CN105117081A - 触控基板及其制造方法、触摸显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种触控基板及其制作方法、触摸显示装置，涉及显示领域，能够采用大小、形状一致触控电极，提高了触控检测的准确度。本发明的方法包括触控基板，包括基板，还包括设置于所述基板上的：大小、形状一致的触控电极；触控引线，每一所述触控电极与一条所述触控引线相连接；遮挡部，设置于所述触控引线走线区域的空白区，所述遮挡部与所述触控电极采用相同的信号驱动。

Description

触控基板及其制造方法、触摸显示装置

技术领域

本发明涉及显示领域，尤其涉及一种触控基板及其制作方法、触摸显示装置。

背景技术

触摸屏作为一种特殊的计算机外设，它是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式；它赋予了多媒体以崭新的面貌，是极富吸引力的全新多媒体交互设备。

其中，内嵌式自电容技术多基于阵列基板制作，由于其信号量大，串扰少，成为很多厂家争相研发的对象。内嵌式自电容触摸屏中设置有多个同层设置且相互绝缘的自电容电极，当人体未触碰屏幕时，各个自电容电极所承受的电容为固定电容，当人体触碰屏幕时，对应的自电容电极所承受的电容为固定电容加人体电容，触控侦测单元在触控时间段通过检测各个自电容电极的电容值变化就可以判断出触控位置。

请参阅图1所示，目前的一种内嵌式触摸屏中，各个自电容电极11呈阵列分布，并且每个自电容电极11均通过自身对应的触控引线12连接至触控侦测单元(图中未示出)，由于触控引线12与自电容电极11同层设置，触控引线12走线占用空间越靠下越大，导致越靠下自电容电极11越小，自电容电极11大小的不一致影响了触控检测的准确度。

发明内容

本发明的实施例提供一种触控基板及其制作方法、触摸显示装置，采用大小、形状一致的触控电极，提高了触控检测的准确度。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一种触控基板，包括基板，还包括设置于所述基板上的：大小、形状一致的触控电极；触控引线，每一所述触控电极与一条所述触控引线相连接；遮挡部，设置于所述触控引线走线区域的空白区，所述遮挡部与所述触控电极采用相同的信号驱动。

优选地，所述触控电极由金属网格构成，所述金属网格的每一条金属线均对应在黑矩阵的遮挡区域。

优选地，所述触控引线由金属网格构成，所述金属网格的每一条金属线均对应在黑矩阵的遮挡区域。

优选地，所述遮挡部也由金属网格构成，所述金属网格的每一条金属线均对应在黑矩阵的遮挡区域。

优选地，所述触控电极、所述遮挡部和所述触控引线同层设置，且由同一金属层形成。

可选地，所述触控基板为彩膜基板或阵列基板。

可选地，所述触控基板为彩膜基板，所述彩膜基板上设置有黑矩阵；所述金属网格位于所述黑矩阵所在层的下方。

优选地，所述遮挡部为不透明的导电材料制成。

优选地，沿所述触控引线延伸方向排列的所述遮挡部相互连接。

可选地，所述触控电极呈阵列式分布，所述触控引线沿相邻两行或两列所述触控电极的间隙走线。

优选地，同一列/行的所述触控电极的中心位于同一条直线上。

本发明实施例还提供一种触控基板的制作方法，包括：提供基板；在所述基板上形成大小、形状一致的触控电极以及触控引线、遮挡部，其中每一所述触控电极与一条所述触控引线相连接；所述遮挡部设置于所述触控引线走线区域的空白区，所述遮挡部与所述触控电极采用相同的信号驱动。

优选地，在所述基板上形成大小、形状完全一致的触控电极以及触控引线、遮挡部，包括：在所述基板上形成彩色色阻层和黑矩阵；在形成有彩色色阻层和黑矩阵的基板上，形成金属膜，并通过构图工艺形成金属网格构成的触控电极、触控引线和遮挡部，其中，所述金属网格的每一条金属线均对应在所述黑矩阵的遮挡区域。

本发明实施例还提供一种触摸显示装置，包括任一项所述的触控基板。

本发明提供的触控基板及其制作方法、触摸显示装置，采用大小、形状一致的触控电极，提高了触控检测的准确度；每一触控电极与一条触控引线相连接，通过触控引线连接至相应的信号引脚，采用大小、形状一致的触控电极设计会存触控引线的走线区域越靠下走线越密集的问题，本发明通过在触控引线走线区域的空白区设置遮挡部，一方面通过遮挡解决触控引线走线疏密变化引起透过率差异，另一方面因遮挡部与触控电极采用相同的信号驱动，避免了因驱动信号的不同，对显示效果产生差异性影响，从而使画面均一性更好。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有技术的一种内嵌式触摸屏的触控电极及触控引线的布局示意图；

图2为本发明实施例一提供的触控基板的平面示意图；

图3为本发明实施例一提供的彩膜基板的截面示意图；

图4为本发明实施例一提供的彩膜基板的平面示意图；

图5为本发明实施例一提供的金属网格的细节设计图；

图6为本发明实施例二提供的触控基板制造方法流程图。

附图标记

11-自电容电极，12-触控引线，20-基板，21-触控电极，22-触控引线，

23-遮挡部，30-基板，31-彩色色阻层，32-黑矩阵，33-金属网格，

310-色阻块，330-金属线，2-薄膜晶体管的设置区域。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例一

本发明实施例一种触控基板，如图2所示，该触控基板包括基板20，还包括设置于基板20上的：大小、形状一致的触控电极21；触控引线22，每一触控电极21与一条触控引线22相连接，触控引线22另一端连接至相应的信号引脚上，进而连接至触控侦测单元(图中未示出)；遮挡部23，设置于触控引线22走线区域的空白区，遮挡部23与触控电极21采用相同的信号驱动。

本实施例每一触控电极21与一条触控引线22相连接，可以实现自电容触控，但本实施例的应用并不限于此。本实施例适用于解决所有触控电极21与触控引线22同层走线，因避让走线区造成的触控电极21大小存在差异的问题。

本实施例采用大小、形状一致的触控电极21，然后布设与触控电极21相连的触控引线22，这时面板上会因为有的地方不走线，有的地方走线密集在显示时出现差异，影响显示效果，本实施例在触控引线走线区域的空白区设置遮挡部，一方面利用遮挡部23的遮挡作用，解决触控引线走线疏密变化引起透过率差异，另一方面，将遮挡部上施加与触控电极相同的信号驱动，避免了因驱动信号的不同对显示效果产生差异性影响，结果使触控引线22在显示状态下不可见或不明显，避免对显示效果产生不利影响，从而使画面均一性更好。这时，优选地，将沿触控引线延伸方向排列的遮挡部23相互连接，便于施加驱动信号。

本实施例所述触控引线走线区域为设计时用于布设触控引线的区域，具体至图2所示实施例，图中触控引线沿相邻两列触控电极的间隙走线，因此宽度为d的相邻两列触控电极的纵向间隙为本实施例所述触控引线走线区域，遮挡部23设置于该区域内的空白区(未设置触控引线的区域)，可解决触控引线纵向走线疏密不均导致的显示不均匀。需要说明的是，同时图2所示实施例中相邻两行触控电极的间隙尽量设计的小些，因此只需设置遮挡部，解决触控电极的纵向间隙(触控电极走线区域)的走线不均即可。

可选地，上述遮挡部23可以与触控电极21和触控引线22同层设置，也可以单独一层设置。上述遮挡部23一般选择不透明材料制成，以起到遮挡作用。上述遮挡部23优选为不透明的导电材料制成时，并在遮挡部23上施加与触控电极21驱动信号同频同幅的信号进行驱动，从而避免因驱动信号的不同而对显示效果产生不同影响，画面均一性更好。

一种可选的实施方式中，上述触控电极21呈阵列式分布，保证触控电极大小相等，且同一行或同一列触控电极21的中心在一条直线上。触控引线22沿相邻两列所述触控电极的间隙走线。遮挡部23根据实际情况进行设计，以起到遮蔽作用，使触控引线22在显示状态下不可见或不明显，从而不影响显示效果为佳。

作为一种优选的实施方式，上述触控电极21和触控引线22均由金属网格构成(或其中之一金属网格构成)，而金属网格的每一条金属线均对应在黑矩阵的遮挡区域，可以获得高的触控性能，并且不影响透过率。进一步地，遮挡部23也由金属网格构成，即遮挡部23由分布在触控引线走线区域空白处的金属网格构成，这样金属线会在整个面板上呈现均匀性分布，显示效果更佳，同时由于金属网格的每一条金属线均对应在黑矩阵的遮挡区域，金属网格的引入也不会对透过率产生大的不利影响。上述金属网格指金属材料组建的网格形状。

现有技术中，触控电极由覆盖触控电极分布区域的连续的膜状材料构成，触控引线由覆盖触控触控引线设计区域的连续的膜状材料构成；而本发明触控电极由覆盖触控电极分布区域的金属网格构成，触控引线由覆盖触控触控引线设计区域的金属网格构成，遮挡部由覆盖触控触控引线走线区域空白处的金属网格构成。

需要说明的是，上述设计(触控电极21、触控引线22和遮挡部23的设计)适用于彩膜基板也适用于阵列基板。适用于彩膜基板也适用于阵列基板时，可与彩膜基板或阵列基板共用同一基板。

为便于本领域普通技术人员理解实现上述触控基板的结构，下面结合具体实施例进行详细介绍：

本发明实施例一种具有触控功能的彩膜基板，如图3和图4所示，彩膜基板的基板30上设置有彩色色阻层(彩膜)31和黑矩阵32，黑矩阵32的下方设置一层金属网格33，金属网格33的每一条金属线330均对应在黑矩阵32的遮挡区域，因此金属网格33对透过率不构成影响。

具体如图4所示，基板30上排列有多个像素，每一像素一般包括三个子像素，每一子像素内对应有一个色阻块310(即红/绿/蓝色阻块)，为像素的开口区域；在子像素的一角，色阻块31让出一定区域设置薄膜晶体管，如图4中子像素的右下角区域即为薄膜晶体管的设置区域2。金属网格33的金属线330分布在子像素的纵向间隙和横向间隙中，且每一金属线330均对应在黑矩阵32的遮挡区域。

其中，触控电极21大小、形状一致，其排列和具体形状不做限定。触控引线22和遮挡部23的具体形状、分布区域也不做限定，只要触控引线22能起到连通触控电极21与触控侦测单元的作用，遮挡部23能起到遮蔽触控引线22，使触控引线22显示时从观看侧不可见，不影响显示效果即可。

图5所示为一种金属网格33的设计细节示意图，整个金属网格33分成触控区域、触控走线和遮挡区域三个区域，触控区域即对应触控电极21分布区域，触控走线即对应触控引线22所占空间，遮挡区域即对应遮挡部23分布区域。图5中由金属网格构成的触控电极21其轮廓呈矩形，且触控电极21呈阵列式排布，同一行或同一列触控电极21的中心位于同一条直线上，且构成触控电极21的金属线保证相互连通；触控电极21的纵向间隙为触控引线22的走线区域，设置触控引线22；除去上述触控电极21的分布区域以及触控引线22的走线区域外，其余空白区域全部为遮挡区域，也采用金属网格覆盖，这部分金属网格即构成遮挡部23。

需要注意的是，除了触控引线22与对应的触控电极21存在连接外，构成触控电极21、触控引线22和遮挡部23的金属网格在相邻边界处相互断开，即三者分别为三片相互独立的金属网格，但可以同层设置，制备时由同一金属层刻蚀而成。

具体设计时，先计算出除去走线外，每一列最下方触控电极所能设计的尺寸大小(以正方形为例，此处的尺寸即边长)，以此为基础，将所有触控电极均设置为此种形状、大小。触控电极21的纵向间隙(相邻两列触控电极的间隙)用于布设触控引线22，为走线区，每一列的走线区在满足走线所占空间的情况下，设计遮挡部23的金属网格，还需留出空隙将每一构成遮挡部23的金属网格连接起来。上述整个图形中除触控电极21以及触控引线22所覆盖的区域，其余区域(主要是走线区域)全部使用金属网格填充，这部分金属网格即构成遮挡部23。触控电极21原则上大小相等，并且中心在横向和纵向都处于一条直线上。

上述触控电极21经过触控引线22全部从面板下方引出，然后通过金球导通到阵列基板，进而接入芯片的相应引脚。触控驱动信号会对显示效果产生影响，如果构成遮挡部23的金属网格也分列引出，使用与触控电极21相同的驱动信号，或者使用与触控电极21驱动信号同频同幅的信号进行驱动，可避免由于驱动信号的不同对显示效果产生差异性影响，从而使画面均一性更好。

上述实施例提供了一种新型的位于彩膜基板的内嵌式自电容设计，采用一层金属网格设计，并且金属网格的金属线与彩膜端黑矩阵图形相对应，由于金属网格为单层设计，为了保证触控电极中心在一条直线上，将整个金属网格分为触控区域、走线和遮挡区域，整个设计保证触控电极一致，以及遮挡区域一致。这样可以有效去除由于单层走线带来的触控电极大小上的差异，从而得到更好的触控性能。并且，由于遮挡部图形的存在，实际上减小了触控电极的面积，降低了触控负载。

本发明实施例还提供一种触摸显示装置，其包括上述任意一种触控基板。该装置成本低，触控性能更佳，显示品质更高。所述触摸显示装置可以为：液晶面板、电子纸、OLED面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

本发明提供的触控基板及触摸显示装置，采用大小、形状一致的触控电极，提高了触控检测的准确度，同时降低了触控负载；并且，由于设置了遮挡部对触控引线进行遮蔽，解决了因触控引线疏密变化引起的显示差异。

实施例二

本发明实施例还提供一种触控基板的制作方法，该方法包括：提供基板；在所述基板上形成大小、形状一致的触控电极以及触控引线、遮挡部，其中每一触控电极与一条触控引线相连接；遮挡部设置于所述触控引线走线区域的空白区，所述遮挡部与所述触控电极采用相同的信号驱动，用以遮蔽触控引线，提高显示效果。

本发明提供的触控基板制造方法，形成大小、形状一致的触控电极，提高了触控检测的准确度，触控电极的面积相应减小，降低了触控负载；同时因形成有对触控引线进行遮蔽的遮挡部，触控引线22在显示状态下不可见或不明显，解决了因触控引线疏密变化引起的显示差异。

为便于本领域技术人员理解上述触控基板的制作方法，下面在彩膜基板上实现上述设计为例，对上述触控基板的制作方法进行详细介绍。如图6所示，上述触控基板的制作方法，具体包括：

S101、提供基板30；

S102、如图3、图4所示，在基板30上形成彩色色阻层31和黑矩阵32，具体参照现有技术，不再详述。

S103、在形成有彩色色阻层31和黑矩阵32的基板上，形成金属膜，并通过构图工艺形成如图5所示金属网格33构成的触控电极21、触控引线22和遮挡部23，其中，金属网格33的每一条金属线330均对应在黑矩阵32的遮挡区域，遮挡部23分布在除触控电极21和触控引线22之外的区域，主要是相邻两列触控电极的间隙除触控引线22之外的空白区域。上述构图工艺包括但不限于光刻工艺。

上述触控基板制作方法，采用同层金属膜形成触控电极21、触控引线22和遮挡部23，并且均采用金属网格33构成，触控电极21大小、形状一致，提高了触控检测的准确度；遮挡部23对触控引线22进行遮蔽，在显示情况下不可见或不明显，解决了因触控引线走线疏密变化引起的显示差异；并且金属网格的金属线在整个面板上均匀性分布，显示均一性更佳。

优选地，上述形成的遮挡部23其构成的金属网格沿某一方向(优选沿触控引线22延伸方向)相互连接，便于引出并采用与触控电极21相同的信号驱动，可以避免因驱动信号的不同，对显示效果产生影响，画面均一性更好。

综上所述，本发明提供的触控基板制作方法，只需一次构图工艺即可形成大小、形状一致的触控电极，制作成本低，触控检测的准确度更高，显示效果更佳。

本发明实施例只是对一种优选、可选方式的举例说明，本领域技术人员根据本发明公开的内容，想到的显而易见的相似变形或相关扩展均属于本发明的保护范围内。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于设备实施例而言，由于其基本相似于方法实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。

Claims (14)

1.一种触控基板，包括基板，其特征在于，还包括设置于所述基板上的：

大小、形状一致的触控电极；

触控引线，每一所述触控电极与一条所述触控引线相连接；

遮挡部，设置于所述触控引线走线区域的空白区，所述遮挡部与所述触控电极采用相同的信号驱动。

2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，

所述触控电极由金属网格构成，所述金属网格的每一条金属线均对应在黑矩阵的遮挡区域。

3.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，

所述触控引线由金属网格构成，所述金属网格的每一条金属线均对应在黑矩阵的遮挡区域。

4.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，

所述遮挡部也由金属网格构成，所述金属网格的每一条金属线均对应在黑矩阵的遮挡区域。

5.根据权利要求1-4任一项所述的触控基板，其特征在于，

所述触控电极、所述遮挡部和所述触控引线同层设置，且由同一金属层形成。

6.根据权利要求1-4任一项所述的触控基板，其特征在于，

所述触控基板为彩膜基板或阵列基板。

7.根据权利要求6所述的触控基板，其特征在于，所述触控基板为彩膜基板，所述彩膜基板上设置有黑矩阵；

所述金属网格位于所述黑矩阵所在层的下方。

8.根据权利要求1-4任一项所述的触控基板，其特征在于，

所述遮挡部为不透明的导电材料制成。

9.根据权利要求8所述的触控基板，其特征在于，沿所述触控引线延伸方向排列的所述遮挡部相互连接。

10.根据权利要求1-4任一项所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极呈阵列式分布，所述触控引线沿相邻两行或两列所述触控电极的间隙走线。

11.根据权利要求10所述的触控基板，其特征在于，

同一列/行的所述触控电极的中心位于同一条直线上。

12.一种触控基板的制作方法，其特征在于，

提供基板；

在所述基板上形成大小、形状一致的触控电极以及触控引线、遮挡部，其中每一所述触控电极与一条所述触控引线相连接；所述遮挡部设置于所述触控引线走线区域的空白区，所述遮挡部与所述触控电极采用相同的信号驱动。

13.根据权利要求12所述的制作方法，其特征在于，在所述基板上形成大小、形状完全一致的触控电极以及触控引线、遮挡部，包括：

在所述基板上形成彩色色阻层和黑矩阵；

在形成有彩色色阻层和黑矩阵的基板上，形成金属膜，并通过构图工艺形成金属网格构成的触控电极、触控引线和遮挡部，其中，所述金属网格的每一条金属线均对应在所述黑矩阵的遮挡区域。

14.一种触摸显示装置，其特征在于，包括权利要求1-11任一项所述的触控基板。