CN104561923A - 有机物沉积装置及有机物沉积方法 - Google Patents

Abstract

本发明的一实施例公开了有机物沉积装置，该有机物沉积装置包括：用于对掩模与基板进行对准（Align）并把持的基板把持部；用于将有机物原子化（atomization）以将有机物喷射到所述基板上的有机物源部；以及设置在所述源部和所述基板之间以用于对所述有机物进行扩散的分撒部。

Description

有机物沉积装置及有机物沉积方法

技术领域

本发明涉及装置及方法，尤其是涉及有机物沉积装置及有机物沉积方法。

背景技术

以移动性为基础的电子设备被广泛使用。作为便携式电子设备，除了诸如移动电话的小型电子设备以外，最近还有平板电脑被广泛使用。

这种便携式电子设备包括显示面板，以支持多种功能，并且向使用者提供诸如图像或视频的视觉信息。最近，随着用于驱动显示面板的其他部件的小型化，显示面板在电子设备中所占的比重处于逐渐增加的趋势，并且还在研究着可从平坦的状态下弯曲成预定角度的结构。

发明内容

本发明的实施例提供有机物沉积装置和有机物沉积方法。

在本发明的一实施例中公开一种有机物沉积装置，包括：用于对掩模和基板进行对准（Align）并进行把持的基板把持部；用于将有机物原子化（atomization）以将有机物喷射到所述基板上的有机物源部；以及设置在所述有机物源部和所述基板之间以用于对所述有机物进行扩散的分撒部。

在本实施例中，还可以包括：被设置成与所述有机物源部和所述分撒部连接，以用于将所述有机物从所述有机物源部引导至所述分撒部的引导部。

在本实施例中，所述引导部可以用于将所述有机物从所述有机物源部朝着所述分撒部移动的路径与外部进行切断。

在本实施例中，还可以包括：用于放射紫外线以对喷射到所述基板上的有机物进行固化的紫外线供给部。

在本实施例中，所述紫外线供给部可以被设置成能够进行直线运动。

在本实施例中，所述有机物源部、所述紫外线供给部、所述分撒部能够以相同的速度进行直线运动。

在本实施例中，还可以包括：用于对从所述分撒部扩散到所述基板的所述有机物进行选择性遮蔽的遮蔽部。

在本实施例中，所述遮蔽部可以包括：设置在所述分撒部和所述基板之间、或者设置在所述分撒部上以用于对经过所述分撒部的所述有机物进行选择性遮蔽的遮蔽板；以及与所述遮蔽板连接以用于使所述遮蔽板进行转动运动的转动驱动部。

在本实施例中，所述遮蔽部可以包括：设置在所述分撒部和所述基板之间或者设置在所述分撒部上，并且通过改变所述分撒部的长度以用于对经过所述分撒部的所述有机物进行选择性遮蔽的遮蔽膜；以及用于改变所述遮蔽膜的长度的长度驱动部。

在本实施例中，所述分撒部可以被形成为板状形态，并且可以形成有使所述有机物经过的通过孔。

在本实施例中，还可以包括：腔室，在其内设置有所述基板把持部的一部分、所述有机物源部和所述分撒部。

在本实施例中，还可以包括：与所述腔室连接以用于控制所述腔室内部的压力的压力控制单元。

在本实施例中，还可以包括：设置于所述有机物源部以用于对所述有机物源部进行冷却的源冷却部。

在本实施例中，所述基板把持部可以包括：用于固定所述基板并且对所述掩模和所述基板进行对准的对准部；以及由于通过磁力使所述掩模紧贴到所述基板上的磁体部。

在本实施例中，所述基板把持部还可以包括：设置在所述基板和磁体部之间以由于对所述基板进行冷却的基板冷却部。

在本实施例中，所述基板把持部可以由于使所述掩模和所述基板进行直线运动。

在本发明的另一实施例中公开一种有机物沉积方法，包括：将有机物原子化（Atomization）并进行喷射后通过分撒部进行扩散的步骤；通过接合的掩模将被扩散的所述有机物沉积到基板上的步骤；以及将紫外线照射到沉积有所述有机物的所述基板表面上以对所述有机物进行固化的步骤。

在本实施例中，还可以包括：在对所述有机物进行固化之前，对所述分撒部的一面进行遮蔽以防止吸附于所述分撒部上的有机物被固化。

在本实施例中，所述基板和用于喷射所述有机物的有机物源部中的一个能够与所述基板和所述有机物源部中的另一个进行相对运动。

在本发明的又再一实施例中公开一种有机物沉积方法，包括：将基板和掩模安装到基板把持部上以进行对准的步骤；以及将有机物原子化（Atomization）并进行喷射后使其经过分撒部以进行扩散，并使得被扩散的所述有机物通过所述掩模沉积到所述基板上，并且将紫外线照射到沉积有所述有机物的所述基板表面上以对所述有机物进行固化的步骤。

在本实施例中，所述基板和用于喷射所述有机物的有机物源部中的一个能够与所述基板和所述有机物源部中的另一个进行相对运动。

在与本发明的实施例相关的有机物沉积装置中能够进行均匀涂覆。

附图说明

图1为根据本发明第一实施例的有机物沉积装置的剖面示意图。

图2为通过图1所示有机物沉积装置制造的显示面板的剖面示意图。

图3为图1所示有机物沉积装置的运行状态的工作原理示意图。

图4为根据本发明第二实施例的有机物沉积装置的正视示意图。

图5为图4所示有机物沉积装置的运行状态的侧视示意图。

图6为根据本发明第三实施例的有机物沉积装置的剖面示意图。

图7为图6所示有机物沉积装置的运行状态的工作原理示意图。

图8为根据本发明第四实施例的有机物沉积装置的剖面示意图。

图9为图8所示有机物沉积装置的运行状态的工作原理示意图。

图10为根据本发明第五实施例的有机物沉积装置的剖面示意图。

图11为图10所示有机物沉积装置的运行状态的工作原理示意图。

图12为根据本发明第六实施例的有机物沉积装置的剖面示意图。

图13为图12所示有机物沉积装置的运行状态的工作原理示意图。

附图标记说明

100、300、400、500、600、700：有机物沉积装置

110、310、410、510、610、710：基板把持部

120、320、420、520、620、720：有机物源部

130、330、430、530、630、730：源冷却部

141、341、441、541、641、741：分撒部

142、342、442、542、642、742：引导部

143、343、443、543、643、743：紫外线供给部

144、344、444、544、644、744：腔室

170、370、470、570、670、770：有机物供给部

171、371、471、571、671、771：有机物储存部

172、372、472、572、672、772：供给泵

173、373、473、573、673、773：有机物引导管道

180、380、480、580、680、780：压力控制单元

具体实施方式

本发明可以实施多种变换并且可以具有多种实施例，其中在附图中示出特定实施例并且在具体实施方式中对其进行详细说明。通过参照与附图一同详细描述的实施例，得以明确本发明的效果、特征以及将其实现的方法。然而，本发明并不限定于下面所公开的实施例，而是可以以多种形态实现。

下面，将参照附图对本发明的实施例进行详细说明，在参照附图进行说明时对于相同或对应的构件使用了相同的附图标记，并且将省略对其进行的重复说明。

在下面的实施例中，第一、第二等的术语并不具有限定的含义，而是旨在将一个构件与另一个构件进行区分。此外，在下面的实施例中，除非另有明确的限定，则单数的表述包括复数的表述。在下面的实施例中，包括或者具有等术语是指说明书中所记载的特征或构件的存在，而不是旨在提前排除一个以上的其他特征或构件的附加可能性。

为了说明的便利，附图中图示的构件的大小可以被放大或缩小。例如，为了说明的便利，附图中所示的各个构件的大小和厚度是随机显示的，因此本发明并不一定限定于附图所示。

图1为根据本发明第一实施例的有机物沉积装置100的剖面示意图。图2为通过图1所示有机物沉积装置100制造的显示面板200的剖面示意图。图3为图1所示有机物沉积装置100的运行状态的工作原理示意图。

参照图1至图3，有机物沉积装置100可以包括：基板把持部110、有机物源部120、源冷却部130、分撒部141、引导部142、紫外线供给部143、腔室144、源支撑部160、有机物供给部170和压力控制单元180。

如上所述的基板把持部110可用于把持掩模M和设置有掩模M的基板S。此时，基板S可以包括设置有多个将后述的发光部220的母体基板（未标记）。此外，基板S可以是形成有一个发光部220的、将后述的基板S。然而，在下文中为了说明的便利，以基板S为所述母体基板S的情况为主进行详细说明。

基板把持部110可以包括用于固定基板S和掩模M，并对掩模M和基板S进行对准（Align）的对准部111。此时，对准部111可以在拍摄掩模M和基板S的位置之后，通过改变掩模M和基板S中至少一个的位置以对掩模M和基板S进行对准。

基板把持部110可以包括通过磁力将掩模M固定到基板S上的磁体部112。此时，磁体部112通过朝着基板S侧拉动掩模M，从而可以将掩模M贴到基板S上。

基板把持部110可以包括设置在基板S和磁体部112之间并用于冷却基板S的基板冷却部113。此时，可以以板状形态形成基板冷却部113，并且可以由金属材质形成基板冷却部113。尤其是，基板冷却部113的内部可以形成有第一制冷剂循环管道113a，以使得从外部供给的制冷剂进行循环。

如上所述的基板把持部110可以设置在腔室144内部，从而使得直线运动变为可能。此外，基板把持部110可以设置在腔室144内部以使其固定。然而，在下文中为了说明的便利，以在腔室144内部固定设置基板把持部110的情况为主进行详细说明。

另外，有机物源部120可以将有机物原子化（Atomization）以将有机物喷射到基板S上。此时，有机物源部120可以包括用于暂时储存有机物的坩埚121。此时，可以由金属材质形成坩埚121，以防止将后述的压电元件122与有机物直接接触。例如，可以由SUS材质等形成坩埚121。

可以设置有至少一个如上所述的有机物源部120。此时，可以沿着基板S的长度方向或宽度方向以较长形状形成有机物源部120。此外，可以以与基板S大小相同的大小形成有机物源部120。然而，在下文中为了说明的便利，以设置有一个有机物源部120、且沿着基板S的长度方向和宽度方向中的一个方向以较长形状形成该有机物源部120的情况为主进行详细说明。

有机物源部120可以包括设置于坩埚121并且用于向坩埚121内部的有机物提供振动能量的压电元件122。此时，压电元件122可以通过接收从外部供给的电能，生成超声（Ultrasonic）、高频（high frequency）或超高频（Megasonic）振动能量。

另外，源冷却部130可以设置于有机物源部120。此时，源冷却部130可以防止有机物源部120和压电元件122中至少一个的温度上升。尤其是，源冷却部130可以对压电元件122运行时所产生的热进行冷却。

可以以板状形态形成如上所述的源冷却部130，从而其被设置成与压电元件122相邻。此时，源冷却部130的内部可以设置有用于循环从外部流入的制冷剂的第二制冷剂循环管道130a。

可以以板状形态形成分撒部141。此时，可以以大于基板S面积的面积形成分撒部141。此外，分撒部141可以形成有使有机物经过的通过孔141a。可以具有多个如上所述的通过孔141a，并且多个通过孔141a可以以一定间隔相隔而成。

另外，引导部142可以被设置在分撒部141和有机物源部120之间。此时，引导部142可以被设置成包裹分撒部141的外面，并且使得有机物源部120与外部完全隔离。具体地，引导部142可以将从有机物源部120喷射的有机物引导至分撒部141。此外，引导部142可以对从有机物源部120朝着分撒部141移动的有机物的移动路径与外部进行切断。因此，引导部142可以防止从有机物源部120喷射的有机物泄露至引导部142的外部。

紫外线供给部143通过向与基板S接合的有机物照射紫外线，从而可以固化有机物。此时，紫外线供给部143可以包括用于向外部放射紫外线的紫外线灯（未标记）。此外，可以以大于分撒部141的一个边长的长度形成紫外线供给部143。尤其是，可以以大于基板S的一个边长的长度形成紫外线供给部143。

紫外线供给部143可以与基板S进行相对运动。此外，紫外线供给部143可以被设置成静态。然而，在下文中为了说明的便利，以紫外线供给部143固定设置在腔室144内部的情况为主进行详细说明。

源支撑部160可以用于支撑有机物源部120。此时，源支撑部160可以被形成为机械臂形态。尤其是，源支撑部160可以被形成为SCARA机械臂（Scara robot arm）形态。此时，源支撑部160随着运行而改变长度，并且可以改变有机物源部120的位置。此外，源支撑部160可以是能够进行直线运动的机器人形态。如上所述的源支撑部160并不限定于上述内容，其可以具有支撑有机物源部120的形态的所有装置和所有结构。然而，在下文中为了说明的便利，以源支撑部160被形成为SCARA机械臂形态的情况为主进行详细说明。

有机物供给部170可以包括用于储存有机物的有机物储存部171。此外，有机物供给部170可以包括使有机物储存部171的有机物向外部流动的供给泵172。此时，有机物供给部170可以具有通过与有机物储存部171连接以用于将有机物导向坩埚121的有机物引导管道173。

如上所述的供给泵172可以设置于有机物引导管道173以使得有机物引导管道173内部的有机物进行流动。此外，有机物引导管道173被形成为柔韧状，从而在源支撑部160运行时可使其变形。

压力控制单元180可以包括：连接于腔室144的吸入管181，和设置于吸入管181的真空泵182。此时，真空泵182可随着运行而控制腔室144内部的压力。

另外，在制造显示面板200时为了形成将后述的薄膜封装层230，可以使用如上所述的有机物沉积装置100。尤其是，为了形成薄膜封装层230中的有机层，可以使用有机物沉积装置100。在下文中，以显示面板200的结构和制造方法为主进行详细说明。

首先，通过在母体基板S上形成多个发光部220之后形成薄膜封装层230、并将母体基板S分离为各个基板210，从而制成显示面板200。此外，通过在一个基板210上形成发光部220之后形成薄膜封装层230，从而可以制成显示面板200。在下文中为了说明的便利，以显示面板200具有从母体基板S分离的一个基板210的情况为主进行详细说明。

具体地，显示面板200可以包括基板210、发光部220和薄膜封装层230。根据如上所述的显示面板200的制造方法，首先可以在基板210上形成发光部220。此时，发光部220可以具有薄膜晶体管TFT，并且可以具有用于覆盖它们的钝化膜221，并且可以具有形成在该钝化膜221上的有机发光元件（Organic light-emitting device，OLED）。

具体地，基板210可以使用玻璃材质，但是并不限定于此，也可以使用塑料材质，还可以使用诸如SUS、Ti的金属材质。

在基板210的上面还可以形成有由有机化合物和/或无机化合物构成的缓冲层222，该缓冲层222可以由SiOx（x≥1）、SiNx（x≥1）形成。

在该缓冲层222上形成以预定图案排列的有源层223之后，有源层223被栅极绝缘层224埋入。有源层223具有源区域223a和漏区域223c，并且在源区域223a和漏区域223c之间还包括沟道区域223b。此时，有源层223可以被形成为含有多种物质。例如，有源层223可以含有诸如非晶硅或晶体硅的无机半导体物质。再例如，有源层223可以含有氧化物半导体。再例如，有源层223可以含有有机半导体物质。然而，在下文中为了说明的便利，以有源层223由非晶硅形成的情况为主进行详细说明。

通过在缓冲层222上形成非晶硅膜之后，将该非晶硅膜结晶化以形成多晶硅膜，而后对该多晶硅膜进行图案化，从而可以形成这种有源层223。根据诸如驱动TFT（未图示）、开关TFT（未图示）等的TFT种类，以杂质掺杂所述有源层223的源区域223a和漏区域223c。

在栅极绝缘层224的上面形成有与有源层223对应的栅电极225和用于埋入该栅电极225的层间绝缘层226。

此外，在层间绝缘层226和栅极绝缘层224上形成接触孔之后，在层间绝缘层226上形成源电极227a和漏电极227b以使其分别与源区域223a和漏区域223c接触。

另外，因为与如上所述的源电极227a和漏电极227b一同形成反射膜，所以可以由具有良好的导电性的材料、以可进行光反射的厚度形成源电极227a和漏电极227b。

在按照如上方式形成的所述薄膜晶体管和所述反射膜的上部形成钝化膜221，并在该钝化膜221上部形成有机发光元件（OLED）的像素电极228a。通过形成于钝化膜221的通孔（未标记），该像素电极228a与TFT的漏电极227b接触。可以以无机物和/或有机物、以单层或两层以上的方式形成钝化膜221。一方面，与下部膜的弯曲无关地，可以将钝化膜221形成为平坦化膜，以使得其上面平坦；相反地，也可以将钝化膜221形成为具有弯曲状，以使其根据位于下部的膜的弯曲而弯曲。此外，可以以透明绝缘体形成该钝化膜221，从而使其可以具有谐振效果。

在钝化膜221上形成像素电极228a之后，以有机物和/或无机物形成像素限定膜229以覆盖该像素电极228a和钝化膜221，并且对该像素限定膜229进行开口以暴露像素电极228a。

此外，至少在像素电极228a上形成中间层228b和相对电极228c。

像素电极228a起到阳极电极的功能，而相对相机228c起到阴极电极的功能，然而像素电极228a和相对电极228c的极性也可以被彼此替换。

像素电极228a和相对电极228c通过所述中间层228b而彼此绝缘，并且通过向中间层228b施加不同极性的电压而在有机发光层中形成发光。

中间层228b可以包括有机发光层。此时，中间层228b除了包括有机发光层（organic emission layer）以外，还可以包括空穴注入层（HIL：holeinjection layer）、空穴传输层（hole transport layer）、电子传输层（electrontransport layer）和电子注入层（electron injection layer）中的至少一个。本实施例并不限定于此，中间层228b除了包括有机发光层以外，还可以包括其他多种功能层。

另外，由多个子像素构成一个单位像素，其中多个子像素可以发出多种颜色的光。例如，多个子像素可以包括分别发出红色、绿色和蓝色光的子像素，可以包括发出红色、绿色、蓝色和白色光的子像素。

如上所述的多个子像素可以包括：具有分别发出多种颜色光的有机发光层的中间层228b。例如，多个子像素可以包括：具有分别发出红色、绿色和蓝色光的有机发光层的中间层228b。

再例如，发出多种颜色的多个子像素可以包括中间层228b，其中该中间层228b具有发出相同颜色（例如，白色）光的有机发光层。此外，发出多种颜色的多个子像素可以包括用于将白色光转换成预定颜色光的颜色转换层（color converting layer）或彩色滤光片。

发出所述白色光的中间层228b可以具有多种结构。例如，中间层228b可以包括至少将用于发出红色光的发光物质、用于发出绿色光的发光物质和用于发出蓝色光的发光物质进行层叠的结构。

作为发出所述白色光的另一示例，中间层228b可以包括至少将用于发出红色光的发光物质、用于发出绿色光的发光物质和用于发出蓝色光的发光物质进行混合的结构。

所述红色、绿色和蓝色仅仅作为一个示例，本实施例并不限定于此。即，只要可以发出白色光，也可以使用除了红色、绿色和蓝色组合以外的其他多种颜色的组合。

另外，如上所述的薄膜封装层230可以包括多个无机层，或者可以包括无机层和有机层。

薄膜封装层230的所述有机层由聚合物形成，优选为可以由聚对苯二甲酸乙二酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸酯中任一种形成的单层膜或叠层膜。更优选为，可以由聚丙烯酸酯形成所述有机层。具体地，所述有机层可以包括聚合化含二丙烯酸酯类单体和三丙烯酸酯类单体的单体组合物的产物。在所述单体组合物中还可以包括单丙烯酸酯类单体。此外，在所述单体组合物中还可以包括诸如TPO的、公知的光引发剂，但并不限定于此。

薄膜封装层230的所述无机层可以是包括金属氧化物或金属氮化物的单层膜或叠层膜。具体地，所述无机层可以包括SiNx，Al₂O₃，SiO₂，TiO₂中的任一种。

在薄膜封装层230中朝着外部暴露的最上层可以由无机层形成以防止水分渗入到有机发光元件中。

薄膜封装层230可以至少包括在至少两个无机层之间***至少一个有机层的一个夹层结构。再例如，薄膜封装层230可以至少包括在至少两个有机层之间***至少一个无机层的一个夹层结构。再例如，薄膜封装层230可以包括：在至少两个无机层之间***至少一个有机层的夹层结构，以及在至少两个有机层之间***至少一个无机层的夹层结构。

从有机发光元件（OLED）的上部开始薄膜封装层230可以依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层。

再例如，从有机发光元件（OLED）的上部开始薄膜封装层230可以依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层、第三无机层。

再例如，从有机发光元件（OLED）的上部开始薄膜封装层230可以依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、所述第二有机层、第三无机层、第三有机层、第四无机层。

在有机发光元件（OLED）和第一无机层之间还可以额外地包括含LiF的卤化金属层。当通过溅射法形成第一无机层时，所述卤化金属层可以防止所述有机发光元件（OLED）受损。

第一有机层的面积可以小于第二无机层的面积，所述第二有机层的面积也可以小于第三无机层的面积。

再例如，第一有机层可以被第二无机层完全覆盖，所述第二有机层也可以被第三无机层完全覆盖。

如上述说明，当制造上述薄膜封装层230中的有机层（第一有机层、第二有机层、第三有机层……）时，可以使用有机物沉积装置100。

具体地，将有机物储存到坩埚121中之后，可以将坩埚121设置在腔室144内部。此时，在坩埚121中可以临时储存有可使用一定时间的有机物。坩埚121即可以由作业人直接设置，也可以通过机械臂等进行替换或设置。然而，在下文中为了说明的便利，以坩埚121被自动替换或设置的情况为主进行详细说明。

在进行如上所述的作业期间，可以将基板S和掩模M***到腔室144内部，以将其设置在对准部111上。此时，通过独立的运送装置或者机械臂等，可以使基板S和掩模M进入到腔室114内部。

如上述说明，上述的基板S可以是设置有多个发光部220的状态。此外，发光部220上可以是形成有上述的薄膜封装层230的一部分的状态。

另外，当按照上述方式完成对基板S和掩模M的布置时，对准部111通过拍摄到的图像确认基板S和掩模M的位置之后，对掩模M和基板S进行对准。此时，磁体部112可以将掩模M接合到基板S上。

当按照上述方式完成对基板S和掩模M的布置时，可以运行压电元件122以将振动能量供给到坩埚121内部的有机物。此时，坩埚121内部的有机物被原子化，从而而排出至坩埚121的外部。根据引导部142，有机物可以被引导至分撒部141。

如上所述的经原子化的有机物的路径可以因振动能量而改变。即，经原子化的有机物的行进路径可以是无序的，而不是直线的。因此，在移动过程中经原子化的有机物在引导部142的内部按照不同局部形成不均匀的浓度，所以在这种状态下在基板S上沉积经原子化的有机物时，可能在基板S上发生沉积均匀性的问题。

然而，如上所述，通过引导部142从有机物源部120引导至分撒部141的有机物在经过分撒部141时可以使得浓度变得均匀。即，从多个通过孔141a流出的有机物的浓度可以变得彼此相同或相似。

经过分撒部141的有机物经过掩模M后可以被沉积到基板S上。此时，可以运行紫外线供给部143以对沉积到基板S上的有机物进行固化。

可以以多种方式运行紫外线供给部143。例如，可以与有机物源部120一同运行紫外线供给部143。尤其是，可以在有机物源部120运行时开始运行紫外线供给部143，在有机物源部120的运行停止时停止运行紫外线供给部143。此外，在有机物源部120的运行完毕后，可以使紫外线供给部143运行一定时间以对有机物进行固化。紫外线供给部143并不限定于上述的运行方式，还可以以紫外线供给部143的运行时间和有机物源部120的运行时间重叠至少一部分的方式运行。然而，在下文中为了说明的便利，以有机物源部120和紫外线供给部143一同运行的情况为主进行详细说明。

另外，当紫外线供给部143按照上述的方式运行时，可以通过固化沉积到基板S上的有机物而形成有机层。此时，如上述说明，有机物可以是形成在无机层上的有机层。

当所述过程完毕时，可以在有机层上形成无机层。此时，无机层可以包括所述第一无机层、所述第二无机层和所述第三无机层中的至少一个。

当按照上述的方式形成所述有机层之后，可以分离基板S和掩模M分离，以将基板S导出至腔室144外部。此时，可以通过运送装置或机器人等将基板导出至外部。

在进行如上所述的作业期间，腔1室44内部的压力可以是真空状态或常压状态。此时，当腔室144内部的压力为真空状态时，可以通过压力控制单元180将腔室144内部的气体向外部吸出以进行排出。具体地，当运行真空泵182时，腔室144内部的气体可以通过吸入管181排出至外部。

另外，在进行如上所述的作业期间，有机物供给部170可以持续地将有机物供给到坩埚121内部。具体地，当在坩埚121内有机物被蒸发时，可以通过运行供给泵172、经由有机物引导管道173将有机物储存部171内部的有机物供给到坩埚121。

在进行如上所述的作业期间，在坩埚121内部，可以在耗尽有机物的同时重新填满。此时，可以通过坩埚121内部的有机物量的反馈或者预设的时间间隔等，控制供给泵172的运行。

因此，在有机物沉积装置100和有机物沉积方法中，通过振动能量喷射有机物，从而可以防止有机物的性质因热而改变。不仅如此，在机物沉积装置100和有机物沉积方法中，由于可以调节在有机物成为膜时的温度，因此可以控制基于有机物温度的诸如成膜厚度等的成膜特性。

此外，在有机物沉积装置100和有机物沉积方法中，当同时执行有机物的喷射和固化时，可以抑制在具有高长宽比（Aspect Ratio）的基板S表面的凸出部上有机物无法成膜的状态。在有机物沉积装置100和有机物沉积方法中，由于在有机物源部120静态的状态下执行沉积，因此可以减少在有机物的沉积后发生的足迹（Footprint）。

另外，在有机物沉积装置100和有机物沉积方法中，通过在有机物沉积时持续地将有机物供给到坩埚121，从而可以改善有机物沉积装置100的设备利用率和产品的生产效率。

图4为根据本发明第二实施例的有机物沉积装置300的剖面示意图。图5为图4所示有机物沉积装置300的运行状态的工作原理示意图。

参照图4和图5，有机物沉积装置300可以包括：基板把持部310、有机物源部320、源冷却部330、分撒部341、引导部342、紫外线供给部343、腔室344、源支撑部360、有机物供给部370和压力控制单元380。此时，基板把持部310、有机物源部320、源冷却部330、分撒部341、引导部342、紫外线供给部343、腔室344、源支撑部360、有机物供给部370和压力控制单元380可以与在图1至图3中所说明的基板把持部110、有机物源部120、源冷却部130、分撒部141、引导部142、紫外线供给部143、腔室144、源支撑部160、有机物供给部170和压力控制单元180相同或相似。

此时，基板把持部310可以以能够进行直线运动的方式或者以固定的方式设置在腔室344。然而，在下文中为了说明的便利，以在腔室344内固定设置基板把持部310的情况为主进行详细说明。

可以设置有至少一个有机物源部320。此时，有机物源部320被形成为与在图1至图3中所说明的有机物源部相同或相似，因此省略其详细说明。此外，在下文中为了说明的便利，以设置有单个有机物源部320的情况为主进行详细说明。

如上所述的机物源部320可以被设置成能够进行直线运动。此外，有机物源部320可以设置在腔室344内部以使其固定。在下文中为了说明的便利，以能够进行直线运动的方式设置有机物源部320的情况为主进行详细说明。

此外，紫外线供给部343可以包括用于放射紫外线的紫外线灯（未标记），并且可以在腔室344内部设置紫外线供给部343以使其能够进行直线运动或者以使其固定。可以在引导部342或分撒部341上以固定方式设置紫外线供给部343。可以沿着分撒部341的长度方向或宽度方向以较长形状形成紫外线供给部343。

在下文中，由于紫外线供给部343被形成为与在图1至图3中所说明的紫外线供给部相同或相似，因此将省略其详细说明。此外，在下文中为了说明的便利，以紫外线供给部343以固定方式被设置在分撒部341的情况为主进行详细说明。

此外，有机物供给部370可以包括：有机物储存部371、供给泵372和有机物引导管道373。此时，由于有机物储存部371、供给泵372和有机物引导管道373与图1至图3中所说明的有机物储存部、供给泵和有机物引导管道形同或相似，因此省略其相似说明。

另外，如上所述，当有机物源部320可以进行直线运动时，有机物沉积装置300可以包括：与有机物源部320连接以使得有机物源部320进行直线运动的第一直线驱动部390。

可以以多种方式形成如上所述的第一直线驱动部390。例如，第一直线驱动部390可以包括：与有机物源部320连接并且长度可变的第一轴（未图示）；以及与所述第一轴连接以使得所述第一轴的长度可变的第一气缸（未图示）。

此外，第一直线驱动部390可以包括：沿着腔室344的一方向设置的第一滑动部（未图示）；设置于所述第一滑动部以与有机物源部320连接并用于滑动所述第一滑动部的第一移动块（未图示）；以及用于使所述第一移动块进行直线运动的第二气缸（未图示）。

除了上述的情况以外，第一直线驱动部390可以包括：以可旋转的方式设置在有机物源部320上的第一齿轮部391；沿着一方向较长地形成于腔室344内部的第二齿轮部392，其中在该第二齿轮部392上安装第一齿轮部391以使其进行直线运动；以及与第一齿轮部391连接以用于旋转第一齿轮部391的第一电机部393。

此外，第一直线驱动部390可以包括：设置于腔室344内部的第二电机部（未图示）；以固定方式设置在所述第二电机部上的旋转轴的第三齿轮部（未图示）；以及随着所述第三齿轮部的旋转进行直线运动并且与有机物源部320结合的第四齿轮部（未图示）。

第一直线驱动部390并不限定于上述的方式，并且还可以以多种方式形成第一直线驱动部390。第一直线驱动部390可以包括：可使得有机物源部320在腔室344内部进行直线运动的所有装置和结构。然而，在下文中为了说明的便利，以第一直线驱动部390包括第一齿轮部391、第二齿轮部392和第一电机部393的情况为主进行详细说明。

压力控制单元380可以包括吸入管381和真空泵382。此时，吸入管381和真空泵382与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

另外，按照上述方式形成的有机物沉积装置300可用于形成薄膜封装层（未图示）中的有机层。具体地，有机物沉积装置300可用于形成在用于形成所述薄膜封装层的有机层中的至少一个。

首先，如上述说明，在将基板S和掩模M***到腔室344内部之后，通过对准进行布置。有机物源部320通过振动能量将有机物原子化，并且经原子化的有机物可以从有机物源部320喷射到引导部342的内部。此时，源冷却部330可以防止有机物源部320的温度和有机物的温度上升。

按照上述方式喷射的有机物可以在经由引导部342内部到达分撒部341之后，通过分撒部341的通过孔341a以均匀浓度进行喷射。在经过分撒部341之后，经过掩模M，从而可以将有机物沉积到基板S上。此时，基板冷却部（未标记）通过控制基板S的温度，可以控制诸如有机物的成膜厚度等的成膜特性。

在进行如上所述的作业期间，紫外线供给部343与有机物源部320一同运行，从而可以对沉积到基板S上的有机物进行固化。尤其是，通过在分撒部341的边缘部分上布置紫外线供给部343，从而可以防止在分撒部341中喷射的有机物的固化。

如上所述，在通过有机物源部320和紫外线供给部343喷射并固化有机物的期间，第一直线驱动部390可以使得有机物源部320进行直线运动。此时，有机物源部320与引导部342、分撒部341和紫外线供给部343连接，从而可以一同进行直线运动。

具体地，在以第一方向旋转第一电机部393时，则第一齿轮部391与第一电机部393一同旋转并沿着第二齿轮部392的表面（沿着图5的A方向）进行直线运动。

相反，在以与第一方向相反的方向旋转第一电机部393时，则与上述相反地，第一齿轮部391沿着第二齿轮部392的表面（沿着图5的B方向）进行直线运动。

在以如上所述方式移动有机物源部320时，源支撑部360的长度可变。尤其是，在以机械臂形态形成源支撑部360时，由于多个机械臂的位置可以随着有机物源部320的位置而可变，因此可以以与有机物源部320的直线运动对应地运行源支撑部360。所以，与有机物源部320连接的源支撑部360的一端可以与有机物源部320一同进行直线运动。

在进行如上所述的作业期间，压力控制单元380可以控制腔室344内部的压力。压力控制单元380的运行方式与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

此外，在进行如上所述的作业期间，有机物供给部370可以将有机物供给到有机物源部320。此时，有机物供给部370将有机物供给到有机物源部320的方法与上述说明的方法相同或相似，因此省略其详细说明。

因此，在有机物沉积装置300和有机物沉积方法中，在基板S上涂覆有机物的同时进行固化，由此可以防止形成于基板S上的具有高长宽比的结构物上所述有机物无法成膜的现象。此外，在有机物沉积装置300和有机物沉积方法中，通过振动能量喷射有机物，从而可以防止因有机物的温度上升而导致的成膜特性的变化。

不仅如此，在有机物沉积装置300和有机物沉积方法中，在运行中持续地将有机物供给到有机物源部320，由此可以增加设备的有效运行时间。

图6为根据本发明第三实施例的有机物沉积装置400的剖面示意图。图7为图6所示有机物沉积装置400的运行状态的工作原理示意图。

参照图6和图7，有机物沉积装置400可以包括：基板把持部410、有机物源部420、遮蔽部450、源冷却部430、分撒部441、引导部442、紫外线供给部443、腔室444、有机物供给部470、压力控制单元480和升降部490。此时，基板把持部410、有机物源部420、源冷却部430、分撒部441、引导部442、紫外线供给部443、腔室444和压力控制单元480可以与在图1至图3中所说明的基板把持部110、有机物源部120、源冷却部130、分撒部141、引导部142、紫外线供给部143、腔室144和压力控制单元180相同或相似。

此时，基板把持部410可以以能够进行直线运动的方式或者以固定的方式设置在腔室444。然而，在下文中为了说明的便利，以在腔室444内固定设置基板把持部410的情况为主进行详细说明。

可以设置有至少一个有机物源部420。此外，有机物源部420被形成为与在图1至图3中所说明的有机物源部相同或相似，因此省略其详细说明。此外，在下文中为了说明的便利，以设置有多个有机物源部420的情况为主进行详细说明。

如上所述的有机物源部420可以被设置成能够进行直线运动。此外，有机物源部420可以设置在腔室444内部以使其固定。在下文中为了说明的便利，以在腔室444内部能够进行直线运动的方式设置有机物源部420的情况为主进行详细说明。

此外，紫外线供给部443可以包括用于放射紫外线的紫外线灯（未标记），并且可以在腔室444内部设置紫外线供给部443以使其能够进行直线运动或者以使其固定。此时，在下文中，紫外线供给部443被形成为与在图1至图3中所说明的紫外线供给部相同或相似，因此省略其详细说明。此外，在下文中为了说明的便利，以在腔室444内部以能够进行直线运动的方式设置紫外线供给部443的情况为主进行详细说明。

另外，如上所述，当紫外线供给部443能够进行直线运动时，有机物沉积装置400可以包括第二直线驱动部460。此时，第二直线驱动部460可以与紫外线供给部443连接。

可以以多种方式形成如上所述的第二直线驱动部460。例如，第二直线驱动部460可以包括：与紫外线供给部443连接并且长度可变的第三轴（未图示）；以及与所述第三轴连接以使得所述第三轴的长度可变的第三气缸（未图示）。

此外，第二直线驱动部460可以包括：沿着腔室444的一方向设置的第二滑动部（未图示）；设置于所述第二滑动部以与紫外线供给部443连接并用于滑动所述第二滑动部的第二移动块（未图示）；以及用于使所述第二移动块进行直线运动的第四气缸（未图示）。

除了上述的情况以外，第二直线驱动部460可以包括：以可旋转的方式设置在紫外线供给部443上的第五齿轮部461；沿着一方向较长地形成于腔室444内部的第六齿轮部462，其中在该第六齿轮部462上安装第五齿轮部461以使其进行直线运动；以及与第五齿轮部461连接以用于旋转第五齿轮部461的第三电机部463。

此外，第二直线驱动部460可以包括：设置于腔室444内部的第四电机部（未图示）；以固定方式设置在所述第四电机部的旋转轴的第七齿轮部（未图示）；以及与紫外线供给部443结合并且根据第七齿轮部（未图示）的旋转进行直线运动的第八齿轮部（未图示）。

第二直线驱动部460并不限定于上述的方式，并且还可以以多种方式形成第二直线驱动部460。第二直线驱动部460可以包括：可使得紫外线供给部443在腔室444内部进行直线运动的所有装置和结构。然而，在下文中为了说明的便利，以第二直线驱动部460包括第五齿轮部461、第六齿轮部462和第三电机部463的情况为主进行详细说明。

另外，遮蔽部450可以包括：可改变长度以选择性地对经过分撒部441的有机物进行遮蔽的遮蔽膜451。此外，遮蔽部450可以包括：用于变化遮蔽膜451的长度的长度驱动部452。

可以以膜形态形成如上所述的遮蔽膜451。此外，长度驱动部452可以包括：用于卷曲或卷出遮蔽膜451的遮蔽膜储存部453；通过直线运动用于从遮蔽膜储存部453卷出遮蔽膜451的直线运动部454；以及用于使直线运动部454进行直线运动的第三直线驱动部455。

遮蔽膜储存部453可以包括：用于卷曲或卷出遮蔽膜451的第一辊453a；以及用于在第一辊453a进行旋转时沿着与第一辊453a的旋转方向相反的反向提供恢复力的第一恢复部453b。

直线运动部454可以包括：以与第一辊453a相同或相似的方式运行的第二辊（未图示）；以及用于沿着与第二辊的旋转方向相反的反向提供恢复力的第二恢复部（未图示）。此时，直线运动部454并不限定于上述的方式，并且其可以包括：用于固定遮蔽膜451的一端以进行直线运动的固定块（未标记）。然而，在下文中为了说明的便利，以直线运动部454包括所述固定块的情况为主进行详细说明。

第三直线驱动部455可以包括：用于改变与直线运动部454连接的第五柄（未图示）的长度的第五气缸（未图示）。此外，第三直线驱动部455可以包括：设置于腔室444内部的第三滑动部455a；与直线运动部454连接并且安装在第三滑动部455a以进行直线运动的第三移动块455b；以及用于使第三移动块455b进行直线运动的第六气缸455c。

第三直线驱动部455并不限定于上述的方式，并且可以以多种方式形成第三直线驱动部455。此时，第三直线驱动部455可以包括用于使直线运动部454进行直线运动的所有装置和结构。然而，在下文中为了说明的便利，以第三直线驱动部455包括第三滑动部455a、第三移动块455b和第六气缸455c的情况为主进行详细说明。

有机物供给部470可以包括：有机物储存部471、供给泵472和有机物引导管道473。此时，由于有机物储存部471和供给泵472与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

有机物引导管道473可以以多种形态与有机物源部420连接。例如，作为一实施例，通过将后述的升降部490，有机物引导管道473可以与有机物源部420连接。此外，作为另一实施例，有机物引导管道473可以通过源支撑部（未图示）进行连接。不仅如此，作为再一实施例，在腔室444内部独立地设置有机物引导管道473，从而可以与有机物源部420连接。然而，在下文中为了说明的便利，以有机物引导管道473通过升降部490与有机物源部420连接的情况为主进行详细说明。

根据有机物源部420的升降而如上所述的有机物引导管道473的长度可变。例如，有机物引导管道473可以由诸如柔韧材质的管或萨巴拉型（zabara type）管等的长度可变的形态构成。此时，有机物引导管道473并不限定于上述，并且可以包括所有根据有机物源部420的运动而维持有机物源部420与供给泵472连接的结构和形状。因此，根据有机物源部420的运动而有机物引导管道473的长度可变，由此可以稳定地连接有机物源部420与供给泵472。

压力控制单元480可以包括：吸入管481和真空泵482。此时，吸入管481和真空泵482与如上述说明的吸入管和真空泵相同或相似，因此省略其详细说明。

另外，升降部490与有机物源部420连接，从而可以使有机物源部420进行升降。升降部490可以包括：与有机物源部420连接以对有机物进行升降的升降气缸（未标记）。此外，作为另一实施例，其可以包括：与有机物源部420连接的齿轮模块（未图示）；以及用于驱动所述齿轮模块以使有机物源部420进行升降的升降驱动部（未图示）。在下面为了详细说明，以升降部490包括所述升降气缸的情况为主进行详细说明。

如上所述，当升降部490包括所述升降气缸时，可以设置有机物引导管道473，以使其贯穿升降气缸的轴。相反地，当升降部490包括所述升降驱动部和所述齿轮模块时，可以与升降部490独立地设置有机物引导管道473。

如上所述的有机物沉积装置400可以通过喷射有机物以使其沉积到基板S上。此时，在基板S上可以形成有包含有机发光元件的发光部（未图示），并且在所述发光部上可以形成有薄膜封装层（未图示）的一部分。

为了将有机物沉积到基板S上，将基板S和掩模M***到腔室444内部并进行对准之后，通过有机物源部420喷射有机物。此时，有机物源部420可以通过将振动能量传送至有机物以将有机物原子化并喷射到外部。

按照上述方式喷射的有机物可以沿着引导部442移动至分撒部441。此时，引导部442被布置成完全裹住有机物源部420和分撒部441，由此使得从有机物源部420喷射的全部有机物经过分撒部441到达基板S。按照上述的方式通过分撒部441的有机物可以在浓度变得均匀的状态下从通过孔441a排出以流动至基板S。

另外，按照上述的方式经过分撒部441喷射有机物之后，达到诸如经过一定时间等基准值时，可以停止有机物源部420的运行并运行升降部490以沿着腔室444的下侧方向移动有机物源部420。

当按照上述的方式运行升降部490以使得有机物源部420到达一定高度时，可以运行遮蔽部450以阻断分撒部441与基板S之间。

具体地，当第六气缸455c运行时，第三移动块455b可以沿着第三滑动部455a进行直线运动。此时，第三滑动部455a可以沿着基板S的长度方向和宽度方向中的一个的方向进行布置。第三移动块455b使直线运动部454进行直线运动，并且根据直线运动部454的移动而从第一辊453a可以卷出遮蔽膜451。此时，第一恢复部453b沿着第一辊453a的旋转方向提供恢复力，由此可以维持遮蔽膜451的张力。

当按照上述的方式遮蔽部450阻断分撒部441时，在遮蔽膜451和基板S之间紫外线供给部443沿着基板S的长度方向和宽度方向中的至少一个方向可以进行直线运动。此时，紫外线供给部443可以沿着与遮蔽膜451相同的方向进行直线运动。

具体地，当第三电机部463以第一方向旋转时，则可以旋转第五齿轮部461以使其在第六齿轮部462的表面进行移动。此时，紫外线供给部443可以与第五齿轮部461一同（沿着图7的A方向）进行移动。

此外，当第三电机部463以与所述第一方向相反的第二方向旋转时，则可以旋转第五齿轮部461以使其在第六齿轮部462的表面进行移动。此时，紫外线供给部443可以沿着与所述说明相反的方向（沿着图7的B方向）进行移动。

紫外线供给部443可以按照上述的方式进行直线运动并将紫外线照射到基板S的有机物上，从而可以对有机物进行固化。此时，从紫外线供给部443放射的一部分紫外线被掩模M阻断，由此可以仅对基板S的期望部位上的有机物进行固化。当如上所述的固化完毕时，在基板S上可以形成有机层。

此时，在进行如上所述的作业期间，压力控制单元480可以控制腔室444内部的压力。压力控制单元480的运行方法与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

此外，在进行如上所述的作业期间，有机物可以从有机物储存部471持续地供给到有机物源部420。此时，有机物供给部470的运行方法与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

因此，在有机物沉积装置400和有机物沉积方法中，当在喷射有机物之后通过紫外线进行固化时，通过防止紫外线照射到分撒部441侧，可以防止残留于分撒部441的有机物被固化。

在有机物沉积装置400和有机物沉积方法中，通过振动能量喷射有机物，从而可以防止因有机物的温度上升而导致的成膜特性变化。

此外，在有机物沉积装置400和有机物沉积方法中，通过持续地供给有机物，可以提升产品的生产效率。

图8为根据本发明第四实施例的有机物沉积装置500的剖面示意图。图9为图8所示有机物沉积装置500的运行状态的工作原理示意图。

参照图8和图9，有机物沉积装置500可以包括：基板把持部510、有机物源部520、遮蔽部550、源冷却部530、分撒部541、引导部542、紫外线供给部543、腔室544、有机物供给部570、压力控制单元580和升降部590。此时，基板把持部510、有机物源部520、源冷却部530、分撒部541、引导部542、紫外线供给部543、腔室544、有机物供给部570、压力控制单元580和升降部590可以与在图6和图7中所说明的基板把持部410、有机物源部420、源冷却部430、分撒部441、引导部442、紫外线供给部443、腔室444、有机物供给部470、压力控制单元480和升降部490相同或相似。

此时，基板把持部510可以以能够进行直线运动的方式或者固定的方式设置在腔室544。然而，在下文中为了说明的便利，以在腔室544内固定设置基板把持部510的情况为主进行详细说明。

可以设置有至少一个有机物源部520。此外，有机物源部520被形成为与在图6至图7中所说明的有机物源部相同或相似，因此省略其详细说明。此外，在下文中为了说明的便利，以设置有多个有机物源部520的情况为主进行详细说明。

如上所述的有机物源部520可以被设置成能够进行直线运动。此外，有机物源部520可以设置在腔室544内部以使其固定。在下文中为了说明的便利，以能够进行直线运动的方式设置有机物源部520的情况为主进行详细说明。

有机物沉积装置500可以包括：用于使紫外线供给部543进行直线运动的第二直线驱动部560。此时，第二直线驱动部560可以与在图6和图7中所说明的第二直线驱动部460相同或相似，因此省略其详细说明。

另外，遮蔽部550可以包括：可改变长度以选择性地对经过分撒部541的有机物进行遮蔽的遮蔽膜551。此外，遮蔽部550可以包括：用于变化遮蔽膜551的长度的长度驱动部552。此时，遮蔽膜551与上述说明的遮蔽膜相同或相似，因此省略其详细说明。

如上所述的长度驱动部552可以设置在分撒部541和引导部542中的一个。具体地，长度驱动部552可以包括：用于卷曲或卷出遮蔽膜551的遮蔽膜储存部553；通过直线运动用于从遮蔽膜储存部553卷出遮蔽膜551的直线运动部554；以及用于使直线运动部554进行直线运动的第四直线驱动部555。

遮蔽膜储存部553可以包括：第一辊（未标记）和第一恢复部（未图示）。直线运动部554可以包括：第二辊（未图示）和第二恢复部（未图示），或者可以包括：固定块（未标记）。此时，所述第一辊、所述第一恢复部、所述第二辊、所述第二恢复部和所述固定块与上述说明的第一辊、第一恢复部、第二辊、第二恢复部和固定块相同或相似，因此省略其详细说明。此外，在下文中为了说明的便利，以直线运动部554包括所述固定块的情况为主进行详细说明。

第四直线驱动部555可以包括：与直线运动部554连接以用于改变第七柄（未图示）的长度的第七气缸（未图示）。此外，第四直线驱动部555可以包括：设置于或引导部542的第四滑动部555a；与直线运动部554连接以使第四滑动部555a进行直线运动的第四移动块555b；以及用于使第四移动块555b进行直线运动的第八气缸555c。

可以沿着分撒部541的长度方向或宽度方向形成如上所述的第四滑动部555a。此外，可以以导轨形态形成第四滑动部555a，第四移动块555b可以与导轨形态的第四滑动部555a结合以进行直线运动。此时，第四移动块555b可以与直线运动部554形成为一体。

此时，第四直线驱动部555并不限定于上述，并且可以包括用于使直线运动部554进行直线运动的所有装置和结构。在下文中为了说明的便利，以第四直线运动部554包括第四滑动部555a、第四移动块555b和第八气缸555c的情况为主进行详细说明。

有机物供给部570可以包括有机物储存部571、供给泵572和有机物引导管道573。此时，有机物储存部571、供给泵572和有机物引导管道573可以与上述说明的有机物储存部、供给泵和有机物引导管道相同或相似，因此省略其详细说明。

压力控制单元580可以包括吸入管581和真空泵582。此时，吸入管581和真空泵582与上述说明的吸入管和真空泵相同或相似，因此省略其详细说明。

当观察如上所述的有机物沉积装置500的运行，首先使基板S和掩模M进入到腔室544内部并进行对准之后，可以将掩模M接合到基板S上。此时，如上所述，基板S上可以形成有发光部（未图示）和薄膜封装层（未图示）的一部分。

当按照上述的方式布置掩模M和基板S完毕时，通过在有机物源部520对有机物施加振动能量而可以将有机物排出至外部。此时，有机物可以经过引导部542内部被引导至分撒部541，并经过分撒部541的通过孔541a以均匀浓度进行喷射。按照上述的方式喷射的有机物可以经过掩模M沉积到基板S上。

在所述过程完毕时，可以运行升降部590以使有机物源部520下降。此时，有机物源部520、引导部542、分撒部541和遮蔽部550彼此相连以与有机物源部520一同下降。

另外，在按照上述方式有机物源部520下降期间或者下降之后，可以运行遮蔽部550以对分撒部541的通过孔541a进行遮蔽。具体地，当第八气缸555c运行时，第四移动块555b使第四滑动部555a进行直线运动，从而可以使得遮蔽膜551完全遮蔽分撒部541的一面。

当按照上述的方式分撒部541被遮蔽完毕时，可以运行第二直线驱动部560以使紫外线供给部543进行直线运动。此时，吸附于基板S上的有机物可以根据从紫外线供给部543放射的紫外线而被固化。

如上所述的紫外线供给部543可以被形成为通过一次直线运动固化吸附于基板S上的所有有机物。具体地，紫外线供给部543的长度可以大于基板S的长度或宽度。

另外，在进行如上所述的作业期间，压力控制单元580可以控制腔室544内部的压力，并且有机物供给部570可以将有机物持续地供给到有机物源部520。压力控制单元580的运行方法与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

因此，在有机物沉积装置500和有机物沉积方法中，在喷射有机物之后通过紫外线进行固化时，通过防止紫外线照射到分撒部541侧，可以防止残留于分撒部541的有机物被固化。

此外，在有机物沉积装置500和有机物沉积方法中，通过振动能量喷射有机物，从而可以防止因有机物的温度上升而导致的成膜特性变化。

图10为根据本发明第五实施例的有机物沉积装置600的剖面示意图。图11为图10所示有机物沉积装置600的运行状态的工作原理示意图。

参照图10和图11，有机物沉积装置600可以包括：基板把持部610、有机物源部620、遮蔽部650、源冷却部630、分撒部641、引导部642、紫外线供给部643、腔室644、有机物供给部670、压力控制单元680和升降部690。此时，基板把持部610、有机物源部620、源冷却部630、分撒部641、引导部642、紫外线供给部643、腔室644、有机物供给部670、压力控制单元680和升降部690可以与在图8和图9中所说明的基板把持部510、有机物源部520、源冷却部530、分撒部541、引导部542、紫外线供给部543、腔室544、有机物供给部570、压力控制单元580和升降部590相同或相似。

此外，有机物沉积装置600可以包括：用于使紫外线供给部643进行直线运动的第二直线驱动部660。此时，第二直线驱动部660与在图6和图7中所说明的第二直线驱动部560相同或相似，因此省略其详细说明。

另外，遮蔽部650可以包括：设置在分撒部641与基板S之间，或者设置在分撒部641上，以选择性地对经过分撒部641的有机物进行遮蔽的遮蔽板651。此外，遮蔽部650可以包括：与遮蔽板651连接以使遮蔽板651进行转动运动的转动驱动部652。

如上所述的遮蔽板651通过进入到分撒部641和基板S之间、或者在腔室644中进行转动运动，从而可以对分撒部641和基板S之间进行遮蔽。此外，遮蔽板651可以被设置在分撒部641以对通过孔641a进行遮蔽。此时，可以在分撒部641设置一个遮蔽板651，还可以设置在各个通过孔641a周边。在下文中为了说明的便利，以遮蔽板651设置在多个通过孔641a各个周边的情况为主进行详细说明。

可以以多种方式形成转动驱动部652。例如，转动驱动部652可以包括电机，并且还可以包括多个连杆和气缸。此时，转动驱动部652并不限定于上述的方式，并且可以包括用于移动或转动遮蔽板651的所有装置和结构。然而，在下文中为了说明的便利，以转动驱动部652包括电机的情况为主进行详细说明。

另外，以按照上述方式形成的有机物沉积装置600可用于将有机物沉积到基板S上。此时，基板S上可以形成有具有有机发光元件的发光部（未图示），并且所述发光部上可以形成有薄膜封装层（未图示）的一部分。

具体地，为了沉积有机物，使基板S和掩模M进入到腔室644内部后可以进行对准并固定到基板把持部610。

有机物源部620可以对有机物施加振动能量而进行原子化后，喷射到引导部642内部。此时，有机物可以沿着多种路径运动，可以通过分撒部641以均匀浓度进行喷射。按照上述方式喷射的有机物可以经过掩模M而沉积到基板S上。此时，基板冷却部613可以防止基板S的温度上升。另外，在进行如上所述的作业之后，升降部690可使有机物源部620下降。此时，引导部642和分撒部641可以与有机物源部620一同下降。

当按照上述方式有机物源部620下降期间或者下降之后，遮蔽部650可以封闭通过孔641a。具体地，当运行转动驱动部652时，可以转动遮蔽板651以封闭通过孔641a。此时，转动驱动部652可以是基于预设定的基准值控制运转的。

另外，当按照上述方式封闭通过孔641a时，可以运行第二直线驱动部660以使得紫外线供给部643进行直线运动。此时，紫外线供给部643可以沿着基板S的长度方向或宽度方向进行直线运动并且对基板S的一区域照射紫外线，以依次对基板S上的有机物进行固化。

另外，在进行如上所述的作业期间，压力控制单元680可以控制腔室644内部的压力。压力控制单元680的运行方法与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

在进行如上所述的作业期间，可以运行供给泵672以通过有机物引导管道673将有机物储存部671内部的有机物供给到有机物源部620。此时，有机物供给部670的运行方法与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

因此，在有机物沉积装置600和有机物沉积方法中，在喷射有机物之后通过紫外线进行固化时，通过防止紫外线照射到分撒部641侧，可以防止残留于分撒部641的有机物被固化。

此外，在有机物沉积装置600和有机物沉积方法中，通过振动能量喷射有机物，可以防止因有机物的温度上升而导致的成膜特性变化。

图12为根据本发明第六实施例的有机物沉积装置700的剖面示意图。图13为图12所示有机物沉积装置700的运行状态的工作原理示意图。

参照图12和图13，有机物沉积装置700可以包括：基板把持部710、有机物源部720、遮蔽部750、源冷却部730、分撒部741、引导部742、紫外线供给部743、腔室744、有机物供给部770、压力控制单元780和升降部790。此时，基板把持部710、有机物源部720、遮蔽部750、源冷却部730、分撒部741、引导部742、紫外线供给部743、腔室744、有机物供给部770、压力控制单元780和升降部790与在图10和图11中所说明的基板把持部610、有机物源部620、遮蔽部650、源冷却部630、分撒部641、引导部642、紫外线供给部643、腔室644、有机物供给部670、压力控制单元680和升降部690相同或相似。

另外，按照上述方式形成的有机物沉积装置700可用于形成薄膜封装层（未图示）的有机层。具体地，可以将基板S和掩模M***到腔室744内部。此时，基板S上可以形成有具有发光部（未图示）的有机发光元件，所述发光部上可以形成有所述薄膜封装层的一部分。

当基板S和掩模M按照上述的方式进入时，基板把持部710可以对基板S和掩模M进行设置并固定。此外，有机物源部720可以将振动能量供给到有机物以进行原子化后喷射到引导部742内部。

引导部742内部的有机物可以再次经过分撒部741的通过孔741a喷射到外部。此时，经过通过孔741a的有机物的浓度可以维持在一定的程度。有机物可以经过掩模M沉积到基板S上。

当如上所述的过程完毕时，升降部790可以使有机物源部720下降。分撒部741和引导部742可以与有机物源部720一同下降。

另外，在有机物源部720下降期间或者下降之后，可以运行遮蔽部750的转动驱动部752，从而通过遮蔽板751封闭通过孔741a。此时，遮蔽部750的运行方法与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

当通过孔741a被封闭时，紫外线供给部743可以将紫外线照射到基板S上。此时，紫外线供给部743不进行直线运动，并且设置到基板S的侧面部分，从而可以进行紫外线照射。尤其是，可以以与基板S的表面形成一定角度的扭曲的状态，紫外线供给部743将紫外线照射到基板S上。

此时，在进行如上所述的作业期间，压力控制单元780可以控制腔室744内部的压力。压力控制单元780的运行方法与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

此外，在进行如上所述的作业期间，有机物储存部771的有机物可以根据供给泵772的运行通过有机物引导管道773供给到有机物源部720。此时，有机物供给部770的运行方法与上述的说明相同或相似，因此省略其详细说明。

因此，在有机物沉积装置700和有机物沉积方法中，当在喷射有机物之后通过紫外线进行固化时，通过防止紫外线照射到分撒部741侧，可以防止残留于分撒部741的有机物被固化。

在有机物沉积装置700和有机物沉积方法中，通过振动能量喷射有机物，可以防止因有机物的温度上升而导致的成膜特性变化。

此外，在有机物沉积装置700和有机物沉积方法中，通过将沉积工艺所需的足量的有机物持续地供给到有机物源部720，可以增加作业时间以连续性地执行有机物沉积。

如上所述，虽然参照附图中所示的实施例对本发明进行了说明，但是这仅仅是示例性的，本领域的普通技术人员应当理解可以由此进行多种变形以及可以进行实施例的变形。因此，本发明真正的技术保护范围应当由所附权利要求书的技术思想来进行定义。

Claims (16)

1.一种有机物沉积装置，包括：

基板把持部，用于对掩模和基板进行对准并进行把持；

有机物源部，用于将有机物原子化以将所述有机物喷射到所述基板上；

分撒部，设置在所述有机物源部和所述基板之间以用于对所述有机物进行扩散；以及

引导部，被设置成与所述有机物源部和所述分撒部连接，以用于将所述有机物从所述有机物源部引导至所述分撒部，并且用于将所述有机物从所述有机物源部朝着所述分撒部移动的路径与外部进行切断。

2.如权利要求1所述的有机物沉积装置，还包括：

紫外线供给部，用于放射紫外线以对喷射到所述基板上的有机物进行固化。

3.如权利要求2所述的有机物沉积装置，其中，

所述紫外线供给部被设置成能够进行直线运动，

所述有机物源部、所述紫外线供给部、所述分撒部能够以相同的速度进行直线运动。

4.如权利要求1所述的有机物沉积装置，还包括：

遮蔽部，用于对从所述分撒部扩散到所述基板的所述有机物进行选择性遮蔽。

5.如权利要求4所述的有机物沉积装置，其中所述遮蔽部包括：

遮蔽板，设置在所述分撒部和所述基板之间、或者设置在所述分撒部上以用于对经过所述分撒部的所述有机物进行选择性遮蔽；以及

转动驱动部，与所述遮蔽板连接以用于使所述遮蔽板进行转动运动。

6.如权利要求4所述的有机物沉积装置，其中所述遮蔽部包括：

遮蔽膜，设置在所述分撒部和所述基板之间、或者设置在所述分撒部上，并且通过改变所述分撒部的长度以用于对经过所述分撒部的所述有机物进行选择性遮蔽；以及

长度驱动部，用于改变所述遮蔽膜的长度。

7.如权利要求1所述的有机物沉积装置，其中，

所述分撒部被形成为板状形态，并且形成有使所述有机物经过的通过孔。

8.如权利要求1所述的有机物沉积装置，还包括：

腔室，在其内部设置有所述基板把持部的一部分、所述有机物源部和所述分撒部；以及

压力控制单元，与所述腔室连接以用于控制所述腔室内部的压力。

9.如权利要求1所述的有机物沉积装置，还包括：

源冷却部，设置于所述有机物源部以用于对所述有机物源部进行冷却。

10.如权利要求1所述的有机物沉积装置，其中所述基板把持部包括：

对准部，用于固定所述基板并对所述掩模和所述基板进行对准；

磁体部，用于通过磁力使所述掩模紧贴到所述基板上；以及

基板冷却部，设置在所述基板和所述磁体部之间以用于对所述基板进行冷却。

11.如权利要求1所述的有机物沉积装置，其中，

所述基板把持部用于使所述掩模和所述基板进行直线运动。

12.一种有机物沉积方法，包括：

将有机物原子化并进行喷射后通过分撒部进行扩散；

通过接合的掩模将被扩散的所述有机物沉积到基板上；以及

将紫外线照射到沉积有所述有机物的所述基板表面上以对所述有机物进行固化。

13.如权利要求12所述的有机物沉积方法，还包括：

在对所述有机物进行固化之前，对所述分撒部的一面进行遮蔽以防止吸附于所述分撒部上的有机物被固化。

14.如权利要求12或13所述的有机物沉积方法，其中，

所述基板和用于喷射所述有机物的有机物源部中的一个与所述基板和所述有机物源部中的另一个进行相对运动。

15.一种有机物沉积方法，包括：

将基板和掩模安装到基板把持部上以进行对准；以及

将有机物原子化并进行喷射后使其经过分撒部以进行扩散，并使得被扩散的所述有机物通过所述掩模沉积到所述基板上，并且将紫外线照射到沉积有所述有机物的所述基板表面上以对所述有机物进行固化。

16.如权利要求15所述的有机物沉积方法，其中，

所述基板和用于喷射所述有机物的有机物源部中的一个与所述基板和所述有机物源部中的另一个进行相对运动。