CN105139913A - 一种光栅和辐射成像装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种光栅和辐射成像装置，其中该光栅包括：若干个叠摞的栅格单元，若干个栅格单元叠摞形成栅格；所述栅格单元包括具有两个相互平行平面的第一薄片和第二薄片；所述第一薄片与所述第二薄片沿第一薄片长度方向叠摞；所述第一薄片为不易透过射线的薄片。本发明采用不同规格的薄片叠摞形成光栅间隙均匀的光栅，光栅厚度不受限制，可以用于高能射线场合。

Description

一种光栅和辐射成像装置
技术领域
本发明涉及一种光栅和辐射成像装置，属于辐射成像技术领域。
背景技术
光栅是一种以栅线距离为基准进行测量的仪器。根据形成莫尔条纹原理的不同，可分为几何光栅(幅值光栅)和衍射光栅(相位光栅)。微米级和亚微米级的光栅测量是采用几何光栅，光栅栅距为100μm至20μm，远大于光源光波波长，衍射现象可以忽略，当两块光栅相对移动时产生低频拍现象形成莫尔条纹，其测量原理称为影像原理。纳米级的光栅测量是采用衍射光栅，目前光栅栅距为8μm或4μm，栅线的宽度与光的波长很接近，产生衍射和干涉现象形成莫尔条纹，其测量原理称为干涉原理。
光栅包括光线透过部(以下可简称为“栅格间隙”)和光线屏蔽部(以下可简称为“栅格”)，由此发射到它的光线被分割并形成为多个光线束。这允许衍射光栅被具有空间相干性的光线束所照射。衍射光栅衍射来自源光栅的光线，并且根据Talbot效应形成干涉图案。光线检测器检测来自衍射光栅的光线。在基于光栅的X射线相衬成像***中，需将X射线吸收光栅置于X射线源后，X射线吸收光栅的填充重金属部分(栅格)吸收X射线，而光栅的另外部分(栅格间隙)透过X射线，这样，吸收光栅与普通光栅X射线源共同构成了具有一维空间相干性的X射线源。
众所周知，随着辐射成像技术的不断发展，需要成像的精度要求越来越高，进而使成像设备所需要的元件越来越精密。例如，在辐射成像设备中对光栅的要求也越来越高。现有的光栅制作方法主要有机械刻划、激光全息光刻、电子束直写等三种。机械刻划条件极为苛刻，不仅时间长而且精度不高、生产难度大、很难刻划出亚微米的线条。利用电子束直写制作可以制作出纳米级的高分辨率图形，但是效率非常低，而且不能够制作高高宽比的图形。激光全息光刻虽然能够制作出深亚微米水平的光栅，但是控制精度较高、成本高、产能低。
发明内容
本发明要解决的技术问题是：解决现有技术中X射线光栅采用化学腐蚀成型，成型效率低成本高，不能应用于高能X射线场合的问题。
为实现上述的发明目的，本发明提供了一种光栅和辐射成像装置。
一方面，本发明提供一种光栅，包括：
若干个叠摞的栅格单元，若干个栅格单元叠摞形成栅格；
所述栅格单元包括具有两个相互平行平面的第一薄片和第二薄片；所述第二薄片与所述第一薄片沿第一薄片长度方向叠摞；
所述第一薄片为不易透过射线的薄片。
其中较优地，所述第二薄片长度小于所述第一薄片长度，所述第二薄片是至少两片；
所述第二薄片沿所述第一薄片长度方向上叠摞在所述第一薄片同一面两端，从而在相邻第一薄片之间形成栅格间隙。
其中较优地，所述栅格间隙用易透过射线的物质填充。
其中较优地，所述第一薄片的厚度与所述第二薄片的厚度不同。
其中较优地，所述第一薄片和第二薄片的厚度为0.001毫米至3毫米。
其中较优地，所述栅格单元还包括第三薄片；
所述第三薄片长度小于所述第一薄片长度，至少三片所述第二薄片沿所述第一薄片长度方向上叠摞在所述第一薄片同一面的两端和中部；
所述第三薄片叠摞在其中任意两片所述第二薄片之间的第一薄片上。
其中较优地，所述第三薄片厚度小于所述第二薄片厚度。
其中较优地，所述第二薄片与所述第一薄片长度相同；
所述第二薄片是易透过射线的薄片。
其中较优地，所述第一薄片的厚度与所述第二薄片的厚度不同。
其中较优地，所述第一薄片和第二薄片的厚度为0.001毫米至3毫米。
其中较优地，所述第一薄片是高密度薄片。
其中较优地，所述第一薄片是钨合金薄片。
其中较优地，所述多个栅格单元以粘接或工装压紧组装形成光栅。
另一方面，本发明提供一种辐射成像装置，其特征在于，上述的光栅。
本发明提供的光栅和辐射场像装置，采用不同规格的薄片叠摞形成光栅间隙均匀的光栅，光栅厚度不受限制，可以用于高能射线场合。
附图说明
图1是本发明第一种实施方案制成的光栅示意图；
图2是本发明第四种实施方案制成的光栅示意图；
图3是本发明第一种实施方案光栅单元侧视示意图；
图4是本发明第一种实施方案光栅单元正面示意图；
图5-图6是本发明第一种实施方案不同厚度薄片制成光栅单元侧视示意图；
图7是本发明第二种实施方案制成的光栅示意图；
图8是本发明第二种实施方案光栅单元侧视示意图；
图9是本发明第二种实施方案光栅单元正面示意图；
图10是本发明第三种实施方案制成的光栅单示意图；
图11是本发明第四种实施方案光栅单元侧视示意图；
图12是本发明第四种实施方案制成的光栅结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
如图1所示，本发明提供一种光栅，该光栅包括：若干个叠摞的栅格单元1，若干个栅格单元1叠摞形成栅格；栅格单元1包括具有两个相互平行平面的第一薄片11、21和第二薄片12、22；第二薄片12、22与第一薄片11、21沿第一薄片11、21的长度方向叠摞；第一薄片11、21为不易透过射线的薄片。下面对本发明提供的光栅展开详细的说明。
实施例1
如图3、图4所示，栅格单元1包括第一薄片11和第二薄片12；第二薄片12的长度小于第一薄片11的长度，至少两片第二薄片12沿第一薄片11长度方向上叠摞在第一薄片11同一面两端，从而在相邻第一薄片11之间形成栅格间隙。
如图1、图3至图4所示，在本发明的一种实施方案中，栅格单元1采用两种不同长度的薄片形成，其中第一薄片11和第二薄片12长度不同，两片第二薄片12叠摞在第一薄片11的两端，两片第二薄片12叠摞在第一薄片11的同一面，该方案中，第一薄片1的厚度可以与第二薄片12的厚度相同也可以与第二薄片12的厚度不同。第一薄片11的厚度决定了光栅栅格的宽度，第二薄片12的厚度决定了光栅栅格间隙的宽度。图1示出了本发明由厚度相同的第一薄片11与第二薄片12组成的栅格单元1制成的光栅，光栅栅格宽度和栅格间隙宽度相同。通过调整第一薄片11的厚度与第二薄片12的厚度可以制成不同占空比的光栅。第一薄片和第二薄片的厚度优选可以在0.001毫米至3毫米之间调节。
如图5所示，该方案中第一薄片11的厚度小于第二薄片112的厚度，按该方案组成的栅格单元1制成的光栅，光栅栅格宽度小于栅格间隙的宽度。在本发明中，相邻第一薄片1之间形成栅格间隙，为防止多栅格单元1形成光栅时第一薄片发生变形，在栅格间隙用薄物质填充，薄物质为易透过射线的物质。
如图6所示，该方案中第一薄片11的厚度大于第二薄片112的厚度，按该方案组成的栅格单元1制成的光栅，光栅栅格宽度大于栅格间隙的宽度。
实施例2
如图7至图9所示，本实施例与实施例1基本相同，其区别在于本实施方案中，栅格单元1采用三种不同长度的薄片形成，其中第一薄片11和第二薄片12长度不同，还包括第三薄片13；第三薄片13长度小于第一薄片11长度，至少三片第二薄片12沿第一薄片11长度方向上叠摞在第一薄片11同一面的两端和中部；第三薄片13叠摞在其中任意两片第二薄片12之间的第一薄片11上。第三薄片13的长度可以根据第一薄片11与第二薄片12组成的缝隙长度决定，第三薄片13的长度可以是第一薄片11与第二薄片12组成的缝隙长度，当然，如果第一薄片11与第二薄片12组成的缝隙长度与第二薄片12的长度相同，则第三薄片13的长度可以与第二薄片12的长度相同。如图9所示，当然为了在同一光栅上形成另一种占空比的光栅结构，需要将第三薄片13的厚度作相应的调整，当第三薄片13在第三薄片13叠摞在其中任意两片第二薄片12之间的第一薄片11上时，第三薄片13的厚度小于第二薄片12的厚度。
实施例3
当然可以理解，本发明不仅限于此，本发明还可以通过设置更多种不同薄片相互组合产生更多种不同占空比的光栅。如图10所示，本实施例与实施例1基本相同，其区别在于在本实施方案中，栅格单元1选择四种不同的薄片，增设第四薄片14。至少四片第二薄片12沿第一薄片11长度方向上叠摞在第一薄片11同一面；第三薄片13叠摞在其中任意两片第二薄片12之间的第一薄片11上。在第三薄片13上还叠摞有第四薄片。1片第一薄片11、4片第二薄片12、2片第三薄片13、1片第四薄片14共同组成栅格单元1，若干个叠摞的栅格单元1制成的多种占空比的光栅。应当可以理解，按照上述不同薄片叠摞形成光栅的思路可以拓展设置形成多种占空比的光栅。
在本发明中，栅格单元1中的第一薄片11和第二薄片12选择不易透过射线的薄片，例如采用高密度材料制成的薄片，优选是钨合金薄片。由于本发明中组成栅格单元1的各种薄片都具有一定的宽度，多个栅格单元1制成的光栅具有和薄片宽度一致的光栅厚度，本发明可以用于高能X射线场合。而现有的化学方法制备的光栅厚度较小，不能应用于高能X射线场合。本发明通过采用薄片叠摞的方式形成均匀的缝隙，薄片的宽度不受限制，光栅的厚度就不受限制，可用于高能射线，薄片独立成型，其韧性和强度好。本发明提供的多个栅格单元组装形成光栅时可以采用粘接方式或工装方式压紧。
实施例4
如图11、图12所示，本实施例与实施例1基本相同，其区别在于第二薄片22与第一薄片21的长度相同，第一薄片21是不易透过射线的薄片，第二薄片22是易透过射线的薄片。在此需要说明的是，应当可以理解，本实施例中第一薄片21与第二薄片22的厚度可以根据实际需求参照实施例中的方案作相应的改变，第一薄片21的厚度可以与第二薄片22的厚度相同也可以与第二薄片22的厚度不同。不同厚度差别的第一薄片21和第二薄片制成不同栅格间隙的光栅。另外，可以将实施例4与实施例1-3相结合衍生出其它的实施方案。为节约篇幅，在此就不再一一赘述了。
综上所述，本发明提供的光栅和辐射场像装置，采用不同规格的薄片叠摞形成光栅间隙均匀的光栅，光栅厚度不受限制，可以用于高能射线场合。
以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。

Claims (14)

1.一种光栅，其特征在于，包括：
若干个叠摞的栅格单元，若干个栅格单元叠摞形成栅格；
所述栅格单元包括具有两个相互平行平面的第一薄片和第二薄片；所述第二薄片与所述第一薄片沿第一薄片长度方向叠摞；
所述第一薄片为不易透过射线的薄片。
2.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，所述第二薄片长度小于所述第一薄片长度，所述第二薄片是至少两片；
所述第二薄片沿所述第一薄片长度方向上叠摞在所述第一薄片同一面两端，从而在相邻第一薄片之间形成栅格间隙。
3.如权利要求2所述的光栅，其特征在于，所述栅格间隙用易透过射线的物质填充。
4.如权利要求2所述的光栅，其特征在于，所述第一薄片的厚度与所述第二薄片的厚度不同。
5.如权利要求2所述的光栅，其特征在于，所述第一薄片和第二薄片的厚度为0.001毫米至3毫米。
6.如权利要求2所述的光栅，其特征在于，所述栅格单元还包括第三薄片；
所述第三薄片长度小于所述第一薄片长度，至少三片所述第二薄片沿所述第一薄片长度方向上叠摞在所述第一薄片同一面的两端和中部；
所述第三薄片叠摞在其中任意两片所述第二薄片之间的第一薄片上。
7.如权利要求6所述的光栅，其特征在于，所述第三薄片厚度小于所述第二薄片厚度。
8.如权利要求1所述的光栅，其特征在于，所述第二薄片与所述第一薄片长度相同；
所述第二薄片是易透过射线的薄片。
9.如权利要求8所述的光栅，其特征在于，所述第一薄片的厚度与所述第二薄片的厚度不同。
10.如权利要求8所述的光栅，其特征在于，所述第一薄片和第二薄片的厚度为0.001毫米至3毫米。
11.如权利要求1-10任意一项所述的光栅，其特征在于，所述第一薄片是高密度薄片。
12.如权利要求11所述的光栅，其特征在于，所述第一薄片是钨合金薄片。
13.如权利要求12所述的光栅，其特征在于，所述多个栅格单元以粘接或工装压紧组装形成光栅。
14.一种辐射成像装置，其特征在于，应用权利要求1至13任意一项所述的光栅。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017041602A1 (zh) * 2015-09-08 2017-03-16 清华大学 一种光栅和辐射成像装置
CN107093487A (zh) * 2017-04-25 2017-08-25 中国科学院深圳先进技术研究院 高密度光栅的制作方法及高密度光栅
CN111053977A (zh) * 2019-12-20 2020-04-24 上海联影医疗科技有限公司 多叶光栅和放射治疗装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53138294A (en) * 1977-05-10 1978-12-02 Toppan Printing Co Ltd Xxray camera grid and method of producing same
DE102009019647A1 (de) * 2009-04-30 2010-11-18 Siemens Aktiengesellschaft Beugungsgitter und Verfahren zur Herstellung
JP2012093117A (ja) * 2010-10-25 2012-05-17 Fujifilm Corp 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム
CN102930917A (zh) * 2011-08-08 2013-02-13 西门子公司 X射线防散射光栅及其制造方法
CN104575657A (zh) * 2014-03-31 2015-04-29 株式会社富士金 叠层型x线滤波栅、其制造装置及制法
CN204926815U (zh) * 2015-09-08 2015-12-30 清华大学 一种光栅和辐射成像装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4414679A (en) * 1982-03-01 1983-11-08 North American Philips Corporation X-Ray sensitive electrophoretic imagers
JPH07119837B2 (ja) * 1990-05-30 1995-12-20 株式会社日立製作所 Ｃｔ装置及び透過装置並びにｘ線発生装置
JP2000217812A (ja) * 1999-01-27 2000-08-08 Fuji Photo Film Co Ltd 散乱線除去グリッドおよびその製造方法
DE10151562B4 (de) * 2001-10-23 2004-07-22 Siemens Ag Anordnung aus Röntgen- oder Gammadetektor und Streustrahlenraster oder Kollimator
DE10241424B4 (de) * 2002-09-06 2004-07-29 Siemens Ag Streustrahlenraster oder Kollimator sowie Verfahren zur Herstellung
JP4900390B2 (ja) * 2006-08-25 2012-03-21 株式会社島津製作所 中空グリッドおよびその製造方法
WO2010018617A1 (ja) * 2008-08-11 2010-02-18 株式会社島津製作所 放射線グリッドおよびそれを備えた放射線撮影装置
JP5660910B2 (ja) * 2010-03-30 2015-01-28 富士フイルム株式会社 放射線画像撮影用グリッドの製造方法
JP2012112882A (ja) * 2010-11-26 2012-06-14 Fujifilm Corp 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム
CN201965938U (zh) * 2011-01-14 2011-09-07 沈阳航天新阳机电有限责任公司 一种医用ct机x射线准直光栅
JP5714968B2 (ja) * 2011-04-15 2015-05-07 株式会社日立ハイテクサイエンス Ｘ線タルボ干渉計用回折格子及びその製造方法、並びにｘ線タルボ干渉計
CN103901516B (zh) * 2012-12-26 2016-06-15 清华大学 光栅的制备方法
CN203787096U (zh) * 2014-03-07 2014-08-20 上海联影医疗科技有限公司 多叶光栅及多叶光栅装置
CN105139913B (zh) * 2015-09-08 2017-10-13 清华大学 一种光栅和辐射成像装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53138294A (en) * 1977-05-10 1978-12-02 Toppan Printing Co Ltd Xxray camera grid and method of producing same
DE102009019647A1 (de) * 2009-04-30 2010-11-18 Siemens Aktiengesellschaft Beugungsgitter und Verfahren zur Herstellung
JP2012093117A (ja) * 2010-10-25 2012-05-17 Fujifilm Corp 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム
CN102930917A (zh) * 2011-08-08 2013-02-13 西门子公司 X射线防散射光栅及其制造方法
CN104575657A (zh) * 2014-03-31 2015-04-29 株式会社富士金 叠层型x线滤波栅、其制造装置及制法
CN204926815U (zh) * 2015-09-08 2015-12-30 清华大学 一种光栅和辐射成像装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017041602A1 (zh) * 2015-09-08 2017-03-16 清华大学 一种光栅和辐射成像装置
US10643759B2 (en) 2015-09-08 2020-05-05 Nuctech Company Limited Grating and radiation imaging device
CN107093487A (zh) * 2017-04-25 2017-08-25 中国科学院深圳先进技术研究院 高密度光栅的制作方法及高密度光栅
CN107093487B (zh) * 2017-04-25 2023-06-27 中国科学院深圳先进技术研究院 高密度光栅的制作方法
CN111053977A (zh) * 2019-12-20 2020-04-24 上海联影医疗科技有限公司 多叶光栅和放射治疗装置
CN111053977B (zh) * 2019-12-20 2022-08-16 上海联影医疗科技股份有限公司 多叶光栅和放射治疗装置

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