JP2022527124A - 防眩特性および増加した耐引掻性を提供するために特定の高さ対幅比を有する表面特徴を備えたテクスチャ表面を有するガラス基板 - Google Patents

防眩特性および増加した耐引掻性を提供するために特定の高さ対幅比を有する表面特徴を備えたテクスチャ表面を有するガラス基板 Download PDF

Info

Publication number
JP2022527124A
JP2022527124A JP2021560034A JP2021560034A JP2022527124A JP 2022527124 A JP2022527124 A JP 2022527124A JP 2021560034 A JP2021560034 A JP 2021560034A JP 2021560034 A JP2021560034 A JP 2021560034A JP 2022527124 A JP2022527124 A JP 2022527124A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass substrate
height
average
mol
width ratio
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2021560034A
Other languages
English (en)
Inventor
アミン，ジェイミン
ランドール ジュニア ハンコック，ロバート
チー チュン シャオ，レイモンド
ジン，ユィホイ
リー，アイザァ
ヒリアード シーマン，ジャレッド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Inc
Original Assignee
Corning Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Inc filed Critical Corning Inc
Publication of JP2022527124A publication Critical patent/JP2022527124A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
    • C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0075—Cleaning of glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0085—Drying; Dehydroxylation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

Figure 2022527124000001
ガラス基板は、平均幅、平均高さ、約０．０４から約０．２４の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴を備えた第一面を有し、その第一面は３％から４０％のヘイズ値を有する。このガラス基板は、可視スペクトルの電磁放射線に対して透明であり得る。このガラス基板は、６１～７５モル％のＳｉＯ２、７～１５モル％のＡｌ２Ｏ３、０～１２モル％のＢ２Ｏ３、９～２１モル％のＮａ２Ｏ、０～４モル％のＫ２Ｏ、０～７モル％のＭｇＯ、および０～３モル％のＣａＯの組成を有し得る。この第一面は、１０ｎｍから１，０００ｎｍの平均表面粗さＲａを有し得る。この第一面は、２００ｎｍから５０μｍの平均の特徴的な最大特徴サイズを有し得る。この平均高さ対平均幅比は、０．０６から約０．０８であり得る。

Description

優先権
本出願は、その内容が依拠され、ここに全て引用により含まれる、２０１９年４月９日に出願された米国仮特許出願第６２／８３１３０７号の米国法典第３５編第１１９条の下での優先権の恩恵を主張するものである。
本発明は、広く、テクスチャが形成されていないガラス基板よりも増加した耐引掻性および防眩特性を有するテクスチャが形成されたガラス基板に関する。
ガラス基板は、保護バリアとしての機能を果たすと同時に、特定の用途に関連する電磁放射線（大抵、可視光）の波長に対して透明である。それゆえ、ガラス基板が、引っ掻き傷および破砕に抵抗することが望ましいであろう。そうでなければ、その用途の美的魅力およびガラス基板の透過率が低下してしまうであろう。したがって、ガラス基板は、時々、引っ掻き傷および破砕に抵抗する圧縮応力をガラス基板の表面層に与える、イオン交換と称される化学過程または熱強化と称される物理過程など、当該技術分野に公知の様々な過程により強化される。
その上、ガラス基板がグレア(glare)を低減させることが望ましい。グレアは、ガラス基板の１つまたは複数の表面で反射した光である。グレアは、知覚されると、人がガラス基板により保護されている電子ディスプレイを見る能力を低下させ得る。反射光を散乱させ、それによりグレアを低減させる、表面特徴を加えるためのガラス基板の表面に「テクスチャを形成すること」など、ガラス基板を改良して知覚されたグレアを低減させる様々な過程がある。主面にテクスチャを形成すると、さらに、タッチスクリーン式電子ディスプレイの一部として使用されるガラス基板の触覚経験が改善され得る。
しかしながら、グレアを低減させるために表面特徴を与えることには、主面が引っ掻き傷をより受けやすくなる傾向があるという課題がある。言い換えると、グレアを低減させる表面特徴を加えるためにガラス基板の表面を処理すると、これまで、イオン交換などの強化過程により与えられた主面の耐引掻性が低下してしまう。
本開示は、表面特徴が平均高さおよび平均幅を有し、平均高さ対平均幅比が約０．０４と約０．２４の間にあるようにテクスチャが形成されたガラス基板によって、その課題を解決する。その範囲内の高さ対幅比を有する表面特徴は、防眩特性（許容されるレベルのヘイズ）を提供するだけでなく、耐引掻性を増加させるまたは最適化する。
本開示の第１の態様によれば、ガラス基板は、平均幅、平均高さ、約０．０４から約０．２４の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴を備えた第一面を有し、その第一面は３％から４０％のヘイズ値を有する。ある実施の形態において、このガラス基板は、可視スペクトルの電磁放射線に対して透明である。ある実施の形態において、このガラス基板は、６１～７５モル％のＳｉＯ２、７～１５モル％のＡｌ２Ｏ３、０～１２モル％のＢ２Ｏ３、９～２１モル％のＮａ２Ｏ、０～４モル％のＫ２Ｏ、０～７モル％のＭｇＯ、および０～３モル％のＣａＯの組成を有する。ある実施の形態において、この第一面は、１０ｎｍから１，０００ｎｍの平均表面粗さＲａを有する。ある実施の形態において、この第一面は、２００ｎｍから５０μｍの平均の特徴的な最大特徴サイズを有し得る。ある実施の形態において、この平均高さ対平均幅比は、約０．０６から約０．２４である。ある実施の形態において、この平均高さ対平均幅比は、約０．０６から約０．０８である。ある実施の形態において、この平均高さ対平均幅比は、約０．０６５である。ある実施の形態において、この第一面は、３．５％から１２．５％のヘイズ値を有する。ある実施の形態において、この第一面は、３．５％から１２．５％のヘイズ値を有する。ある実施の形態において、このガラス基板は、圧縮応力下にある、この第一面と隣接した層をさらに含む。
本開示の第２の態様によれば、ガラス基板の第一面にテクスチャを形成する方法において、８０から１２０分の期間に亘り非ＨＦの低ｐＨエッチング液を含む容器中に、第一面を有するガラス基板を配置する工程を有してなり、この第一面は、その後、０．１％から４０％のヘイズ値を有する。ある実施の形態において、非ＨＦの低ｐＨエッチング液は、クエン酸である。ある実施の形態において、この方法は、ガラス基板を水中で濯ぐ工程、ガラス基板を乾燥させる工程、および１５分から４５分の期間に亘り室温より高い温度でＮａＯＨを含む溶液中にガラス基板を浸漬する工程をさらに含む。ある実施の形態において、その第一面に、平均幅、平均高さ、および約０．０４から約０．２４の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴でテクスチャが形成されている。ある実施の形態において、その第一面に、平均幅、平均高さ、および約０．０６から約０．０８の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴でテクスチャが形成されている。
本開示の第３の態様によれば、ガラス基板の第一面にテクスチャを形成する方法において、ガラス基板の第一面に、平均幅、平均高さ、および０．２４以上の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴を持たせる工程、およびその平均高さ対平均幅比を０．０４と０．２４の間に減少させる工程を有してなり、その第一面は、０．１％から４０％のヘイズ値を有する。ある実施の形態において、ガラス基板の第一面に表面特徴を持たせる工程は、第一面をサンドブラストで磨く工程、または８０から１２０分の期間に亘り非ＨＦの低ｐＨエッチング液を含む容器中にガラス基板を配置する工程を含む。ある実施の形態において、平均高さ対平均幅比を減少させる工程は、ＨＦ、ＮａＯＨ、またはＫＯＨを含む溶液中にガラス基板を浸漬する工程を含む。
追加の特徴および利点は、以下の詳細な説明に述べられており、一部には、その説明から当業者に容易に明白となるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここに記載されたような実施の形態を実施することによって、認識されるであろう。
先の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方とも、例示に過ぎず、請求項の性質および特徴を理解するための概要または骨子を提供することが意図されているのを理解すべきである。添付図面は、さらなる理解を与えるために含まれ、本明細書に包含され、その一部を構成する。図面は、１つ以上の実施の形態を示しており、説明とともに、様々な実施の形態の原理および作動を説明する働きをする。
第一面を示すガラス基板の斜視図 第一面と第二面との間の厚さを有するガラス基板を示す、図１のガラス基板の側面図 テクスチャの形成により、細胞マトリクス状の外観を取る第一面上の表面特徴が作られたことを示す、テクスチャが形成されたガラス基板の第一面の原子間力顕微鏡法（「ＡＦＭ」）の画像 表面特徴の各々が、隣接する山、隣接する山の間の谷、山と隣接する谷との間の距離として定義される高さ、および山から隣接する山までの距離として定義される幅を有することを示す、図３Ａの線ＩＩＩＢ－ＩＩＩＢを通してとられた図３Ａのガラス基板の概念的断面側面図 特定の形状を持つ先端を有する、尖っていない物体（ヌープ圧子）によりある距離に沿ってすぐに引っ掻かれることになっている第一面を有するガラス基板の斜視図 尖っていない物体の先端が、表面特徴により第一面と接触するのを妨げられていないことを示す、図４のガラス基板のテクスチャが形成されていないバージョンの概念的断面図 第一面が、テクスチャ形成により生じた表面特徴を有しているが、その表面特徴の高さ対幅比が大きすぎて、尖っていない物体の先端が表面特徴の谷に接触するのを防げていないことを示す、図４のガラス基板のテクスチャが形成されたバージョンの概念的断面図 テクスチャの形成により生じた表面特徴が、尖っていない物体の先端が表面特徴の谷と接触するのを妨ぐのに十分に小さい高さ対幅比を有することを示す、図４のガラス基板のテクスチャが形成されたバージョンの概念的断面図 主な傷跡の外部にある亀裂および欠けを示す、図４の尖っていない物体（ヌープ圧子）により引っ掻かれた後のテクスチャが形成されていないガラス基板の写真 主な傷跡の外部に亀裂および欠けがないことを示す、０．２４の高さ対幅比を有する第一面での表面特徴を備えた、８％のヘイズを有するテクスチャが形成されたガラス基板の写真 主な傷跡の外部に亀裂および欠けがないことを示す、０．２４の高さ対幅比を有する第一面での表面特徴を備えた、１２％のヘイズを有するテクスチャが形成されたガラス基板の写真 テクスチャの形成により、細胞マトリクス状の外観をとる第一面上の表面特徴が作られたことを示す、テクスチャが形成されたガラス基板の第一面のＡＦＭ画像 尖っていない物体（ヌープ圧子）の先端と、テクスチャが形成されていないガラス基板の第一面および０．２４の高さ対幅比を有する表面特徴を有するようにテクスチャが形成されたガラス基板の第一面との間の測定摩擦係数の実験結果を報告するグラフ。測定摩擦係数は、前者よりも後者のほうが低い 以下のように、尖っていない物体（ヌープ圧子）により印加された力および第一面のトポロジーの関数としての尖っていない物体の先端により残された測定引っ掻き傷幅をプロットしたグラフ－（１）０．２４の高さ対幅比を有する表面特徴および４％のヘイズ値を有するテクスチャが形成された第一面、（２）０．０６５の高さ対幅比を有する表面特徴および４％のヘイズ値を有するテクスチャが形成された第一面、（３）０．２４の高さ対幅比を有する表面特徴および８％のヘイズ値を有するテクスチャが形成された第一面、（４）０．０６５の高さ対幅比を有する表面特徴および８％のヘイズ値を有するテクスチャが形成された第一面、および（５）テクスチャが形成されていない第一面－０．２４の高さ対幅比を有する表面特徴を備えた第一面が、最も狭い引っ掻き傷幅を与えたことを示す ０．２４の高さ対幅比を有する表面特徴を備えた第一面が、最も小さい（０に近い）測定横力（Ｆｘ）を与えたことを示す、印加された鉛直力（Ｆｚ）および図９に関して先に記載された試料の第一面のトポロジーの関数として測定横力（Ｆｘ）をプロットしたグラフ 主な傷跡の外部にある欠けを示す、図４の尖っていない物体（ヌープ圧子）により引っ掻かれた後のテクスチャが形成されていないガラス基板の写真 主な傷跡の外部にある欠けを示す、０．０２の高さ対幅比を有する第一面での表面特徴を備えた、１９％のヘイズを有するテクスチャが形成されたガラス基板の写真 軽くであるが、繰り返しの引っ掻きが、比較的低い高さ対幅比を有する表面特徴を備えたテクスチャが形成された第一面よりも、テクスチャが形成されていない第一面および比較的高い高さ対幅比を有する表面特徴を備えたテクスチャが形成された第一面に影響を及ぼすことを示す、軽くであるが、繰り返し引っ掻かれている様々なトポロジーを有する第一面の概念的断面図 ０．０６５の高さ対幅比を有する表面特徴を備えた第一面が、最も低い割合の表面欠陥をもたらしたことを示す、図９に関して先に記載された様々な試料のガラス基板に関する第一面のトポロジーの関数としての、転動（軽くであるが、繰り返しの第一面の引っ掻きをシミュレーションする）後の、欠陥を有する第一面の割合をプロットしたグラフ ０．０６５の高さ対幅比を有する表面特徴を備えたガラス基板に対する繰り返しの摩耗効果が、実質的に見えなかったのに対し、０．０２および０．２４の高さ対幅比を有する表面特徴を備えたガラス基板に対する繰り返しの摩耗効果は、よく見えたことを示す、摩耗試験を経た後の、様々な高さ対幅比の表面特徴を有するガラス基板のテクスチャが形成された第一面の一連の写真 ０．０６５の高さ対幅比を有する表面特徴を備えたガラス基板上の繰り返しの摩耗効果が、０．０２および０．２４の高さ対幅比を有する表面特徴を備えたガラス基板上の繰り返しの摩耗効果よりも、水接触角の減少に関して優れていることを示す、図１４に示された様々なガラス基板１０の第一面１２上の水接触角の減少を示すグラフ
ここで、その例が添付図面に示されている、現在好ましい実施の形態を詳しく参照する。できるときはいつでも、同じまたは同様の部分を称するために、図面に亘り同じ参照番号が使用される。
ここで、図１および２を参照すると、ガラス基板１０が示されている。ガラス基板１０は、第一面１２および第二面１４を有する。第一面１２および第二面１４は、その可視スペクトルの入射電磁放射線１６（以後、「可視光１６」と称する）がそこを透過するおよび／またはそこから反射するガラス基板１０の主面である。第一面１２および第二面１４は、典型的に、図示された実施の形態におけるように、概して平面かつ平行であるが、湾曲していても、および／または平行でなくても差し支えない。ガラス基板１０は透明であり、これは、ガラス基板１０が、第一面１２に垂直に入射する可視光１６の少なくとも７０％を、ガラス基板１０に通し、第二面１４から出るように透過させることを意味する。多くの場合、ガラス基板１０は、可視光１６の少なくとも８５％を、時には、９０％に近いまたは９０％を超えた可視光１６を透過させる。ガラス基板１０は、第一面１２と第二面１４との間の、第一面１２または第二面１４のいずれか、もしくはその両方に垂直な直線距離として定義される厚さ１８を有するシートであり得る。
ガラス基板１０は、ガラス基板１０がその構成部材である所望の物品に適したどの組成を有しても差し支えない。１つ以上の実施の形態において、ガラス基板１０は、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、またはアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスであり得るが、アルカリ土類酸化物を含むものなど、他の種類のガラス基板１０も考えられる。１つの例示のガラス組成は、少なくとも６０モル％のＳｉＯ２を含み、ここで、モル％比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）／Σ改質剤（すなわち、改質剤の合計）は１より大きく、その改質剤はアルカリ金属酸化物である。１つの例示のガラス組成は、ＳｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、およびＮａ２Ｏを含み、ここで、（ＳｉＯ２＋Ｂ２Ｏ３）≧６６モル％およびＮａ２Ｏ≧９モル％である。例示のアルカリアルミノケイ酸塩ガラス基板は、６１～７５モル％のＳｉＯ２、７～１５モル％のＡｌ２Ｏ３、０～１２モル％のＢ２Ｏ３、９～２１モル％のＮａ２Ｏ、０～４モル％のＫ２Ｏ、０～７モル％のＭｇＯ、および０～３モル％のＣａＯの組成を有する。例示のアルカリアルミノケイ酸塩ガラス基板は、６６．４モル％のＳｉＯ２、１０．３モル％のＡｌ２Ｏ３、０．６０モル％のＢ２Ｏ３、４．０モル％のＮａ２Ｏ、２．１０モル％のＫ２Ｏ、５．７６モル％のＭｇＯ、０．５８モル％のＣａＯ、０．０１モル％のＺｒＯ２、０．２１モル％のＳｎＯ２、および０．００７モル％のＦｅ２Ｏ３の組成を有する。例示のアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラス基板は、６４モル％のＳｉＯ２、１４．５モル％のＡｌ２Ｏ３、８モル％のＢ２Ｏ３、１１．５モル％のＮａ２Ｏ、および０．１モル％のＳｎＯ２の組成を有する。例示のガラス基板１０は、Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｉｎｃ．により商標名ＧＯＲＩＬＬＡ（登録商標）で販売されており、それらのガラス基板１０は、フュージョンドローされ、イオン交換強化過程が施されている。
ここで図３Ａおよび３Ｂを参照すると、テクスチャを与えるために（グレアを低減させるためなど）ガラス基板１０が改質された後の、ガラス基板１０は、第一面１２上に表面特徴２０を有する。図３Ａは、第一面１２を見下ろす拡大上面図を示す。図３Ｂは、図３Ａの線ＩＩＩＢ－ＩＩＩＢを通してとられた概念的断面図を示す。表面特徴２０は、一般に、図示された実施の形態において、ほぼ部分球面または楕円面空所であるので、表面特徴２０は、断面で見たときに、山２２と谷２４を与える。表面特徴２０の山２２の内の１つと、谷２４の内の１つとの間の距離が、表面特徴２０の高さ２６である。表面特徴２０の高さ２６は、測定することができる。プロファイル（線）（線ＩＩＩＢ－ＩＩＩＢなど）に沿ってとられた、２等分線２８からの高さ変動の絶対値の算術平均は、「平均表面粗さ」と称され、「Ｒａ」の記号で表される。Ｒａは、２等分線２８に沿った全ての表面特徴２０の山２２と谷２４との間のその線からの変動に基づいて決定されるので、Ｒａは、その線に沿った全ての表面特徴２０の平均の山から谷までの高さ２６の約半分である。Ｚｙｇｏ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎにより流通されているＮｅｗＶｉｅｗ（商標）７３００光学表面プロファイラなど、様々なタイプの光学プロファイラが、ガラス基板１０の第一面１２に関する平均表面粗さＲａを測定することができる。表面特徴２０の連続表面区域は、「テクスチャの形成された」第一面１２を形成する。第二面１４も同様に、表面特徴２０でテクスチャを形成できることを理解すべきである。
表面特徴２０の高さ２６のように、表面特徴２０の平均幅３０を測定することができる。表面特徴２０が細胞マトリクスのように見える、図３Ａおよび３Ｂに示された実施の形態のタイプの形態に関して、任意の特定の表面特徴２０の幅３０は、ある山２２と隣接する山２２との間の距離（表面特徴２０の直径３２に近い）である。ある場合には、任意の特定の表面特徴２０の幅３０は、ある谷２４と次の隣接する谷２４との間の距離であり得る。表面特徴２０の幅３０は、第一面１２（または第二面１４での任意の表面特徴２０の寸法が議論されている場合、第二面１４）の平面内で測定されるので、幅３０は、表面特徴２０の高さ２６に関係ない（それゆえ、幅３０は、平均表面粗さＲａに関係ない）。表面特徴２０の幅３０を測定するために、標準較正された光学顕微鏡またはＡＦＭを典型的に使用できる。表面特徴２０の幅３０を測定する様々な方法を利用できる。平均の特徴的な最大特徴サイズ（「ＡＬＦ」と略される）の方法は、テクスチャが形成された第一面１２上の視野内の２０個の最大繰り返し表面特徴２０の平均ｘ－ｙ線寸法である。視野は、表面特徴２０のサイズに比例し、典型的に、ほぼ３０（ＡＬＦ）×３０（ＡＬＦ）の面積を有する。例えば、ＡＬＦが約１０μｍである場合、ひいては、２０個の最大表面特徴２０が選択される視野は、約３００μｍ×３００μｍである。ＡＬＦを決定するために使用される２０個の最大表面特徴２０の標準偏差は、一般に、平均値の約４０％未満であるべきである、すなわち、主要な異常値は、「特徴的な」特徴と考えられないので、これらは無視すべきである。テクスチャが形成された第一面１２が、ここでのように、細胞マトリクスの外観をとる場合、ＡＬＦ決定において測定されるべき表面特徴２０は、細胞マトリクス内の細胞（円形状の山２２）の最大のものである。ＡＬＦ方法は、より全体的な平均特徴サイズを決定する他の方法よりも好ましい。何故ならば、人の目は、最大表面特徴２０を最も容易に見るものであり、したがって、ガラス基板１０の視覚的な支持け(visual acceptance)を決定する上で最も重要であるからである。しかしながら、より全体的な平均表面特徴２０を決定するそれらの他の方法の内の１つを利用して、表面特徴２０の平均幅３０を決定することができる。それゆえ、表面特徴２０の高さ対幅比は、２Ｒａ／ＡＬＦとして計算できる。
テクスチャが形成された第一面１２の引っ掻き事象に対する応答を検討する場合、考えるべき引っ掻き事象には、少なくとも２つの一般タイプがある。ここで図４を参照すると、第１のタイプの引っ掻き事象は、尖っていない物体３４がガラス基板１０の第一面１２と、第一面１２に沿ってある距離３６だけ比較的大きいが一定の力で接触する場合に生じる。尖っていない物体３４は、第一面１２と接触する先端３８を有する。このタイプの引っ掻き事象が材料試験を通じて反復される場合、利用される先端３８を有する尖っていない物体３４は、多くの場合、「ヌープ圧子」と称される。ヌープ圧子は、「ヌープ硬度試験」と称される標準（ＡＳＴＭ Ｅ３８４）微小硬度試験で利用される。ヌープ圧子の先端３８は特定の形状を有する。より詳しくは、第一面１２と相互作用するヌープ圧子の先端３８の形状は、角度αが１７２．５°であり、角度βが１３０°である、一点で終端するピラミッド型ダイヤモンドである。
ここで図５Ａ～５Ｃを参照すると、これらの図面は、表面特徴２０の幅３０に対する表面特徴２０の高さ２６の比が、尖っていない物体３４（ここでは、ヌープ圧子）の先端３８がガラス基板１０の第一面１２を引っ掻く能力に影響することを概念的に示す。図５Ａでは、ガラス基板１０の第一面１２にテクスチャは形成されておらず、尖っていない物体３４の先端３８は、妨害なく第一面１２と接触している（したがって、第一面１２を最も引っ掻く能力がある）。図５Ｂでは、ガラス基板１０の第一面１２にテクスチャが形成されている。しかしながら、表面特徴２０の幅３０に対する表面特徴２０の高さ２６の比が、表面特徴２０にとって小さすぎて、尖っていない物体３４の先端３８が第一面１２と相互作用する（したがって、引っ掻く）のを防げていない。図５Ｃでは、ガラス基板１０の第一面１２にテクスチャが形成されている。そして、図５Ｂとは対照的に、表面特徴２０の幅３０に対する表面特徴２０の高さ２６の比は、表面特徴２０にとって十分に大きく、尖っていない物体３４の先端３８が第一面１２と相互作用する（したがって、引っ掻く）のを防いでいる。言い換えると、表面特徴２０の隣接する山２２が尖っていない物体３４と相互作用して、尖っていない物体３４の先端３８が隣接する山２２の間の谷２４と相互作用するのを防いでいる。
ここで図６Ａ～６Ｃを参照すると、実験的証拠により、前の段落からの概念的推論が確認される。図６Ａは、１０Ｎの力でヌープ圧子により引っ掻かれた後の、第一面１２にテクスチャが形成されていない（１ｎｍ未満の測定表面粗さＲａ）、ガラス基板１０（フュージョンドローされ、イオン交換された「ＧＯＲＩＬＬＡ」ガラス、コード７４１８）の第一面１２を見下ろすように面する写真である。この写真から明らかなように、主な傷跡４４の外部に著しい横亀裂４０および欠け４２（主な傷跡４４の幅４６の２倍をはるかに超える）がある。図６Ｂおよび６Ｃも、ガラス基板１０（フュージョンドローされ、イオン交換された「ＧＯＲＩＬＬＡ」ガラス、コード７４１８）の第一面１２を見下ろすように面する写真である。しかしながら、これらの写真において、第一面１２は、テクスチャ形成過程を経て、０．２４（すなわち、高さ２６／幅３０＝２＊Ｒａ／ＡＬＦ＝０．２４）の表面特徴２０の幅３０に対する表面特徴２０の高さ２６の比が結果として生じた。図６Ｂの第一面１２のＲａは４４ｎｍであった。図６Ｃの第一面１２のＲａは５５ｎｍであった。図６Ｂのガラス基板１０の第一面１２を引っ掻いている間に尖っていない物体３４（すなわち、ヌープ圧子）が印加した力は、１４Ｎであり、図６Ｃのガラス基板１０については２２Ｎであった。図６Ｂおよび６Ｃのガラス基板１０のテクスチャが形成された第一面１２の引っ掻きは、より大きい量の力（１０Ｎに対して１４Ｎおよび２２Ｎ）が印加されている状況でさえ、図６Ａに示されたような、主な傷跡４４を越える目立った横欠けまたは亀裂は生じなかった。図５Ｃに概念化されたように、図６Ｂおよび６Ｃのガラス基板１０のテクスチャが形成された第一面１２の表面特徴２０の高さ対幅比（０．２４）は、大きすぎて、尖っていない物体３４（ヌープ圧子）の先端３８が表面特徴２０の谷２４で第一面１２と完全には相互作用できなかったと考えられる。この引っ掻き試験を行うための装置は、Ｂｒｕｋｅｒ（以前は、ＣＥＴＲ）、Ｎａｎｏｖｅａ、ＣＳＭ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓなどから得ることができる。典型的に、第一面１２は、引っ掻きの前または後に、残留物も膜も残さないように注意深く、表面を傷つけない布（必要に応じて、アルコールで湿らされている）または空気缶で穏やかに洗浄される。ヌープ圧子の先端３８は、これもまた残留物も膜も残さないように、各引っ掻きの間に、アルコールで湿らされた、表面を傷つけない布で洗浄される。
ここに述べられた全ての試料のガラス基板１０には、テクスチャが形成されていようとなかろうと、同じ二工程のイオン交換スケジュールが施された。詳しくは、第１のイオン交換工程において、ガラス基板１０を、４時間に亘り３８０℃で、７０質量％のＮａＮＯ３および３０質量％のＫＮＯ３の溶融塩中に入れた。第２のイオン交換工程において、ガラス基板１０を、４０分間に亘り３８０℃で、７質量％のＮａＮＯ３および９３質量％のＫＮＯ３の溶融塩中に入れた。次に、イオン交換されたガラス基板１０を、１２分間に亘り７０℃で、高ｐＨ（１０から１３のｐＨ）の洗浄剤（２％のＳｅｍｉＣｌｅａｎ）中で洗浄し、次いで、脱イオン水で濯いだ。試料は０．８ｍｍ厚であった。その結果、ガラス基板１０は、圧縮応力下にある、第一面１２と隣接した層を有する。
再び図３Ａと、さらに図７を参照すると、これらの図面は、ガラス基板１０のテクスチャが形成された第一面１２の細胞マトリクスの性質を示す。図３Ａおよび７は、ＡＦＭ画像である。Ｖｅｅｃｏ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．は、ＡＦＭ器具類、並びに表面粗さＲａを計算するための機器を提供する。図３Ａに示された第一面１２は、０．２４の高さ対幅比を持つ表面特徴２０、４１．７ｎｍの表面粗さＲａ、および８．３％のヘイズを有する。図５Ｂに示された第一面１２は、０．０６５の高さ対幅比を持つ表面特徴２０、３５．３ｎｍの表面粗さＲａ、および７．５％のヘイズを有する。「ヘイズ」（「透過ヘイズ」とも称される）は、表面光散乱特徴であり、ＡＳＴＭ手順Ｄ１００３にしたがう、±４．０°の角度の円錐から外側に散乱する光の割合を称する。光学的に滑らかな表面について、透過ヘイズは一般にゼロに近い。高い表示コントラストを要求する用途にとって、低ヘイズが望ましいことがあり得るのに対し、エッジ照明など、散乱を有する光学設計にとって、またはオフ状態のディスプレイの「ブラックホール」のような外観を低減させるなど、審美的理由のために、高ヘイズが有用であり得る。低ヘイズ対高ヘイズの一般参照（および性能のトレードオフの支持）は、顧客またはエンドユーザの好み、並びにそれらの最終用途および使途様式により動機付けられ得る。
図８に再現されたグラフは、先の概念的推論を確認するさらなる実験的証拠を提供する。図８に示された結果を与える試験において、尖っていない物体３４（ヌープ圧子）の先端３８と、図６Ａ（テクスチャが形成されていない）および６Ｂ（テクスチャが形成された、０．２４の高さ２６／幅３０比、４０ｎｍのＲａ）のガラス基板１０の第一面１２との間の摩擦係数を測定した。図６Ａのテクスチャが形成されていないガラス基板１０の摩擦係数は全て、約０．０５以上であった。図６Ｂのテクスチャが形成されたガラス基板１０の摩擦係数は全て約０．０４以下であり、図６Ａのテクスチャが形成されていないガラス基板１０の試料について測定された摩擦係数よりも明らかに低かった。十分に高い高さ対幅比を有する表面特徴２０は、尖っていない物体３４（ヌープ圧子）の先端３８が表面特徴２０の谷２４で第一面１２と完全に相互作用するのを防ぎ、それゆえ、図６Ａのテクスチャが形成されていない第一面１２に対して摩擦係数を減少させ、それゆえ、引っ掻きの際に横亀裂および欠けを減少させると考えられる。
図９で再現されたグラフは、表面特徴２０の高さ対幅比が、０．２４などのより大きい比から減少するのにつれて、その比は、尖っていない物体３４（ヌープ圧子）の先端３８が第一面１２と完全に相互作用するのをいくぶんしか防がず、引っ掻き幅は、テクスチャが形成されていない第一面１２が提供するものと等しくなり始めるという見解を含む、上述した概念的推論を確認するさらなる実験的証拠を与える。図９に示されたグラフを作成する際に、ガラス基板１０の５組の試料を用意した。グラフに沿って左から右に：（１）ガラス基板１０の第一組の試料は、０．２４の高さ対幅比を持つ表面特徴２０および４％の測定ヘイズを有するテクスチャが形成された第一面１２を有した；（２）ガラス基板１０の第二組の試料は、０．０６５の高さ対幅比を持つ表面特徴２０および４％の測定ヘイズを有するテクスチャが形成された第一面１２を有した；（３）ガラス基板１０の第三組の試料は、０．２４の高さ対幅比を持つ表面特徴２０および８％の測定ヘイズを有するテクスチャが形成された第一面１２を有した；（４）ガラス基板１０の第四組の試料は、０．０６５の高さ対幅比を持つ表面特徴２０および８％の測定ヘイズを有するテクスチャが形成された第一面１２を有した；および（５）ガラス基板１０の第五組の試料は、テクスチャが形成されていなかった。全ての試料は、同じガラス基板１０の組成であった。次に、各組の試料から４つの試料に、一定力および９．３４ｍｍ／分の速度で、尖っていない物体３４（ヌープ圧子）により引っ掻いた。各組の試料からの４つの試料の各々は、異なるレベルの力（３Ｎ、５Ｎ、７Ｎ、および９Ｎ）を与える、尖っていない物体３４（ヌープ圧子）で引っ掻いたが、印加した力のレベルは、引っ掻き事象中一定であった。次に、主な傷跡４４の横幅４６を測定し、グラフに示した。グラフから明らかなように、０．２４の高さ対幅比を持つ表面特徴２０を有する第一組の試料と第三組の試料からの試料の引っ掻きにより、０．０６５の高さ対幅比を持つ表面特徴２０を有する第二組と第四組の試料、およびテクスチャが形成されていない第一面１２を有する第五組の試料よりもずっと狭い、ある範囲の主な傷跡４４の横幅４６が生じた。主な傷跡４４の横幅４６の差は、７Ｎおよび９Ｎのより高い力レベルで最も著しいが、３Ｎおよび５Ｎの力レベルでも明白である。さらに、０．２４の高さ対幅比を持つ表面特徴２０を有する試料は、テクスチャが形成されていない試料および０．０６５の高さ対幅比を持つ表面特徴２０を有する試料よりも優れた結果を与えたが、０．０６５の高さ対幅比を持つガラス試料は、テクスチャが形成されていないガラス試料が示した範囲の傷跡４４の横幅４６とほぼ等しい範囲の傷跡４４の横幅４６を示した。言い換えると、０．２４の比は最も優れた性能を示したのに対し、０．０６５の比を有するガラス試料は、テクスチャが形成されていないガラス試料とほぼ等しい機能を果たした。
それに加え、それらの結果は、異なる高さ対幅比を有する表面特徴２０が同じヘイズ値を提供できること、および同じ高さ対幅比を有する表面特徴２０が異なるヘイズ値を提供できることを証明している。いくつかの実施の形態において、第一面１２は、３．０％から４０％、３％から１５％、３．５％から１２．５％、および３．５％から８．５％を含む、０．１％から４０％を含む、０．１％から１００％のヘイズ値を有する。理論で束縛するものではないが、ヘイズ値は、表面特徴２０の形状（谷２４の曲率など）の関数のようであり、これは、高さ対幅比に完全には依存しないので、異なる高さ対幅比を有する表面特徴２０が同じヘイズ値を提供することができ、同じ高さ対幅比を有する表面特徴が異なるヘイズ値を提供できると考えられる。
ここで図１０を参照すると、尖っていない物体３４（ヌープ圧子）が様々な組の試料の第一面１２に与えた主な傷跡４４の横幅４６に加え、尖っていない物体３４（ヌープ圧子）が与えた横力（Ｆｘ）を、各組の試料について鉛直力（Ｆｚ）の関数として測定した。一般に、０．２４の高さ対幅比を持つ表面特徴２０を有する試料の組は、テクスチャが形成されていない第一面１２を有する試料の組または０．０６５の高さ対幅比を持つ表面特徴２０を有する試料の組よりも、小さい横力を経験した。経験した横力（Ｆｘ）の差は、印加した鉛直力（Ｆｚ）が高いほど、より著しかった。経験した横力（Ｆｘ）の差は、ここに述べられた主な傷跡４４の測定横幅４６における差を説明するであろう。
しかしながら、ここで図１１Ａおよび１１Ｂを参照すると、高さ対幅比が０．０６５から０（テクスチャが形成されていない）に向かって減少し続けるにつれて、尖っていない物体３４による引っ掻き傷に対する第一面１２の耐性が劣化して、テクスチャが形成されていない第一面１２よりも悪くなる。図６Ａのような図１１Ａは、第一面１２にテクスチャが形成されていない、ガラス基板１０の第一面１２を見下ろすように面する写真である。図６Ｂ～６Ｃのような図１１Ｂは、第一面１２がテクスチャ形成過程を経た、ガラス基板１０の第一面１２を見下ろすように面する写真である。そのガラス基板１０の第一面１２に関する表面特徴２０の結果として生じた高さ対幅比は０．０２（すなわち、高さ２６／幅３０＝３＊Ｒａ／ＡＬＦ＝０．０２）である。両方のガラス基板１０の第一面１２に、ヌープ圧子の先端３８での引っ掻きを施した。図１１Ｂから明らかなように、０．０２の表面特徴２０の高さ対幅比を達成するためにテクスチャが形成されたガラス基板１０の第一面１２は、５Ｎの印加引っ掻き力で、著しい欠けを示した。しかしながら、図１１Ａから明らかなように、テクスチャが形成されていないガラス基板１０の第一面１２は、７Ｎのより大きい印加引っ掻き力で欠けに抵抗した。先に述べたように、０．０６５の高さ対幅比を有する表面特徴２０は、テクスチャが形成されていない第一面１２と実質的に等しい尖っていない物体３４による引っ掻き性能を提供した。表面特徴２０の高さ対幅比を０．０６５より上昇させると（０．２４の比で証拠となるように）、尖っていない物体３４の先端３８は、表面特徴２０の谷２４で第一面１２と完全には相互作用できない。その比が０．０６５より低く低下するにつれて（０．０２の比で証拠となるように）、尖っていない物体３４（ヌープ圧子）の先端３８は、表面特徴の谷２４で第一面１２と完全に相互作用できるだけでなく、表面特徴２０の山２２は、テクスチャが形成されていない第一面１２よりも大きい抵抗（先端３８に対するより大きい摩擦係数）を提供する。ガラス基板１０を欠く先端３８のより大きい抵抗結果は、第一面１２にテクスチャが形成されていない場合よりも、容易に動く。０．０６の比は、表面特徴２０の山２２が、尖っていない物体３４の先端３８が隣接する山２２の間の谷２４と相互作用するのをもはや防げず、代わりに、テクスチャが形成されていない第一面１２よりも容易な欠けをもたらす抵抗を先端３８に提供し始める、ほぼ閾値比であると考えられる。
先に述べたように、テクスチャが形成された第一面１２の引っ掻き事象に対する応答を考える場合、検討すべき引っ掻き事象には少なくとも２つの一般タイプがある－第２のタイプは、力が比較的軽いが、第一面１２のより広い表面積に亘り何回も繰り返される。図１２に概念化されたように、第一面１２の比較的軽いが繰り返される引っ掻きは、第一面１２を変える（「摩耗前」対「摩耗後」を参照のこと）。より詳しくは、「テクスチャが形成された」と特定される左の列と真ん中の列で概念化されるように、第一面１２にテクスチャが形成されている場合、引っ掻き傷は、表面特徴２０の山２２の一部を除去する。左の列と真ん中の列を比較すると、テクスチャが形成された第一面１２の表面特徴２０の高さ対幅比が高いほど（真ん中の列「比較的高い高さ対幅比」）、引っ掻き事象が除去する山２２の量が多くなり、それゆえ、第一面１２の外観および光学的性質がより大きく変わる。それに加え、表面特徴２０の高さ対幅比が高いほど（真ん中の列）、表面特徴２０の谷２４が、引っ掻き事象中に生じる破片を溜める能力が大きくなり、第一面１２の外観および光学的性質をさらに変える。第一面１２に、右の列でテクスチャが形成されていない場合（「テクスチャが形成されていない」）、引っ掻き事象は、以前には存在していなかったテクスチャを第一面１２に生じ、それゆえ、第一面１２の外観および光回折を著しく変え得る。したがって、軽いが繰り返される引っ掻きの際に、外観および光学的性質の最も少ない変化量を与える、テクスチャが形成された第一面１２の表面特徴２０の高さ対幅比がおそらくある。
ここで図１３を参照すると、実験的証拠により、前の段落に述べられた概念的推論が確認される。表面特徴２０の様々な高さ対幅比を有するガラス基板１０のテクスチャが形成されていない第一面１２とテクスチャが形成された第一面１２の試料（各試料について４つ）に転動試験(tumble test)を行った。この転動試験は、ガラス基板１０の第一面１２上の軽いが繰り返される引っ掻きをシミュレーションする。より詳しくは、ガラス基板１０の試料の各々を、家の鍵、硬貨、爪ヤスリなどを含む、通常の使用中にガラス基板１０が接触しそうである他の一般的な品物とともに、タンブラーに入れ、１５分間に亘り転動させた。この転動期間後、各ガラス基板１０の試料を、光学顕微鏡（Ｋｅｙｅｎｃｅ ＶＨＸ ５０００）で観察した。画像解析を行って、引っ掻き傷を示す画像の画素数を特定した。引っ掻き傷を示す画像の画素数を、解析した画素の総数で割ることによって、欠陥を有するガラス基板１０の第一面１２の割合を計算した。各画素は、同じ表面積を表す。試験した試料は、（１）テクスチャが形成されていない、イオン交換済みの「ＧＯＲＩＬＬＡ」ガラス、コード７４１８、（２）０．２４の高さ対幅比および４％のヘイズを有する、テクスチャが形成された、イオン交換済みの「ＧＯＲＩＬＬＡ」ガラス、コード７４１８、（３）０．０６５の高さ対幅比および４％のヘイズを有する、テクスチャが形成された、イオン交換済みの「ＧＯＲＩＬＬＡ」ガラス、コード７４１８、（４）０．２４の高さ２６対幅３０比および８％のヘイズを有する、テクスチャが形成された、イオン交換済みの「ＧＯＲＩＬＬＡ」ガラス、コード７４１８、（５）０．０６５の高さ対幅比および８％のヘイズを有する、テクスチャが形成された、イオン交換済みの「ＧＯＲＩＬＬＡ」ガラス、コード７４１８、および（６）テクスチャが形成されていない、イオン交換済みの「ＧＯＲＩＬＬＡ」ガラス、コード７５１８の各々の５つであった。図１２から明らかなように、転動により、テクスチャが形成されていないガラス基板１０よりもさらに低い、０．０６５の高さ対幅比を持つ表面特徴２０を有するテクスチャが形成されたガラス基板１０上の最小の割合の表面欠陥が生じた。転動により、テクスチャが形成されていないガラス基板１０よりもさらに高い、０．２４の高さ対幅比を持つ表面特徴２０を有するテクスチャが形成されたガラス基板１０上の最大の割合の表面欠陥が生じた。先に述べたように、それは、転動中に表面特徴２０の山２２が除去され、その山２２が結果として生じた残留物を保持したからであろう。この試験の結果により、先に述べたことからの概念的推論－特定の範囲内の高さ対幅比を有するテクスチャが形成された表面特徴２０の繰り返しの軽い引っ掻きにより、最小の光学的に目立つ欠陥が生じることが確認される。０．０８より低い高さ対幅比（それゆえ、０．０６５の比を含む）を有する表面特徴２０は、軽いが繰り返される引っ掻き（例えば、転動試験）に応答して、テクスチャが形成されていないガラス基板１０と比べて、等しいかそれより低い割合の表面欠陥を生じると現在考えられている。
（ｉ）尖っていない物体３４の引っ掻きに対する耐性、および（ｉｉ）繰り返されるが軽い引っ掻きの後の光学的外観の維持に対する、テクスチャが形成されたガラス基板１０に関する表面特徴２０の高さ２６対幅３０比の影響についての先の議論を統合すると、従来技術の労力とは対照的に、グレアの低減だけでなく、テクスチャが形成されていないガラス基板１０よりも、等しいかそれより優れた有益な結果も提供する範囲の高さ対幅比があることが分かる。先に述べたように、ガラス基板１０の第一面１２にテクスチャを形成することは、グレアを低減させるために特定の用途にとって有益であり得るが、そのようなテクスチャの形成は、これまで、ガラス基板１０が引っ掻き傷をより受けやすくしてきた。しかしながら、本開示は、０．０６以上（０．２４を含む）の高さ対幅比を有する表面特徴２０を与えるテクスチャの形成は、テクスチャが形成されていないガラス基板１０と比べて、また０．０６未満（０．０２など）の高さ対幅比を有する、テクスチャが形成されたガラス基板１０と比べて、尖っていない物体３４の引っ掻きに対して等しいかそれより優れた耐性をもたらすことを明らかにする。０．０６の比は見たところ、それより上だと、尖っていない物体３４の引っ掻きに対する、そのような等しいかそれより優れた耐性が達成される臨界閾値比である。それに加え、本開示は、約０．０８より低い（０．０６５など）の高さ対幅比を有する表面特徴２０を与えるテクスチャの形成は、テクスチャが形成されていないガラス基板１０と比べて、また０．０８を超える（０．２４など）高さ対幅比を有する、テクスチャが形成されたガラス基板１０と比べて、軽いが繰り返される引っ掻きに対して等しいかそれより優れた耐性をもたらすことを明らかにする。その結果として、０．０６から０．０８の高さ対幅比を有する表面特徴２０を与えるテクスチャの形成が、テクスチャが形成されていないガラス基板１０と比べて、また０．０６から０．０８の範囲から外れた高さ対幅比を有する、テクスチャが形成されたガラス基板１０と比べて、尖っていない物体３４の引っ掻きおよび軽いが繰り返される引っ掻きの両方に対して等しいかそれより優れた耐性をもたらす。表面特徴２０の高さ対幅比が０．０６から０．０８の範囲内にあれば、ガラス基板１０にテクスチャを形成することがこれまで示してきた低下した引っ掻き性能と減少したグレアのトレードオフは、もはや存在しない。これにより、多くの用途においてテクスチャが形成されたガラス基板１０の支持が増加するはずである。ガラス基板１０の特定の用途が、減少したグレア、およびテクスチャが形成されていないガラス基板１０と比べて、尖っていない物体３４の引っ掻きに対する等しいかそれより優れた耐性しか必要ない場合、ひいては、０．０６から０．２４の拡大された範囲内の表面特徴２０の高さ対幅比を利用することができる。ガラス基板１０の特定の用途が、テクスチャが形成されていないガラス基板１０と比べて、軽いが繰り返される引っ掻きに対する等しいかそれより優れた耐性とともに、減少したグレアしか必要ない場合、ひいては、０．０８以下の拡大された範囲内の表面特徴２０の高さ対幅比を利用することができる。
ここで図１４および１５を参照すると、（１）テクスチャが形成されていない、（２）０．０２の高さ対幅比を有する表面特徴２０を得るためにテクスチャが形成された、（３）０．０６５の高さ対幅比を有する表面特徴２０を得るためにテクスチャが形成された、および（４）０．２４の高さ対幅比を有する表面特徴２０を得るためにテクスチャが形成された、ガラス基板１０の第一面１２に摩耗試験を行った。この摩耗試験は、ガラス基板１０の第一面１２をスチールたわしと接触させ、固定距離（４０ｍｍ）に亘り定荷重（１ｋｇ）下で第一面１２の上にスチールたわしを直線運動させ、その運動を固定回数－ある試験では１，０００回、別の試験では２，０００回繰り返すことからなった。０．０６５および０．２４の比を有するテクスチャが形成されたガラス基板１０は、８％のヘイズを示し、一方で、０．０２の比を有するテクスチャが形成されたガラス基板１０は、３０％のヘイズを示した。図１４から明らかなように、スチールたわしは、０．０６５の比を持つ表面特徴２０を有するテクスチャが形成された第一面１２上に、１，０００周期後に、実質的に目に見えない研磨経路４８を残し、２，０００周期後に、かろうじて見える研磨経路４８を残した。しかしながら、スチールたわしは、０．０２および０．２４の比を持つ表面特徴２０を有するテクスチャが形成された第一面１２上に、１，０００周期と２，０００周期の両方の後に、よく目に見える研磨経路４８を残した。テクスチャが形成されていない第一面１２について、１，０００周期と２，０００周期の両方の後に、研磨経路４８は目に見えなかった。
スチールたわしの摩耗の効果が、図１５により定量的に示されており、この図は、摩耗試験前と比べた、摩耗試験後の第一面１２上の水接触角の減少を示す。図１４から明らかなように、０．０６５の比を有するガラス基板１０に関する水接触角の減少は、１，０００周期後に、テクスチャが形成されていないガラス基板１０と似ているが、０．０２および０．２４の比を持つガラス基板１０に関する水接触角の減少は、ずっと高かった。２，０００周期後では、０．０６５の比を有するガラス基板１０に関する水接触角の減少は、テクスチャが形成されていないガラス基板１０に近くなかったが、それでも、０．０２および０．２４の比を持つテクスチャが形成されたガラス基板１０よりも良好であった。０．０６と０．０８の間の高さ対幅比（それゆえ、０．０６５の比を含む）を有する表面特徴２０は、テクスチャが形成されていないガラス基板１０と視覚的に匹敵する、テクスチャが形成された第一面１２の最適な摩耗保護を生じると現在考えられている。先に述べたように、０．０２および０．２４の比よりも良好な摩耗性能の０．０６～０．０８のこの比の範囲は、最適な、軽いが繰り返される引っ掻き耐性を与える０．０６～０．０８の比の範囲と一致する。
酸浸出の一段階過程（０．２４の高さ対幅比を持つ表面特徴２０）または化学研磨が後に行われる酸浸出の二段階過程（０．０６５の高さ対幅比を持つ表面特徴２０）のいずれかを使用して、約０．０６５から約０．２４の高さ対幅比を持つ表面特徴２０を有するテクスチャが形成されたガラス基板１０を調製した。この酸浸出工程は、８０から１２０分の期間に亘り、ガラス基板１０を、非フッ化水素酸の低ｐＨエッチング液を含む容器に配置する工程を含む。この酸浸出工程により、０．２４（または約０．２４）の高さ対幅比を持つ表面特徴２０および０．１％から４０％のヘイズ値を含む、０．１％から１００％のヘイズ値を有するテクスチャが形成された第一面１２をもたらす。この非ＨＦの低ｐＨエッチング液は、例えば、クエン酸、硫酸、または塩化水素酸であり得る。４未満、好ましくは３未満のｐＨを与える他の有機酸を利用しても差し支えない。
化学研磨工程は、ＮａＯＨの溶液を利用し、高さ対幅比を、０．０８未満、または０．０４～０．０８の間、または約０．０６５など、所望の比まで引き下げる。酸浸出および化学研磨の時間の調整は、テクスチャが形成された第一面１２に所望のヘイズレベルを与え、表面特徴２０に所望の高さ対幅比を与えることができる。
具体例において、ガラス基板１０にラベルをレーザスクライビング加工した。次に、ガラス基板１０を蒸留水で５分間の濯ぎにより洗浄し、次いで、超音波処理を行いながら、６０℃で４質量％のＳｅｍｉＣｌｅａｎ洗浄液中に２分間浸漬した。次に、ガラス基板１０を、５分間に亘り蒸留水で再び濯ぎ、次いで、Ｔｙｐｅ Ｉ（ＡＳＴＭ Ｄ１１９３－９１）水（１８．２ＭΩ＊ｃｍの抵抗率）中で最終濯ぎを行った。次に、ガラス基板１０を少なくとも１時間に亘り１１０℃で乾燥させた。次に、ガラス基板１０を、質量および基準光学的測定について測定した。
次に、ガラス基板１０を、凝縮器が取り付けられた、沸騰した、１ＭのＦｅＣｌ３とともに２０質量％のクエン酸を収容するテフロン（登録商標）容器内に入れた。この浸出層を、超音波処理を行いながら、６０℃で、４質量％のＳｅｍｉＣｌｅａｎ洗浄液中に１０分間に亘り浸漬することによって、除去した。次に、ガラス基板１０を５分間に亘り蒸留水で濯ぎ、その後、Ｔｙｐｅ Ｉの１８．２ＭΩ＊ｃｍの抵抗率の水で最終濯ぎを行った。次に、ガラス基板１０を少なくとも１時間に亘り１１０℃で乾燥させた。次に、酸浸出されたガラス基板１０を、質量および基準光学的測定について測定した。この酸浸出により、０．２４の高さ対幅比を有する表面特徴２０がもたらされた。８０．９５分の浸出時間で、４％のヘイズが達成された。８７．３１分の浸出時間で、８％のヘイズが達成された。いくつかの実施の形態において、浸出時間は８０から１２０分である。ＦｅＣｌ３の添加により、ｐＨがわずかに低下するだけでなく、副生成物（ＳｉＯｘ）が沈殿し、浸出時間が減少する。
次に、酸浸出されたガラス基板１０を、９５℃で３０分間に亘り、１０質量％のＮａＯＨ中に浸漬した。次に、このように化学研磨された酸浸出されたガラス基板１０を脱イオン水で濯ぎ、次いで、Ｔｙｐｅ Ｉの１８．２ＭΩ＊ｃｍの抵抗率の水で最終濯ぎを行った。次に、ガラス基板１０を少なくとも１時間に亘り１１０℃で乾燥させた。次に、ガラス基板１０を、最終的な光学的性質について測定した。化学研磨工程により、０．０６５の高さ対幅比を持つ表面特徴２０が得られた。９２．４４分の浸出時間で、４％のヘイズが達成された。１０５．３７分の浸出時間で、８％のヘイズが達成された。いくつかの実施の形態において、酸浸出されたガラス基板１０は、１５分から４５分の期間に亘り、ＮａＯＨを含む溶液中に浸漬される。
非ＨＦの低ｐＨエッチング液の代わりに、サンドブラスト技法、もしくはフッ化アンモニウム、重フッ化アンモニウム、塩化カリウム、またはフッ化ナトリウムなどの結晶化試薬を含むＨＦエッチング液を使用しても差し支えない。化学研磨工程に、ＮａＯＨの代わりに、ＨＦまたはＫＯＨなどの別の塩基を使用しても差し支えない。
請求項の精神および範囲から逸脱せずに、様々な改変および変更を行えることが当業者に明白であろう。
以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。
実施形態１
ガラス基板において、
平均幅、平均高さ、約０．０４から約０．２４の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴を備えた第一面であって、３％から４０％のヘイズ値を有する第一面、
を備えたガラス基板。
実施形態２
可視スペクトルの電磁放射線に対して透明である、実施形態１に記載のガラス基板。
実施形態３
少なくとも６０モル％のＳｉＯ２の組成を有し、モル％比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）／Σ改質剤（すなわち、改質剤の合計）が１より大きく、該改質剤はアルカリ金属酸化物である、実施形態１または２に記載のガラス基板。
実施形態４
６１～７５モル％のＳｉＯ２、
７～１５モル％のＡｌ２Ｏ３、
０～１２モル％のＢ２Ｏ３、
９～２１モル％のＮａ２Ｏ、
０～４モル％のＫ２Ｏ、
０～７モル％のＭｇＯ、および
０～３モル％のＣａＯ
の組成を有する、実施形態１から３のいずれか１つに記載のガラス基板。
実施形態５
前記第一面が、１０ｎｍから１，０００ｎｍの平均表面粗さＲａを有する、実施形態１から４のいずれか１つに記載のガラス基板。
実施形態６
前記第一面が、２００ｎｍから５０μｍの平均の特徴的な最大特徴サイズを有する、実施形態１から５のいずれか１つに記載のガラス基板。
実施形態７
前記平均高さ対平均幅比が、約０．０６から約０．２４である、実施形態１から６のいずれか１つに記載のガラス基板。
実施形態８
前記平均高さ対平均幅比が、約０．０６から約０．０８である、実施形態１から７のいずれか１つに記載のガラス基板。
実施形態９
前記平均高さ対平均幅比が、約０．０６５である、実施形態１から８のいずれか１つに記載のガラス基板。
実施形態１０
前記第一面が、３％から１５％のヘイズ値を有する、実施形態１から９のいずれか１つに記載のガラス基板。
実施形態１１
前記第一面が、３．５％から１２．５％のヘイズ値を有する、実施形態１から１０のいずれか１つに記載のガラス基板。
実施形態１２
圧縮応力下にある、前記第一面と隣接した層をさらに含む、実施形態１から１１のいずれか１つに記載のガラス基板。
実施形態１３
ガラス基板の第一面にテクスチャを形成する方法において、
８０から１２０分の期間に亘り非ＨＦの低ｐＨエッチング液を含む容器中に、第一面を有するガラス基板を配置する工程であって、該第一面は、その後、０．１％から４０％のヘイズ値を有する工程、
を有してなる方法。
実施形態１４
前記非ＨＦの低ｐＨエッチング液がクエン酸である、実施形態１３に記載の方法。
実施形態１５
前記ガラス基板を水中で濯ぐ工程、
前記ガラス基板を乾燥させる工程、および
１５分から４５分の期間に亘り室温より高い温度でＮａＯＨを含む溶液中に前記ガラス基板を浸漬する工程、
をさらに含む、実施形態１３または１４に記載の方法。
実施形態１６
前記第一面に、平均幅、平均高さ、および約０．０４から約０．２４の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴でテクスチャが形成されている、実施形態１３から１５のいずれか１つに記載の方法。
実施形態１７
前記第一面に、平均幅、平均高さ、および約０．０６から約０．０８の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴でテクスチャが形成されている、実施形態１３から１６のいずれか１つに記載の方法。
実施形態１８
ガラス基板の第一面にテクスチャを形成する方法において、
ガラス基板の第一面に、平均幅、平均高さ、および０．２４以上の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴を持たせる工程、および
前記平均高さ対平均幅比を０．０４と０．２４の間に減少させる工程であって、前記第一面は、０．１％から４０％のヘイズ値を有する工程、
を有してなる方法。
実施形態１９
前記ガラス基板の第一面に表面特徴を持たせる工程が、前記第一面をサンドブラストで磨く工程、または８０から１２０分の期間に亘り非ＨＦの低ｐＨエッチング液を含む容器中に前記ガラス基板を配置する工程を含む、実施形態１８に記載の方法。
実施形態２０
前記平均高さ対平均幅比を減少させる工程が、ＨＦ、ＮａＯＨ、またはＫＯＨを含む溶液中に前記ガラス基板を浸漬する工程を含む、実施形態１９に記載の方法。
１０ ガラス基板
１２ 第一面
１４ 第二面
１６ 可視光
１８ 厚さ
２０ 表面特徴
２２ 山
２４ 谷
２６ 高さ
２８ ２等分線
３０ 平均幅
３２ 直径
３４ 尖っていない物体
３８ 先端
４０ 横亀裂
４２ 欠け
４４ 傷跡
４６ 傷跡の横幅

Claims (10)

  1. ガラス基板（１０）において、
    平均幅、平均高さ、約０．０４から約０．２４の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴を備えた第一面（１２）であって、３％から４０％のヘイズ値を有する第一面（１２）、
    を備えたガラス基板。
  2. 可視スペクトルの電磁放射線に対して透明である、請求項１記載のガラス基板。
  3. 少なくとも６０モル％のＳｉＯ２の組成を有し、モル％比（Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）／Σ改質剤（すなわち、改質剤の合計）が１より大きく、該改質剤はアルカリ金属酸化物である、請求項１または２記載のガラス基板。
  4. ６１～７５モル％のＳｉＯ２、
    ７～１５モル％のＡｌ２Ｏ３、
    ０～１２モル％のＢ２Ｏ３、
    ９～２１モル％のＮａ２Ｏ、
    ０～４モル％のＫ２Ｏ、
    ０～７モル％のＭｇＯ、および
    ０～３モル％のＣａＯ
    の組成を有する、請求項１から３いずれか１項記載のガラス基板。
  5. 前記ガラス基板が、下記の特徴の内の少なくとも１つを有する、請求項１から４いずれか１項記載のガラス基板：
    前記第一面が、１０ｎｍから１，０００ｎｍの平均表面粗さＲａを有する、
    前記第一面が、２００ｎｍから５０μｍの平均の特徴的な最大特徴サイズを有する、
    前記平均高さ対平均幅比が、約０．０６から約０．２４である、
    前記平均高さ対平均幅比が、約０．０６から約０．０８である、および
    前記平均高さ対平均幅比が、約０．０６５である。
  6. 前記ガラス基板が、下記の特徴の内の少なくとも一方を有する、請求項１から５いずれか１項記載のガラス基板：
    前記第一面が、３％から１５％のヘイズ値を有する、および
    前記第一面が、３．５％から１２．５％のヘイズ値を有する。
  7. 圧縮応力下にある、前記第一面と隣接した層をさらに含む、請求項１から６いずれか１項記載のガラス基板。
  8. ガラス基板の第一面にテクスチャを形成する方法において、
    ８０から１２０分の期間に亘り非ＨＦの低ｐＨエッチング液を含む容器中に、第一面を有するガラス基板を配置する工程であって、該第一面は、その後、０．１％から４０％のヘイズ値を有する工程、
    を有してなる方法。
  9. 前記ガラス基板を水中で濯ぐ工程、
    前記ガラス基板を乾燥させる工程、および
    １５分から４５分の期間に亘り室温より高い温度でＮａＯＨを含む溶液中に前記ガラス基板を浸漬する工程、
    をさらに含む、請求項８記載の方法。
  10. 前記第一面に、平均幅、平均高さ、および約０．０４から約０．２４の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴でテクスチャが形成されている、または
    前記第一面に、平均幅、平均高さ、および約０．０６から約０．０８の平均高さ対平均幅比を有する表面特徴でテクスチャが形成されている、
    請求項８または９記載の方法。
JP2021560034A 2019-04-09 2020-04-08 防眩特性および増加した耐引掻性を提供するために特定の高さ対幅比を有する表面特徴を備えたテクスチャ表面を有するガラス基板 Pending JP2022527124A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201962831307P 2019-04-09 2019-04-09
US62/831,307 2019-04-09
PCT/US2020/027209 WO2020210313A1 (en) 2019-04-09 2020-04-08 Glass substrate with a textured surface with surface features having a certain ratio of height-to-width to provide anti-glare properties and increased resistance to scratches

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2022527124A true JP2022527124A (ja) 2022-05-30

Family

ID=70476469

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021560034A Pending JP2022527124A (ja) 2019-04-09 2020-04-08 防眩特性および増加した耐引掻性を提供するために特定の高さ対幅比を有する表面特徴を備えたテクスチャ表面を有するガラス基板

Country Status (7)

Country Link
US (1) US11926556B2 (ja)
EP (1) EP3953312A1 (ja)
JP (1) JP2022527124A (ja)
KR (1) KR20210149133A (ja)
CN (1) CN114072363B (ja)
TW (1) TW202104117A (ja)
WO (1) WO2020210313A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6907778B2 (ja) * 2017-07-20 2021-07-21 日本電気硝子株式会社 カバー部材及び情報機器
US11485677B2 (en) 2019-06-28 2022-11-01 Corning Incorporated Textured glass articles and methods of making the same
CN112666642B (zh) * 2020-12-28 2022-11-18 广东小天才科技有限公司 一种防眩光板和终端设备

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003046508A2 (en) 2001-11-09 2003-06-05 Biomicroarrays, Inc. High surface area substrates for microarrays and methods to make same
US6958860B2 (en) 2002-10-07 2005-10-25 Eastman Kodak Company Voided polymer film containing layered particulates
US8568869B2 (en) 2005-04-06 2013-10-29 3M Innovative Properties Company Optical bodies including rough strippable boundary layers and asymmetric surface structures
EP2328695A1 (en) 2008-08-07 2011-06-08 Uni-Pixel Displays, Inc. Microstructures to reduce the apperance of fingerprints on surfaces
EA201190339A1 (ru) * 2009-06-03 2012-10-30 Агк Гласс Юроп Способ обработки стекла
EA201190340A1 (ru) * 2009-06-03 2012-05-30 Агк Гласс Юроп Сухой способ обработки поверхности
US8598771B2 (en) * 2009-09-15 2013-12-03 Corning Incorporated Glass and display having anti-glare properties
US8835011B2 (en) * 2010-01-07 2014-09-16 Corning Incorporated Cover assembly for electronic display devices
US20150175478A1 (en) * 2011-04-20 2015-06-25 Corning Incorporated Textured glass surface and methods of making
US20140131091A1 (en) * 2012-11-09 2014-05-15 Nicholas James Smith Phase transformation coating for improved scratch resistance
CN104918898B (zh) 2013-07-19 2016-09-28 旭硝子株式会社 化学强化玻璃及其制造方法
JP6383985B2 (ja) 2013-11-14 2018-09-05 Ａｇｃ株式会社 ペン入力装置用のカバーガラスおよびその製造方法
US20160280584A1 (en) * 2014-07-09 2016-09-29 Agc Glass Europe Low sparkle glass sheet
ES2770697T3 (es) * 2014-07-09 2020-07-02 Agc Glass Europe Lámina de vidrio de bajo reflejo
US11229131B2 (en) 2015-01-19 2022-01-18 Corning Incorporated Enclosures having an anti-fingerprint surface
CN106250800B (zh) 2015-06-05 2021-08-27 Ａｇｃ株式会社 一种保护玻璃以及便携式信息终端
WO2017043538A1 (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 日本電気硝子株式会社 ディスプレイ用カバー部材及びその製造方法
US11208344B2 (en) * 2017-03-28 2021-12-28 Corning Incorporated Textured glass articles and methods of making the same
US11548810B2 (en) 2017-09-14 2023-01-10 Corning Incorporated Textured glass-based articles with scratch resistance and methods of making the same
CN108516693A (zh) * 2018-06-22 2018-09-11 佛山市庆通玻璃科技有限公司 一种无干涉闪点防眩光玻璃及蚀刻液配备方法及生产工艺
CN114127023A (zh) 2018-09-21 2022-03-01 康宁股份有限公司 图案化的玻璃制品及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW202104117A (zh) 2021-02-01
EP3953312A1 (en) 2022-02-16
US20200325064A1 (en) 2020-10-15
CN114072363B (zh) 2023-10-03
CN114072363A (zh) 2022-02-18
KR20210149133A (ko) 2021-12-08
US11926556B2 (en) 2024-03-12
WO2020210313A1 (en) 2020-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102628432B1 (ko) 내스크래치성을 갖는 텍스쳐링된 유리-계 물품 및 이를 제조하는 방법
KR101954463B1 (ko) 압축 응력 평형을 갖는 눈부심 방지 유리 시트
US10302841B2 (en) Textured surfaces for display applications
JP2022527124A (ja) 防眩特性および増加した耐引掻性を提供するために特定の高さ対幅比を有する表面特徴を備えたテクスチャ表面を有するガラス基板
JP5784610B2 (ja) 防眩性を有するガラスおよびディスプレイ
EP3178796B1 (en) Glass article comprising anti-glare surface
US10690818B2 (en) Anti-glare substrates with a uniform textured surface and low sparkle and methods of making the same
EP2646382B1 (en) Anti-glare surface treatment method and articles thereof
CN107074629B (zh) 具有低闪光、doi和透射雾度的防眩光基材
US20150175478A1 (en) Textured glass surface and methods of making
KR20180104002A (ko) 개선된 촉각 표면을 갖는 밀봉부
KR20220016088A (ko) 텍스처링된 유리 물품 및 이를 제조하는 방법
TW202108534A (zh) 改良具有處於壓應力下的區域之紋理化玻璃基板以增加玻璃基板強度的方法
WO2018152021A1 (en) Low sparkle anti-glare glass-based articles with reduced warp and methods of reducing warp in anti-glare glass-based articles
KR20150109358A (ko) 투명 기재