CN104600029A - 一种柔性显示装置及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种柔性显示装置及其制作方法，该柔性显示装置包括：柔性基板；设于柔性基板上的TFT层，TFT层包括像素区和像素间隔区，像素区被像素间隔区间隔成多行多列的阵列，像素间隔区内设有第一有机物平坦化层，各相邻的像素区通过跨越第一有机物平坦化层上的金属线电连接；设于TFT层上的发光器件，发光器件包括像素单元，像素单元在柔性基板上的投影与TFT层的像素区在柔性基板上的投影重叠，各像素单元之间的区域在柔性基板上的投影与TFT层的像素间隔区在柔性基板上的投影重叠。本发明将像素间隔区采用有机物平坦化层填充，因此柔性显示装置进行弯折时，应力会集中在折弯区，从而防止了像素区因为折弯而发生TFT特性改变或断裂的风险。

Description

一种柔性显示装置及其制作方法
技术领域
 本发明有关一种柔性显示装置及其制作方法，特别是指一种成本低、弯曲程度大且不易使薄膜晶体管断裂的柔性显示装置及其制作方法。
背景技术
目前，柔性显示器的柔性基板各层结构均为无机物和金属，且各层厚度近似，在折弯时由于应力分布均匀，因此可能发生TFT（Thin Film Transistor，薄膜晶体管）位置由于折弯特性而造成偏移，甚至出现断裂。
为解决上述问题，现有技术中往往采用柔性较好、易于弯曲的材料制造柔性显示装置中的显示结构，例如用氧化物半导体(铟镓锌氧化物，IGZO) 或有机物半导体( 如酞菁铜，PcCu) 等取代薄膜晶体管有源区的硅基半导体材料。但是，并非所有的显示结构都能由柔性好的替代材料制造，其选材范围受限；且即使有替代材料，也不能保证其性能、成本等都达到现有材料的水平，因此替代材料的使用可能造成柔性显示装置性能的降低和成本的升高；另外，如果使用替代材料，则柔性显示基板的结构、制备工艺等都会发生明显变化，从而无法通过现有的工艺和设备制备。
目前还可以使用弹性材料层对柔性显示基板上的各种显示结构进行封装，以保护这些结构免受损伤。然而，弹性材料层虽可保护易损结构，但其也使柔性显示基板的变形受到限制，从而导致柔性显示装置的变形能力降低。
发明内容
有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种制作简单、弯曲程度大且不易使TFT断裂的柔性显示装置及其制作方法。
为达到上述目的，本发明提供一种柔性显示装置制作方法，该方法包括如下步骤：
步骤一、在柔性基板上制作TFT层，将所述TFT层划分为像素区和像素间隔区，所述像素间隔区以行和列的方式间隔出多行多列的像素区；
步骤二、将所述像素间隔区的TFT层刻蚀直至柔性基板处，在经刻蚀后的像素间隔区内填充第一有机物平坦化层；
步骤三、在所述像素区和像素间隔区上制作金属线，所述金属线跨越所述像素间隔区的第一有机物平坦化层实现相邻像素区的电连接；
步骤四、在实现相邻像素电连接的TFT层上制作发光器件，所述发光器件包括像素单元，所述像素单元在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素区在柔性基板上的投影重叠，各像素单元之间的区域在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素间隔区在柔性基板上的投影重叠。
其中一个实施例中，在所述步骤三还包括如下工艺：在所述像素区制作通孔，所述金属线跨越所述像素间隔区通过所述通孔实现相邻像素区的电连接。
其中一个实施例中，在所述步骤三与步骤四之间进行如下工艺：在所述实现相邻像素电连接的TFT层上制作第二有机物平坦化层，覆盖所述金属线。
其中一个实施例中，所述第一有机物平坦化层与第二有机物平坦化层的材质为聚酰亚胺。
本发明还提供一种柔性显示装置，包括：
柔性基板；
设于所述柔性基板上的TFT层，所述TFT层包括像素区和像素间隔区，所述像素区被所述像素间隔区间隔成多行多列的阵列，所述像素间隔区内设有第一有机物平坦化层，各相邻的像素区通过所述第一有机物平坦化层上的金属线电连接；
设于所述TFT层上的发光器件，所述发光器件包括像素单元，所述像素单元在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素区在柔性基板上的投影重叠，各像素单元之间的区域在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素间隔区在柔性基板上的投影重叠。
其中一个实施例中，所述像素区设有通孔，所述金属线通过所述通孔连接所述各相邻的像素区。
其中一个实施例中，所述TFT层与所述发光器件之间还设有第二有机物平坦化层，所述第二有机物平坦化层覆盖所述金属线。
其中一个实施例中，所述第一有机物平坦化层和第二有机物平坦化层的材质为聚酰亚胺。
本发明将TFT分割为像素区与像素间隔区，像素间隔区为第一有机物平坦化层，由于有机物容易弯折，因此将柔性显示装置进行弯折时，应力会集中在像素间隔区，从而防止了像素区因为折弯而发生TFT特性改变或断裂的风险。
附图说明
图1为本发明柔性显示装置制作方法的步骤流程图；
图2为本发明柔性显示装置的俯视示意图；
图3为沿图2中A-A线的剖面图。
具体实施方式
为便于对本发明的结构及方法及达到的效果有进一步的了解，现结合附图并举较佳实施例详细说明如下。
如图1至图3所示，本发明柔性显示装置制作方法包括如下步骤：
步骤一、在柔性基板上制作TFT层，将所述TFT层划分为像素区和像素间隔区，所述像素间隔区以行和列的方式间隔出多行多列的像素区。利用像素间隔区将像素区间隔成以阵列方式排列的独立孤岛。
步骤二、刻蚀TFT层的像素间隔区，将所述像素间隔区内的无机物层及金属层刻蚀掉，直至刻蚀到柔性基板处；然后在刻蚀后的像素间隔区内填充第一有机物平坦化层；第一有机物平坦化层相对之前被刻蚀掉的无机物具备更好的柔性，容易折弯。在折弯时，应力会集中在像素间隔区，从而防止了像素区因为折弯而发生TFT特性改变或断裂的风险。
步骤三、在所述像素区和像素间隔区上制作金属线，所述金属线跨越所述像素间隔区的第一有机物平坦化层实现相邻像素区独立孤岛的电连接。金属线不仅实现了相邻像素区的电连接，而且相对之前刻蚀掉的金属层具备更好的伸展性，在折弯时减小了像素区因为折弯而发生TFT特性改变或断裂的风险。
步骤四、在实现相邻像素电连接的TFT层上制作发光器件，所述发光器件包括像素单元，像素单元包括多个子像素，子像素在柔性基板上的投影与像素区在柔性基板上的投影重叠；各子像素之间的区域在柔性基板上的投影与像素间隔区在柔性基板上的投影重叠。
步骤二中，为增大柔性显示装置的弯曲程度，可以在每相邻两个像素区之间进行行列方向的刻蚀，并以有机物进行填充，以形成更为密集的折弯区，增大弯折程度。
步骤三中，通过在像素区刻蚀通孔，然后所述金属线跨越所述像素间隔区通过所述通孔实现相邻像素区独立孤岛的电连接。
各像素区通过金属线实现电连接后，还可以在所述TFT层上制作第二有机物平坦化层，第二有机物平坦化层覆盖所述金属线，增加了对金属线的保护，进一步减小断线的风险，增大弯折程度。所述第一和第二有机物平坦化层优选聚酰亚胺。
如图2 与图3所示，本发明的柔性显示装置包括柔性基板1，设于所述柔性基板上的TFT 层2， TFT层2包括像素区20和像素间隔区21，像素区20被像素间隔区21间隔成多行多列的阵列，像素间隔区21内设有第一有机物平坦化层22，各相邻的像素区20通过所述第一有机物平坦化层22上的金属线23电连接。本发明中一有机物平坦化层22优选聚酰亚胺，其具备较优的弯折能力，因此将柔性显示装置进行弯折时，应力会集中在像素间隔区21，从而防止了像素区20因为折弯而发生TFT特性改变或断裂的风险。柔性显示装置还包括设于所述TFT层上的发光器件（图中未示出），所述发光器件包括像素单元，像素单元包括多个子像素，子像素在柔性基板上的投影与TFT层像素区在柔性基板上的投影重叠；各子像素之间的区域在柔性基板上的投影与TFT层像素间隔区在柔性基板上的投影重叠。为增大柔性显示装置的弯曲程度，可以在每相邻两个像素区之间进行行列方向的刻蚀，并以有机物进行填充，以形成更为密集的折弯区，增大弯折程度。
该柔性显示装置的TFT层和发光器件之间进一步的包含一层第二有机物平坦化层，该第二有机物平坦化层3覆盖所述金属线，进一步保护金属线，使得金属线的弯折程度更大。该该第二有机物平坦化层3材质也为聚酰亚胺。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种柔性显示装置制作方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：
步骤一、在柔性基板上制作TFT层，将所述TFT层划分为像素区和像素间隔区，所述像素间隔区以行和列的方式间隔出多行多列的像素区；
步骤二、将所述像素间隔区的TFT层刻蚀直至柔性基板处，在经刻蚀后的像素间隔区内填充第一有机物平坦化层；
步骤三、在所述像素区和像素间隔区上制作金属线，所述金属线跨越所述像素间隔区的第一有机物平坦化层实现相邻像素区的电连接；
步骤四、在实现相邻像素电连接的TFT层上制作发光器件，所述发光器件包括像素单元，所述像素单元在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素区在柔性基板上的投影重叠，各像素单元之间的区域在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素间隔区在柔性基板上的投影重叠。
2.如权利要求1所述的柔性显示装置制作方法，其特征在于，在所述步骤三还包括如下工艺：在所述像素区制作通孔，所述金属线跨越所述像素间隔区通过所述通孔实现相邻像素区的电连接。
3.如权利要求1或2所述的柔性显示装置制作方法，其特征在于，在所述步骤三与步骤四之间进行如下工艺：在所述实现相邻像素电连接的TFT层上制作第二有机物平坦化层，覆盖所述金属线。
4.如权利要求3所述的柔性显示装置制作方法，其特征在于，所述第一有机物平坦化层与第二有机物平坦化层的材质为聚酰亚胺。
5.一种柔性显示装置，其特征在于，包括：
柔性基板；
设于所述柔性基板上的TFT层，所述TFT层包括像素区和像素间隔区，所述像素区被所述像素间隔区间隔成多行多列的阵列，所述像素间隔区内设有第一有机物平坦化层，各相邻的像素区通过跨越所述第一有机物平坦化层上的金属线电连接；
设于所述TFT层上的发光器件，所述发光器件包括像素单元，所述像素单元在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素区在柔性基板上的投影重叠，各像素单元之间的区域在柔性基板上的投影与所述TFT层的像素间隔区在柔性基板上的投影重叠。
6.如权利要求5所述的柔性显示装置，其特征在于，所述像素区设有通孔，所述金属线通过所述通孔连接所述各相邻的像素区。
7.如权利要求5或6所述的柔性显示装置，其特征在于，所述TFT层与所述发光器件之间还设有第二有机物平坦化层，所述第二有机物平坦化层覆盖所述金属线。
8.如权利要求7所述的柔性显示装置，其特征在于，所述第一有机物平坦化层和第二有机物平坦化层的材质为聚酰亚胺。
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