CN105094470B - 触控传感器的跨接线、制造方法及电容式触控面板 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种触控传感器的跨接线、制造方法及使用该跨接线的电容式触控面板，所述的跨接线构造跨越间隔相邻的二个第二传感器之间的一电绝缘层，并且电性连接二个该第二传感器，所述跨接线构造包含：透明并具有导电性的一第一跨接部和金属材质的一第二跨接部，该第一跨接部覆盖于该电绝缘层，该第二跨接部的一端电性连接于该第一跨接部的一端，该第二跨接部的另一端电性连接于该第二传感器；本发明透过上述的跨接线构造改善了现有ITO(氧化铟锡)跨接线在爬坡部的位置容易断裂的问题。

Description

触控传感器的跨接线、制造方法及电容式触控面板

技术领域

本发明涉及一种使用于电容式触控面板的触控传感器的构造及其制造方法，特别是一种触控传感器的跨接线、制造方法及使用该跨接线的电容式触控面板。

背景技术

现有的触控面板是在一基板表面布设感应区，藉由感应区感应手指或其替代物(如触控笔)的位置实现触控的目的。触控面板的技术种类甚多，依侦测方式及其结构可区分为电阻式、电容式、电磁式、红外线式和表面声波式，其中又以电容式触控面板为目前的主流产品。已知的一种电容式触控面板是在一透明基板(如玻璃基板)的表面沿着第一方向(如X轴方向)和第二方向(如Y轴方向)分别设置数个互相平行的第一方向电极和数个互相平行的第二方向电极，第一方向电极和第二方向电极在透明基板的表面互相交错排列，第一方向电极和第二方向电极是采用透明的导电材料如氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)制作，手指触碰基板时藉由交错的第一方向电极和第二方向电极产生一电讯号，再将电讯号传送至一运算电路，通过运算电路即可得知手指和基板碰触的坐标位置。

已知的电容式触控面板的第一方向电极和第二方向电极在透明基板的设置方式可分为两种，其中一种方式是将第一方向电极和第二方向电极分别设置于透明基板的两个相对表面；另一种方式是将第一方向电极和第二方向电极设置于透明基板的同一侧表面，在第一方向电极和第二方向电极之间的交错位置设置有透明的一电绝缘层，配合跨过电绝缘层的一种具有导电性的跨接线构成一种「架桥」构造，令第一方向电极和第二方向电极能彼此交错设置而且不会在交错位置发生短路，前述架桥构造用于跨越电绝缘层的跨接线所使用的材质包含金属(metal)；另一种跨接线所使用的材质是为透明导电材料。

由于用户对视觉及操作便利性的需求提升，以及技术的日渐成熟，愈来愈多的产品都开始使用电容式触控面板，而且对电容式触控面板的质量要求也越来越高，比如要求使用ITO材质制作前述的跨接线，以避免使用金属跨接线在视觉上存在可见的问题。由于在架桥构造所在位置的电绝缘层具有一高度，致使跨接线形成时必须跨过电绝缘层的高度才能电性连接同一方向的电极，所以跨接线在电绝缘层的两边均存在＂爬坡”的现象，由于ITO的物理性质比较脆弱，在“爬坡”位置很容易断裂或损坏进而影响电容式触控面板的功能。

发明内容

鉴于上述，本发明之一目的旨在提出一种触控传感器的跨接线、制造方法及使用该跨接线的电容式触控面板，透过对电容式触控面板的跨接线的构造改进，改善采用ITO材质之跨接线形成时必须跨越电绝缘层的高度才能电性连接同一方向的电极而容易产生断裂的问题，另一方面也提升了制程的良率。

为实现上述目的，本发明提出之一触控传感器的跨接线是跨越间隔相邻的二个第二传感器之间的一电绝缘层，并且电性连接二个该第二传感器，所述的跨接线包括：透明导电的一第一跨接部和导电不透明的一第二跨接部，该第一跨接部覆盖于该电绝缘层，该第二跨接部的一端电性连接于该第一跨接部的一端，该第二跨接部的另一端电性连接于该第二传感器，其中该第二跨接部是由金属和金属氧化物其中的任一种制作，且该第二跨接部在物理性质方面较该第一跨接部强韧。

在本发明的一方面，包含数个该第二跨接部，该些第二跨接部的一端电性连接该第一跨接部，该些第二跨接部的另一端电性连接相邻的该第二传感器，任二相邻的该第二跨接部间隔排列。

本发明的一方面包含该触控传感器的跨接线的制造方法，该跨接线是跨越在第二方向间隔相邻的二个第二传感器之间的一电绝缘层，并且电性连接二个该第二传感器，所述方法的一实施例包括下列步骤：

在一电绝缘层上方形成跨接线构造的一第一跨接部，该第一跨接部是为一种透明导电材质，该第一跨接部在该第二方向的两端与该电绝缘层之两端的爬坡部之间具有一间隙；以及

在该第一跨接部与该电绝缘层之两端的爬坡部之间的该间隙处形成导电不透明的一第二跨接部，且该第二跨接部分别与该第一跨接部和相邻的该第二传感器电性连接。

在本发明方法的一实施例中，包括：在形成导电不透明的该第二跨接部的同时形成用于电性连接第一方向电极的第一轴向***线路，以及用于电性连接第二方向电极的第二轴向***线路；因此本发明方法可以在既有制程下，只是通过改进跨接线的构造就能达到避免跨接线断裂，提升制程良率。

在本发明方法的一实施例中，包括：形成金属氧化材质的该第二跨接部；透过金属氧化材质的第二跨接部降低第二跨接部的光反射率，避免第二跨接部出现可见的问题。

在本发明方法的一实施例中，包括：使用低反射率的金属材质形成该第二跨接部，具有降低第二跨接部的光反射率，避免第二跨接部出现可见问题的功效。

在本发明方法的一实施例中，包括：以溅镀和光刻制程形成具有多层金属材质的该第二跨接部，其中该具有多层金属材质的该第二跨接部的表面是为一抗反射层。

本发明的一方面包含使用该跨接线构造的电容式触控面板，该电容式触控面板的一实施例构造包括：

透明的一基板；

一第一方向电极，形成于该基板的一第一表面，该第一方向电极包括在第一方向相互间隔排列的复数个第一传感器，连接第一方向上相邻之该第一传感器的一第一导线，覆盖该第一导线的透明的一电绝缘层；以及

一第二方向电极，形成于该基板的该第一表面，该第二方向电极包括在第二方向相互间隔排列的复数个第二传感器及连接第二方向上相邻之该第二传感器的该跨接线构造，该跨接线构造在该第一导线处与该第一方向电极交错，该电绝缘层具有电绝缘性并且介于该跨接线构造和该第一导线之间以避免该跨接线构造和该第一导线短路。

在本发明的一方面，该第一跨接部于该基板上的垂直投影的长度比该电绝缘层于该基板上的垂直投影的长度短。

为明确且充分揭露本发明的技术内容，下文将配合图式列举最佳实施例及其实施方式如后。

附图说明

图1，为本发明的一实施例构造图，显示具有本发明之跨接线构造的电容式触控面板的平面构造图。

图2，为第1图在II-II位置的构造断面图，显示跨接线和电绝缘层的堆栈关系。

图3，为本发明跨接线的另一实施例构造断面图，绘示第二跨接部的表面具有一抗反射层。

图4，为本发明跨接线的另一种较佳实施例构造断面图，绘示第二跨接部为多层金属的结构。

图5，为本发明跨接线的又一实施例构造图，显示第一跨接部和数个第二跨接部电性连接的平面构造图。

图6，为本发明方法的一实施例的步骤流程图，显示使用本发明的跨接线构造的触控面板的制造步骤。

图7，为本发明方法的一实施例的步骤流程图，显示本发明提出之跨接线构造的制造步骤。

图8A-8E，为本发明方法制造触控面板的连续动作图，显示电容式触控面板的堆栈结构。

图9，为本发明方法的另一步骤流程图，显示使用本发明的跨接线构造的触控面板的制造步骤流程。

具体实施方式

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

首先请一并参阅第1图和第2图，第1图显示为根据本发明之一实施例，具有本发明之跨接线构造的电容式触控面板的平面构造图；第2图为第1图在II-II位置的构造断面图。如第1图所示，具有本发明之跨接线40的触控面板包含：设置于第一方向(例如X轴方向)的一第一方向电极10和设置于第二方向(例如Y轴方向)的一第二方向电极20、一电绝缘层30、一跨接线40、一基板50、一第一方向周边线路11、一第二方向周边线路21、一控制器C。

基板50具有透光之性质，且是用以支撑设置于第一方向电极10、第二方向电极20与跨接线40于基板50之同一侧。另外，基板50可为触控面板的盖板，其相对设置有第一方向电极10、第二方向电极20的另一表面可作为使用者触碰感测面。基板50通常是使用下列透光材料其中的任一种制作，所述透光材料包括，玻璃(Glass)、聚碳酸脂(polycarbonate,PC)、聚对苯二甲酸乙二脂(polyethylene terephthalate,PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(polymethylmesacrylate,PMMA)、聚砜(Polysulfone,PES)以及环烯共聚物(cyclicolefin copolymer)。在本发明的一实施例中，基板50为一玻璃平板或塑料平板。

第一方向电极10和第二方向电极20是经配置以感测施加于基板12之触控信号，且第一方向电极10通过与第一方向周边线路11电性连接，第二方向电极20通过与第二方向周边线路21电性连接，将所感测到的触控信号传输至一控制器C。在本实施例中，第一方向电极10和第二方向电极20设置于基板50的第一表面51并且互相交错。其中第一方向电极10包括：在第一方向相互间隔排列的复数个第一传感器12，连接第一方向上相邻之该第一传感器12的一第一导线13；第二方向电极20包括：在第二方向相互间隔排列的复数个第二传感器22，其中第二方向电极20的任二个相邻的第二传感器22分别位于第一方向电极10其中的一第一导线13的两侧。又，一电绝缘层30至少覆盖于该第一导线13上，第二方向电极20与第一导线13彼此之间以电绝缘层30电性绝缘，从而避免第二方向电极20与第一方向电极10之间发生短路。且覆盖于第一导线13上的电绝缘层30由于其本身的厚度与第二传感器22之间构成一爬坡部31。

跨接线40覆盖于该电绝缘层30上，具体而言，跨接线40是跨越间隔在第二方向上相邻的二个第二传感器22之间的该电绝缘层30，并且电性连接二个该第二传感器22。该跨接线40与该第一导线13彼此形成交错，并透过电绝缘层30相互电性绝缘。第一传感器12和第二传感器22是用以感测所施加之触控信号，而第一导线13和跨接线40则用以传输所感测到的触控信号。

在本发明之一实施例中，第一传感器12、第二传感器22与第一导线13的材料可包括各种透明导电材料，例如，氧化铟锡(indium tin oxide；ITO)、氧化铟锌(indium zincoxide；IZO)、氧化镉锡(cadmium tin oxide；CTO)、氧化铝锌(aluminum zinc oxide；AZO)、氧化铟锌锡(indium tin zinc oxide；ITZO)、氧化锌(zinc oxide)、氧化镉(cadmiumoxide)、氧化铪(hafnium oxide；HfO)、氧化铟镓锌(indium gallium zinc oxide；InGaZnO)、氧化铟镓锌镁(indium gallium zinc magnesium oxide；InGaZnMgO)、氧化铟镓镁(indium gallium magnesium oxide；InGaMgO)或氧化铟镓铝(indium galliumaluminum oxide；InGaAlO)。此外，第一传感器12、第二传感器22与第一导线13的材料亦可包括奈米金属材料、金属网格(metal mesh)等，奈米金属材料例如奈米银线、奈米铜线、奈米碳管等。第一导线13的材料还可包含不透明导电材料例如为金属。

本发明提出的跨接线40的构造包括：透明并具有导电性的一第一跨接部41和金属材质的一第二跨接部42，该第一跨接部41覆盖于该电绝缘层30，且该第一跨接部41于基板50上的垂直投影的长度比该电绝缘层30于基板50上的垂直投影的长度短。一般的，一个第一跨接部41至少对应两个第二跨接部42，该第一跨接部41的两端分别电性连接于各该第二跨接部42。具体的，各第二跨接部42的一端电性连接于该第一跨接部41的一端，第二跨接部42跨越该电绝缘层30的爬坡部31，并且第二跨接部42的另一端电性连接于相邻的该第二传感器22。

第一跨接部41是采用透明的导电材质制作，所述透明的导电材料包括：氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化镉锡(CTO)、氧化铝锌(AZO)、氧化铟锌锡(ITZO)、氧化锌(zincoxide)、氧化镉(cadmium oxide)、氧化铪(hafnium oxide,HfO)、石墨烯(Graphene)、奈米银线(Ag nanowire)以及奈米碳管(Carbon nanotubes，CNT)其中的任一种。该第二跨接部42由金属材料制作，所述的金属材料包含：钼、金、银、铜和铝其中之任一种，但不限定于此。由于金属材质的该第二跨接部42在物理性质方面会较使用透明的导材料制作的第一跨接部41强韧，藉此可有效改善ITO材质之跨接线需跨越电绝缘层的高度，而由于其物理性质脆弱导致在爬坡部31处易断裂破损的问题，使得跨接线40能顺利跨越爬坡部31而与第二传感器22电性连接。另一方面，通常，为了降低透明导电材料的第一跨接部41的阻抗，同时降低金属材质的第二跨接部42的可见度，金属材质的该第二跨接部42的宽度比第一跨接部41更小，较佳的第一跨接部41宽度至少是第二跨接部42的宽度的10倍以上，因此可以有效避免先前技术采用ITO制作的跨接线的宽度较宽(一般是金属跨接线之宽度的10倍以上)，导致顺着ITO跨接线的方向目视时，在某一个比较低的角度范围上，ITO跨接线在爬坡部位置比较亮，而产生ITO跨接线可见的问题。

在本发明一较佳实施例中，第二跨接部42可采用金属氧化材质或者低反射率的金属材质(例如铝、铬和氧化铬，但不限定于此)来降低第二跨接部42的光反射率，藉此能更加有效的改善第二跨接部42的可视问题。

请参阅第3图，为本发明跨接线之构造的电容式触控面板的另一种实施例的构造断面图。本实施例的大致结构及连接关系与第2图所示的实施例相同，不同之处在于，于本实施例中，该第二跨接部42具有多层金属材质堆栈结构，且该第二跨接部42的表面至少具有一抗反射层420，抗反射层420的材料可采用低反射率金属材质(例如铝、铬和氧化铬)和金属氧化材质或者其中的任一种方式实现，藉此，具有降低第二跨接部42的光反射率，避免第二跨接部42出现可见问题。

请参阅第4图，为本发明跨接线之构造的电容式触控面板的另一种较佳实施例的构造断面图。于该实施例中，第二跨接部42具有三层金属材质，分别为第一层421的钼(Mo)、第二层422的铝(Al)以及第三层423的钼(Mo)，第一层421为第二跨接部42的表面，第二层422介于第一层421和第三层423之间。此外，在本发明的另一种实施例中，具有多层金属材质的第二跨接部42的其中至少一层为金属氧化层，一种较佳实施方式其中的第一层421是为金属氧化层(例如以氧化钼制作第一层421)，藉此，不但具有降低第二跨接部42的光反射率，避免第二跨接部42出现可见问题的功效，且第二层422还可以由第一层421和第三层423提供保护，具有良好的导电率以及较低的阻抗。

请参阅第5图，为本发明跨接线之构造的电容式触控面板的又一种实施例平面构造图，本实施例的大致结构及连接关系与第1图所示的实施例相同，不同之处在于，于本实施例中，跨接线40的构造包括：一第一跨接部41和数个第二跨接部42a和42b电性连接于该第一跨接部41的其中至少一端，第5图中仅以第一跨接部41的两端分别电性连接于两个第二跨接部以示说明，但并不以此为限。该些第二跨接部42a和42b的一端电性连接该第一跨接部41，该些第二跨接部42a和42b的另一端电性连接相邻的该第二传感器22，任二相邻的该些第二跨接部42a和42b间隔排列；由于具有数个第二跨接部42a和42b，且均为金属材质，因此不仅能大大改善现有采用ITO材质之跨接线在爬坡部的位置容易断裂的问题，还能取到双重保障的作用，倘若其中一个跨接部断裂，还能藉由其他的跨接部进行导通。因而跨接线42能与第二传感器22良好的电性连接，制程良率及触控面板可靠度也大大提升。而且，金属材质的该些第二跨接部42a和42b的宽度比第一跨接部41更小，较佳的第一跨接部41宽度至少是第二跨接部42的宽度的10倍以上，因此也可以有效避免如上文所述的ITO跨接线可见的问题。第二跨接部42a和42b亦可为多层金属材质堆栈结构，且可透过如上文所述的采用低反射率金属

材质和金属氧化材质或者其中的任一种方式实现，详细可参照上文描述，在此不再赘述。

请参阅第6图，为具有前述本发明提出之跨接线的电容式触控面板的一种制造方法的步骤流程图，包括下列步骤：

于步骤A中(请同时参照第8A图)，在透明基板50的第一表面51以第一次制程(例如溅镀和光刻制程)形成第一方向电极10和第二方向电极20(其堆栈结构请见第8A图)，第一方向电极10包含：在第一方向相互间隔排列的数个第一传感器12(该部件的位置可参考第1图)、和电性连接在第一方向相邻之该第一传感器12的第一导线13，其中第二方向电极20包含在第二方向相互间隔排列的数个第二传感器22，其中第二方向电极20的任二个相邻的第二传感器22分别位于第一方向电极1的第一导线13的两侧；其中用于形成第一方向电极10和第二方向电极20的第一次制程可视第一方向电极10和第二方向电极20采用的材料而定，一般而言包含溅镀和光刻制程和印刷制程其中的任一种。且，该第一制程可以是一个步骤完成，也可以是分步骤完成。例如可以是第一方向电极10与第二方向电极20于不同的步骤完成，更进一步的，第一方向电极10中第一传感器12和第一道线13也可以于不同的步骤中完成，但本发明并不以此为限；

于步骤B中(请同时参照第8B图)，以第二次制程(例如溅镀和光刻制程或点胶的方式)形成电绝缘层30(其堆栈结构请见第8B图)，电绝缘层30可选自光阻材料，包括正光阻材料与负光阻材料，例如是聚酰亚胺(polyimide；PI)，也可由其他透明电绝缘材料制造，所述的透明电绝缘材料包含氧化硅SiO2和其他等效材料，但本发明并不以此为限。该电绝缘层30至少覆盖该第一导线13，并使该第二方向电极20的该第二传感器22的接触端221外露，该电绝缘层30在该第二方向的两端分别邻近该第二传感器22的位置由于其本身的厚度与第二传感器之间构成一爬坡部31，爬坡部31是一种斜面并且和基板50的第一表面51之间具有一夹角；以及

于步骤C中(请同时参照第8C-8D图)，在该电绝缘层30上方形成一跨接线40，该跨接线40包含透明并具有导电性的一第一跨接部41和金属材质的一第二跨接部42，该第一跨接部42覆盖于该电绝缘层30，该第一跨接部41在该第二方向的两端与该电绝缘层30之两端的爬坡部31之间具有一间隙43，该第二跨接部42形成于该间隙43的位置，各第二跨接部42的一端电性连接于第一跨接部41的一端，且该第二跨接部42跨越该电绝缘层30的该爬坡部31，该第二跨接部42的另一端电性连接于相邻的该第二传感器22。请参阅第7图绘示的步骤流程图，步骤C用于形成本发明之跨接线40的一实施例包括下列步骤：

前述步骤C用于形成本发明之跨接线40的一实施例，请参阅第7图绘示的步骤流程图，包括下列步骤：

首先，于步骤C1中，以第三次制程(例如溅镀和光刻制程)在该电绝缘层30上方形成该第一跨接部41(其堆栈结构请见第8C图)，该第一跨接部41在该第二方向的两端与该电绝缘层30之两端的爬坡部31之间具有一间隙43；以及

然后，于步骤C2中，以第四次制程(例如溅镀制程)在该第一跨接部41与该电绝缘层30之两端的爬坡部31之间的该间隙43处形成金属材质的该第二跨接部42(其堆栈结构请见第8D图)，该第二跨接部42分别与该第一跨接部41和相邻的该第二传感器22电性连接，该第二跨接部42分别在该第一跨接部41的两端通过该电绝缘层30的该爬坡部31并且电性连接于二个相邻的该第二传感器22。

在本发明方法的一实施例中，包括：在以第四次制程形成金属材质的该第二跨接部42的同时形成用于电性连接第一方向电极10的第一方向***线路(未绘示)，以及用于电性连接第二方向电极20的第二方向***线路(未绘示)；因此本发明方法可以在既有制程下，只是通过改进跨接线的构造就能达到避免跨接线断裂，提升制程良率。

请参阅第9图，在本发明方法的一实施例还包括一形成保护层60的步骤D.，是以一第五次制程形成一保护层60(passivation layer)覆盖于该第一方向电极10(其堆栈结构请见第8E图)、该第二方向电极20和该跨接线40的表面，该保护层60是为一种透明绝缘材料，所述的透明绝缘材料包含氧化硅SiO2和其他等效材料，用于保护该第一方向电极10、该第二方向电极20和该跨接线40。

在本发明方法的一实施例中，其中形成金属材质的该第二跨接部的一种实施方式，包括：使用低反射率的金属材质(例如铝、铬和氧化铬)形成该第二跨接部，具有降低第二跨接部的光反射率，避免第二跨接部出现可见问题的功效。

在本发明方法的一实施例中，其中形成金属氧化材质的该第二跨接部42的一种实施方式可包括：在形成第二跨接部42的制程中透过控制氧气量的方式形成一种金属氧化材质的该第二跨接部42，例如在溅镀制程中加大通入氧气量，令金属材料与氧气反应生成对应的金属氧化材质；透过金属氧化材质的第二跨接部42降低光反射率，避免第二跨接部42出现可见的问题。但本发明并不以此为限。

在本发明方法的一实施例中，其中形成金属材质的该第二跨接部42的一种实施方式，包括：形成一种具有多层金属材质的该第二跨接部42，并形成至少一抗反射层于该第二跨接部42的表面，抗反射层的实施方式可以透过采用低反射率金属材质和金属氧化材质其中的任一种方式实现，具有降低第二跨接部42的光反射率，避免第二跨接部42出现可见问题的功效。

在本发明方法的一实施例中，其中形成该第二跨接部42的步骤包括：形成数个该第二跨接部42a和42b，该些第二跨接部42a和42b的一端电性连接该第一跨接部41，该些第二跨接部42a和42b的另一端电性连接相邻的该第二传感器22，任二相邻的该些第二跨接部42a和42b是间隔排列。

综上所述，本发明提出一种触控传感器的跨接线、制造方法及使用该跨接线的电容式触控面板，透过对电容式触控面板的跨接线的构造改进，其中改进后的跨接线的构造包括：透明并具有导电性的一第一跨接部41和金属材质的一第二跨接部42，该第一跨接部41覆盖于该电绝缘层30，各第二跨接部42的一端连接于该第一跨接部41的一端，第二跨接部42跨越该电绝缘层30的爬坡部31，并且第二跨接部42的另一端电性连接于相邻的该第二传感器22。藉此，有效的改善采用ITO材质之跨接线形成时必须跨越电绝缘层的高度才能电性连接同一方向的电极而容易产生断裂以及可视问题，亦即可以改善采用ITO材质之跨接线在爬坡部的位置的跨越能力和可视问题，另一方面也提升了制程的良率。

Claims (23)

1.一种触控传感器的跨接线，用于跨越间隔相邻的二个第二传感器之间的一电绝缘层，并且电性连接二个该第二传感器，其特征在于，该跨接线包括：透明导电的一第一跨接部和导电不透明的一第二跨接部，该第一跨接部覆盖于该电绝缘层，该第二跨接部的一端电性连接于该第一跨接部的一端，该第二跨接部的另一端电性连接于该第二传感器，其中该第二跨接部是由金属和金属氧化物其中的任一种制作，且该第二跨接部在物理性质方面较该第一跨接部强韧。

2.根据权利要求1所述触控传感器的跨接线，其特征在于，该第一跨接部的材料包括：氧化铟锡、氧化铟锌、氧化镉锡、氧化铝锌、氧化铟锌锡、氧化锌、氧化镉、氧化铪、石墨烯、奈米银线以及奈米碳管其中之任一种或其组合。

3.根据权利要求1所述触控传感器的跨接线，其特征在于，该第二跨接部的材料包含：钼、金、银、铜和铝其中之任一种或其组合。

4.根据权利要求1所述触控传感器的跨接线，其特征在于，该第二跨接部是由低反射率的金属材质制作。

5.根据权利要求1所述触控传感器的跨接线，其特征在于，该第二跨接部是由金属氧化材质制作。

6.根据权利要求1所述触控传感器的跨接线，其特征在于，该第二跨接部具有多层金属材质，其中该第二跨接部的表面至少具有一抗反射层。

7.根据权利要求6所述触控传感器的跨接线，其特征在于，该抗反射层是由低反射率金属材质和金属氧化材质其中的任一种制作。

8.根据权利要求1所述触控传感器的跨接线，其特征在于，该跨接线包括数个该第二跨接部，该些第二跨接部的一端电性连接该第一跨接部，该些第二跨接部的另一端电性连接相邻的该第二传感器，任二相邻的该些第二跨接部间隔排列。

9.一种触控传感器的跨接线的制造方法，该跨接线是跨越在第二方向间隔相邻的二个第二传感器之间的一电绝缘层，并且电性连接二个该第二传感器，其特征在于，所述的方法包括：

在该电绝缘层上方形成一第一跨接部，该第一跨接部是为一种透明导电材质，该第一跨接部在该第二方向的两端与该电绝缘层的两端之间具有一间隙；以及

在该第一跨接部与该电绝缘层的两端之间的该间隙处形成导电不透明的一第二跨接部，该第二跨接部分别与该第一跨接部和相邻的该第二传感器电性连接，其中该第二跨接部是由金属和金属氧化物其中的任一种制作，且该第二跨接部在物理性质方面较该第一跨接部强韧。

10.根据权利要求9所述触控传感器的跨接线的制造方法，其特征在于，该第一跨接部的材料包括：氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化镉锡CTO)、氧化铝锌(AZO)、氧化铟锌锡(ITZO)、氧化锌(zinc oxide)、氧化镉(cadmium oxide)、氧化铪(hafnium oxide,HfO)、石墨烯(Graphene)、奈米银线(Ag nanowire)以及奈米碳管(Carbon nanotubes，CNT)其中之任一种或其组合。

11.根据权利要求9所述触控传感器的跨接线的制造方法，其特征在于，该第二跨接部的材料包含：钼、金、银、铜和铝其中之任一种或其组合。

12.根据权利要求9所述触控传感器的跨接线的制造方法，其特征在于，该第二跨接部是由低反射率的金属材质制作。

13.根据权利要求9所述触控传感器的跨接线的制造方法，其特征在于，包括：在形成该第二跨接部的制程中透过控制氧气量的方式形成一种金属氧化材质的该第二跨接部。

14.根据权利要求9所述触控传感器的跨接线的制造方法，其特征在于，形成该第二跨接部的步骤包括：形成具有多层金属材质的该第二跨接部，该第二跨接部的表面至少具有一抗反射层，该抗反射层是由低反射率金属材质和氧化金属材质其中的任一种制作。

15.根据权利要求9所述触控传感器的跨接线的制造方法，其特征在于，形成该

第二跨接部的步骤包括：形成数个该第二跨接部，该些第二跨接部的一端电性连接该第一跨接部，该些第二跨接部的另一端电性连接相邻的该第二传感器，任二相邻的该些第二跨接部间隔排列。

16.一种包括权利要求1所述之跨接线的电容式触控面板，其特征在于，包括：透明的一基板；

一第一方向电极，形成于该基板的一第一表面，该第一方向电极包括在第一方向相互间隔排列的复数个第一传感器，连接第一方向上相邻之该第一传感器的一第一导线，覆盖该第一导线的透明的一电绝缘层；以及

一第二方向电极，形成于该基板的该第一表面，该第二方向电极包括在第二方向相互间隔排列的复数个第二传感器，及连接第二方向上相邻之该第二传感器的该跨接线，该跨接线在该第一导线处与该第一方向电极交错，该电绝缘层是为透明并具有电绝缘性，该电绝缘层介于该跨接线和该第一导线之间。

17.根据权利要求16所述的电容式触控面板，其特征在于，该第一跨接部于该基板上的垂直投影的长度比该电绝缘层于该基板上的垂直投影的长度短。

18.根据权利要求16所述的电容式触控面板，其特征在于，该跨接线的该第二跨接部是由金属制作。

19.根据权利要求16所述的电容式触控面板，其特征在于，该跨接线的该第二跨接部是由低反射率的金属材质制作。

20.根据权利要求16所述的电容式触控面板，其特征在于，该跨接线的该第二跨接部是由金属氧化材质制作。

21.根据权利要求16所述的电容式触控面板，其特征在于，该跨接线的该第二跨接部具有多层金属材质，其中该第二跨接部的表面至少具有一抗反射层。

22.根据权利要求21所述的电容式触控面板，其特征在于，该抗反射层是由低反射率金属材质和金属氧化材质其中的任一种制作。

23.根据权利要求16所述的电容式触控面板，其特征在于，该跨接线包括数个该第二跨接部，该些第二跨接部的一端电性连接该第一跨接部，该些第二跨接部的另一端电性连接相邻的该第二传感器，任二相邻的该些第二跨接部间隔排列。