图13表示第2次杀菌洗涤的前半的流程。图13是在图12b中不使来自紫外线装置14的杀菌洗涤水通过离子交换装置15,并且仅会在初期的30分钟通过微粒子去除膜装置16的图示,其他如同图12b所示。
图14是表示与图7相同的第1次完工步骤的图示,而图15则是表示与图8相同的第2次完工步骤的图示。在图14中,使来自紫外线装置14的水流通至离子交换装置15及第2微粒子去除膜装置17双方。其合流水仅流通至旁通配管16a、16b,而不会流通至第1微粒子去除膜装置16。
在图15中,使来自紫外线装置14的水流通至离子交换装置15及第1微粒子去除膜装置16,而不流通至旁通配管15c、15d及第2微粒子去除膜装置17。图14、图15的其他流水处理条件与实施例3中的图7、图8的流水处理条件相同。
如上所述,对超纯水制造***1与超纯水供给配管***2进行洗涤与杀菌。其后,通过光散射方式的微粒子监视器检测在重新开始进行稳定运转时的水使用点(Usepoint)3的超纯水中的φ50nm以上的微粒子数,并且调查经过时间与超纯水中的微粒子数的关系。结果表示于表2。
[表2]
由表2的实施例3、及比较例3的对比可明白得知,如实施例3所示地通过将第2微粒子去除膜装置17设置成与第1微粒子去除膜装置16并列来进行流水处理,在对超纯水制造***1与超纯水供给配管***2进行洗涤与杀菌后,能够在3天内使于超纯水供给配管***2的水使用点(Usepoint)3的超纯水中的φ50nm以上的微粒子数满足500个/L以下的条件,与重现现有方法的比较例3相比能够缩短3天。
推测上述结果是由在进行洗涤及杀菌时,从超纯水制造***1的泵12的滑动部所产生的微粒子会弄脏超纯水供给配管***2而得。此时,能够确认在进行超纯水制造时,通过光散射方式的微粒子监视器于超纯水制造***1的泵12的出口所测得的φ50nm以上的微粒子数的结果,始终会有10000~20000个/L左右。
另外,通过将第2微粒子去除膜装置17设置成如实施例4所示般地与离子交换装置15并列来进行流水处理,在对超纯水制造***1与超纯水供给配管***2进行洗涤与杀菌后,能够在4天内使于超纯水供给配管***2的水使用点(Usepoint)3中的超纯水中的φ50nm以上的微粒子数满足500个/L以下的条件,与重现现有方法的比较例3相比能够缩短2天。
在上述说明中,虽然记载有在超纯水制造***的最终泵与第1微粒子去除膜装置之间具备第2微粒子去除膜装置的构造,但当能够利用切换阀等来进行相同的流水处理时,即使是将第2微粒子去除膜装置设置在第1微粒子去除膜装置的后段的超纯水制造***1与超纯水供给配管***2(图16~图23)也能够获得相同的效果。
虽然本发明使用特定的实施方式来详细地进行说明,但本领域技术人员明白只要不脱离本发明的意旨与范围都能够进行各种变更。
本申请案是依据日本特愿2013-083233、日本特愿2013-113027、日本特愿2013-153640,并且通过引用其整体内容来援用。
Claims (15)
1.一种超纯水制造供给***的洗涤方法,为使杀菌水及冲洗水分别通过超纯水制造供给***,来进行该超纯水制造供给***的杀菌洗涤、及杀菌洗涤后的冲洗洗涤的超纯水制造供给***的洗涤方法,所述超纯水制造供给***具备:超纯水制造***,至少具备储槽、泵、热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置;供给配管,将利用该超纯水制造***制造的超纯水供给至水使用点;以及返送配管,将该水使用点的剩余水返送至超纯水制造***,所述超纯水制造供给***的洗涤方法的特征为:
将第2微粒子去除膜装置设置成与该第1微粒子去除膜装置呈并列,
通过下述(I-1)~(I-3)的任一洗涤工序(A)来洗涤该超纯水制造***,使所述洗涤工序(A)中穿透所述第2微粒子去除膜装置的杀菌水及冲洗水在通过该供给配管与返送配管后朝***外部排出,
在进行该洗涤工序(A)后,不使水通过该第2微粒子去除膜装置,而是使水通过所述热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置来进行超纯水的制造,
(I-1)将杀菌水及冲洗水的一部分供给至所述第1微粒子去除膜装置后,不使其穿透该第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜,而是使其从该第1微粒子去除膜装置的给水侧朝浓缩水侧排出,剩余部分则会通过所述第2微粒子去除膜装置,
(I-2)使杀菌水及冲洗水全部通过所述第2微粒子去除膜装置,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与所述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜进行交换,
(I-3)将所述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜与配管进行交换,在使杀菌水及冲洗水的一部分通过该第1微粒子去除膜装置,并且使剩余部分通过所述第2微粒子去除膜装置后,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与该第1微粒子去除膜装置的配管进行交换。
2.一种超纯水制造供给***的洗涤方法,为使杀菌水及冲洗水分别通过超纯水制造供给***,来进行该超纯水制造供给***的杀菌洗涤、及杀菌洗涤后的冲洗洗涤的超纯水制造供给***的洗涤方法,所述超纯水制造供给***具备:超纯水制造***,至少具备储槽、泵、热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置;供给配管,将利用该超纯水制造***制造的超纯水供给至水使用点;以及返送配管,将该水使用点的剩余水返送至超纯水制造***,所述超纯水制造供给***的洗涤方法的特征为:
在该超纯水制造***的最终泵与该第1微粒子去除膜装置之间将第2微粒子去除膜装置设置成可绕过该第2微粒子去除膜装置来进行流水处理,
通过下述(II-1)~(II-3)的任一洗涤工序(B)来洗涤该超纯水制造***,使所述洗涤工序(B)中穿透所述第2微粒子去除膜装置的杀菌水及冲洗水在通过该供给配管与返送配管后朝***外部排出,
在进行该洗涤工序(B)后,使水绕过该第2微粒子去除膜装置而通过所述热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置来进行超纯水的制造,
(II-1)设置用以绕过所述第1微粒子去除膜装置的旁通配管,使杀菌水及冲洗水通过所述第2微粒子去除膜装置,再将穿透该第2微粒子去除膜装置的水的一部分供给至该第1微粒子去除膜装置,并且不使其穿透该第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜,而是使其从该第1微粒子去除膜装置的给水侧朝浓缩水侧排出,剩余部分则会通过所述旁通配管,
(II-2)设置用以绕过所述第1微粒子去除膜装置的旁通配管,使杀菌水及冲洗水通过前述第2微粒子去除膜装置与该旁通配管,并且利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与该第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜进行交换,
(II-3)将所述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜与配管进行交换后,再使杀菌水及冲洗水通过所述第2微粒子去除膜装置与该第1微粒子去除膜装置,其后,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与该第1微粒子去除膜装置的配管进行交换。
3.一种超纯水制造供给***的洗涤方法,为使杀菌水及冲洗水分别通过超纯水制造供给***,来进行该超纯水制造供给***的杀菌洗涤、及杀菌洗涤后的冲洗洗涤的超纯水制造供给***的洗涤方法,所述超纯水制造供给***具备:超纯水制造***,至少具备储槽、泵、热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置;供给配管,将利用该超纯水制造***制造的超纯水供给至水使用点;以及返送配管,将该水使用点的剩余水返送至超纯水制造***,所述超纯水制造供给***的洗涤方法的特征为:
在该第1微粒子去除膜装置的后段将第2微粒子去除膜装置设置成可绕过该第2微粒子去除膜装置来进行流水处理,
通过下述(III-1)~(III-3)的任一洗涤工序(C)来洗涤该超纯水制造***,使所述洗涤工序(C)中穿透所述第2微粒子去除膜装置的杀菌水及冲洗水在通过该供给配管与返送配管后朝***外部排出,
在进行该洗涤工序(C)后,使水绕过该第2微粒子去除膜装置而通过所述热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置来进行超纯水的制造,
(III-1)设置用以绕过所述第1微粒子去除膜装置的旁通配管,将杀菌水及冲洗水的一部分供给至该第1微粒子去除膜装置后,不使其穿透该第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜,而是使其从该第1微粒子去除膜装置的给水侧朝浓缩水侧排出,剩余部分则会在通过所述旁通配管后通过所述第2微粒子去除膜装置,
(III-2)设置用以绕过所述第1微粒子去除膜装置的旁通配管,使杀菌水及冲洗水通过该旁通配管与所述第2微粒子去除膜装置,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与所述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜进行交换,
(III-3)将所述第1微粒子去除膜装置的微粒子去除膜与配管进行交换后,使杀菌水及冲洗水通过该第1微粒子去除膜装置与所述第2微粒子去除膜装置,其后,再利用事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜与该第1微粒子去除膜装置的配管进行交换。
4.如权利要求1至3中任一项所述的超纯水制造供给***的洗涤方法,其中,所述事先已完成杀菌处理的微粒子去除膜,为在通过氧化剂含有水、有机系溶液、及热水中的任1种以上的杀菌水进行杀菌洗涤后,且在设置到所述超纯水制造***前,将该微粒子去除膜内的该杀菌水置换成超纯水的微粒子去除膜。
5.如权利要求4所述的超纯水制造供给***的洗涤方法,其中,在利用超纯水与所述微粒子去除膜内的杀菌水进行置换后,在6个月以内设置在所述超纯水制造***中。
6.如权利要求1至5中任一项所述的超纯水制造供给***的洗涤方法,其中,所述杀菌洗涤及冲洗洗涤通过组合碱性洗涤和/或酸性洗涤来进行。
7.一种超纯水制造供给***,具备:
至少具备:储槽、泵、热交换器、紫外线装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置的超纯水制造***,
将利用该超纯水制造***所制造而成的超纯水供给至水使用点的供给配管,以及
将该水使用点的剩余水送回至超纯水制造***的返送配管,
所述超纯水制造供给***的特征为:
将第2微粒子去除膜装置设置成与该第1微粒子去除膜装置呈并列,
设置有流路切换装置,其进行仅通过所述第1微粒子去除膜装置、仅通过所述第2微粒子去除膜装置、以及通过所述第1微粒子去除膜装置及第2微粒子去除膜装置双方的切换,
在进行超纯水制造时,该流路切换装置选择为仅通过该第1微粒子去除膜装置,在进行该超纯水制造供给***的杀菌洗涤和冲洗洗涤时,该流路切换装置选择为仅通过该第2微粒子去除膜装置、或通过第1微粒子去除膜装置及第2微粒子去除膜装置双方。
8.如权利要求7所述的超纯水制造供给***,其中,设置有第1排出配管,其能够将通过所述第2微粒子去除膜装置的水在与通过所述第1微粒子去除膜装置的水合流之前朝***外排出。
9.一种超纯水制造供给***,具备:
至少具备:储槽、泵、热交换器、紫外线氧化装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置的超纯水制造***,
将利用该超纯水制造***所制造而成的超纯水供给至水使用点的供给配管,以及
将该水使用点的剩余水送回至超纯水制造***的返送配管,
所述超纯水制造供给***的特征为:
在该超纯水制造***的最终泵与该第1微粒子去除膜装置之间将第2微粒子去除膜装置设置成可绕过该第2微粒子去除膜装置来进行流水处理,
设置有用以绕过所述第1微粒子去除膜装置的配管,设置有流路切换装置,该流路切换装置进行仅通过该第1微粒子去除膜装置、仅通过用以绕过该第1微粒子去除膜装置的配管、以及通过该第1微粒子去除膜装置及用以绕过该第1微粒子去除膜装置的配管双方的切换,
在进行超纯水制造时,在绕过该第2微粒子去除膜装置来进行流水处理的同时,该流路切换装置选择为仅通过该第1微粒子去除膜装置,在进行该超纯水制造供给***的杀菌洗涤和冲洗洗涤时,在对该第2微粒子去除膜装置进行流水处理的同时,该流路切换装置选择为仅通过用以绕过该第1微粒子去除膜装置的配管、或通过该第1微粒子去除膜装置及用以绕过该第1微粒子去除膜装置的配管双方。
10.如权利要求9所述的超纯水制造供给***,其中,所述第2微粒子去除膜装置设置成与所述离子交换装置呈并列,并且设置有流路切换装置,其进行仅通过该离子交换装置、仅通过该第2微粒子去除膜装置、以及通过该离子交换装置及该第2微粒子去除膜装置双方的切换。
11.如权利要求10所述的超纯水制造供给***,其中,设置有第1排出配管,其能够将通过所述第2微粒子去除膜装置的水在与通过所述离子交换装置的水合流之前朝***外排出。
12.一种超纯水制造供给***,具备:
至少具备:储槽、泵、热交换器、紫外线氧化装置、离子交换装置、及第1微粒子去除膜装置的超纯水制造***,
将利用该超纯水制造***所制造而成的超纯水供给至水使用点的供给配管,以及
将该水使用点的剩余水送回至超纯水制造***的返送配管,
所述超纯水制造供给***的特征为:
在该超纯水制造***的该第1微粒子去除膜装置的后段,将第2微粒子去除膜装置设置成可绕过该第2微粒子去除膜装置来进行流水处理,
设置有用以绕过所述第1微粒子去除膜装置的配管,设置有流路切换装置,该流路切换装置进行仅通过该第1微粒子去除膜装置、仅通过用以绕过该第1微粒子去除膜装置的配管、以及通过该第1微粒子去除膜装置及用以绕过该第1微粒子去除膜装置的配管双方的切换,
在进行超纯水制造时,在绕过该第2微粒子去除膜装置来进行流水处理的同时,该流路切换装置选择为仅通过该第1微粒子去除膜装置,在进行该超纯水制造供给***的杀菌洗涤和冲洗洗涤时,在对该第2微粒子去除膜装置进行流水处理的同时,该流路切换装置选择为仅通过用以绕过该第1微粒子去除膜装置的配管、或通过该第1微粒子去除膜装置及用以绕过该第1微粒子去除膜装置的配管双方。
13.如权利要求12所述的超纯水制造供给***,其中,所述第2微粒子去除膜装置为经由旁通配管设置在所述第1微粒子去除膜装置的后段的配管,并且设置有流路切换装置,其进行仅通过该第1微粒子去除膜装置的后段的配管、仅通过该第2微粒子去除膜装置、以及通过该第1微粒子去除膜装置的后段的配管及该第2微粒子去除膜装置双方的切换。
14.如权利要求13所述的超纯水制造供给***,其中,设置有第1排出配管,其在通过该第2微粒子去除膜装置的水流入所述第1微粒子去除膜装置的后段的配管前,能够将通过所述第2微粒子去除膜装置的水朝***外排出。
15.如权利要求7至14中任一项所述的超纯水制造供给***,其中,设置有从所述返送配管分歧的第2排出配管。
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DE102016004612A1 (de) * | 2016-04-19 | 2017-10-19 | Merck Patent Gmbh | Verfahren und Befüllungsvorrichtung zum Befüllen eines Transportbehälters mit einem Fluid |
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JP6149992B1 (ja) * | 2016-09-14 | 2017-06-21 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
WO2018074981A1 (en) * | 2016-10-20 | 2018-04-26 | Liquinex Group Pte. Ltd. | System and method for removing iron in liquid |
JP6350706B1 (ja) | 2017-03-30 | 2018-07-04 | 栗田工業株式会社 | 水質調整水製造装置 |
JP6897263B2 (ja) * | 2017-04-14 | 2021-06-30 | 栗田工業株式会社 | 水質調整水の製造方法及び装置 |
EP3618887A1 (en) * | 2017-05-05 | 2020-03-11 | Gambro Lundia AB | A system and a method for producing microbiologically controlled fluid |
JP6897392B2 (ja) * | 2017-07-26 | 2021-06-30 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置の運転方法及び超純水製造装置 |
JP6468384B1 (ja) * | 2018-03-14 | 2019-02-13 | 栗田工業株式会社 | 水処理装置 |
CN109164768A (zh) * | 2018-08-31 | 2019-01-08 | 深圳市纯水号水处理科技有限公司 | 超纯水***内过滤器的旁通***安全隐患智能化处理方法 |
JP7171386B2 (ja) * | 2018-11-22 | 2022-11-15 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置 |
EP3946766A1 (en) * | 2019-04-05 | 2022-02-09 | Ecolab USA Inc. | Clean-in-place using ultrasoft water |
JP7124175B1 (ja) * | 2021-06-16 | 2022-08-23 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 液体回収システム、液体供給システム、及び圧力調整方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1530329A (zh) * | 2003-03-14 | 2004-09-22 | ���﹤ҵ��ʽ���� | 超纯水制造*** |
CN201423250Y (zh) * | 2009-06-17 | 2010-03-17 | 浙江玉泉环境工程有限公司 | 超滤膜自清洗装置 |
CN102527244A (zh) * | 2012-01-10 | 2012-07-04 | 蓝星环境工程有限公司 | 一种反渗透膜的清洗方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4708790A (en) * | 1984-06-04 | 1987-11-24 | Champion International Corporation | Ultrafiltration system with regeneration control |
JPS6214986A (ja) | 1985-07-13 | 1987-01-23 | Kitazawa Valve:Kk | 超純水製造装置 |
US5518624A (en) * | 1994-05-06 | 1996-05-21 | Illinois Water Treatment, Inc. | Ultra pure water filtration |
US6328896B1 (en) * | 1998-04-24 | 2001-12-11 | United States Filter Corporation | Process for removing strong oxidizing agents from liquids |
JP3620577B2 (ja) | 1999-05-14 | 2005-02-16 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造システムの洗浄方法 |
JP3480458B2 (ja) | 2001-08-10 | 2003-12-22 | 栗田工業株式会社 | 殺菌方法 |
JP2003181247A (ja) | 2001-12-17 | 2003-07-02 | Nitto Denko Corp | スパイラル型膜エレメントを備えた処理システムおよびその運転方法 |
JP4480061B2 (ja) * | 2002-10-03 | 2010-06-16 | オルガノ株式会社 | 超純水製造装置及び該装置における超純水製造供給システムの洗浄方法 |
US20050067341A1 (en) | 2003-09-25 | 2005-03-31 | Green Dennis H. | Continuous production membrane water treatment plant and method for operating same |
JP2005224656A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Japan Organo Co Ltd | 超純水製造供給装置 |
US20080093277A1 (en) * | 2006-06-13 | 2008-04-24 | John Armour | Cadence detection in a sequence of video fields |
EP2085363A4 (en) * | 2006-10-31 | 2011-01-26 | Kurita Water Ind Ltd | METHOD FOR INCREASING THE PURITY OF ULTRAREINEM WATER AND DEVICE THEREFOR |
KR101407831B1 (ko) | 2007-03-30 | 2014-06-17 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 초순수 제조 시스템의 세정 살균 방법 |
JP5120070B2 (ja) * | 2008-05-29 | 2013-01-16 | 三浦工業株式会社 | 水処理装置 |
US20130313191A1 (en) | 2009-05-14 | 2013-11-28 | Omni Water Solutions, Inc. | Water treatment systems and methods |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1530329A (zh) * | 2003-03-14 | 2004-09-22 | ���﹤ҵ��ʽ���� | 超纯水制造*** |
CN201423250Y (zh) * | 2009-06-17 | 2010-03-17 | 浙江玉泉环境工程有限公司 | 超滤膜自清洗装置 |
CN102527244A (zh) * | 2012-01-10 | 2012-07-04 | 蓝星环境工程有限公司 | 一种反渗透膜的清洗方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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