CN104661976A - 纹理化的玻璃表面及其制备方法 - Google Patents

Abstract

一种制备具有纹理化玻璃表面的制品的方法，所述方法包括例如：喷砂处理一部分的非离子交换的玻璃工件的表面；酸蚀刻至少一部分的喷砂处理的玻璃工件的表面；和离子交换酸蚀刻的和喷砂处理的玻璃工件的表面。一种通过所述方法制备的玻璃制品，其包括：至少一个防眩光表面，所述表面具有本文所定义的优异的雾度、图像清晰度、表面粗糙度和均匀性。

Description

纹理化的玻璃表面及其制备方法

本文所述的任何出版物或专利文献的全文内容通过参考结合于本文。

相关共同待审申请的交叉参考

本申请根据35U.S.C.§119要求2012年7月12日提交的美国临时申请系列号61/670,835的优先权，本文以该申请的内容为基础并通过参考将其全部内容结合于此。

本申请涉及2011年4月20日提交的题为“防眩光表面处理方法及其制品(Anti-Glare Surface Treatment Method and Articles Thereof)”的共同拥有和转让的共同待审申请美国专利申请号13/090,561，但不要求该文的优先权。

发明背景

本发明一般地涉及制造和使用(例如具有纹理化表面和任选的防眩光表面性质的)纹理化玻璃表面的方法，及其制品。具有高表面粗糙度的纹理化玻璃可用于触摸或可触摸的设备，例如触摸板(例如苹果魔法触摸板(Apple MagicTrackpad))和手提电脑的键盘面板。目前，这些表面中的很多表面由纹理化塑料或树脂制成。这些纹理化塑料或树脂材料不具有玻璃的耐磨损性，且可随着重复使用而磨损。

发明概述

本发明提供一种制备防眩光(AG)表面纹理的方法，和由该方法制备的制品。所述方法包括喷砂处理和酸蚀刻非离子交换的玻璃工件的表面，然后进行离子交换。

附图说明

在本发明的实施方式中：

图1显示了用于所批露的方法的示例性流程图。

图2A和2B分别显示了用具有表面凹陷的比较性方法和没有表面凹陷或显著减少表面凹陷的发明性方法进行喷砂处理之后的显微图像。

图3显示了在蚀刻中可接受的玻璃厚度损失的范例。

图4显示了在喷砂处理的表面在蚀刻时的表面转化。

图5显示了酸浓度和蚀刻时间对雾度性质的影响。

图6显示了酸浓度和蚀刻时间对图像清晰度(DOI)性质的影响。

图7显示了韦布尔(Weibull)图，比较了大猩猩玻璃(对照)和本发明的实验玻璃样品，后者用1500目白色氧化铝进行喷砂处理和用酸进行蚀刻。

图8显示了透射雾度和表面粗糙度参数之间的关联。

图9显示了玻璃厚度损失随蚀刻时间和酸浓度的变化。

发明详述

下面参考附图(如果有的话)详细描述本发明的各种实施方式。对各种实施方式的参考不限制本发明的范围，本发明范围仅受权利要求书范围的限制。此外，在本说明书中列出的任何实施例都不是限制性的，且仅列出要求保护的本发明的诸多可能的实施方式中的一些实施方式。

在一些实施方式中，所揭示的制品以及制造方法及其用途提供了一个或多个优势特征或方面，包括例如，如下文所述。任一项权利要求所述的特征或方面一般在本发明的所有方面适用。在任一项权利要求中所述的任意单个或多个特征或方面可以与任一项或多项其它权利要求中所述的任意其它特征或方面结合或置换。

定义

“特征”指的是，例如玻璃的边界区域，该区域经差异化蚀刻(例如凹陷)或者具有较高***域(例如墩、平台或“陆地”)。

“防眩光”、“AG”或类似术语是指光接触本发明经过处理的制品表面(如显示器表面)时变成漫反射而不是镜面反射的物理转变，或者指将制品表面反射的光变成漫反射而不是镜面反射的性质。在一些实施方式中，可以通过机械蚀刻、化学蚀刻以及电蚀刻等方法，或者它们的组合来进行表面处理。防眩光没有减少从表面反射的光的量，而仅改变反射光的特性。从防眩光表面反射的图像不具有清晰的边界。与防眩光表面不同，减反射表面通常是利用折射率变化以及(在一些情况下)相消干涉技术减少从表面反射的光的薄膜涂层。典型的减反射涂层不漫射光，仍从减反射涂层反射的光的量是镜面的并且反射图像仍是清晰的，虽然强度较低。

“接触”或类似术语是指能导致至少一个被触碰的实体发生物理和/或化学变化的密切物理触碰。在本发明中，各种颗粒附着技术，例如喷涂、浸涂、缝式涂布等技术，当如本发明所图示和描述的那样用颗粒进行颗粒化时，能提供颗粒化表面。作为附加或替代方式，如本发明所图示和描述的那样，对颗粒化表面的各种化学处理，如喷射、浸渍、浸涂等技术，或其组合，当使表面接触一种或多种蚀刻剂组合物时，能够提供蚀刻表面。

“反射图像清晰度”、“图像清晰度”、“DOI””或类似术语由题为“涂层表面图像清晰度光泽度仪器测量的标准测试方法(Standard Test Methodsfor Instrumental Measurements of Distinctness-of-Image Gloss of CoatingSurfaces)”的ASTM规程D5767(ASTM 5767)中的方法A定义。根据ASTM 5767的方法A，在玻璃制品的至少一个粗糙化表面上，在镜面观察角和略微偏离镜面观察角的角度进行玻璃反射因子的测量。将这些测量得到的数值合并，以提供DOI值。具体来说，DOI按照公式(1)计算：

$\mathrm{DOI}=[1-\frac{\mathrm{Ros}}{\mathrm{Rs}}]\×100---\left(1\right)$

式中，Rs是镜面方向上的反射率的相对大小，Ros是偏离镜面方向上的反射率的相对大小。在本文中，除非另外说明，通过对在偏离镜面方向0.2°至0.4°的角度范围内获得的反射率进行取平均值来计算Ros。Rs可通过对以镜面方向为中心，在±0.05°的角度范围内得到的反射率取平均值而计算得到。Rs和Ros都用测角光度计(Novo-gloss IQ，罗点仪器公司(RhopointInstruments))按照ASTM规程D523和D5767的规定测量，该测角光度计校准到经过认证的黑玻璃标准条件。所述Novo-gloss仪器使用检测器阵列，在此阵列中，在检测器阵列的最大值的附近设定镜面角中心。还使用单侧法(玻璃背面连有黑色吸收体)和双侧法(可以从玻璃的两个表面发生反射，没有任何东西与玻璃相连)评估DOI。所述单侧测量可以测定玻璃制品单个表面(例如单个粗糙化表面)的光泽度、反射率和DOI，而双侧测量可以将玻璃制品作为整体测定光泽度、反射率和DOI。由上文所述的Rs和Ros得到的平均值计算Ros/Rs之比。“20°DOI”或“DOI 20°”是指光从偏离玻璃表面法线20°的角度入射到样品上的DOI测量值，如ASTM D5767所述，在该例子中，“镜面方向”定义为-20°。使用两侧法对DOI或普通光泽度进行测量的操作最好在暗室或封闭罩子内进行，使得在没有样品的情况下，测得的这些性质的数值为零。

对于防眩光表面，通常希望DOI较低而公式(1)的反射率之比(Ros/Rs)较高。这会导致视觉观察到模糊的或者不清楚的反射图像。在一些实施方式中，当使用单侧测量法，从偏离镜面方向20°的角度测量时，所述玻璃制品的至少一个粗糙化表面的Ros/Rs约大于0.1，约大于0.4，约大于0.8。使用两侧法，玻璃制品在偏离镜面方向20°的角度上的Ros/Rs约大于0.05。在一些实施方式中，通过两侧法测得的玻璃制品的Ros/Rs约大于0.2，约大于0.4。通过ASTMD523测得的普通光泽度不足以将具有强镜面反射分量的表面(清晰的反射图像)与具有弱镜面反射分量(模糊的反射图像)的表面区别开来。这是因为无法使用根据ASTM D523设计的普通光泽计测量上述小角散射效应。

“透射雾度”、“雾度”或类似术语是指与表面粗糙度有关的特定表面光散射特性。雾度测量将在下文更详细地说明。

在显微水平或更低的水平上，“粗糙度”、“表面粗糙度(Ra)”或类似术语是指不平或不规则的表面条件，如平均均方根(RMS)粗糙度或者下文所述的RMS粗糙度。

“ALF”或“平均特性最大特征尺寸”或类似术语是指表面特征在x方向和y方向(即基材平面内)的变化的测量值，这将在下文进一步讨论。

“均匀性”、“均匀的”或类似术语是指蚀刻样品的表面质量。表面均匀性通常通过人在各个角度上进行的视觉检查来评价。例如，将玻璃制品样品大致保持在人眼的高度，然后在标准的白色荧光条件下缓慢地从0°转到90°。当观察者没有检查出针眼、裂纹、波纹、粗糙度或其他类似瑕疵时，表面质量被认定为“均匀”；否则，该样品被认定为不均匀。“良好”或“好”的等级是指均匀性可接受或令人满意，前者在主观上优于后者。

“包括”、“包含”或类似术语意为包括但不限于，即内含而非排它。

在描述本发明实施方式时用来修饰例如组合物中成分的量、浓度、体积、处理温度、处理时间、产率、流速、压力等数值及它们的范围的“约”指的是数量的变化，可发生在例如：制备化合物、组合物、复合物、浓缩物或应用制剂的典型测定和处理步骤中；这些步骤中的无意误差；制造、来源或用来实施所述方法的原料或成分的纯度方面的差异中；以及类似考虑因素中。术语“约”还包括由于组合物或制剂的老化而与特定的初始浓度或混合物不同的量，以及由于混合或加工组合物或制剂而与特定的初始浓度或混合物不同的量。本发明所附的权利要求书包括这些“约”等于的量值的等价形式。

实施方式中“基本上由……组成”可以指例如：

一种制备具有纹理化玻璃表面的制品的方法，所述方法包括：

喷砂处理一部分的非离子交换的玻璃工件的表面；

酸蚀刻至少一部分的喷砂处理的玻璃工件的表面；和

离子交换酸蚀刻的和喷砂处理的玻璃工件的表面；或者

通过前述过程制备的玻璃制品。

本发明的制备制品的方法、制品、设备、组合物、制剂或任何设备可包括权利要求书中所列的组分或步骤，再加上对组合物、制品、设备或者本发明的制备和使用方法的基本性质和新颖性质没有实质影响的组分或步骤，如特定的反应物、特定的添加剂或成分、特定的试剂、特定的表面改性剂或条件，或者类似的结构、材料，或者所选的工艺变量。可对本发明的组分或步骤的基本性质造成实质影响或者可给本发明带来不利特性的项目包括例如具有不可接受的高眩光或高光泽性质的表面，例如具有超出本文所定义和规定的数值(包括中间值和范围)的雾度、图像清晰度、表面粗糙度、均匀性或其组合。

除非另外说明，否则，本文所用的不定冠词“一个”或“一种”及其相应的定冠词“该”表示至少一(个/种)，或者一(个/种)或多(个/种)。

可采用本领域普通技术人员熟知的缩写(例如，表示小时的“h”或“hrs”，表示克的“g”或“gm”，表示毫升的“mL”，表示室温的“rt”，表示纳米的“nm”以及类似缩写)。

组分、成分、添加剂和类似方面所公开的具体和优选数值及其范围仅用于说明，它们不排除其他限定数值或限定范围内的其他数值。本发明的组合物、设备和方法可包括本文所述的任何数值或数值、具体数值、更具体的数值和优选数值的任何组合。

具有光滑玻璃表面的显示器可能难以观看，这是由于当光从其表面反射时产生眩光。对于许多显示器应用(例如，电脑监视器、手持式装置、工作平板、笔记本和类似装置等)，防眩光(AG)表面是优选的，因为降低了镜面(镜面状)反射的量。

可以通过如下方式生产用于显示器或非显示器设备或制品的AG玻璃表面，例如，为玻璃添加聚合物膜、用具有AG性质的涂层涂覆玻璃或者通过向朝向消费者的玻璃表面添加光散射纹理。在这些例子中，纹理化的离子交换玻璃是优选的，因为它比聚合物涂层更耐刮擦。向玻璃添加纹理的方法之一是喷砂处理和酸蚀刻玻璃，从而选择性去除玻璃的结构域。

在上文所述的共用待审的申请USSN 61/484,326中，揭示了含有平均粒度小于20微米的颗粒的蚀刻掩模。可以通过各种方法将颗粒与玻璃粘附，并且取决于粘附的类型和化学性，可以提供蚀刻掩模的耐酸相。用酸蚀刻制造AG玻璃表面的过程可以包括，例如，提供清洁的玻璃；施加掩模层；对掩模的表面进行蚀刻；以及任选地对所得到的纹理化玻璃表面进行清洗和干燥。

化学强化玻璃在许多的手持式触敏设备中用作显示窗和盖板，在这些用途中，抗机械损伤性对于产品的外观和功能性来说是很重要的。在化学强化过程中，熔盐浴中的较大碱性离子与位于距离玻璃表面一定距离内的较小可移动碱性离子进行交换。离子交换过程将玻璃表面置于压缩状态，使其更能抵抗任何其在使用过程中经常遭受的机械损伤。

对于许多显示器表面，往往需要减少镜面反射(眩光的重要因素)，对设计室外用产品的制造商来说尤其如此，室外日光会加剧眩光。一种用来减少镜面反射强度的方法是使得玻璃表面粗糙化或者用纹理化膜覆盖玻璃表面。粗糙度或纹理的尺寸应当足够大，以便对可见光进行散射，由此形成略微模糊或消光的表面，但是又不能过大，以免显著影响玻璃的透明度。当保持玻璃基材的性质(例如抗刮擦性)不重要时，可使用纹理化或含颗粒的聚合物膜。虽然这些膜可能便宜且容易应用，但它们易磨损，这会削弱装置的显示功能。使用膜或涂层的另一个不足之处在于它们会妨碍某些触敏装置的操作或者降低它们的性能。使玻璃表面粗糙化的另一种方法是化学蚀刻。美国专利第4,921,626号、第6,807,824号、第5,989,450号以及WO2002/053508提到了玻璃蚀刻组合物以及用所述组合物蚀刻玻璃的方法。湿蚀刻法是一种能够在玻璃上形成防眩光表面、同时能够保持玻璃本身具有的表面机械性质的方法。在该方法中，玻璃表面受化学试剂作用，所述化学试剂能侵蚀表面，校正表面粗糙度大小，导致可见光发生散射。当存在具有不同溶解度的微结构区域时，例如在钠钙硅酸盐玻璃中，可以通过将玻璃放入(通常含有氟离子的)无机酸溶液中，来形成粗糙化表面。此类选择性溶浸或蚀刻对于在缺乏此类不同溶解性微结构区域的其他显示玻璃(例如碱土铝硅酸盐和混合的碱性硼硅酸盐，以及含例如锂、钠、钾等组分或其组合的碱性和混合碱性铝硅酸盐)上产生均匀、防眩光表面是效率低下的。

在一些实施方式中，所批露的纹理化玻璃的方法适用于例如EagleTM，钠钙玻璃和类似的玻璃组合物，和其它玻璃组合物。可受控地改变喷砂处理和蚀刻条件，来增加或降低表面粗糙度性质。

US 6,527,628(伊藤(Ito)等)提到第一步是喷砂处理，最后一步是刷清洁。但是，没有涉及酸蚀刻。WO2010/35921A(李(Lee)等)提到一种使用钢化玻璃的触摸面板，该玻璃用于触摸设备，没有表面粗糙度或纹理化。

在一些实施方式中，本发明提供了一种制造具有纹理化玻璃表面的制品的方法，其包括：喷砂处理一部分的非离子交换的玻璃工件的表面；酸蚀刻至少一部分的喷砂处理的玻璃工件的表面；和离子交换酸蚀刻的和喷砂处理的玻璃工件的表面。

在一些实施方式中,可通过例如使用颗粒砂的湿喷砂过程来实现喷砂处理，该颗粒砂包括或由下述组成：氧化铝颗粒,碳化硅颗粒,或其混合物，且用水或类似液体载体将它们制备成淤浆。颗粒含量可为例如,约2-约20重量％。或者，在一些实施方式中,可通过干喷砂来实现喷砂处理。在干喷砂中，砂可包括例如,氧化铝,碳化硅,玻璃珠,或其混合物。在干或湿方法中的砂粒度可为例如,约10-约200微米,10-50微米,5-50微米,2-50微米,包括中间值和范围。喷砂处理可包括例如,使玻璃表面暴露于喷砂处理颗粒，暴露约1-约100克/分钟，例如30米/分钟,暴露1-50遍，使用1-5个喷嘴。在一些实施方式中，玻璃表面可以是例如钠钙硅酸盐玻璃、碱土金属铝硅酸盐玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、碱性硼硅酸盐玻璃、硼铝硅酸盐玻璃和类似材料中的至少一种或其组合。在一些实施方式中，砂颗粒可以由例如碳化硅颗粒构成，蚀刻剂可以由例如至少一种酸(选自HF、H₂SO₄、HCl、HNO₃、H₃PO₄)和类似蚀刻剂或其组合构成。

在一些实施方式中，与蚀刻剂接触可以是，例如使具有附着的微包封的颗粒的玻璃表面与蚀刻剂接触，持续约1秒至约30分钟(包括中间值和范围)，例如约10秒至约10分钟，约20秒至约1分钟，或者类似的接触或间隔。

在一些实施方式中，所述方法还可以包括用低表面能涂料，例如含氟化合物，处理所得粗糙化表面，以降低浸润并便于清理。

在一些实施方式中，所述方法还包括洗涤和/或干燥所得喷砂处理的、酸蚀刻的或化学强化的表面，或进行类似的处理，或其组合。

在一些实施方式中，所述方法还可包括，在蚀刻之前，使制品的至少另一表面接触任选的可除去的抗蚀刻保护层，所述任选的可除去的抗蚀刻保护层防止了被保护的区域中发生蚀刻。

在一些实施方式中，本发明提供了一种通过任意所揭示的制造方法制备的玻璃制品。玻璃制品可以是例如，显示或非显示装置的玻璃片。

玻璃表面可以是，例如钠钙硅酸盐玻璃、碱土铝硅酸盐玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、碱性硼硅酸盐玻璃、硼铝硅酸盐玻璃或其组合中的至少一种，所述颗粒可以由蜡、聚合物或其组合中的至少一种构成，所述蚀刻剂包含选自HF、H₂SO₄、HCl、HNO₃、H₃PO₄或其组合中的至少一种酸。

在一些实施方式中，所述方法还可任选地包括，例如：在酸蚀刻步骤之后，从玻璃表面去除任何残留的颗粒；去除任何保护膜层；或其组合。所述方法还任选地包括，例如：在从玻璃去除颗粒和任意保护膜之后的后续蚀刻步骤。这些后续蚀刻步骤可以进一步改变或者不改变玻璃的表面粗糙度分布或玻璃表面化学特征。

在一些实施方式中，本发明提供根据前述过程或任意过程排列制备的表面纹理化的玻璃制品。

所得的表面纹理化的玻璃制品可以是例如具有约为1-100微米的特性横向周期(characteristic lateral period)的形貌特征分布。横向周期与平均特性最大特征尺寸(ALF)具有相同含义。ALF是粗糙化表面上的视场中20个最大重复特征的平均截面线性尺寸，如下文所详述。

在一些实施方式中，所述方法还可包括，在蚀刻之前，使制品的至少另一表面接触可任选除去的抗蚀刻保护层。

在一些实施方式中，所述方法还可包括，在蚀刻之后，洗涤所得的防眩光表面，对所述防眩光表面进行化学强化，或其组合。

在一些实施方式中，本发明提供了通过前述任意方法(包括其组合或排列)所制备的玻璃制品。

在一些实施方式中，玻璃制品的防眩光表面可以具有例如平均直径约为1-100微米的形貌特征分布。形貌特征的优选直径可以是例如，约0.1-20微米，包括中间值和范围。

在一些实施方式中，对于显示器盖板应用，雾度可以优选是例如约小于10，甚至更优选是例如约6-9，甚至更优选是例如约5-6或者更低，包括中间值和范围。在一些实施方式中，对于非显示器盖板应用，例如电器、鼠标垫、光扩散器、装饰窗以及类似制品，雾度可以优选是例如约大于30，甚至更优选是例如约35-60，甚至更优选是例如约40-80，包括中间值和范围。

在玻璃表面上产生防眩光层的一种已知蚀刻方法可能涉及至少三个浴。例如，第一浴可含有二氟化铵(ABF)，从而在玻璃表面上生长ABF晶体。第二浴可含有H₂SO₄，以去除晶体。第三浴可以是H₂SO₄/HF的混合物，以使得玻璃表面光滑。通常来说，三浴法从开始到结束的加工时间可以是例如约60-80分钟。

在一些实施方式中，制品的所述至少一个表面可以是例如玻璃、复合物、陶瓷、塑料或树脂基材料以及类似材料或其组合。在一些实施方式中，使颗粒化表面接触蚀刻剂的步骤可通过例如使经喷砂处理的表面与蚀刻剂接触，例如约1秒至约30分钟(包括中间值和范围)，例如约10秒至约10分钟，约20秒至约1分钟，或者类似的接触或间隔来完成。

在一些实施方式中，制备方法还可任选地包括例如洗涤所得的蚀刻的纹理化或者防眩光表面，对纹理化或者防眩光表面进行化学强化，施涂功能性涂层或膜(例如光敏膜或偏振光膜)或者保护性表面涂层或膜以及类似的涂层或膜，或其组合。

在一些实施方式中，当玻璃片上需要单侧酸蚀刻或类似的改性时，可对玻璃一侧加以保护，防止其接触蚀刻溶液。所述保护可这样实现，例如施涂不可溶非多孔性涂层如丙烯酸石蜡，或者具有黏合剂层的层压膜，所述黏合剂层是例如丙烯酸、硅树脂和类似的黏合剂材料，或其组合。涂层施涂方法可包括例如刷涂、辊涂、喷涂、层压及类似方法。经历酸蚀刻的不可溶非多孔性保护涂层在酸蚀刻过程中保持完好，并且在蚀刻之后容易除去。从制品表面除去保护膜可利用任何合适的方法完成，如使保护膜接触溶解液，将膜加热至液化并排干，以及类似的方法和材料，或其组合。因此，所述制备方法还可任选包括在蚀刻之前，使制品的至少另一个表面，例如第二表面，如玻璃片的背面，接触任选可除去的抗蚀刻保护层。

在一些实施方式中，本发明提供了通过本文所揭示的任意制备方法制备的制品，如通过上述喷砂处理和蚀刻步骤制备的玻璃制品。在一些实施方式中，可以依次地、同时地、连续地、半连续地、分批地及其类似的排列或者组合来实现制备过程。

在一些实施方式中，所述方法还可任选地包括在蚀刻步骤之后从玻璃表面去除任意残留颗粒，去除任意保护膜层，并且还可包括在从玻璃去除了颗粒和保护膜之后进行的后续蚀刻步骤。这些后续蚀刻步骤可以进一步改变玻璃的表面粗糙度分布或玻璃表面化学特征。

在一些实施方式中，所述制品的所述至少一个表面可以是玻璃，砂颗粒可以是适于喷砂的颗粒，蚀刻剂可以是至少一种酸或酸的混合物。

在一些实施方式中，本发明的具有防眩光表面的玻璃制品可包含平均直径约为0.1-100微米、约0.1-50微米、约0.1-30微米以及类似范围的形貌特征分布，包括中间值和范围。

在一些实施方式中，本发明提供了一种包含通过所揭示的制造方法制备的具有纹理化表面的玻璃制品的制品或设备。

在一些实施方式中，本发明提供了湿蚀刻方法，用来在大部分硅酸盐玻璃上形成均匀的纳米级至微米级纹理化表面，而不会对玻璃的化学强化能力造成显著影响。该方法包括喷砂处理玻璃表面,然后对喷砂的表面进行酸蚀刻，例如在HF中或在多组分酸溶液中。在一些实施方式中，酸蚀刻溶液可优先或选择性地蚀刻玻璃表面不规整处或玻璃表面上的岛，且还可降低表面粗糙度。

在一些实施方式中，通过例如调整下面的至少一个或多个参数，可得到所需的减小的光泽度或眩光水平：喷砂处理的水平或量(即，持续时间)，所用砂颗粒的粒度分布(PDS)，酸蚀刻剂的浓度，玻璃样品的经喷砂处理的表面与酸蚀刻剂接触的暴露间隔或时间。

在一些实施方式中,由喷砂处理和酸蚀刻步骤提供表面经纹理化的中间玻璃制品。表面经纹理化的玻璃制品可以是可离子交换的，并且可具有至少一个粗糙化表面。在20°的入射角测得，所述粗糙化表面的反射图像清晰度(DOI)小于90(20°的DOI)。还提供了包括防眩光玻璃制品的像素化显示***。所述玻璃制品可以是例如平面片材或面板，它具有两个主表面，这两个主表面在周边通过至少一个边缘连接，但是所述玻璃制品也可以成形为其他的形状，例如成形为一种三维形状。至少一个表面是粗糙化表面，所述粗糙化表面包括例如拓扑特征(topographical feature)或形貌特征，如凸起、***、凹陷、凹坑、闭孔或开孔结构、颗粒、岛、平地、沟、裂隙、裂缝以及类似的几何形状和特征，或其组合。

在一些实施方式中，本发明提供了铝硅酸盐玻璃制品。铝硅酸盐玻璃制品可包括例如至少2摩尔％的Al₂O₃，可以是可离子交换的，并且可具有至少一个粗糙化表面。铝硅酸盐玻璃制品可具有至少一个包含多种形貌特征的粗糙化表面。所述多个拓扑特征可具有约1-50微米的平均特性最大特征尺寸(ALF)。

在一些实施方式中，本发明提供制备纹理化玻璃的低成本方法，该玻璃用于例如非显示应用，包括例如触摸板(trackpads)和键盘面板。这些应用的触摸表面的触感是重要的，且可通过纹理化玻璃来实现。离子交换过程赋予玻璃强度和耐久性。在所批露的方法的实施方式中，用目数较低的砂(例如，直径为2-40微米,和10-40微米)喷砂处理玻璃，并在蚀刻剂混合物例如氢氟酸/硫酸混合物中进行酸蚀刻,从而制备具有平均粗糙度(Ra)为约50纳米-1.3微米的所需纹理。所批露的方法和所得玻璃制品的优势可包括例如，粗糙化的、离子交换的玻璃提供优异的塑料替代品，例如就强度、耐磨损性、触感和隐藏指纹的能力而言。与塑料或树脂表面相比，本发明的纹理化的玻璃表面可具有优异的美学性质。可通过例如离子交换步骤之后的易清洁涂层进一步改善粗糙化玻璃的耐指纹性。

在一些实施方式中，所述玻璃制品的至少一个粗糙化表面的平均RMS粗糙度可约为10-800nm，约为40-500nm，以及约为40-300nm。在一些实施方式中，平均RMS粗糙度可约大于10nm而约小于ALF的10％，约大于10nm而约小于ALF的5％，约大于10nm而约小于ALF的3％。

所述低DOI和高Ros/Rs的要求对特性特征尺寸和ALF提供了限制。对于给定的粗糙度水平，较大的特征尺寸会导致较低的DOI和较高的Ros/Rs。因此，为了平衡DOI和粗糙度目标，在一些实施方式中，可产生具有既不太小也不太大的中间特性特征尺寸的防眩光表面。在显示器盖板应用中，当透射雾度扩散到非常高的角度，在环境照明条件下使粗糙化制品出现乳白色的外观时，可使反射雾度或透射雾度最小化。

根据ASTM D1003，“透射雾度”、“雾度”或类似术语是指被散射到±4.0°角锥外面的透射光的百分数。对于光学平滑表面，透射雾度通常接近于零。在两侧***糙的玻璃片的透射雾度(雾度_两侧)可以根据以下近似式(2)与具有仅在一侧***糙的相同表面的玻璃片的透射雾度(雾度_单侧)相关联：(2):

雾度_两侧≈[(1-雾度_单侧)×雾度_单侧]+雾度_单侧   (2)。

雾度值通常用雾度百分数表示。由方程式(2)得到的雾度_两侧的数值必须乘以100。在一些实施方式中，所揭示的玻璃制品的透射雾度约小于50％，甚至约小于30％。

已经利用多步表面处理法形成了粗糙化玻璃表面。卡尔森(Carlson)等人在2009年3月31日提交的题为“具有防眩光表面的玻璃及其制备方法”(GlassHaving Anti-Glare Surface and Method of Making)的共同拥有、同时待审的美国专利公开第2010/0246016号中揭示了多步蚀刻法的一个例子，其中玻璃表面用第一蚀刻剂处理，在表面上形成晶体，然后在靠近每粒晶体的表面区域进行蚀刻，得到所需的粗糙度，接着从玻璃表面除去晶体，减小玻璃制品表面的粗糙度，得到具有所需雾度和光泽度的表面。

在一些实施方式中，可在喷砂处理颗粒配方和/或蚀刻溶液中包含各种性能促进添加剂，包括例如表面活性剂、助溶剂、稀释剂、润滑剂、胶凝剂、电荷控制剂和类似的添加剂，或其组合。在一些实施方式中，表面活性剂可优选是全氟表面活性剂，例如表面活性剂。

用蚀刻剂接触颗粒化表面可涉及例如用酸性蚀刻溶液进行选择性的部分或完全浸蘸、喷射、浸渍和类似处理或者多种处理的组合，所述酸性蚀刻溶液包括例如2-10重量％的氢氟酸和2-30重量％的无机酸如盐酸、硫酸、硝酸、磷酸和类似的酸，或其组合。玻璃表面可以在溶液中蚀刻约1秒至约10分钟的时间(包括中间值和范围)。所揭示的浓度和蚀刻时间是代表性的合适例子。超出所揭示的范围的浓度和蚀刻时间虽然可能效果没有那么好，但也可用来获得玻璃制品的粗糙化表面。其他蚀刻浓度可以是，例如3M HF/3.6M H₂SO₄,5.5M HF/6.5M H₂SO₄,6M HF/7M H₂SO₄，以及类似蚀刻组成和浓度，包括中间值和范围以及组成。

在化学强化过程中，较大的碱金属离子交换玻璃表面附近较小的可移动碱性离子。此离子交换过程将玻璃表面置于压缩状态，使其更能抵抗任何机械损伤。在一些实施方式中，玻璃制品外表面可任选进行离子交换，其中较小的金属离子被价态与较小的离子相同的较大金属离子置换或交换。例如，可以通过将玻璃浸没在包含钾离子的熔盐浴中，用较大的钾离子置换玻璃中的钠离子。通过用较大的离子置换较小的离子，在层内产生压缩应力。或者，在一些实施方式中，玻璃外表面附近较大的离子可被较小的离子置换，例如通过将玻璃加热到高于玻璃应变点的温度。通过将温度冷却到应变点以下，在玻璃外层产生压缩应力。玻璃的化学强化可任选地在表面粗糙化处理之后进行，对玻璃制品的离子交换性质或强度很少有负面影响。

在一些实施方式中，本发明提供了制备防眩光表面的方法，所述方法包括例如用颗粒对表面进行“投射颗粒”(即喷砂)，如使用不含液体或含液体的颗粒分散体；用合适的蚀刻剂蚀刻经颗粒喷砂的表面；对蚀刻表面进行离子交换；以及任选进行进一步处理，以减少不可接受的表面瑕疵(即减少瑕疵)。

参考附图，图1显示了用于所批露的方法的示例性流程图。在一些实施方式中,所述方法包括例如任选地切割玻璃工件到所需尺寸；任选地清洁玻璃工件以去除表面碎片或污染物；任选地向工件的一侧或一部分上层压聚合物膜或类似的保护层，用于加工时的表面保护；喷砂处理(200)工件的未层压侧；任选地淋洗工件以去除砂残留物；通过浸没在例如包括氢氟酸和硫酸的混合物的蚀刻浴中进行酸蚀刻(210)；任选地再次淋洗(220)玻璃以去除酸残留物；任选地干燥工件；任选地去除在玻璃相反侧上的膜；任选地淋洗；任选地干燥,任选地切割工件,离子交换(230)工件；和任选地进行其它后加工操作，例如淋洗、干燥、涂覆、封装和类似操作。

图2A和2B分别显示了用具有不良砂压力和流动控制并产生凹陷的比较性方法(图2A)和用具有砂压力和流动控制并不产生凹陷的发明性方法(图2B)喷砂处理后的显微图像。图2A中的浅色或明亮的点是玻璃中的凹陷。凹陷是深的凹痕，且可导致在蚀刻步骤中的不均匀的蚀刻。相反，发明性方法在喷砂处理之后得到均匀和良好受控的特征。发明性方法所用的喷砂处理的条件见表2。比较性方法所用的喷砂处理的条件是例如用白色氧化铝作为砂，空气压力为40psi，通过虹吸管(siphon)加料的砂流，见表3。发明性方法参数是：10微米白色氧化铝，喷砂空气压力为29psi，砂流动速率为100克/分钟，也见表3。

图3显示了在蚀刻时所批露的方法中的一种可接受的玻璃厚度损失示例，例如约9微米。

图4显示了经喷砂处理的表面在蚀刻时的渐进表面粗糙度转化。“S”是喷砂之后的裂纹表面分离尺寸。“D”是凹痕的平均深度。“C”是在离子交换之前所得喷砂的和蚀刻的表面的圆形几何形状。尽管不限于理论，据信在阈值水平以上的次表面损坏(例如在t＝0所示的裂纹尖端)对于所批露的方法而言是显著的。在喷砂处理步骤中易于获得次表面损坏。然后，使用酸蚀刻来修复在喷砂处理损坏中形成的裂纹。酸蚀刻可包括例如HF和如HCl或H₂SO₄的矿物酸的混合物。蚀刻时间越短，所得表面越粗糙且具有更高的雾度。较长的蚀刻导致较低的雾度。酸蚀刻剂浓度和蚀刻时间提供控制表面纹理性质的手段。比较性和发明性方法在通过喷砂过程在玻璃表面上形成的平均间隔(“S”)和凹痕深度上不同。比较性方法中的凹痕的平均间隔约为3微米，而新方法中的凹痕的平均间隔约为1微米。对于比较性方法和发明性方法而言，平均凹痕深度(“D”)分别为1.2和0.9微米。比较性方法所得蚀刻表面的平均直径“C”约为13微米，发明性方法的约为7微米。

图5显示了酸浓度和蚀刻时间对雾度性质的影响。对于浓度为2M HF/2.4M H₂SO₄的HF/H₂SO₄混合物，蚀刻时间影响玻璃厚度损失。例如，蚀刻时间越长，玻璃厚度损失越大。当使用浓度为3M HF/3.6M H₂SO₄的HF/H₂SO₄混合物时，也观察到相同的效果。酸浓度越高，导致玻璃厚度损失速率越大。这里测量的厚度损失是蚀刻速率的指数。蚀刻速率直接控制凹处的深度和在蚀刻玻璃表面中的峰的高度。蚀刻时间和酸浴强度是在所批露的蚀刻步骤中可用来控制玻璃厚度损失的两个加工参数。

图6显示了酸浓度和蚀刻时间对图像清晰度(DOI)性质的影响。酸蚀刻时间是帮助控制图像清晰度的加工变量，因为玻璃蚀刻时间越长，图像清晰度增加，在这种情况下，使用2M HF/2.4M H₂SO₄混合物时，图像清晰度从蚀刻5分钟的45％增加到蚀刻20分钟的73％。

图7显示了韦布尔(Weibull)图，比较了大猩猩玻璃(对照)和本发明的实验玻璃样品，后者用1500目白色氧化铝进行喷砂处理和用酸进行蚀刻。对照和实验玻璃数据组重叠在一起，且结果显示在喷砂处理和蚀刻的实验样品中没有强度损失。喷砂处理机喷嘴的内径(ID)是9毫米。喷砂压力是0.2MPa。零件到喷嘴的距离是150毫米。喷砂机喷嘴横贯速度是30米/分钟，节距是5/毫米。喷砂机遍数是2。在一些实施方式中，喷砂机可具有一个或多个喷嘴，例如1-5个喷嘴或更多，包括中间值和范围。蚀刻条件是2M HF/2.4M H₂SO₄蚀刻10分钟。结果表明本发明的喷砂处理的、蚀刻和离子交换的2318玻璃样品强度和未磨损的玻璃一样。

图8显示了透射雾度和表面粗糙度参数之间的关联。使用购自吉高公司(Zygo Corp.)的白光干涉仪New View 5000来进行这些测量。用于粗糙度测量的放大倍数是800倍。表面粗糙度参数Ra,RMS,和PV(全部以纳米为单位)，和雾度良好对应，雾度是表面散射光的能力的指数。当表面上的入射光被散射时，表面上的反射图像是漫射的。

图9显示了玻璃厚度损失随蚀刻时间和酸浓度的变化。具有3M HF/3.6MH₂SO₄的蚀刻剂与2M HF/2.4M H₂SO₄蚀刻剂相比，始终提供更大的玻璃厚度损失。为了工艺控制和低翘曲，玻璃厚度损失小于50微米是理想的。所批露的方法可取得大范围的光学性质，例如通过改变酸浓度和蚀刻时间，形成从10-70％雾度范围的宽雾度值范围。

所揭示的蚀刻方法可在例如约1秒至约10分钟、约1秒至约5分钟，如约2秒至约4分钟总蚀刻时间内快速完成(包括中间值和范围)，在玻璃表面上形成防眩光层。常规多浴法可能要花大约60分钟或更长的时间。所揭示的蚀刻方法可采用单一化学蚀刻剂浴(例如HF和H₂SO₄)代替常规方法中使用的三种或更多种浴。

在一些实施方式中，所揭示的方法可蚀刻掉例如约1-50微米的待蚀刻基材(即进入基材的平面或者z方向)，约1-30微米的基材，约1-20微米的基材，约1-10微米的基材(包括中间值和范围)，以形成所需的防眩光层。相比之下，常规蚀刻方法通常会除去约100-200微米的玻璃表面。

与用常规方法蚀刻的样品相比，用所揭示的方法制备的样品显示了类似的光学性质(例如雾度、光泽度和图像清晰度(DOI))，但本发明的方法和样品的优点在于工艺时间和成本的显著减少。所揭示的方法容易放大用于大部件，如等于或大于一平方米的玻璃片，而常规浸入法不易放大用于较大的单元。

所揭示的方法相比于其他方法的一些明显好处或优点如下所述。

雾度可以从非常低的值调节到非常高的值。对于要求高显示对比度的应用需要低雾度，而高雾度可用于要求散射(例如边缘照明)的光学设计，或者出于美观原因，例如降低显示器在关闭状态下的“黑洞”外观。可以根据消费者或者终端用户的偏好以及最终应用和使用模式，来驱动低雾度和高雾度(以及性能权衡的接受度)的选择。

粗糙度可以从例如非常低的值调节到非常高的值。低粗糙度通常用于产生小角散射，导致低DOI和低雾度，以及相应的高显示对比度。但是，高粗糙度对于一些应用是合乎希望的，例如在一些触摸显示装置中，高粗糙表面为用户手指提供“滑移感”。该高粗糙度的效果对于非显示器应用，例如鼠标垫表面也是有用的。对于这些触摸应用，还希望用低表面能涂料，例如氟硅烷对粗糙表面进行后处理，正如我们在各种防眩光(AG)型表面的独立实验中所证实的。低表面能涂层降低表面摩擦，改善“滑移感”的效果，还使得表面较难以被油和水润湿，并易于清洁。

通过采用短蚀刻时间(例如30秒)来实现宽范围调节的雾度值和粗糙度值，并且相对于前述较早的防眩光工艺，玻璃厚度损失非常小(例如小于5微米)。

在一些实施方式中，玻璃制品可包含以下玻璃，主要由以下玻璃组成，或者由以下玻璃组成：钠钙硅酸盐玻璃、碱土铝硅酸盐玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、碱性硼硅酸盐玻璃中的一种，以及它们的组合。在一些实施方式中，所述玻璃制品可以是例如具有下述组成的碱性铝硅酸盐玻璃：60-72摩尔％SiO₂；9-16摩尔％Al₂O₃；5-12摩尔％B₂O₃；8-16摩尔％Na₂O；以及0-4摩尔％K₂O，其中比例

其中碱金属改性剂是碱金属氧化物。在一些实施方式中，碱性铝硅酸盐玻璃基片可以是例如：61-75摩尔％SiO₂；7-15摩尔％Al₂O₃；0-12摩尔％B₂O₃；9-21摩尔％Na₂O；0-4摩尔％K₂O；0-7摩尔％MgO；以及0-3摩尔％CaO。在一些实施方式中，碱性铝硅酸盐玻璃基片可以是例如：60-70摩尔％SiO₂；6-14摩尔％Al₂O₃；0-15摩尔％B₂O₃；0-15摩尔％Li₂O；0-20摩尔％Na₂O；0-10摩尔％K₂O；0-8摩尔％MgO；0-10摩尔％CaO；0-5摩尔％ZrO₂；0-1摩尔％SnO₂；0-1摩尔％CeO₂；小于50ppm As₂O₃；以及小于50ppm Sb₂O₃；其中12摩尔％≤Li₂O+Na₂O+K₂O≤20摩尔％和0摩尔％≤MgO+CaO≤10摩尔％。在一些实施方式中，碱性铝硅酸盐玻璃基片可以是例如：64-68摩尔％SiO₂；12-16摩尔％Na₂O；8-12摩尔％Al₂O₃；0-3摩尔％B₂O₃；2-5摩尔％K₂O；4-6摩尔％MgO；以及0-5摩尔％CaO，其中：66摩尔％≤SiO₂+B₂O₃+CaO≤69摩尔％；Na₂O+K₂O+B₂O₃+MgO+CaO+SrO>10摩尔％；5摩尔％≤MgO+CaO+SrO≤8摩尔％；(Na₂O+B₂O₃)-Al₂O₃≤2摩尔％；2摩尔％≤Na₂O-Al₂O₃≤6摩尔％；和4摩尔％≤(Na₂O+K₂O)-Al₂O₃≤10摩尔％。在一些实施方式中，碱性铝硅酸盐玻璃可以是例如：50-80重量％SiO₂；2-20重量％Al₂O₃；0-15重量％B₂O₃；1-20重量％Na₂O；0-10重量％Li₂O；0-10重量％K₂O；以及0-5重量％(MgO+CaO+SrO+BaO)；0-3重量％(SrO+BaO)；以及0-5重量％(ZrO₂+TiO₂)，其中0≤(Li₂O+K₂O)/Na₂O≤0.5。

在一些实施方式中，碱性铝硅酸盐玻璃可以例如基本上不含锂。在一些实施方式中，碱性铝硅酸盐玻璃可以例如基本上不含砷、锑、钡或其组合中的至少一种。在一些实施方式中，玻璃可任选用0-2摩尔％的至少一种澄清剂配料，所述澄清剂是例如Na₂SO₄、NaCl、NaF、NaBr、K₂SO₄、KCl、KF、KBr、SnO₂以及类似物质或其组合。

在一些实施方式中，所选玻璃可以例如进行下拉，即可通过例如狭缝拉制法或熔合拉制法成形。在这些情况下，玻璃的液相线粘度至少为130千泊(kpoise)。示例性碱性铝硅酸盐玻璃在共同拥有和转让的题为“用于盖板的可下拉的化学强化玻璃(Down-Drawable,Chemically Strengthened Glass forCover Plate)”的美国专利申请号11/888,213(艾利森(Ellison)等)(现在是2010年2月23日发布的美国专利号7,666,511)和它的优先权申请中所述。以下实施例中描述的玻璃表面和玻璃片可以是任何合适的可喷砂处理和可酸蚀刻的玻璃基材或类似基材，可包括例如表1所列的玻璃组合物1-11或其组合。

实施例

以下实施例用于更完整地描述上述本发明内容的应用方式，并列出为实现本发明的各方面而构思的最佳实施方式。这些实施例不对本发明的范围构成限制，而是出于举例说明的目的。工作实施例进一步描述了如何制备本发明的制品。

实施例1

喷砂处理步骤用130目SiC砂(10-35微米粒度)喷砂处理非离子交换的(非-IOX)2318玻璃，并在HF/H₂SO₄混合物中蚀刻。改变用于130目SiC的喷砂处理条件，且在3M HF/3.6M H₂SO₄中将零件蚀刻5分钟之后测量光学性质。光学性质和表面粗糙度列于表2。

结果

基于表1的数据，用于制备样品的加工条件集中于用130目SiC砂在10psi下喷砂处理玻璃样品，处理10遍，并用3M HF/3.6M H₂SO₄蚀刻5分钟。如图3所示，这个过程的玻璃厚度损失是可接受的且约为9微米。

实施例2

酸蚀刻步骤通过用去离子水小心地稀释浓酸，分别以所需浓度混合HF和矿物酸溶液。HF浓度可从2％到20％重量/体积变化，包括中间值和范围。矿物酸浓度可从5％到35％重量/体积变化。混合稀释的HF和矿物酸，允许其冷却；将HF与其它酸混合是放热反应。然后在这个阶段添加0.01-1重量％的表面活性剂。将酸混合物加入蚀刻槽。然后，使用8升的酸混合物来蚀刻40块250mm x 350mm的玻璃板。将待蚀刻的玻璃板夹持到浸没固定器，并将该固定器浸入酸浴以将玻璃板完全浸没到酸浴中。蚀刻步骤的时间可从例如1秒到30分钟变化。优选地，长的蚀刻时间用于低雾度，短蚀刻时间用于高雾度。酸浴的温度可从例如15℃到35℃变化。

结果

在酸浴中浸没之后，玻璃表面被蚀刻，但包括酸残留物和溶解的玻璃。通过如下所述的淋洗过程来去除这些。

实施例3

洗涤和干燥步骤在蚀刻循环完成之后，从酸浴取出酸板，并在搅拌下于室温下用8升的去离子水在槽中淋洗1-2分钟。风干板，并去除保护性涂层。

结果

上述过程得到玻璃板，其一侧具有由漫射光的峰和谷组成的纹理。漫射率随蚀刻时间和所用的蚀刻剂的浓度而变化。

实施例4

离子交换过程将蚀刻的玻璃板装载到固定器中，并在硝酸钾浴中浸没用于离子交换。离子交换温度从350℃到480℃变化，且循环时间从2-10小时变化。从盐浴中取出之后，用蒸馏水充分淋洗玻璃，并风干。

结果

在这个阶段，玻璃板的一侧具有由漫射光的峰和谷组成的纹理，且强度与没有进行喷砂处理或蚀刻的未纹理化离子交换玻璃的强度基本上相同。强度比较可参见图7中的韦布尔图。

实施例5

后加工精磨将在一侧上具有所需表面纹理、目标水平雾度和DOI的玻璃板切割到所需尺寸，并准备在设备如显示或非显示设备中安装。

结果

当在实施例1-5所述的加工顺序完成之后，获得一种玻璃板，该玻璃板具有漫射率高于未纹理化玻璃的光漫射表面，且机械强度等于未纹理化玻璃的机械强度。喷砂处理和蚀刻玻璃而不损坏玻璃强度和平坦度是不可能的。

已结合各种具体实施方式和技术对本发明进行了描述。但是，应当理解，可以在本发明的范围内做出许多变化和改进。

表1.代表性玻璃基片组合物。

表2.喷砂处理条件和2318玻璃的光学性质。

表3.

Claims (14)

1.一种制备具有纹理化玻璃表面的制品的方法，其包括：

喷砂处理一部分的非离子交换的玻璃工件的表面；

用酸混合物酸蚀刻至少一部分的喷砂处理的玻璃工件的表面；和

离子交换酸蚀刻的和喷砂处理的玻璃工件的表面。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述喷砂处理中的砂的直径是2-40微米。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述喷砂处理中的砂是SiC，其粒度是2-50微米。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述酸蚀刻中的酸包括HF与选自H₂SO₄,HCl,HNO₃,H₃PO₄或其组合的酸的混合物。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述酸蚀刻包括使玻璃工件与3M HF和3.6M H₂SO₄的酸混合物接触1秒到10分钟。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述喷砂处理和酸蚀刻得到中间玻璃工件，其具有平均粗糙度(Ra)为50纳米-1.3微米的纹理化表面。

7.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括用低表面能涂料处理所得到的离子交换玻璃。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃表面包含以下玻璃中的至少一种：钠钙硅酸盐玻璃、碱土金属铝硅酸盐玻璃、碱金属铝硅酸盐玻璃、碱金属硼硅酸盐玻璃、硼铝硅酸盐玻璃或其组合。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，喷砂处理包括利用1-5个喷嘴，使玻璃表面暴露于喷砂处理颗粒，暴露1-100克/分钟并暴露1-50遍。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，酸蚀刻包括使玻璃表面暴露于蚀刻剂约1秒至约30分钟，并且任选地是在存在表面活性剂的情况下。

11.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括洗涤和干燥所得喷砂处理的表面，酸蚀刻的表面，离子交换的表面，或其组合。

12.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括在喷砂处理或蚀刻之前，使所述制品的至少另一表面接触可任选除去的耐喷砂或抗蚀刻保护层。

13.一种通过权利要求1所述的方法制备的玻璃制品。

14.如权利要求13所述的玻璃制品，其特征在于，所述玻璃制品是非显示设备的一部分。